JP4273246B2 - フォトマスクの欠陥検査装置 - Google Patents
フォトマスクの欠陥検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4273246B2 JP4273246B2 JP2002305526A JP2002305526A JP4273246B2 JP 4273246 B2 JP4273246 B2 JP 4273246B2 JP 2002305526 A JP2002305526 A JP 2002305526A JP 2002305526 A JP2002305526 A JP 2002305526A JP 4273246 B2 JP4273246 B2 JP 4273246B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- optical system
- imaging device
- defect inspection
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明はフォトマスクの欠陥検査装置、特にCDエラー等の微細な欠陥を高速で検出できるフォトマスクの欠陥検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
LSIの微細化に伴い、フォトマスクの線幅がサブミクロン以下に微細化されている。従って、フォトマスクの100nm以下の微細な欠陥を検出できる欠陥検査装置の開発が強く要請されている。フォトマスクの欠陥として、クロム等のパターンが設計値と異なることによるパターン欠陥、例えば露光時の重ね合わせの誤差等により発生するパターン幅の誤差によるCDエラーと称される欠陥、さらに、クロムの遮光パターンの縁部に沿って発生する微細な切欠き状の欠陥が挙げられる。
【0003】
一方、近年、ウェハ上に微細なパターンを投影するために、光近接効果補正(OPC)されたマスクパターンが提案されている。この光近接効果補正されたパターンとして、例えばパターンのコーナー部に微細な矩形状のパターンが付加された形状を有するパターン、或いはメインパターンの近傍に例えば数10nmの微細線幅のサブパターン(アシストバー)が形成されている。
【0004】
これら微細な欠陥を検出する透過型の欠陥検査方法として、コンフォーカル光学系を利用する欠陥検査装置が既知である。このコンフォーカル光学系を利用した欠陥検査装置では、撮像装置の各画素がピンホール状又はスリット状に遮光されているため、各画素にグレァ等の迷光が入射するのが阻止され、高い分解能の欠陥検査を行うことができる。このコンフォーカル光学系は、高解像度で欠陥検査できるため、パターン欠陥のようなほぼ円形又は矩形の欠陥を正確に検出できる利点がある。しかしながら、CDエラーのような縦長又は横長の微細な欠陥を正確に検出できないことが指摘されている。すなわち、CDエラーは、例えば幅20nmで長さ20μm程度であるため、コンフォーカル光学系を用いても正確に検出することができないのが実情である。また、OPCのサブパターンの欠陥については、本来ウェハ上に転写されない欠陥を欠陥として検出する、いわゆる疑似欠陥の問題があった。
【0005】
フォトマスクの欠陥の検出方式として、フォトマスクの基板の裏面側から検査光を投射し、フォトマスクからの透過光を対物レンズを介して光検出器上に投影し、光検出器からの出力信号に基づいて欠陥検査を行う方法が既知である(例えば、特許文献1参照)。この特許文献に記載されたフォトマスクの欠陥検査装置では、ダイ対ダイ方式により欠陥検出が行われている。また、この既知の欠陥検査装置では、画像検出器からの出力信号について輪郭処理が行われ、面積比較器を介して欠陥検出の判定が行われている。
【0006】
【特許文献1】
特開平6−289597号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
コンフォーカル光学系を利用したフォトマスクの欠陥検査装置は、高解像度の光学系を用いているため、パターン欠陥のような円形又は矩形の微細な欠陥を検出することができる。しかし、上述したCDエラーのような幅20nm程度の縦長又は横長の微細欠陥を正確に検出することができない欠点がある。また、光近接効果補正として用いられるなどのサブパターンについては、本来欠陥として検出されるべきでないものについても欠陥として検出するいわゆる疑似欠陥の問題があった。
【0008】
また、上述した特許文献に記載された欠陥検査装置は、欠陥像について輪郭処理を行い、面積比較により欠陥検出を行っているため、欠陥検査に長時間かかる不具合がある。
【0009】
従って、本発明の目的は、CDエラーのような縦長又は横長の微細欠陥を正確に検出できるフォトマスクの欠陥検査装置を実現することにある。
【0010】
さらに、本発明の別の目的は、高速検査することができ、欠陥検査に要する時間が短縮されたフォトマスクの欠陥検査装置を提供することにある。
【0011】
さらに、本発明の別の目的は、ほぼ円形又は矩形のパターン欠陥や縦長のCDエラーの両方を同時に検出できる欠陥検査装置を実現することにある。
【0012】
さらに、本発明の別の目的は、光近接補正されたマスクパターンについて、疑似欠陥を検出しない欠陥検査装置を実現することにある。
【0013】
【課題を解決する手段】
本発明によるフォトマスクの欠陥検査装置は、フォトマスクの欠陥をダイ対ダイ方式により検出する装置であって、光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する対物レンズと、対物レンズから出射した透過光を受光する撮像装置と、前記対物レンズと撮像装置との間に配置した空間ローパスフィルタとを具える検査光学系と、
前記フォトマスクを支持すると共に、x方向及びx方向と直交するy方向に移動するxyステージと、
前記撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積するフレームバッファと、フレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力するサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する加算手段とを具える信号処理回路とを具え、
前記加算手段からの出力信号を用い、ダイ対ダイ方式により欠陥検査を行うことを特徴とする。
【0014】
本発明者がフォトマスクの欠陥について種々の実験及び解析を行った結果、以下の事項が判明した。すなわち、パターン欠陥のように円形又は矩形等の形状の欠陥は、高解像度の光学系を用いることにより100nm径程度の欠陥を正確に検出することができる。一方、例えばCDエラーのように、20nmの微細線幅の縦長又は横長の欠陥は、光学系の解像度を高くしても検出することができない。一方、OPCマスクのサブパターンのについては、本来ウェハ上に転写されないものまで検出する不具合がある。そこで、本発明では、光学系の光路中に空間ローパスフィルタを配置し、検査光学系の解像度を低下させる。この空間ローパスフィルタは、光学系の解像度を低下させるが、撮像装置上に投影される欠陥の画像面積を拡大する作用及び欠陥の輝度を平均化する作用を果たす。従って、微細線幅の欠陥であっても、欠陥の画像は撮像装置上において複数の画素にわたって投影されることになる。この結果、撮像装置の複数画素の出力信号を積分ないし加算することにより微細線幅の欠陥を正確に検査することができる。このように、本発明の基本原理は、欠陥の画像を拡大し平均化する空間ローパスフィルタを用いること及び撮像装置の複数画素の輝度情報を加算ないし積分することの2つの構成要件を組み合わすことにある。
【0015】
さらに、光近接効果補正されたマスクパターンについては、微細線幅のアシストバーなどのサブパターンは、解像されたメインパターンと光学的に重畳され、ウェハへの転写イメージにほぼ等しくなるため、本来の欠陥のみが投影されることになる。
【0016】
本発明によれば、微細線幅の欠陥だけでなく、クロムの遮光パターンの縁部にそって発生するギザギザ状の欠陥も検出することができる。すなわち、クロムの縁部に発生し易いギザギザ状の凹凸欠陥は、連続する凹凸が画素のピッチに近い場合、欠陥として検出することはできない。一方、光学系に空間ローパスフィルタを配置して解像度を低下させた場合、ギザギザ状の欠陥による輝度情報は平均化されるので、複数の画素にわたって輝度情報が正規の値から変化し、欠陥として正確に検出することができる。
【0017】
さらに、本発明では、加算処理を行う前に1/Nのサンプリング処理を行っているので、処理すべき画素数が低減され、高速処理の目的にも十分に対応することができる。ここで、Nは自然数とすることができる。
【0018】
本発明による別のフォトマスクの欠陥検査装置は、フォトマスクの欠陥をダイ対ダイ方式により検出する装置であって、検査すべきフォトマスクを支持すると共に、x方向及びx方向と直交するy方向に移動するxyステージと、
光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する第1の集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する第1の対物レンズと、第1の対物レンズから出射した光を分割する第1のビームスプリッタと、当該第1のビームスプリッタの一方の出射光を受光する第1の撮像装置と、前記x方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、第1のビームスプリッタの他方の出射光を受光する第2の撮像装置と、第1のビームスプリッタと第1の撮像装置との間に配置した第1の空間ローパスフィルタとを具え、前記第1の集光レンズから第2の撮像装置に至る光学系が高解像度光学系を構成し、前記第1の集光レンズから第1の撮像装置に至る光学系が前記高解像度光学系よりも低い解像度の低解像度光学系を構成する第1の検査光学系と、
光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する第2の集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する第2の対物レンズと、第2の対物レンズから出射した光を分割する第2のビームスプリッタと、当該第2のビームスプリッタの一方の出射光を受光する第3の撮像装置と、前記x方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、第2のビームスプリッタの他方の出射光を受光する第4の撮像装置と、第2のビームスプリッタと第3の撮像装置との間に配置した第2の空間ローパスフィルタとを具え、前記第2の集光レンズから第4の撮像装置に至る光学系が高解像度光学系を構成し、前記第2の集光レンズから第3の撮像装置に至る光学系が前記高解像度光学系よりも低い解像度の低解像度光学系を構成する第2の検査光学系と、
前記第1の撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積する第1のフレームバッファと、第1のフレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力する第1のサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する第1の加算手段とを具える第1の信号処理回路と、
前記第3の撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積する第2のフレームバッファと、第2のフレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力する第2のサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する第2の加算手段とを具える第2の信号処理回路と、
前記第1の加算手段の出力信号と第2の加算手段の出力信号との差を検出して欠陥検出信号を発生する第1の欠陥検出回路と、
前記第2の撮像装置からの出力信号と第4の加算手段の出力信号とを比較して欠陥検出信号を発生する第2の欠陥検出回路とを具え、
前記空間ローパスフィルタを含む低解像度光学系により検出された欠陥検出情報と高解像度光学系により検出された欠陥検出信号とを用いて欠陥検査を行うことを特徴とする。
【0019】
このフォトマスクの欠陥検査装置では、高解像度の光学系を用いた欠陥検査系と低解像度の光学系を用いた欠陥検査系の両方を利用しているので、パターン欠陥のような円形又は矩形等の欠陥並びにCDエラーのような微細線幅の欠陥の両方を同時に検出することができる。また、OPCマスクのサブパターンに起因する欠陥を疑似欠陥として検出せず、本来の欠陥を正確に検出することが可能になる。尚、本例の欠陥検査装置は、光学系を切り替える方式を採用することもでき、例えば低解像度の光学系で検査した後、同一のフォトマスクを高解像度の光学系を用い欠陥検査することもできる。
【0020】
【発明の実施の形態】
図1は本発明によるフォトマスクの欠陥検査装置の一例の構成を示す線図である。本例では、ダイ対ダイ方式により欠陥検査を行う。従って、同一の検査光学系を2つ用意し、第1の検査光学系には符号aを付し、第2の光学系の対応する構成要素には符号bを付して説明する。尚、図1の右側の光学系を第1の検査光学系とし、左側の光学系を第2の検査光学系とする。照明光を発生する光源1として水銀ランプを用いる。光源1から発生した照明光は2本の光ファイバ2a及び2bを介してそれぞれ照明レンズ3a及び3bに入射する。第1及び第2の照明ビームはそれぞれ集光レンズ3a及び3bにより集束されて検査すべきフォトマスク4に入射する。
【0021】
フォトマスク4は、多数の同一パターンのチィップ(ダイ)が形成されており、第1及び第2の照明ビームは異なるチィップの同一の部位を照明する。フォトマスク4はx−yステージ5に支持され、当該x−yステージ5は、x方向(例えば、紙面内方向)及びx方向と直交するy方向(例えば、紙面と直交する方向)に2次元的に移動する。従って、フォトマスク4の各チィップは照明ビームにより2次元的に走査されることになる。
【0022】
フォトマスク4からの透過光は第1及び第2の対物レンズ6a及び6bによりそれぞれ受光され、平行ビームに変換されて第1及び第2のビームスプリッタ7a及び7bにそれぞれ入射する。第1及び第2のビームスプリッタ7a及び7bはハーフミラー面を有し、入射した透過光を第1及び第2のビームに分割する。第1のビームスプリッタ7aのハーフミラー面を透過した第1のビームは、結像レンズ8aを介して第1の撮像装置9aに入射する。第1の撮像装置9aは、複数の受光素子がx方向と対応する方向に配列されたリニァイメージセンサで構成する。リニァイメージセンサは、各受光素子の受光面が枠により規制されているため各受光素子の前面にピンホールが配置されたものと同様な機能を有するので、対物レンズ6aから第1の撮像装置9aまでの光学系はコンフォーカル光学系すなわち高解像度光学系を構成する。
【0023】
第1のビームスプリッタ7aのハーフミラー面で反射したビームは、結像レンズ8b及び第1の空間ローパスフィルタ10aを経て第2の撮像装置9bに入射する。第2の撮像装置9bは、第1の撮像装置9aと同様に、x方向と対応する方向に複数の受光素子が配列されたリニァイメージセンサで構成する。空間ローパスフィルタ10aは入射したフォトマスクからの透過ビームの輝度情報ないし明るさ情報を平均化する作用、ないし画像の鮮明度を低下させる作用を有し、例えばシングルレンチキュラ、ダブルレンチキュラ、拡散器、複屈折素子、又は水晶板で構成することができる。従って、第1の対物レンズ6aから第2の撮像装置9bに至る第2の光学系は非コンフォーカル光学系となり、第1の光学系よりも低い低解像度の光学系を構成する。
【0024】
尚、図面左側の第2の検査光学系は、第1の検査光学系と同一の光学系であるため、その説明は省略する。
【0025】
次に、フォトマスクの走査機構について説明する。本例では、フォトマスクの走査機構として、x−yステージの2次元移動機構を利用する。第1及び第2の撮像装置であるリニァイメージセンサの各画素はx方向と対応する方向に配列されているため、ステージ5がx方向と直交するy方向に移動することによりフォトマスク4を2次元走査することができる。また、y方向に所定の距離だけ移動した後、リニァイメージセンサの画素数に対応する距離だけx方向に移動し、その後y方向に移動することにより、すなわち、ジィッグザッグに移動することによりフォトマスクの全面を走査することができる。尚、走査機構としてx−yステージ5の2次元走査以外の種々の走査機構を利用することができる。
【0026】
次に、空間ローパスフィルタ10a及び10bの機能について説明する。空間ローパスフィルタは、光学系の解像度を低下させる機能を果たす。従って、欠陥画像の境界が不鮮明になり、実質的に撮像装置上における欠陥の画像面積を拡大する機能或いは欠陥に起因する輝度情報ないし明るさ情報を平均化する機能を果たす。この結果、CDエラーのような幅が20nm程度の微細線幅の欠陥であっても、多数の画素により輝度情報の変化として検出され、後述する信号処理回路の加算処理と組み合わされて微細欠陥の検出が可能になる。また、OPCのサブパターンは解像されず、ウェハへの転写パターンとほぼ等しく撮像されるため、本来の欠陥のみが検出されることになる。
【0027】
次に、信号処理回路及び欠陥検査回路について説明する。図2は、第1の光学系、すなわち、第1の対物レンズ6aから第1の撮像装置9aまでの光学素子及び第2の対物レンズ6bから第3の撮像装置9cまでの光学素子により構成される高解像度のコンフォーカル光学系を用いた欠陥検出系の欠陥検査回路を示す。第1の検査光学系の第1の撮像装置9aであるリニァイメージセンサからの出力信号を順次読出し、増幅器20aで増幅してから差動増幅器21に供給する。同様に、第2の検査光学系の第3の撮像装置9cであるリニァイメージセンサからの出力信号を順次読出し、増幅器20bにより増幅してから差動増幅器21に供給する。差動増幅器21は、第1のリニァイメージセンサ9aの各受光素子からの出力信号と第3のリニァイメージセンサ9cの対応する各画素からの出力信号とを比較し、その差分を増幅して出力する。差動増幅器21からの出力信号を比較器22に供給し、所定の閾値と比較し、閾値を超えた場合欠陥検出信号を発生する。
【0028】
図3は、低解像度光学系を用いた欠陥検出系の信号処理回路一例を示す線図である。第1の検査光学系の第2の撮像装置9bであるリニァイメージセンサからの出力信号を順次に読出し、A/D変換器30aを介して第1のフレームバッファ31aに供給する。第1のフレームバッファ31aには、第1の検査光学系の低解像度光学系による2次元画像が記憶される。第2の検査光学系の第3の撮像装置9dであるリニァイメージセンサからの出力信号を順次読出し、第2のA/D変換器30bを介して第2のフレームバッファ31bに供給する。第2のフレームバッファ31bには、第2の検査光学系の低解像度光学系による2次元画像が記憶される。尚、リニァイメージセンサ、A/D変換器及びフレームバッファの制御はクロック信号発生器36からのクロック信号に基づいて行う。
【0029】
第1及び第2のフレームバッファ31a及び31bの各画素の輝度情報は、それぞれ第1及び第2の1/Nサンプリング回路32a及び32bにより1/Nに圧縮ないし間引かれ、それぞれ第1及び第2の加算回路33a及び33bに供給される。第1及び第2の1/Nサンプリング回路は、フレームバッファに記憶された2次元画像情報を1/2、1/3、1/4等に間引いて出力するものであり、例えば1/4に間引く場合アドレシングによりx方向について1,5,9-----番目の画素情報を取り出しy方向についても1,5,9-----番目の画素情報を取り出して加算回路に出力する。また、加算回路33a及び33bは、入力バッファ機能を有し、例えば入力した画素情報を1ライン毎に加算して出力する。或いは、例えばx及びy方向において隣接する2個づつの画素情報すなわち合計4個の画素情報を加算して出力することもできる。この加算量は適宜設定できるものとする。尚、1/Nサンプリング回路は、高速処理を必要としない場合、設けることなく直接加算回路で加算処理することができる。
【0030】
第1の加算回路33aの出力信号及び第2の加算回路33bの出力信号を差動増幅器34に供給し、第1の検査光学系の加算出力と第2の検査光学系の加算出力とを比較し、その差分を増幅して後段の比較器35に供給する。そして、比較器35において加算回路の出力の差異が所定の閾値を超えた場合、欠陥の存在を表す欠陥検出信号を発生する。
【0031】
図4は本発明によるフォトマスクの欠陥検査装置の光学系の変形例を示す線図である。本例では、高解像度光学系の撮像装置としてリニァイメージセンサを用い、低解像度光学系の撮像装置としてx及びy方向に複数の受光素子が配列された2次元CCD40b及び40dを用いる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるフォトマスクの欠陥検査装置の一例の構成を示す線図である。
【図2】 高解像度光学系を含む欠陥検査系の欠陥検出回路の構成を示す線図である。
【図3】 低解像度光学系を含む欠陥検査系の欠陥検出回路の構成を示す線図である。
【図4】 本発明によるフォトマスクの欠陥検査装置の光学系の変形例を示す線図である。
【符号の説明】
1 光源
2a,2b 光ファイバ
3a,3b 照明レンズ
4 フォトマスク
5 x−yステージ
6a,6b 対物レンズ
7a,7b ビームスプリッタ
8a〜8d 結像レンズ
9a〜9d 撮像装置
10a,10b 空間ローパスフィルタ
20a,20b 増幅器
21 差動増幅器
22,35 比較器
30a,30b A/D変換器
31a.31b フレームバッファ
32a,32b 1/Nサンプリング回路
33a,33b 加算回路
Claims (7)
- フォトマスクの欠陥をダイ対ダイ方式により検出する装置であって、光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する対物レンズと、対物レンズから出射した透過光を受光する撮像装置と、前記対物レンズと撮像装置との間に配置した空間ローパスフィルタとを具える検査光学系と、
前記フォトマスクを支持すると共に、x方向及びx方向と直交するy方向に移動するxyステージと、
前記撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積するフレームバッファと、フレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力するサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する加算手段とを具える信号処理回路とを具え、
前記加算手段からの出力信号を用い、ダイ対ダイ方式により欠陥検査を行うことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。 - フォトマスクの欠陥をダイ対ダイ方式により検出する装置であって、検査すべきフォトマスクを支持すると共に、x方向及びx方向と直交するy方向に移動するxyステージと、
光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する第1の集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する第1の対物レンズと、第1の対物レンズから出射した光を分割する第1のビームスプリッタと、当該第1のビームスプリッタの一方の出射光を受光する第1の撮像装置と、前記x方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、第1のビームスプリッタの他方の出射光を受光する第2の撮像装置と、第1のビームスプリッタと第1の撮像装置との間に配置した第1の空間ローパスフィルタとを具え、前記第1の集光レンズから第2の撮像装置に至る光学系が高解像度光学系を構成し、前記第1の集光レンズから第1の撮像装置に至る光学系が前記高解像度光学系よりも低い解像度の低解像度光学系を構成する第1の検査光学系と、
光源から発生した照明光を検査すべきフォトマスクに投射する第2の集光レンズと、フォトマスクを透過した透過光を集光する第2の対物レンズと、第2の対物レンズから出射した光を分割する第2のビームスプリッタと、当該第2のビームスプリッタの一方の出射光を受光する第3の撮像装置と、前記x方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、第2のビームスプリッタの他方の出射光を受光する第4の撮像装置と、第2のビームスプリッタと第3の撮像装置との間に配置した第2の空間ローパスフィルタとを具え、前記第2の集光レンズから第4の撮像装置に至る光学系が高解像度光学系を構成し、前記第2の集光レンズから第3の撮像装置に至る光学系が前記高解像度光学系よりも低い解像度の低解像度光学系を構成する第2の検査光学系と、
前記第1の撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積する第1のフレームバッファと、第1のフレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力する第1のサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する第1の加算手段とを具える第1の信号処理回路と、
前記第3の撮像装置からの出力信号を2次元画像情報として蓄積する第2のフレームバッファと、第2のフレームバッファに蓄積された画像信号を1/Nに圧縮して出力する第2のサンプリング手段と、当該サンプリング手段からの出力信号を加算する第2の加算手段とを具える第2の信号処理回路と、
前記第1の加算手段の出力信号と第2の加算手段の出力信号との差を検出して欠陥検出信号を発生する第1の欠陥検出回路と、
前記第2の撮像装置からの出力信号と第4の加算手段の出力信号とを比較して欠陥検出信号を発生する第2の欠陥検出回路とを具え、
前記空間ローパスフィルタを含む低解像度光学系により検出された欠陥検出情報と高解像度光学系により検出された欠陥検出信号とを用いて欠陥検査を行うことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。 - 請求項1に記載のフォトマスクの欠陥検査装置において、前記撮像装置を、x方向と対応する方向に配列した複数の受光素子を有するリニァイメージセンサとし、前記xyステージをx方向と直交するy方向に移動することによりフォトマスクを2次元走査することを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。
- 請求項1に記載のフォトマスクの欠陥検査装置において、前記撮像装置を、複数の受光素子がx及びy方向に2次元アレイ状に配列された2次元CCDとしたことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。
- 請求項2に記載のフォトマスクの欠陥検査装置において、前記第1〜第4の撮像装置を、x方向と対応する方向に配列した複数の受光素子を有するリニァイメージセンサとし、前記xyステージをx方向と直交するy方向に移動することによりフォトマスクを2次元走査することを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。
- 請求項2に記載のフォトマスクの欠陥検査装置において、前記第2及び第4の撮像装置をx方向と対応する方向に配列した複数の受光素子を有するリニァイメージセンサで構成し、前記第1及び第3の撮像装置を、複数の受光素子がx及びy方向に2次元アレイ状に配列されている2次元CCDとしたことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。
- 請求項1から6までのいずれか1項に記載のフォトマスクの欠陥検査装置において前記空間ローパスフィルタを、シングルレンチキュラ、ダブルレンチキュラ、拡散器、複屈折素子、又は水晶板としたことを特徴とするフォトマスクの欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002305526A JP4273246B2 (ja) | 2002-10-21 | 2002-10-21 | フォトマスクの欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002305526A JP4273246B2 (ja) | 2002-10-21 | 2002-10-21 | フォトマスクの欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004138948A JP2004138948A (ja) | 2004-05-13 |
JP4273246B2 true JP4273246B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=32452607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002305526A Expired - Fee Related JP4273246B2 (ja) | 2002-10-21 | 2002-10-21 | フォトマスクの欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4273246B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1325895C (zh) * | 2004-11-17 | 2007-07-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 连续采样的哈特曼检测装置 |
KR100674973B1 (ko) | 2005-05-25 | 2007-01-29 | 삼성전자주식회사 | 투과율이 다른 복수의 다이들을 갖는 포토마스크의 결함검사 방법 |
JP5111205B2 (ja) * | 2008-04-02 | 2013-01-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 反射型マスクおよびその検査方法ならびに半導体装置の製造方法 |
-
2002
- 2002-10-21 JP JP2002305526A patent/JP4273246B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004138948A (ja) | 2004-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2910956B2 (ja) | 繰返しパターンをもつ表面の欠陥検査方法及び装置 | |
TWI654486B (zh) | Polarized image acquisition device, pattern inspection device, polarized image acquisition method, and pattern inspection method | |
US5098191A (en) | Method of inspecting reticles and apparatus therefor | |
US7911599B2 (en) | Reticle defect inspection apparatus and reticle defect inspection method | |
KR101223881B1 (ko) | 이미지 형성 방법 및 이미지 형성 장치 | |
JP3978528B2 (ja) | パターン欠陥検査装置及びレーザ顕微鏡 | |
KR101870366B1 (ko) | 패턴 검사 장치 및 패턴 검사 방법 | |
JP6633918B2 (ja) | パターン検査装置 | |
JP2012002676A (ja) | マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法 | |
JPH0772093A (ja) | 異物等の欠陥検出方法および検査装置 | |
JP5276833B2 (ja) | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | |
TW201910924A (zh) | 偏光影像取得裝置、圖案檢查裝置、偏光影像取得方法、及圖案檢查方法 | |
JP4273246B2 (ja) | フォトマスクの欠陥検査装置 | |
JPH0477653A (ja) | 表面状態検査装置及びこれを備える露光装置 | |
JP3282790B2 (ja) | 位相シフトマスクの欠陥検査装置 | |
JP5593209B2 (ja) | 検査装置 | |
JPH10282007A (ja) | 異物等の欠陥検査方法およびその装置 | |
JP2005233869A (ja) | 微細構造検査装置及び微細構造検査方法 | |
JP6815469B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JPH0783844A (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP6906823B1 (ja) | マスク検査方法及びマスク検査装置 | |
JPH0682381A (ja) | 異物検査装置 | |
JP2001208694A (ja) | 試料処理装置および試料処理方法、フォトマスクの製造方法 | |
JP3410013B2 (ja) | 欠陥または異物の検査方法及びその装置 | |
JP3070748B2 (ja) | レチクル上の欠陥検出方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051018 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080903 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4273246 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130313 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130313 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140313 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |