JP4282249B2 - 磁気抵抗効果型素子およびそれを用いた薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置ならびに磁気ディスク装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気抵抗効果型素子に関し、詳しくは薄膜磁気ヘッドにおける読み取り素子として好適に用いることのできる磁気抵抗効果型素子、及びこれを用いた薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置、磁気ディスク装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
磁気記録媒体は、この記録媒体中の磁化方向を利用することによって情報を保存している。そして、近年の磁気記録媒体における高密度化の要請に伴い、磁気記録媒体中のトラック幅を狭小化することにより、前記磁気記録媒体における面記録密度を向上させることが試みられている。したがって、このような高密度記録媒体から情報を正確に読み出すべく高感度のセンサの必要性が高まっていた。そして、このようなセンサとしては、近年巨大磁気抵抗効果型素子を有する薄膜磁気ヘッドが利用されるようになってきている。
【0003】
上記のような磁気抵抗効果型素子としては、従来、この磁気抵抗効果型素子を構成する磁気抵抗効果膜の面内方向に流したセンス電流の変化から、前記磁気記録媒体中に記録された情報を読み取る、面内電流(CIP)型のものが用いられていた。
【0004】
しかしながら、上述したようなトラック密度の狭小化による面内記録密度の向上に伴い、磁気抵抗効果型素子を構成する磁気抵抗効果膜の面に垂直な厚さ方向に流したセンス電流の変化から、前記磁気記録媒体中に記録された情報を読み取る、面垂直電流(CPP)型のものが用いられるようになってきている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
磁気抵抗効果膜に垂直に電流を流す手段としては、例えば、特表平11−509956号公報に記載されているように、前記磁気抵抗効果膜を挟むようにしてリード膜を設け、このリード膜を介して前記磁気抵抗効果膜の垂直方向に電流を流すことが記載されている。
【0006】
しかしながら、この方法においては、前記リード膜の外側にシールド膜を設ける必要性が生じるとともに、前記リード膜と前記シールド膜とを分離する絶縁性の材料からなるギャップ膜も必要となる。この場合、磁気記録媒体に対する読み取り幅は前記シールド膜間の距離に依存し、その結果、読み取り幅が大きくなって、上述したような高密度記録媒体中の情報の正確な再生を十分に行うことができない場合があった。
【0007】
このような観点から、USP6084752号公報においては、磁気抵抗効果型素子におけるシールド膜をリード膜として兼用し、このシールド膜を介して磁気抵抗効果膜の垂直方向に電流を流すことが記載されている。
この場合においては、シールド膜とリード膜とを別体で設ける必要がないことから、シールド膜間距離で決定される読み取り幅は低減される。しかしながら、磁気記録媒体からの再生情報に外部ノイズが重畳され、ノイズの大きな磁気抵抗効果型素子、その結果としてノイズの大きな薄膜磁気ヘッドしか得ることができなかった。
【0008】
本発明は、外部ノイズを低減し、高S/N比の再生情報を得ることのできる、新規なCPP型の磁気抵抗効果型素子を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明は、磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜の一方の面に隣接して設けられた第1のシールド膜と、前記磁気抵抗効果膜の他方の面に隣接するように設けられた第2のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜のどちらか一方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に電気的高抵抗材を介して設けられた第3のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜の他方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に、電気的高抵抗材を介して設けられた第4のシールド膜を具え、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の軟磁性材料から構成され、前記磁気抵抗効果膜の厚さ方向に電流を流す電流供給層として機能し、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の、前記磁気抵抗効果型素子の摺動面に露出した端面と反対側に、Ti、Cr、Rh、Al、Ta、Au、Ag、Cuの金属、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種の導電性材料からなる導電膜を接続させ、さらに好ましくは、前記第3のシールド膜の面積は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の面積よりも大きく、前記第3のシールド膜は、その端部が前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の外周部分より突出し、これらの膜を覆うようにして設けられていることを特徴とする、磁気抵抗効果型素子に関する。
【0010】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を実施した。そして、USP6084752号公報に記載の磁気抵抗効果型素子における外部ノイズの原因を探るべく、種々の検討を実施した。
【0011】
その結果、前記外部ノイズは、リード膜として兼用するシールド膜から再生波形に外部ノイズが乗っていることに起因していることを見出した。すなわち、磁気抵抗効果型素子のシールド膜アンテナになり、リード膜を兼用しているため、外部ノイズが極めて重畳され易い状態になっていることを見出した。
【0012】
本発明の磁気抵抗効果型素子は、リード膜として機能するシールド膜の外側に電気的高抵抗材を介して追加のシールド膜を有しているので、外部ノイズに対し十分なシールド効果を維持することができる。
【0013】
すなわち、本発明の磁気抵抗効果型素子によれば、磁気抵抗効果膜と隣接して設けられた、リード膜としても機能する第1のシールド膜及び第2のシールド膜間の距離によって読み取り幅が決定されるため、読み取り幅を狭小化することができる。さらに、追加的に設けられた第3のシールド膜及び第4のシールド膜によって、十分なシールド効果を有することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1は、後述するように第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の、磁気抵抗効果型素子の摺動面に露出した端面と反対側に導電膜を接続させた構成をもたないこと以外は、本発明の磁気抵抗効果型素子と同様の構成をもつ磁気抵抗効果型素子の態様を示す断面図であり、図2は、図1に示す磁気抵抗効果型素子の正面図である。なお、図1及び2においては、本発明の特徴を明確に説明すべく、主要部分のみを示している。
【0015】
図1及び2に示す磁気抵抗効果型素子10においては、磁気抵抗効果膜1を挟むようにして、第1のシールド膜である第1の上部シールド膜2及び第2のシールド膜である第1の下部シールド膜3が設けられている。そして、第1の上部シールド膜2の上方においては、電気的高抵抗材であるギャップ膜6を介して第3のシールド膜である第2の上部シールド膜4が設けられており、第1の下部シールド膜3の下方においては、電気的高抵抗材であるギャップ膜7を介して第4のシールド膜である第2の下部シールド膜5が設けられている。
【0016】
第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3は導電性を有し、かつ軟磁性材料からなるシールド層として作用し、かつ本発明にしたがって磁気抵抗効果膜1に対する電流供給層としての機能を有し、リード膜としても作用する。
電流は、例えば図中矢印で示す方向に、磁気抵抗効果膜1をその厚さ方向に流れる。
【0017】
このように、図1及び2に示す磁気抵抗効果型素子10においては、実際の読み取りギャップ幅は、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3間の間隔W、すなわちシールド層の内側面の間隔によって決定されるため、読み取りギャップ幅を狭小化することができる。したがって、高密度記録媒体の再生を十分に行うことができる。
また、第2の上部シールド膜4及び第2の下部シールド膜5を設けているので、磁気抵抗効果型素子10の全体に十分なシールド効果を付与することができる。
【0018】
図1及び2に示す磁気抵抗効果型素子10は、第1の上部シールド膜2と第2の上部シールド膜4との間、並びに第1の下部シールド膜3と第2の下部シールド膜5との間に、ギャップ層6及び7を有している。これによって、これらシールド膜間の電気的絶縁を極めて良好な状態で取ることができる。
【0019】
磁気抵抗効果膜1は、例えば、下部強磁性層(フリー層)/トンネルバリア層/上部強磁性層(ピンド層)/反強磁性層なる積層構造を有するTMR素子、又は下部強磁性層(フリー層)/非磁性金属層/上部強磁性層(ピンド層)/反強磁性層なる積層構造を有するスピンバルブ構造のGMR素子などから構成することができる。
【0020】
上記の場合において、フリー層及びピンド層を構成する強磁性材料としては、Fe、Co、Ni、FeCo、NiFe、CoZrNb、FeCoNiなどを用いることができる。トンネルバリア層及び非磁性金属層は、例えば、Al2O3、NiO、GdO、MgO、Ta2O5、MoO2、TiO2、WO2などから作製することができる。また、反強磁性層は、PtMn及びRuRhMnなどから作製することができる。
【0021】
フリー層の厚さは、好ましくは1〜10nmであり、さらに好ましくは2〜5nmである。この厚さが大きくなりすぎるとヘッド動作時の出力が低下し、バルクハウゼンノイズ等によって出力の不安定性が増大してしまう場合がある。また、フリー層の厚さが小さくなり過ぎると、例えばTMR効果の劣化に起因する出力低下が生じる場合がある。
【0022】
ピンド層の厚さは、好ましくは1〜10nmであり、さらに好ましくは2〜5nmである。この厚さが大きくなりすぎると反強磁性層との交換結合バイアス磁化が弱まり、この厚さが小さくなりすぎると、例えばTMR変化率が減少する。
また、トンネルバリア層及び非磁性金属層の厚さは、0.5〜2nm程度であることが好ましい。素子の低抵抗値化の観点からはできるだけ薄いことが望ましいが、薄くなりすぎるとピンホールが生じてリーク電流が流れてしまうため好ましくない。さらに、反強磁性層の厚さは、6〜30nm程度である。
【0023】
ギャップ膜6及び7は、TaO、NiOなどの金属酸化物や半導体などの高抵抗材料、又はAl2O3、SiO2などの絶縁材料などから作製する。
【0024】
また、本発明の磁気抵抗効果型素子では、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の軟磁性材料から作製されている。これらの材料は高い透磁率を有するとともに、電気的な良導体でもあるため、上記シールド膜に対して良好なシールド特性を付与することができるとともに、磁気抵抗効果膜1に対して垂直に流れる電流のロスを低減することができる。したがって、高いS/N比の磁気抵抗効果型素子を得ることができる。
【0025】
また、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3は、上記のような軟磁性材料からなる軟磁性体層と、Ti、Cr、Rh、Al、Ta、Au、Ag、Cuの金属及びこれらの合金から選ばれる少なくとも一種の導電性材料からなる導電体層とが積層されて構成されていても良い。この場合においては、上記第1の上部シールド膜2や第1の下部シールド膜3などの電気伝導性を向上させることができ、この結果、磁気抵抗効果膜1に対する電流ロスをさらに低減することができる。
この場合においては、電流ロスの低減効果をさらに助長すべく、前記導電体層が磁気抵抗効果膜1と接触するように形成することが好ましい。また、シールド膜の下に形成されると、シールド膜の磁気特性を向上させることもできる。
【0026】
図3は、本発明の磁気抵抗効果型素子10の好ましい態様を示す断面図である。なお、図3において、図1及び2に示す構成部分と同様の部分については同じ符号を用いて表している。
図3に示す磁気抵抗効果型素子においては、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3の後方、すなわち、これら膜の端面2A及び3Aの反対側において、これらシールド膜に接続するようにして、上記導電性材料からなる導電膜2B及び3Bを設けている。これによって、磁気抵抗効果膜1に対して垂直に流れる電流のロスを低減することができ、高いS/N比の磁気抵抗効果型素子を得ることができる。
【0027】
一方、第2の上部シールド膜4及び第2の下部シールド膜5は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の材料であることが好ましい。これによって、素子全体に十分なシールド性を付与することができる。
【0028】
第2の上部シールド膜4及び第2の下部シールド膜5の厚さは、好ましくは1000〜3000nmであり、さらに好ましくは1500〜2000nmである。これによって、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3の材料、及び層構成などに依存することなく、磁気抵抗効果型素子10に対して十分なシールド効果を付与することができる。
【0029】
また、第2の上部シールド膜4及び第2の下部シールド膜5が上述したような厚さを有することによって、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3の厚さを500nm以下にすることができる。これによって、これらシールド膜に重畳される摺動ノイズを十分に低減することができ、素子全体に重畳されるノイズを全体的に低減することができる。
【0030】
図4は、図1及び2に示す磁気抵抗効果型素子10の他の変形例を示す正面図である。なお、図4において、図1及び2に示す構成部分と同様の部分については同じ符号を用いて表している。
【0031】
図4に示す磁気抵抗効果型素子10において、第2の上部シールド膜4は、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3よりも大きな面積を有している。そして、その端部4Bが、第1の上部シールド膜2及び第1の下部シールド膜3の外周部分よりも突出し、これらのシールド膜を覆うようにして形成されている。これによって、磁気抵抗効果型素子20のシールド効果をさらに高めることができ、外部ノイズの重畳をさらに効果的に抑制することができる。具体的には、突出量dが5nm以上であることが好ましい。
【0032】
なお、第2の上部シールド膜4についても、上述したようなNiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、及びNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性などの材料から、上述した1000〜3000nmの厚さに形成することが好ましい。
【0033】
また、磁気抵抗効果膜1は、例えばNiFe等からなる異方性磁気抵抗効果膜を含む、巨大磁気抵抗効果型のスピンバルブ構造、強磁性トンネル接合効果型の多層構造として構成することができる。
【0034】
本発明の磁気抵抗効果型素子は、単独の読み取り素子として構成することもできるが、誘導型の書き込み素子と組み合わせて複合型の薄膜磁気ヘッドとして構成することもできる。
【0035】
図5は、上述した磁気抵抗効果型素子10を読み出し素子として用い、誘導型磁気抵抗型素子を書き込み素子として用いた面内記録用薄膜磁気ヘッドの斜視図である。図6は、図5に示した薄膜磁気ヘッドの拡大断面図を示している。図示の薄膜磁気ヘッド30は、スライダ31上に読み出し素子としての磁気抵抗効果型素子10、及び書き込み素子としての誘導型磁気変換素子20を有する。矢印A1は媒体走行方向を示す。図において、寸法は部分的に誇張されており、実際の寸法とは異なる。
【0036】
スライダ31は、媒体対向面側にレール32、33を有し、レールの表面がABS34、35として利用される。レール32、33は2本に限らない。1〜3本のレールを有することがあり、レールを持たない平面となることもある。また、浮上特性改善等のために、媒体対向面に種々の幾何学的形状が付されることもある。
【0037】
また、スライダ31は、レールの表面に、例えば8〜10nm程度の膜厚を有するDLC等の保護膜を備えることもあり、このような場合は保護膜の表面がABS34、35となる。スライダ31はA1203−TiC等でなる基体の表面にA1203、SiO2等の無機絶縁膜を設けたセラミツク構造体である。
【0038】
磁気抵抗効果型素子10及び誘導型磁気変換素子20は、レール32、33の一方または両者のトレーリング.エッジTRの側に備えられる。そして、トレーリング.エッジTRの側にあるスライダ側面には、誘導型磁気変換素子20に接続された取り出し電極36、37、及び磁気抵抗効果型素子10に接続された取り出し電極38、39がそれぞれ設けられている。
【0039】
書き込み素子を構成する誘導型磁気変換素子20は、読み取り素子を構成する磁気抵抗効果型素子10に対する第2のシールド膜を兼ねている第1の磁性膜41、第2の磁性膜42、コイル膜43、アルミナ等でなるギャップ膜44、絶縁膜45及び保護膜46などを有している。第2のシールド膜は、第1の磁性膜41から独立して備えられていてもよい。
【0040】
第1の磁性膜41及び第2の磁性膜42の一端部(先端部)410、420は微少厚みのギャップ膜44を隔てて対向するポール部となっており、ポール部において書き込みを行なう。第1及び第2の磁性膜41、42は、単層であってもよいし、複層膜構造であってもよい。第1及び第2の磁性膜41、42の複層膜化は、例えば、特性改善を目的として行われることがある。ポール部の構造に関しても、トラック幅の狭小化、記録能力の向上等の観点から、種々の改良、及び、提案がなされている。本発明においては、これまで提案された何れのポール構造も採用できる。ギャップ膜44は非磁性金属膜またはアルミナ等の無機絶縁膜によって構成される。
【0041】
第2の磁性膜42は、ポール部の側において、ギャップ膜44の面と平行な面に対して、ある角度で傾斜して立ち上がる。第2の磁性膜42は、更に、第1の磁性膜41との間にインナーギャップを保って、ABS34及び35の後方に延び、後方において第1の磁性膜41に結合されている。これにより、第1の磁性膜41、第2の磁性膜42及びギャップ膜44を巡る薄膜磁気回路が完結する。
【0042】
コイル膜43は、第1及び第2の磁性膜41、42の間に挟まれ、後方結合部の周りを渦巻き状に回る。コイル膜43の両端は、取り出し電極36、37に導通されている(図5参照)。コイル膜43の巻数および層数は任意である。コイル膜43は絶縁膜45の内部に埋設されている。
【0043】
絶縁膜45は第1及び第2の磁性膜41、42の間のインナーギャップの内部に充填されている。絶縁膜45の表面には第2の磁性膜42が設けられている。絶縁膜45は、有機絶縁樹脂膜または無機絶縁膜で構成する。無機絶縁膜の代表例は、Al2O3膜またはSiO2膜である。絶縁膜45を無機絶縁膜によって構成すると、有機絶縁膜を用いた場合に比較して、絶縁膜45の熱膨張が小さくなるので、最大突出量を低減するのによい結果が得られる。
【0044】
保護膜46は、保護膜46は書き込み素子20の全体を覆っている。これにより、書き込み素子20の全体が、保護膜46によって保護されることになる。保護膜46はAl2O3またはSiO2等の無機絶縁材料で構成されている。
【0045】
読み取り素子を構成する磁気抵抗効果型素子10は、本発明に係るTMR素子で構成されている。磁気抵抗効果型素子10は、第1のシールド膜51と、第2のシールド膜52との間において、絶縁膜53の内部に配置されている。絶縁膜53はアルミナ等によって構成されている。磁気抵抗効果型素子10は第1のシールド膜51及び第2のシールド膜52に導通する取り出し電極38、39に接続されている(図5参照)。
【0046】
図7は垂直記録用薄膜磁気ヘッドの拡大断面図である。図示された垂直記録用薄膜磁気ヘッドにおいて、第2の磁性膜42は、主磁極425と、補助磁極426とを含んでいる。主磁極425は垂直書き込みポール部を構成し、補助磁極426は主磁極425及び第1の磁性膜41を磁気的に結合する。第1の磁性膜41は主磁極425から生じた磁束の戻り磁路を構成する。コイル膜43は主磁極425及び補助磁極426の周りに巻かれている。
【0047】
他の構造は、図6に示した面内記録用薄膜磁気ヘッドと実質的に同じであるので、説明は省略する。垂直記録用薄膜磁気ヘッドを用いた磁気記録の特徴は、磁気ディスクの磁気記録膜を、膜面と垂直となる方向に磁化して磁気記録を行うので、極めて高い記録密度を実現できることである。なお、参照数字310はスライダを構成する基体を表し、参照数字320は基体の表面に設けられた無機絶縁膜を表す。
【0048】
図8は本発明に係る磁気ヘッド装置の一部を示す正面図、図9は図8に示した磁気ヘッド装置の底面図である。磁気ヘッド装置は、薄膜磁気ヘッド60と、ヘッド支持装置70とを含んでいる。薄膜磁気ヘッド60は図5〜図7を参照して説明した本発明に係る薄膜磁気ヘッドである。
【0049】
ヘッド支持装置70は、金属薄板でなる支持体73の長手方向の一端にある自由端に、同じく金属薄板でなる可撓体71を取付け、この可撓体71の下面に薄膜磁気ヘッド60を取付けた構造となっている。
【0050】
可撓体71は、支持体73の長手方向軸線と略平行して伸びる2つの外側枠部75、76と、支持体73から離れた端において外側枠部75、76を連結する横枠74と、横枠74の略中央部から外側枠部75、76に略平行するように延びていて先端を自由端とした舌状片72とを有する。
【0051】
舌状片72のほぼ中央部には、支持体73から***した、例えば半球状の荷重用突起77が設けられている。この荷重用突起77により、支持体73の自由端から舌状片72へ荷重力が伝えられる。
【0052】
舌状片72の下面に薄膜磁気ヘッド60を接着等の手段によって取付けてある。薄膜磁気ヘッド60は、空気流出側端側が横枠74の方向になるように、舌状片72に取付けられている。本発明に適用可能なヘッド支持装置70は、上記実施例に限らない。
【0053】
図10は本発明にかかる磁気ディスク装置の構成を模式的に示す図である。図示された磁気ディスク装置は、磁気ヘッド装置80と、磁気ディスク90とを含む。磁気ヘッド装置80は図8、9に図示したものである。磁気ヘッド装置80は、ヘッド支持装置70の一端が位置決め装置81によって支持され、かつ、駆動される。磁気ヘッド装置の薄膜磁気ヘッド60は、ヘッド支持装置70によって支持され、磁気ディスク90の磁気記録面と対向するように配置される。
【0054】
磁気ディスク90が、図示しない駆動装置により、矢印A1の方向に回転駆動されると、薄膜磁気ヘッド60が、微小浮上量で、磁気ディスク90の面から浮上する。図10に図示された磁気ディスク装置はロータリー.アクチュエータ方式と称される駆動方式であり、ヘッド支持装置70の先端部に取り付けられた薄膜磁気ヘッド60は、ヘッド支持装置70を回転駆動する位置決め装置81によって、磁気ディスク90の径方向b1またはb2に駆動され、磁気ディスク90上の所定のトラック位置に位置決めされる。そして、所定のトラック上で、書き込み素子20による磁気記録、及び、TMR素子を有する読み取り素子10による読み取り動作が行われる。
【0055】
以上、本発明を具体例を挙げながら発明の実施の形態に即して説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、あらゆる変形や変更が可能である。
【0056】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気抵抗効果型素子によれば、リード膜としての機能を有する第1の上部シールド膜及び第1の下部シールド膜の外側に、第2の上部シールド膜及び第2の下部シールド膜を設けているので、素子全体のノイズを低減すると同時に、読み取り幅を狭小化することができる。したがって、媒体中に高密度に記録された情報を高いS/N比で読み取ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 磁気抵抗効果型素子の一例を概略的に示す断面図である。
【図2】 図1に示す磁気抵抗効果型素子の正面図である。
【図3】 本発明の磁気抵抗効果型素子の一例を概略的に示す断面図である。
【図4】 本発明の磁気抵抗効果型素子の他の変形例である。
【図5】 本発明の磁気抵抗効果型素子を用いた面内記録用薄膜磁気ヘッドを示す斜視図である。
【図6】 図5に示した薄膜磁気ヘッドの拡大断面図である。
【図7】 本発明の磁気抵抗効果型素子を用いた垂直記録用薄膜磁気ヘッドを示す拡大断面図である。
【図8】 本発明に係わる磁気ヘッド装置の一部を示す正面図である。
【図9】 本発明に係わる磁気ヘッド装置の一部を示す底面図である。
【図10】 本発明に係わる磁気ディスク装置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1 磁気抵抗効果膜
2 第1のシールド膜(又は第1の上部シールド膜)
3 第2のシールド膜(又は第1の下部シールド膜)
4、14 第3のシールド膜(又は第2の上部シールド膜)
5 第4のシールド膜(又は第2の下部シールド膜)
6、7 電気的高抵抗材(又はギャップ膜)
10、20 磁気抵抗効果型素子
Claims (13)
- 磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜の一方の面に隣接して設けられた第1のシールド膜と、前記磁気抵抗効果膜の他方の面に隣接するように設けられた第2のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜のどちらか一方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に電気的高抵抗材を介して設けられた第3のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜の他方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に、電気的高抵抗材を介して設けられた第4のシールド膜を具え、
前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の軟磁性材料から構成され、前記磁気抵抗効果膜の厚さ方向に電流を流す電流供給層として機能し、
前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の、前記磁気抵抗効果型素子の摺動面に露出した端面と反対側に、Ti、Cr、Rh、Al、Ta、Au、Ag、Cuの金属、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種の導電性材料からなる導電膜を接続させたことを特徴とする、磁気抵抗効果型素子。 - 磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜の一方の面に隣接して設けられた第1のシールド膜と、前記磁気抵抗効果膜の他方の面に隣接するように設けられた第2のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜のどちらか一方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に電気的高抵抗材を介して設けられた第3のシールド膜と、前記第1のシールド膜又は前記第2のシールド膜の他方において、前記磁気抵抗効果膜と隣接する面とは反対側の面に、電気的高抵抗材を介して設けられた第4のシールド膜を具え、
前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の軟磁性材料から構成され、前記磁気抵抗効果膜の厚さ方向に電流を流す電流供給層として機能し、
前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の、前記磁気抵抗効果型素子の摺動面に露出した端面と反対側に、Ti、Cr、Rh、Al、Ta、Au、Ag、Cuの金属、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも一種の導電性材料からなる導電膜を接続させ、
前記第3のシールド膜の面積は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の面積よりも大きく、前記第3のシールド膜は、その端部が前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の外周部分より突出し、これらの膜を覆うようにして設けられていることを特徴とする、磁気抵抗効果型素子。 - 前記第3のシールド膜及び前記第4のシールド膜は、NiFe、CoZrTa、FeN、FeAlSi、又はNiFe系合金、Co系アモルファス、Fe系軟磁性膜から選ばれる少なくとも一種の材料から構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁気抵抗効果型素子。
- 前記第3のシールド膜の厚さが1000〜3000nmであり、前記第4のシールド膜の厚さが1000〜3000nmであることを特徴とする、請求項1、2または3に記載の磁気抵抗効果型素子。
- 前記第1のシールド膜の厚さが500nm以下であり、前記第2のシールド膜の厚さが500nm以下であることを特徴とする、請求項4に記載の磁気抵抗効果型素子。
- 前記磁気抵抗効果膜は、強磁性トンネル効果膜構造を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一に記載の磁気抵抗効果型素子。
- 前記磁気抵抗効果膜は、スピンバルブ膜構造を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一に記載の磁気抵抗効果型素子。
- 請求項1〜7のいずれか一に記載の磁気抵抗効果型素子からなる、少なくとも1つの読み取り素子を具えることを特徴とする、薄膜磁気ヘッド。
- 少なくとも1つの書き込み素子を具えることを特徴とする、請求項8に記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記書き込み素子は誘導型電磁変換素子であり、前記誘導型電磁変換素子は、第1の磁性膜、第2の磁性膜、及びギャップ膜を含んでおり、前記第1の磁性膜及び前記第2の磁性膜は、それぞれの一端が前記ギャップ膜によって隔てられて書き込みポール部を構成していることを特徴とする、請求項9に記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記書き込み素子は誘導型電磁変換素子であり、前記誘導型電磁変換素子は、第1の磁性膜及び第2の磁性膜を含み、前記第2の磁性膜は、垂直書き込みポール部を構成する主磁極、及び前記主磁極と前記第1の磁性膜を磁気的に結合する補助磁極を含むことを特徴とする、請求項9に記載の薄膜磁気ヘッド。
- 請求項8〜11のいずれか一に記載の薄膜磁気ヘッドと、この薄膜磁気ヘッドを支持するためのヘッド支持装置とを具えることを特徴とする、磁気ヘッド装置。
- 請求項12に記載の磁気ヘッド装置と、この磁気ヘッド装置との間で、磁気記録及び再生を行う磁気ディスクとを具えることを特徴とする、磁気ディスク装置。
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