JP4259608B2 - カード状磁気記録媒体、その製造方法、転写用積層体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
さらに一方、金属調表面を有するインキ被膜を積層体中に形成する技術に関しては、金属薄膜細片及び結着剤樹脂を含むインキ被膜を有する成型用積層シートであって、被膜中の金属薄膜細片の含有量が3〜60質量%であり、被膜厚が0.05〜2.0μmであり、且つインキ被膜がマイクログラビアで塗工された成型用積層シートが報告されている(例えば特許文献3参照)。
しかし、図4に示す構成の磁気カードでは、導電性の高い金属蒸着層54を用いていたため、ESD(Electro Static Discharge)障害が発生するという問題があった。ここで、ESD障害とは、磁気記録層52上に金属蒸着層54を有する磁気カードにおいて、該磁気記録層52に記録された情報の読み取り時に、静電気等の人体に蓄積された電荷が金属蒸着層54を通してカード読み取り装置のヘッド側に流れ、カード読み取り装置の誤動作や破壊を引き起こす現象、もしくは磁気カード及び/又は磁気ストライプ自体が他物体との接触、擦れによって帯電し、この蓄積された電荷が、該磁気記録層52に記録された情報の読み取り時に、金属蒸着層54を通してカード読み取り装置のヘッド側に流れ、カード読み取り装置の誤作動や破壊を引き起こす現象をいう。
特許文献3の積層シートにおいては金属薄膜細片と結着剤樹脂を含み、金属調の光輝意匠性を有するインキ被膜が形成されている。そして小径グラビア塗工による反射率の高いインキ被膜の形成が行われている。しかしこれらインキ被膜を、ホログラム付きのカード状磁気記録媒体等の鏡面インキ層に用いて、インキ被膜表面の高い反射率を維持しつつ、同時に上記のESD障害の発生を抑制するためには、インキ被膜の組成や作製方法について詳細に検討を行う必要がある。しかしESD障害の抑制を目的としたそのような検討は今まで行われていない。
さらにまた本発明は、転写用仮支持体上に、前記転写用支持体に近い側から、透明光回折層、透明非導電性蒸着層、鏡面インキ層、磁気記録層、及び必要に応じて接着剤層をこの順で積層し、前記鏡面インキ層は、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキの小径グラビア塗工による塗布によって形成することを特徴とする転写用積層体の製造方法を提供する。
さらにまた本発明は、上記の転写用積層体の製造方法により転写用積層体を製造し、
必要に応じて前記接着剤層を介して、基材上に、前記磁気記録層、前記鏡面インキ層、前記透明非導電性蒸着層、及び前記透明光回折層を、基材に近い側からこの順で積層する転写工程を有することを特徴とするカード状磁気記録媒体の製造方法を提供する。
本発明のカード状磁気記録媒体の製造方法においては、磁気記録層と透明非導電性蒸着層の間に形成される鏡面インキ層が小径グラビア塗工によって塗布されているため、金属薄膜細片が高回転のグラビアシリンダー上で配向しやすく、同じ金属薄膜細片の含有量でより高い鏡面インキ層表面の反射率を得ることができる。
本発明の転写用積層体は、透明非導電性蒸着層と磁気記録層との間に、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキ層を有し、該鏡面インキ層の結着剤樹脂/金属薄膜細片の質量比の値が3.0〜10.0、すなわち結着剤樹脂と金属薄膜細片との質量比が3.0:1〜10.0:1であるため、これを用いてホログラム付きのカード状磁気記録媒体を形成した場合、磁気記録層を良好に隠蔽し、明瞭なホログラムが形成できるとともにESD障害の発生を防ぐことが可能となる。
さらに本発明の転写用積層体の製造方法は、透明非導電性蒸着層と磁気記録層との間に、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキ層を有し、該鏡面インキ層を小径グラビア塗工で形成するため、鏡面インキ層の表面の反射率を高い値に実現できる。さらに転写用仮支持体上の積層体を、必要に応じて接着剤層を介して、カード用基材上に、磁気記録層、鏡面インキ層、透明非導電性蒸着層、及び透明光回折層を、カード用基材に近い側からこの順で積層する転写工程を有するカード状磁気記録媒体の製造方法を用いることにより、鏡面インキ層に同じ量の金属薄膜細片を含有していても、より鏡面インキ層の反射率が高く、明瞭なホログラムが視認できるカード状磁気記録媒体を作製することができる。
図1は、本発明の実施形態によるカード状磁気記録媒体の構成の一例を示す断面図である。このカード状磁気記録媒体は、カード用基材20の上に積層された接着剤層11、磁気記録層12、鏡面インキ層13、透明非導電性蒸着層14、透明光回折層15、保護層16により形成されている。
これら樹脂から接着剤層11を形成するには、該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して作製した接着剤層用塗料を、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ0.1〜30μm程度、好ましくは0.4〜10μmの層とする。接着剤層11の厚さは、この厚さが0.1μm未満では、カード用基材20との接着力が不足して脱落し易く、また、厚さが30μmを超えると、接着効果は十分でその効果は変わらないのでコスト的に無駄である。さらにまた、接着剤層11へは、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を、適宜加えてもよい。充填剤としては、シリカ、炭酸カルシウムなどの体質顔料が適用できる。特に体質顔料の添加は、箔切れを良化させる。帯電防止剤としては、非イオン系界面活性剤、陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤などや、ポリアミドやアクリル酸誘導体などが適用できる。
磁気記録層12に用いられる金属あるいは金属酸化物の粒子としては、γ−Fe2O3、Fe3O4、CrO2、Fe、Fe−Cr、Fe−Co、Co−Cr、Co−Ni、MnAl、Baフェライト、Srフェライトなどの従来公知の磁性微粒子が用いられ。これら磁性微粒子がバインダ樹脂中へ分散されてなる磁気記録層12を形成するためには、磁性粒子、バインダー樹脂等を溶剤へ分散又は溶解させた磁気記録層作製用塗料を用いて、公知のコーティング法で、カード用基材20上へ、塗布して、乾燥し、必要に応じて、温度30℃〜70℃で適宜エージング、または、電離放射線(紫外線、電子線など)を照射して硬化することにより形成すれば良い。コーティング法としては、例えば、ロールコート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、キスコート、コンマコート、ロッドコート、ブレードコート、バーコート、ワイヤーバーコート、ナイフコート、スクイズコート、エアードクターコート、エアナイフコート、ダイコート、リップコート、カーテンコート、フローコートなどが適用できる。該塗布方法で磁気記録層12を形成する場合には、その膜厚は1〜100μmが好ましく、5〜20μmであることがさらに好ましい。
従来からも、金属光沢を付与する印刷インキがあったが、該インキはアルミニウムペーストやアルミニウム粉等の金属顔料を用いた、シルバーまたはゴールド等のメタリック調印刷インキである。アルミニウムペーストには、リーフィングタイプとノンリーフィングタイプがあるが、いずれを用いても、真空薄膜法の金属薄膜の金属光沢には、はるかに及ばなかった。
本発明では、鏡面インキとして、アルミニウムなどの金属薄膜細片を樹脂中に分散した鏡面インキを用いることにより、既存の塗布装置で製造することができるとともに、真空薄膜法の金属薄膜に匹敵する金属光沢が得られ、高輝度を有するホログラム像の反射層として好適に使用することができる。
鏡面インキに使用する金属薄膜細片は、その細片の一つ一つは真空薄膜法の金属薄膜同様に電気伝導性を示す。しかしながら、鏡面インキ層中においてはこの金属薄膜細片が結着剤樹脂中に分散することによって、互いに離間した状態となっており、鏡面インキ層全体としては電気伝導度を低く設定することが出来る。
金属薄膜細片を作製するための金属としては、アルミニウム、金、銀、銅、真鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステンレス等を使用することができる。金属を薄片にする方法としては、アルミニウムのように融点の低い場合は蒸着を用いた薄膜の形成を用い、アルミニウム、金、銀、銅などの展性を有する場合は展延による箔の形成を用いる。一方、融点が高く展性もない金属の場合はスパッタリング等による薄膜の形成を用いることができる。これらの薄膜を粉砕することにより金属薄膜細片を得る。これらのなかでも蒸着金属薄膜から得られた金属薄膜細片が好ましい。金属薄膜の厚さは、0.01〜0.1μmが好ましく、さらに好ましくは0.02〜0.08μmである。インキ中に分散させる金属薄膜細片の面方向の大きさは、5〜25μmが好ましく、さらに好ましくは10〜15μmである。大きさが5μm未満の場合は、塗膜の輝度が不十分となり、25μmを超えると金属薄膜細片が配向しにくくなるので輝度が低下する。
具体的にはたとえばアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩素化オレフィン樹脂、エチレン−アクリル樹脂などの重合系樹脂に、(メタ)アクリル酸やフタル酸、フマル酸および/またはその塩、(メタ)アクリロイロキシエチルスルホニルナトリウム塩、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリル酸エステル等を共重合させたもの、あるいはポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ウレア樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などの縮合系樹脂の場合に、ポリオール成分、ポリカルボン酸成分の一部に、2,2−ジメチロールプロピオン酸、5−スルホン酸フタル酸、ジエタノールアミノエチルジイソプロピル燐酸エステル等を用いたもの、石油系樹脂、セルロース誘導体樹脂等を塩化酢酸、ブロム酢酸、濃硫酸、濃硝酸などで変性したもの等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。
また、この結着剤樹脂の他に、本発明の趣旨を損なわない範囲で、一般にインキまたは塗料に用いられるアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩素化オレフィン樹脂、エチレン−アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ウレア樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂を併用しても差し支えない。
なお、一般にインキの配合原料を安定して分散させるには、ロールミル、ボールミル、ビーズミル、あるいはサンドミル等を使用して練肉あるいは分散することにより、顔料その他添加剤をサブミクロンまで微粒子化する。しかし、本発明の鏡面インキ層に使用する鏡面インキに、金属光沢を発現させるために配合する金属薄膜細片は5〜25μmの大きさが好ましいため、上記練肉を行った場合は金属薄膜細片が微粒子化してしまい、金属光沢が極端に低下する。したがって、本発明の鏡面インキ層に用いる鏡面インキの作製においては練肉は行わず、単に上記配合原料を混合してインキとすることが好ましい。
鏡面インキ層は、金属薄膜細片と結着剤樹脂、溶剤、その他添加剤などからなる鏡面インキを塗布、乾燥することによって得ることができる。この際の塗布方法としてはグラビア塗工、リバース塗工、ダイ塗工、小径グラビア塗工(マイクログラビア塗工)など、公知慣用の塗工方式、及びグラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷などの公知慣用の印刷方式を用いることができる。中でも小径グラビア塗工方式は、反射率の高い鏡面インキ層を得ることができることから、最も好ましい。ここで、小径グラビア塗工方式とは、直径100mm以下程度の比較的径の小さなグラビアシリンダーを塗工基材の進行方向とは逆方向で、周速にして105〜115%程度の回転数で回転させて塗工を行う方式であり、康井精機株式会社のマイクログラビア塗工方式が代表例である。小径グラビア塗工においては、グラビアシリンダーが、他の一般的なグラビア塗工、リバース塗工などのロールコーティング方式の塗工ロールと比較して高速で回転する。そのため、グラビアシリンダー上の鏡面インキに与えられる遠心力が大きくなり、その結果、鏡面インキ中の金属薄膜細片の配向性が高くなり、鏡面インキ層の反射率が高くなると考えられる。
カード用基材20上の一部、例えばカード長手方向にストライプ状に積層体が形成されたとき等は、加熱、加圧工程で該積層体をカード用基材20中に埋め込んで、カード表面を均一高さの平滑平面にすることができる。なお複数のカード用基体を重ね合わせてカード用基体として用いるときは、上記カード用基体中に埋め込む工程はこれら複数のカード用基体を積層して合体する工程と同時に行うことが出来る。
・セルロースアセテート樹脂 5部
(ダイセル化学社製「L−20(固形分100%)」)
・アセトン 25部
・酢酸エチル 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 2部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
・金属薄膜細片ペースト 10部
(東洋アルミニウム社製「メタシーン71−0010(固形分10%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 1.5部
(UCC社製「VMCH(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 3.3部
(大日本インキ化学工業社製「NT−810−45(固形分45%)」)
・メチルエチルケトン 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 0.6部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
・バリウムフェライト磁性粉 100部
(戸田工業社製「MC−127」;保磁力220kA/m)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 15部
(日信化学社製「ソルバインA(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 10部
(大日本インキ化学工業社製「TS−03(固形分100%)」)
・メチルエチルケトン 50部
・トルエン 50部
・シクロヘキサノン 25部
・ポリイソシアネート 10部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<感熱接着剤層用塗料>
ポリウレタン樹脂 1部
(大日本インキ化学工業社製「TS−03(固形分100%)」)
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 4部
(日信化学社製「ソルバインC5(固形分100%)」)
メチルエチルケトン 45部
トルエン 50部
上記で作製した転写用積層体を所定の幅に裁断してストライプ状の転写用積層体を作成した後、卓上型ヒートシーラー(テスター産業社製)を使用して、ポリ塩化ビニル製のカード用オーバーシート(太平化学社製)にストライプ状転写用積層体を、感熱接着剤層をオーバーシート側に重ねて熱圧接着した。接着時の条件としては、温度120℃、圧力4kg/cm2にて5秒で行った。その後、転写用積層体の転写用仮支持体を除去することによって、磁気ストライプ部分をカード形成用オーバーシートに転写して、磁気ストライプ付カード形成用オーバーシートを得た。この磁気ストライプ付カード形成用オーバーシートとカード形成用センターコア、および反対面のカード形成用オーバーシートを重ねて、平圧プレス機(東洋精機製作所製)を使用して、140℃、20kg/cm2、20分間の熱圧プレス加工を行い、カード形成用オーバーシート、カード形成用センターコアの熱圧プレスを行った。その後、打ち抜き加工を行うことによって磁気カードを作製した。
<鏡面インキ2>
・金属薄膜細片ペースト 10部
(東洋アルミニウム社製「メタシーン71−0010(固形分10%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 2部
(UCC社製「VMCH(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 4.4部
(大日本インキ化学工業社製「NT−810−45(固形分45%)」)
・メチルエチルケトン 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 0.8部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<鏡面インキ3>
・金属薄膜細片ペースト 10部
(東洋アルミニウム社製「メタシーン71−0010(固形分10%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 2.5部
(UCC社製「VMCH(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 5.6部
(大日本インキ化学工業社製「NT−810−45(固形分45%)」)
・メチルエチルケトン 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 1部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<鏡面インキ4>
・金属薄膜細片ペースト 10部
(東洋アルミニウム社製「メタシーン71−0010(固形分10%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 0.5部
(UCC社製「VMCH(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 1.1部
(大日本インキ化学工業社製「NT−810−45(固形分45%)」)
・メチルエチルケトン 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 0.1部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<鏡面インキ5>
・金属薄膜細片ペースト 10部
(東洋アルミニウム社製「メタシーン71−0010(固形分10%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 1部
(UCC社製「VMCH(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 2.2部
(大日本インキ化学工業社製「NT−810−45(固形分45%)」)
・メチルエチルケトン 25部
・トルエン 20部
・シクロヘキサノン 20部
・ポリイソシアネート 0.2部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<隠蔽層用塗料>
・アルミニウムペースト 1部
(昭和アルミパウダー社製「SAP−210EA(固形分50%)」)
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 1.5部
(日信化学社製「ソルバインA(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 0.5部
(大日本インキ化学工業社製「TS−03(固形分100%)」
・メチルエチルケトン 10部
・トルエン 10部
・シクロヘキサノン 5部
・ポリイソシアネート 0.8部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<アンカー層用塗料>
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 1.5部
(日信化学社製「ソルバインA(固形分100%)」)
・ポリウレタン樹脂 0.5部
(大日本インキ化学工業社製「TS−03(固形分100%)」
・メチルエチルケトン 10部
・トルエン 10部
・シクロヘキサノン 5部
・ポリイソシアネート 0.8部
(大日本インキ化学工業社製「ハードナーNo.50(固形分50%)」)
<ホログラム層の外観の評価>
下記評価基準を用い目視により判定した。
○・・・銀白色の明るい外観を呈するホログラム像が確認できる。
×・・・反射光量が少なく全体的に暗い色相のホログラム像となる。
また、ホログラムデザインのうち、鏡面部分の光沢値の測定を、BYK−Gardner社製グロスメーター「Micro−TRI−gloss」を用いて行った。
<ESD特性の評価>
ESD特性の評価は以下2つの方法で行った。
(ESD特性1)
室内環境が気温20°、相対湿度15%の恒温恒湿室内において、図3に示すように、NCR社製ハンドスワイプリーダーを磁気カードリーダー30として、テスト用磁気データを記録したカード「動作確認用カード」を磁気カードリーダーに挿引し、磁気カードリーダー30が正常に動作する事(磁気データが正常に読み取れる)を確認する。テスト用磁気データとしては書き込み電流値をISOで規定している基準電流値の280%とし、書き込み周波数200fciで書き込みを行ったものを用いた。
試験電圧の放電後に、磁気カードリーダー30の被測定磁気カード31を取り除き、動作確認用カードを挿入して、磁気カードリーダー30を動作させ、放電により誘因された磁気カードリーダの動作異常の有無を測定する。すなわち磁気カードリーダー30によって、動作確認用カードに記録したテスト用磁気データが再生できるかどうかを試験する。
テスト用磁気データが再生できず、装置のリセットを要する場合異常有りとする。
室内環境が気温20°、相対湿度15%の恒温恒湿室内において、NCR社製ハンドスワイプリーダーに、磁気記録のされていない被テストカードを1秒間に1回の割合で、スワイプ(掃引)を行う。その際に被テストカードの磁気ストライプ部分はハンドスワイプリーダーとの擦れによって帯電し、磁気ヘッドへの放電が観測されるようになる。100回ほど連続してスワイプ(掃引)を行った後の放電電圧を測定する。測定後に、磁気カードリーダー30の動作異常の有無を確認するため、テスト用磁気データの記録された動作確認用カードを挿引しテスト用磁気データ再生できるか否かを試験する。テスト用磁気データが再生できず、装置のリセットを要する場合異常有りとする。
比較例2と比較例3は、同一の鏡面インキを用い、そのコーティング方法のみを変更したものである。これより、小径グラビア塗工(マイクログラビア塗工)により鏡面インキ層を設けた比較例2は、リバースロール塗工により鏡面インキ層を設けた比較例3と比較して100以上も高い光沢値を示している。これらの鏡面インキ層の組成は全く同一であることから、鏡面インキ層を設ける手法として小径グラビア塗工(マイクログラビア塗工)を用いた場合、高い光沢値を得ることができる事が可能であることが示されている。
ESD電圧:放電時に磁気ヘッドに観測された電圧値(V)
異常の有無:テスト用磁気データが再生できず、装置のリセットを要する場合異常有りとする。
ESD電圧:放電時に磁気ヘッドに観測された誘起電圧値(V)
異常の有無:テスト用磁気データが再生できず、装置のリセットを要する場合異常有りとする。
11・・・接着剤層
12・・・磁気記録層
13・・・鏡面インキ層
14・・・透明非導電性蒸着層
15・・・透明光回折層
16・・・保護層
20・・・カード用基材
21・・・転写用仮支持体
30・・・磁気カードリーダー
31・・・磁気カード
32・・・磁気ヘッド
33・・・放電端子
51・・・接着剤層
52・・・磁気記録層
53・・・アンカー層
54・・・金属蒸着層
55・・・透明光回折層
56・・・保護層
Claims (7)
- カード用基材上に形成された磁気記録層の上に、前記磁気記録層に近い側から透明非導電性蒸着層、および透明光回折層を有するカード状磁気記録媒体であって、前記磁気記録層と前記透明非導電性蒸着層との間に、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキ層を有し、該鏡面インキ層の結着剤樹脂と金属薄膜細片の質量比が3.0:1〜10.0:1であることを特徴とするカード状磁気記録媒体。
- 前記磁気記録層は、カード状基材長手方向にストライプ状に形成され、前記磁気記録層に隣接してその全面に鏡面インキ層を有する請求項1に記載のカード上磁気記録媒体。
- 前記鏡面インキ層は金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキを小径グラビア塗工によって塗布することによって形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のカード状磁気記録媒体。
- 転写用仮支持体上に前記転写用支持体に近い側から透明光回折層、透明非導電性蒸着層、磁気記録層、及び必要に応じて接着剤層を有する転写用積層体であって、前記透明非導電性蒸着層と前記磁気記録層との間に、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキ層を有し、該鏡面インキ層の結着剤樹脂と金属薄膜細片の質量比が3.0:1〜10.0:1であることを特徴とする転写用積層体。
- 転写用仮支持体上に、前記転写用支持体に近い側から、透明光回折層、透明非導電性蒸着層、鏡面インキ層、磁気記録層、及び必要に応じて接着剤層をこの順で積層し、前記鏡面インキ層の形成は、金属薄膜細片と結着剤樹脂とを含有する鏡面インキの塗布によって行われ、前記鏡面インキの結着剤樹脂と金属薄膜細片の質量比が3.0:1〜10.0:1であることを特徴とする転写用積層体の製造方法。
- 前記鏡面インキ層は前記鏡面インキを小径グラビア塗工によって塗布することによって形成される請求項5に記載の転写用積層体の製造方法。
- 請求項5または請求項6の転写用積層体の製造方法により転写用積層体を製造し、必要に応じて前記接着剤層を介して、基材上に、前記磁気記録層、前記鏡面インキ層、前記透明非導電性蒸着層、及び前記透明光回折層を、基材に近い側からこの順で積層する転写工程を有することを特徴とするカード状磁気記録媒体の製造方法。
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