JP4217438B2 - マイクロコンバータ - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、主にマイクロインダクタとＩＣ（半導体集積回路）化された能動回路素子により構成され、電源電圧の変換や安定化を行うマイクロコンバータに関し、とくにＳＭＴタイプ（表面実装型）の回路基板に実装されるＤＣ−ＤＣコンバータに適用して有効なものに関する。
【０００２】
【従来の技術】
携帯電話機などの携帯型情報機器では、内蔵電池から得られる電源電圧（起電力）を所定の回路動作電圧に変換するためにＤＣ−ＤＣコンバータを内蔵する。このＤＣ−ＤＣコンバータは、インダクタ、主スイッチ素子、制御回路などにより構成されるが、近年はＩＣ化が進み、インダクタ以外の主要な回路素子は主スイッチ素子も含めてＩＣ化されるようになった。これにより、ＤＣ−ＤＣコンバータの主要部品はＩＣとインダクタの２点だけで済むようになった。このＩＣとインダクタをそれぞれ電子機器の回路基板に表面実装することにより、その回路基板上にてＤＣ−ＤＣコンバータを構成することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した技術には次のような問題を生じることが本発明者によりあきらかとされた。
すなわち、上述したＤＣ−ＤＣコンバータの主要部品であるＩＣとインダクタのうち、インダクタについては、積層構造によりチップ状に小形化されたマイクロインダクタが提供されるようになっているが、ＩＣのような小形化は難しく、とくにＤＣ−ＤＣコンバータのように電力を扱う用途では、ＩＣのような極端な小形化は行えない。もちろん、ＩＣに集積させることも無理である。
【０００４】
携帯電話機等では高機能化および小形化のためにＳＭＴ基板が使用されるとともに、そのＳＭＴ基板の実装密度を高めるために各実装部品の小形化が行われているが、上記インダクタだけは例外的であった。このため、上記ＤＣ−ＤＣコンバータはＳＭＴ基板上で相対的に大きな実装面積を占有し、これが携帯電話機等の小形化および高機能化を阻害する大きな要因となっていた。また、相対的に大サイズのインダクタは、ＳＭＴ基板が湾曲変形したときに受ける曲げ歪みが大きく、実装状態で割れ等の破損が生じやすいという問題もあった。
【０００５】
携帯電話機等の電子情報機器はマイクロプロセッサの処理によって種々の機能を実現している。その機能の拡大は、マイクロプロセッサの処理能力とくに処理速度に依存する。しかし、マイクロプロセッサの高速化は消費電力の増大を伴う。消費電力を増大させずに処理能力を高めるには動作電源を低電圧化するのが有効であるが、そのためには、その低電圧の動作電源を生成するＤＣ−ＤＣコンバータが必要となる。
【０００６】
また、携帯電話機では周波数の有効利用および内蔵電池の長寿命化のために、受信電界強度に応じて送信電力を減力することが望まれる。しかし、従来の携帯電話機の場合、送信電力の減力は必ずしも消費電力の低減とはならず、送信電力を大幅に減力しても消費電力はほとんど減らない。これは、無線出力回路の動作電源電圧をそのままにしてバイアス条件などにより送信電力を可変制御するためである。この場合、その無線出力回路の動作電源電圧をＤＣ−ＤＣコンバータにより低損失で可変制御すれば、送信電力の減力に応じた消費電力の低減が可能となり、これにより、周波数の有効利用と内蔵電池の長寿命化が共に可能となる。
【０００７】
上述した技術を実現するためには、ＤＣ−ＤＣコンバータをマイクロプロセッサや無線出力回路などの回路ごとに設ける必要がある。少なくともＳＭＴ基板上の適所にＤＣ−ＤＣコンバータを配置する必要がある。しかし、従来の技術では、大きな実装面積を占有するＤＣ−ＤＣコンバータを複数個設けることは機器の小形化を阻害するため、実現が困難であった。また、大きな実装面積を占有するＤＣ−ＤＣコンバータは、ＳＭＴ基板上で実装スペースを割り振りするのが難しく、必ずしも適所に設けることはできなかった。
【０００８】
この発明は以上のような技術的背景を鑑みてなされたもので、その目的は、ＳＭＴ基板上に小面積で実装して携帯電話機等の電子機器の小形化と高機能化を可能となし得、またＳＭＴ基板に多少の湾曲変形が生じたとしても、ＩＣあるいは抵抗やコンデンサなどのチップ部品に比べて不相応に大サイズのマイクロインダクタには、その変形による曲げ歪みが直接影響することがなく、マイクロインダクタの割れ等を確実に防ぐことができるマイクロコンバータを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明による手段は、チップ部品状のマイクロインダクタと制御回路等が形成されたＩＣにより構成され、電源電圧の変換や安定化を行うマイクロコンバータにおいて、次の構成手段（１）〜（６）を備えたことを特徴とする。
（１）モジュール基板上に上記ＩＣが表面実装されている。
（２）上記モジュール基板上にスタッド端子が配設され、このスタッド端子に上記マイクロインダクタが載置される形で実装されている。
（３）上記マイクロインダクタと上記半導体集積回路は上記モジュール基板上で上下に重なって配置されている。
（４）上記スタッド端子は上記マイクロインダクタの四隅に配置されて、該マイクロインダクタと上記モジュール基板間を電気的および機械的に接続するとともに、上記半導体集積回路と上記マイクロインダクタ間に微小間隙を確保する高さと弾力性とを有して、上記モジュール基板の湾曲変形による曲げ歪みが上記マイクロインダクタに直接加わるのを回避する緩衝スペーサを形成する。
（５）上記ＩＣと上記マイクロインダクタが上記スタッド端子を介して接続されることにより上記モジュール基板上にＤＣ−ＤＣコンバータが形成されている。
（６）上記モジュール基板は機器側の基板に表面実装するための側面又は底面端子を有し、この端子を介して上記ＤＣ−ＤＣコンバータが上記機器側の基板に接続されるようになっている。
上記手段より、ＳＭＴ基板上に小面積で実装することができ、これにより携帯電話機等の電子機器の小形化と高機能化が可能になる。
【００１０】
上記手段において、上記スタッド端子は柱状または球状が好ましい。また、上記スタッド端子は、耐熱性樹脂部材の表面を半田付け性の良好な金属層で被覆して形成することができる。上記スタッド端子にハンダ付けされるマイクロインダクタの電極端子部は、環状のマスクパターンによって縁取られたランド部により形成することができる。この場合、ハンダの流出を阻止して良好なハンダ付け状態を再現性良く得ることができる。上記ＩＣは、集積回路の形成面が上記モジュール基板の実装面に対面した状態で表面実装されることが好ましい。上記マイクロインダクタは積層構造の磁心型インダクタが好適である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１と図２は本発明の技術が適用されたマイクロコンバータの一実施例を示す。図１において、（ａ）は分解斜視図、（ｂ）は組立完成図、（ｃ）は側面略図をそれぞれ示す。また、図２において、（ｄ）は等価回路図、（ｅ）は実装使用状態をそれぞれ示す。
【００１２】
同図に示すマイクロコンバータ１０はモジュール部品化されたＤＣ−ＤＣコンバータであって、ＳＭＴ基板上６０に表面実装されて使用される。このマイクロコンバータ１０は、モジュール基板２０、ＩＣ（半導体集積回路）３０、マイクロインダクタ４０、およびスタッド端子５０により構成される。
【００１３】
モジュール基板２０はＳＭＴタイプのプリント回路基板であって、モジュールの支持ベースを兼ねる。このモジュール基板２０の上側面には表面実装電極および回路配線パターンなどが形成されている。また、その側端面には表面実装用の電極端子部（側面端子）２２が形成されている。モジュール基板２０の上側実装面には、ＩＣ３０、スタッド端子５０、および若干のＣＲ部品２６がそれぞれリフローハンダ法によりハンダ付け実装される。
【００１４】
ＩＣ３０は単一のシリコン半導体基板を用いたモノリシック型で、主スイッチ素子をなすＭＯＳトランジスタＱ１，Ｑ２と、このＭＯＳトランジスタＱ１，Ｑ２のスイッチング動作をループ制御する制御回路３６が集積形成されている。このＩＣ３０は、集積回路の形成面３１が上記モジュール基板２０の実装面に対面する状態で、そのモジュール基板２０に表面実装されている。ＩＣ３０の回路形成面３１にはそのための電極部が形成されている。モジュール基板２０にはＩＣ３０を固定するために、熱硬化性樹脂からなるアンダーフィル２４が設けられている。
【００１５】
マイクロインダクタ４０は積層構造のチップ状部品として構成された磁心型インダクタであって、その両端部に表面実装用の電極端子部４２，４２が形成されている。このマイクロインダクタ４０は、上記モジュール基板２０の４隅に配設されたスタッド端子５０上に載置された状態で、そのモジュール基板２０上に実装される。各スタッド端子５０の上端部はそれぞれ上記電極端子部４２，４２にリフローハンダ法により電気的および機械的に接続されている。
【００１６】
スタッド端子５０は、上記ＩＣ３０と上記マイクロインダクタ４０間に微小間隙を確保するスペーサ端子を形成することができる高さを有するとともに、全体が若干の弾力性と可撓性を有するように構成されている。これにより、モジュール基板２０とマイクロインダクタ４０間の曲げ歪みを吸収することができるようになっている。このスタッド端子５０は金属等の良導電性部材であるとともに、少なくとも上下端部表面がハンダ付け可能な素材で形成されている。そして、その下端側はモジュール基板２０上に、その上端側はマイクロインダクタ４０の電極端子部４２に、それぞれハンダ付けされる。ハンダ付けはリフローハンダ法により行う。
【００１７】
上述したマイクロコンバータ１０は上記モジュール基板２０の側面端子２２にて、携帯電話機等のＳＭＴ基板６０上にハンダ付けされて表面実装される。ハンダ付けはリフローハンダ法により、他の実装部品と一緒に行われる。上記マイクロインダクタ４０は、ＩＣあるいは抵抗やコンデンサなどのチップ部品に比べて不相応に大サイズであっても、上記スタッド端子５０を介して機械的に緩衝されながら保持されているので、ＳＭＴ基板６０に多少の湾曲変形が生じたとしても、その変形による曲げ歪みはスタッド端子５０で吸収され、マイクロインダクタ４０には直接影響しない。スタッド端子５０はマイクロインダクタ４０とモジュール基板２０間を電気的および機械的に接続するとともに、上記マイクロインダクタ４０と上記モジュール基板２０間で緩衝スペーサを形成する。これにより、マイクロインダクタ４０の割れ等を確実に防ぐことができる。上記スタッド端子５０はマイクロインダクタ４０の電極端子部４２の数だけでよいので、その使用によるコストは少なくて済む。
【００１８】
上記マイクロインダクタ４０は、モジュール基板２０上にＩＣ３０と上下に重なって配置される。これにより、ＳＭＴ基板６０上での実装面積を小さくすることができる。さらに、実施例では、ＩＣ３０の回路形成面３１がモジュール基板２０の上側実装面に対面する状態で、そのモジュール基板２０に表面実装されているが、これにより、ＩＣ３０とマイクロインダクタ４０間をそのＩＣ３０の半導体基板部で電磁気的に遮蔽する効果を得ることができる。ＩＣ３０の回路は半導体基板表面付近の常に薄い領域にだけ形成され、それ以外の厚み部分は定電位に接地される。したがって、ＩＣ３０の基板背面３２をマイクロインダクタ４０側に向けることにより、そのマイクロインダクタ４０とＩＣ３０間の誘導干渉を防止する効果が得られる。
【００１９】
図３は本発明の別の実施例を示す。同図において、（ａ）は側面略図、（ｂ）は（ａ）のＡ部拡大断面図をそれぞれ示す。
上述した実施例との相違点に着目して説明すると、同図に示す実施例では、球形のスタッド端子５０を使用している。この球形スタッド端子５０は、耐熱性で弾力性を有する樹脂製球体５１の表面をハンダ付け性（ハンダ濡れ性）の良好な金属層５２で被覆したものであって、上述した柱状のスタッド端子と同様、モジュール基板６０とマイクロインダクタ４０の電極端子部４２間に介在し、両者をハンダ７０で電気的および機械的に接続する。この球形スタッド端子５０は、柱状のスタッド端子と同様、ＳＭＴ基板６０の湾曲変形による曲げ歪みがマイクロインダクタ４０に直接加わるのを回避する良好な緩衝スペーサとしての機能を持つことができる。
【００２０】
この場合、柱状のスタッド端子では、モジュール基板上に垂直に立てる姿勢合わせが必要となるが、球形のスタッド端子ではその姿勢合わせを不要にすることができる。つまり、球形とすることにより、どのような姿勢でも上記緩衝スペーサとしての機能を得ることができる。
【００２１】
また、マイクロインダクタ４０の角部は欠けを防ぐために曲面状に面取りすることが望ましいが、この場合、上記球形のスタッド端子５０ならば、面取りされた電極端子部４２の表面（曲面）に形状対応させるための位置合わせを行うことなく、両者をハンダ７０で電気的および機械的に接続することができる。さらに、上記球形スタッド端子５０をモジュール基板２０上の電極部２１にリフローハンダ法でハンダ付け実装する際は、その球形のスタッド端子５０が溶融ハンダの表面張力により電極部２１の中央部に引き寄せられて自己整合的に位置決めされるという効果が得られる。更にこのスタッドはＩＣの厚さに相当する大きさで非常に小さく、高い寸法精度が要求される。球状だと安価に実現できる有意な点がある。
【００２２】
図４は上記マイクロインダクタ４０の電極端子部４２に関する第１実施例を示す。同図において、（ａ）はマイクロインダクタの外観斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ部拡大断面図をそれぞれ示す。
同図に示すように、マイクロインダクタ４０の電極端子部４２は、無電解銀メッキ層４３上にニッケルメッキ層４４と錫メッキ層４５を順次設けて形成される。この場合、最上層に錫メッキ層４５を置くことにより一般的には良好な半田付け性を得ることができる。ただし、インダクタの電極面積がスタッドの接触面積に比較して何倍も大きい場合には、スタッドとの半田付けに用いる半田がインダクタの電極全域に広がり、半田付けに必要な半田がスタッドとの接合部に留まらなくなる場合がある。この場合には半田付け工程で溶けない金または銅又はニッケルメッキが好ましい。
【００２３】
図５は上記マイクロインダクタ４０の電極端子部４２に関する第２実施例を示す。同図において、（ａ）はマイクロインダクタの外観斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ部拡大断面図をそれぞれ示す。
この第２実施例では、最上層に錫メッキ層４５を形成するに先立ち、上記スタッド端子５０がハンダ付けされる部分を環状に囲繞するマスクパターン４６をスクリーン印刷等により形成する。そして、そのマスクパターン４６の上からハンダ付けのための錫メッキ層４５を形成する。これにより、錫メッキ層４５が上記マスクパターン４６で環状に縁取られる。この環状のマスクパターン４６で囲まれた円形ランドに上記スタッド端子５０をリフローハンダ法によりハンダ付けさせれば、ハンダがその円形ランドの外へ流出して広がるのを阻止することができる。これにより、ハンダをハンダ付け個所だけに留めて良好なハンダ付け状態を得ることができる。
【００２４】
図６は上記マイクロインダクタ４０の電極端子部４２に関する第３実施例を示す。同図において、（ａ）はマイクロインダクタの外観斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ部拡大断面図をそれぞれ示す。
この第３実施例では、上記スタッド端子５０のハンダ付けに必要な円形ランドだけに上記メッキ層４３，４４，４５を形成する。つまり、最初から円形ランドだけの電極を形成する。このような構成によっても、ハンダの無用な流出を阻止して良好なハンダ付け状態を得ることができる。
【００２５】
図７は上記マイクロインダクタ４０のコイル構造に関する実施例を示す。同図において、（ａ）はマイクロインダクタの外観斜視図、（ｂ）はその等価回路図をそれぞれ示す。上述したマイクロインダクタ４０はチョークコイルであったが、同図に示すマイクロインダクタ４０は一次と二次の２つのコイルを有するトランスを形成する。このトランスコイル構造のマイクロインダクタ４０を使用すれば、入力側と出力側間を電気的に絶縁（アイソレーション）したＤＣ−ＤＣコンバータを構成することができる。
【００２６】
以上、本発明をその代表的な実施例に基づいて説明したが、本発明は上述した以外にも種々の態様が可能である。たとえば、上記ＩＣ３０は必ずしもモノリシックである必要はなく、たとえば複数チップに分割してもよい。
【００２７】
付記１：請求項１〜５において、上記マイクロインダクタは積層構造の磁心型インダクタであることを特徴とするマイクロコンバータ。
【００２８】
【発明の効果】
本発明によれば、電源電圧の変換や安定化を行うマイクロコンバータをＳＭＴ基板上に小面積で実装することができ、これにより、携帯電話機等の電子機器を小形化および高機能化することができる。また、マイクロインダクタは、ＩＣあるいは抵抗やコンデンサなどのチップ部品に比べて不相応に大サイズであっても、上記スタッド端子を介して機械的に緩衝されながら保持されているので、ＳＭＴ基板に多少の湾曲変形が生じたとしても、その変形による曲げ歪みはスタッド端子で吸収され、マイクロインダクタには直接影響することがなく、スタッド端子はマイクロインダクタとモジュール基板間を電気的および機械的に接続するとともに、上記マイクロインダクタと上記モジュール基板間で緩衝スペーサを形成して、マイクロインダクタの割れ等を確実に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるマイクロコンバータの一実施例を示す分解斜視図、組立完成図、および側面略図である。
【図２】本発明によるマイクロコンバータの等価回路図および実装使用状態を示す断面略図である。
【図３】本発明によるμコンバータの別の実施例を示す側面略図および部分拡大断面図である。
【図４】本発明で使用するマイクロインダクタの電極端子部に関する第１実施例を示す図である。
【図５】本発明で使用するマイクロインダクタの電極端子部に関する第２実施例を示す図である。
【図６】本発明で使用するマイクロインダクタの電極端子部に関する第３実施例を示す図である。
【図７】マイクロインダクタのコイル構造に関する実施例を示す図である。
【符号の説明】
１０ マイクロコンバータ
２０ モジュール基板
２１ 電極部
２２ 電極端子部（側面端子）
２４ アンダーフィル
２６ ＣＲ部品
３０ ＩＣ（半導体集積回路
３１ 集積回路の形成面
Ｑ１，Ｑ２ ＭＯＳトランジスタ
３２ 集積回路基板の背面
３６ 制御回路
４０ マイクロインダクタ
４２ 電極端子部
４３ 銀メッキ層
４４ ニッケルメッキ層
４５ メッキ層４５
４６ マスクパターン
５０ スタッド端子
５１ 樹脂製球体
５２ 金属層
６０ ＳＭＴ基板
７０ ハンダ

Claims (7)

  1. チップ部品状のマイクロインダクタと制御回路等が形成された半導体集積回路により構成され、電源電圧の変換や安定化を行うマイクロコンバータにおいて、次の構成手段（１）〜（６）を備えたことを特徴とするマイクロコンバータ。
    （１）モジュール基板上に上記半導体集積回路が表面実装されている。
    （２）上記モジュール基板上にスタッド端子が配設され、このスタッド端子に上記マイクロインダクタが載置される形で実装されている。
    （３）上記マイクロインダクタと上記半導体集積回路は上記モジュール基板上で上下に重なって配置されている。
    （４）上記スタッド端子は上記マイクロインダクタの四隅に配置されて、該マイクロインダクタと上記モジュール基板間を電気的および機械的に接続するとともに、上記半導体集積回路と上記マイクロインダクタ間に微小間隙を確保する高さと弾力性とを有して、上記モジュール基板の湾曲変形による曲げ歪みが上記マイクロインダクタに直接加わるのを回避する緩衝スペーサを形成する。
    （５）上記半導体集積回路と上記マイクロインダクタが上記スタッド端子を介して接続されることにより上記モジュール基板上にＤＣ−ＤＣコンバータが形成されている。
    （６）上記モジュール基板は機器側の基板に表面実装するための側面端子または底面端子を有し、この端子を介して上記ＤＣ−ＤＣコンバータが上記機器側の基板に接続されるようになっている。
  2. 請求項１において、上記スタッド端子が柱状であることを特徴とするマイクロコンバータ。
  3. 請求項１において、上記スタッド端子が球状であることを特徴とするマイクロコンバータ。
  4. 請求項１〜３において、上記スタッド端子は、耐熱性樹脂部材の表面を半田付け性の良好な金属層で被覆して形成されたものであることを特徴とするマイクロコンバータ。
  5. 請求項１〜４において、上記マイクロインダクタの電極が金または銅或いはニッケルメッキであることを特徴とするマイクロコンバータ。
  6. 請求項１〜５において、上記スタッド端子にハンダ付けされるマイクロインダクタの電極端子部は、環状のマスクパターンによって縁取られたランド部により形成されていることを特徴とするマイクロコンバータ。
  7. 請求項１〜６において、上記半導体集積回路は、集積回路の形成面が上記モジュール基板の実装面に対面した状態で表面実装されていることを特徴とするマイクロコンバータ。
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