JP4213800B2 - 斜入射干渉計 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光干渉による干渉縞に基づいて測定物の表面形状を計測する斜入射干渉計に関する。
【0002】
【従来技術】
この種の装置としては、半導体素子製造過程におけるシリコンウェハの平面度検査に利用される斜入射干渉計が知られている。図2は従来例の斜入射干渉計の構成を示した図であり、He−Neレーザ1から出射されたレーザ光は、レンズ2の焦点に集光して点光源となり、その近傍に配置されたスリガラス円盤3を通過した後、コリメーティングレンズ5で平行光束にされ、プリズム6に入射する。プリズム参照面7で反射した光と、プリズム参照面7を透過して測定物の測定面8で反射し、再びプリズム参照面7を透過した光とが干渉してスクリーン9には1次干渉縞が形成される。スクリーン9に形成された干渉縞をカメラ10で撮像し、画像処理装置11でその像を解析することにより測定面8の面形状が測定される。なお、スリガラス円盤3はモータ4によって高速回転され、スリガラス面による透過光のムラを排除する。
【0003】
このような斜入射干渉計では、測定面8が鏡面に近かったり、測定面8とプリズム参照面7の間隔が狭かったりすると、プリズム参照面7で反射した光と、測定面8とプリズム参照面7の間を2回以上反射往復した光とによる干渉縞がスクリーン9に現われることがある。これは上記の1次干渉縞に対して高次干渉縞と呼ばれるものであるが、この高次干渉縞をうまく消去しないと面形状の計測結果は誤ったものとなりやすい。
【0004】
この対応として、上記従来例ではレンズ2を光軸方向に移動することでレンズ2の焦点をスリガラス円盤3の拡散面からずらし、点光源を見かけ上広げてレーザ光の干渉性を落とすように調節することで高次干渉縞を消していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、スリガラスを使用して干渉性を落とす方法では、スリ面での透過率が低いのでレーザ光のパワー損失が伴い、エネルギ効率が悪い。このため出力の大きなレーザ光源を必要とし、装置が高価になるという欠点があった。
【0006】
本発明は上記従来技術の欠点に鑑み、出力の大きなレーザ光源を必要とせずに、計測に必要な1次干渉縞を生かしつつ高次干渉縞の消去を行うことができる装置を提供することを技術課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
【0008】
(1) レーザ光源からのレーザ光を参照面を通して測定面に斜め方向から入射させ、参照面と測定面より反射された反射光によって形成される干渉縞を撮影した画像に基づいて測定面形状を計測する斜入射干渉計において、レーザ光の干渉性を低下させるために、前記レーザ光源から前記参照面に到る光路に設けられ、透明部材で形成された偏向板と、該偏向板の1回転を1画面分の撮像レート以上の速さで回転させ偏向方向を連続的に変化させる回転手段と、を備えることを特徴とする。
(2) レーザ光源からのレーザ光を参照面を通して測定面に斜め方向から入射させ、参照面と測定面より反射された反射光によって形成される干渉縞に基づいて測定面形状を計測する斜入射干渉計において、レーザ光の干渉性を低下させるために前記レーザ光源から前記参照面に到る光路に設けられ、透明部材で形成された回転プリズムと、該回転プリズムを連続回転する回転手段と、前記回転プリズムとレーザ光源との間隔を調節する調節手段と、を備えることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は本発明に係る斜入射干渉計の概略構成を示す図である。なお、図2の従来例と同様な要素には同一の符号を付している。
【0014】
20は波長655nmのレーザ光を発する半導体レーザ光源で、これはほぼ点光源と見なせる。半導体レーザを使用することにより、ガスレーザに比べて装置全体の小型化を図ることができる。5は焦点距離800mmのコリメーティングレンズで、半導体レーザ光源20はその後側焦点位置付近に配置される。半導体レーザ光源20とコリメーティングレンズ5の間の光路には、透明な板ガラスを両面研磨して製作された偏向板21が半導体レーザ光源20の近傍に位置するように配置されている。偏向板21は図に示すようにその断面は頂角30分(角度0.5度)のプリズムとなっている。偏向板21の中心にはモータ22の回転軸が取り付けられており、半導体レーザ光源20から発したレーザ光はモータ22により回転する偏向板21のプリズム作用を受け、コリメーティングレンズ5に向かうレーザ光の偏向方向が連続的に変化する。
【0015】
偏向板21とモータ22は、移動機構23により一体的にコリメーティングレンズ5の光軸方向に移動され、半導体レーザ光源20と偏向板21の間隔が調節される。移動機構23は、モータ22を保持するラック24と、ラック24に噛み合うピニオン25、ピニオン25を回転するモータ26等から構成することができる。
【0016】
半導体レーザ光源20を発したレーザ光は偏向板21のプリズム作用に受けて屈折された後、コリメーティングレンズ5により平行光束にされてプリズム6に入射する。プリズム6に入射した光は、参照面7からの反射光と参照面7を透過して測定面8へ斜め方向から入射する光束に分かれる。参照面7で反射した光と、測定面8で反射し再び参照面7を透過した光とが干渉して、スクリーン9には干渉縞が投影される。スクリーン9に投影された干渉縞は、テレビカメラ10で撮像され、その出力信号が画像処理装置11に入力される。画像処理装置11では入力された画像に所定の画像処理が施されて測定面8の凹凸形状が測定される。12はモニタで、テレビカメラ10で撮像された干渉縞画像や測定結果が表示される。13は制御部でモータ22、モータ26の回転を制御する。14はコントロールパネルで移動機構23を駆動するノブや装置に指令を行うスイッチを持つ。
【0017】
次に、上記の構成における高次干渉縞の消去調節について説明する。モータ22の回転により偏向板21を回転すると、偏向板21のプリズム作用によって半導体レーザ光源20が見かけ上円を描いて回転する(このときの円の半径は偏向板21の屈折パワーと、半導体レーザ光源20と偏向板21の距離で決まる)。テレビカメラ10による1画面分の撮像レートは1/30秒であるので、偏向板21の回転を1/30秒で少なくとも1回転する速度で行えば、1画面分の撮像に対して偏向板21によるレーザ光の偏向を1周期分以上行うことができる。すなわち、1画面分の撮像レートで考えれば、図2の従来例で示したスリガラス円盤3により点光源を見かけ上広げることと同等になり、レーザ光の干渉性を落とすことができるようになる。加えて、偏向板21は透明板で構成しているので、スリガラスによる拡散に比べてその透過性ははるかに良く、レーザ光のパワー損失を抑えることができる。
【0018】
高次干渉縞の消去は、コントロールパネル14のノブを操作することによりモータ26を回転させ、半導体レーザ光源20と偏向板21の間隔を調整することで行う。オペレータ(調整者)は半導体レーザ光源20と偏向板21の間隔を調整することで偏向板21を通過するレーザ光の干渉性の落し具合を調節でき、モニタ12に映し出される干渉縞を確認しながら、高次干渉(主に2次干渉)が消え、かつ1次干渉縞が薄くならないように調節する。
【0019】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、レーザ光のパワー損失を少なくしてレーザ光の干渉性を落とすことができるので、出力の大きなレーザ光源を必要とせずに、計測に必要な1次干渉縞を生かしつつ高次干渉縞の消去を効率良く行うことができる。また、出力の小さな半導体レーザを用いることができるので、小型で安価な装置の実現が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る斜入射干渉計の概略構成を示す図である。
【図2】従来例の斜入射干渉計の構成を示した図である。
【符号の説明】
5 コリメーティングレンズ
6 プリズム
7 参照面
8 測定面
9 スクリーン
10 テレビカメラ
20 半導体レーザ光源
21 偏向板
22 モータ
Claims (2)
- レーザ光源からのレーザ光を参照面を通して測定面に斜め方向から入射させ、参照面と測定面より反射された反射光によって形成される干渉縞を撮影した画像に基づいて測定面形状を計測する斜入射干渉計において、レーザ光の干渉性を低下させるために、前記レーザ光源から前記参照面に到る光路に設けられ、透明部材で形成された偏向板と、該偏向板の1回転を1画面分の撮像レート以上の速さで回転させ偏向方向を連続的に変化させる回転手段と、を備えることを特徴とする斜入射干渉計。
- レーザ光源からのレーザ光を参照面を通して測定面に斜め方向から入射させ、参照面と測定面より反射された反射光によって形成される干渉縞に基づいて測定面形状を計測する斜入射干渉計において、レーザ光の干渉性を低下させるために前記レーザ光源から前記参照面に到る光路に設けられ、透明部材で形成された回転プリズムと、該回転プリズムを連続回転する回転手段と、前記回転プリズムとレーザ光源との間隔を調節する調節手段と、を備えることを特徴とする斜入射干渉計。
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