JP4194436B2 - 電界効果型有機トランジスタ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は電界効果型有機トランジスタに関して、特に表示デバイス、情報タグ、IC等のエレクトロ分野に有用な有機半導体層を有する電界効果型有機トランジスタに関するものである。
【0002】
【背景技術】
結晶シリコンテクノロジーを基盤としたシリコントランジスタに対抗すべく、有機半導体を利用したトランジスタの開発が盛んに行われている。有機半導体は有機材料の特徴である、軽量、柔軟性、多様性、堅牢性を備え、また、100℃前後の低温プロセスで形成できるほか、印刷、スピンコート等の液相プロセスによる製造方法が可能である。その為、結晶シリコン半導体ではなし得なかったプラスチック基板上への製造や大画面化が可能であり、フレキシブルな電子ペーパー、情報タグ等の新しいデバイスへの適用の期待が高まっている。
【0003】
しかしながら、通常の有機半導体は移動度が10-5〜10-2cm2/Vsレベルとシリコン半導体に比べて一桁以上低く、高抵抗である為に、大電流が得られにくく、また動作周波数が低い等の問題点を抱えている。
【0004】
電界効果有機トランジスタで得られる移動度は飽和領域のドレイン電流の式(I)から求められる。
【0005】
【数1】
【0006】
(式中、Idはドレイン電流(A)、μは移動度(cm2/Vs)、Wはチャネル幅(cm)、Lはチャネル長(cm)、Ciはゲート絶縁層の容量(F/cm2)、Vgはゲート電圧(V)、Vthはトランジスタの閾値電圧(V)を示し、ドレイン電流の平方根とゲート電圧の関係からドレイン電流Id=0に外挿することにより求めることができる。)
【0007】
また、スイッチングデバイスとして利用する場合、トランジスタがオンした時のソースドレイン両電極間を流れる電流と、オフした時のソースドレイン両電極間を流れる電流の比(オンオフ比)が少なくとも104 以上、望ましくは106 以上が必要となる。しかしながら、有機半導体の場合、前述したように低移動度の為にオン電流が小さく、また有機半導体に含まれる不純物の影響で、オフ電流が大きい為に十分なオンオフ比が得られていない。特に高分子化合物の場合が顕著である。
【0008】
オンオフ比を改善する手法としては、特許文献1において、移動度を10-3cm2/Vs以上、伝導度を10-5S/cm以下にすることで103 程度の改善は図られているがまだ十分ではない。従って実用特性を満足できる有機半導体を利用した電界効果型有機トランジスタは存在していないのが現状である。
【0009】
【特許文献1】
特開平10−190001号公報(第5頁)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、この様な従来技術に鑑みてなされたものであり、前記課題を解決した、移動度が大きく、しかもオンオフ比の高い電界効果型有機トランジスタ素子を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は有機半導体層中に移動度の異なる領域を形成することで、高移動度でしかもオンオフ比の改善された電界効果型有機トランジスタを提供するものである。
【0012】
即ち、本発明は、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、ゲート絶縁層と、有機半導体層と、を有する電界効果型有機トランジスタであって、前記有機半導体層が、チャネル領域を構成する第1の領域と、前記第1の領域に接触して存在する第2の領域と、を有し、前記第1の領域の移動度が前記第2の領域の移動度より高く、前記第1の領域がペンタセンからなり、前記第2の領域が銅フタロシアニンからなることを特徴とする電界効果型有機トランジスタである。
【0013】
特に移動度の高い領域がチャネル領域である有機半導体層を有する電界効果型有機トランジスタが好ましい。
また、前記有機半導体層は製造に液相プロセスを利用できる共役高分子化合物であることが好ましく、その重量平均分子量が、5,000から500,000であることが望ましい。
さらに前記ゲート絶縁層が有機化合物からなっているが好ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の電界効果型有機トランジスタの構造は、プレーナー型、スタガー型または逆スタガー型、何れにおいても有効であるが、プレーナー型を一例に図1を用いて本発明を詳細に説明する。
【0015】
図1は本発明の電界効果型有機トランジスタの一例を示す断面模式図である。同図において、本発明の電界効果型有機トランジスタは、絶縁性基板11上にゲート電極12を配置し、その上にゲート絶縁層13を配置し、更にその上にソース電極15およびドレイン電極14を配置し、その上に有機半導体層16,17、そして最上部に保護膜18を配置して構成されている。
【0016】
本発明の特徴は、有機半導体層16,17の移動度が異なることにある。特に電荷移動のチャネル領域19となる有機半導体層16が、チャネル領域とならない有機半導体層17よりも移動度が高いものが好ましい。本発明で用いるチャネル領域とはチャネル長によっても異なるが、おおむねゲート絶縁層13との界面から有機半導体層50nm以下までの領域を示している。
【0017】
有機半導体層に異なる移動度の領域を形成する方法としては、1種の有機半導体を用いて、その配向状態を変化させることで移動度の異なる領域を形成させる方法、また異なる移動度を持つ2種以上の有機半導体を堆積することで異なる移動度の領域を形成する方法が挙げられる。前者の場合、配向状態を変える方法として有機半導体層を気相法で堆積する場合、蒸着速度、基板温度を変化させて堆積することで達成できる。液相法で堆積する場合は乾燥温度、環境ガスの種類を変化させて堆積することで達成できる。
【0018】
また、本発明の効果を有効にする為にはチャネル領域となる有機半導体層16の移動度μ1 は、10-3cm2/Vs以上、好ましくは10-2cm2/Vs以上の範囲が望ましい。
【0019】
また、チャネル領域とならない有機半導体層17の移動度μ2 は、10-4cm2/Vs以下、好ましくは10-5cm2/Vs以下の範囲が望ましい。
【0020】
また、本発明の効果を有効にする為には、有機半導体層16,17の2つの移動度はμ1 >μ2 であり、かつ移動度の比(μ1 /μ2 )は10以上が好ましく、更に好ましくは100以上である。
【0021】
有機半導体層16,17の移動度の値は、電界効果有機トランジスタで得られる前記式(I)から求められる値を示す。
また、有機半導体層16の膜厚は5〜100nmで、有機半導体層17の膜厚は100〜1000nmが好ましい。
【0022】
本発明で用いられる有機半導体層は、共役二重結合を有する共役化合物であれば特に限定されない。例えば以下に示す化合物が好適である。
ポリアセチレン誘導体、チオフェン環を有するポリチオフェン誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ベンゼン環を有するポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、窒素原子を有するポリピリジン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリキノリン誘導体等の共役高分子化合物:
ジメチルセクシチオフェン、クオータチオフェンに代表されるオリゴマー:
ペリレン、テトラセン、ペンタセンに代表されるアセン類、銅フタロシアニン誘導体に代表される堆積有機分子、トリフェニレン誘導体に代表されるディスコチック液晶、フェニルナフタレン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体に代表されるスメクチック液晶、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン−ビチオフェン)共重合体に代表される液晶ポリマー:
等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0023】
また、好ましくは液相プロセスを利用できるという観点から、上記の共役構造を有する高分子化合物が好適である。例えば以下に示す構造の化合物が挙げられる。
【0024】
【化1】
【0025】
(式中、R1 、R2 、R3 、R4 はH、Fまたは炭素原子数が1から20のアルキル基またはアルコキシ基を示す。nは正の整数を示す。)
【0026】
これらの共役高分子化合物の重量平均分子量は特に限定はされないが、溶媒に対する可溶性、成膜性等を考慮すると、5,000〜500,000、好ましくは10,000〜100,000が望ましい。
【0027】
また、本発明で用いられる有機半導体層はその電気伝導度を調整する為に適当なドーパントを含有していても良い。ドーパントの種類として、アクセプター性のI2 、Br2 、Cl2 、BF3 、PF5 、H2 SO4 、FeCl3 、TCNQ(テトラシアノキノジメタン)、ドナー性のLi、K、Na、Eu、界面活性剤であるアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩等があげられる。
【0028】
本発明で用いられるゲート絶縁層は特に限定はされないが、SiO2 、SiNx 、Al2 O3 、Ta2 O5 等の無機材料、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリエチレンテレフタレート、ポリフッ化ビニリデン等の有機材料および有機無機ハイブリッド材料を用いることができる。好ましくは、低コストにつながる液相プロセスを利用できるという観点から有機化合物が好ましい。
【0029】
絶縁性基板としては特に限定されないが、例えばガラス、石英等の無機材料のほかアクリル系、ビニル系、エステル系、イミド系、ウレタン系、ジアゾ系、シンナモイル系等の感光性高分子化合物、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン等の有機材料、有機無機ハイブリッド材料を用いることができる。また、これらの材料を2層以上積層させて用いることもでき、絶縁耐圧を上げる目的で効果がある。
【0030】
さらに本発明で用いられるゲート電極、ソース電極およびドレイン電極は導電体であれば特に限定はされないが、例えばAl、Cu、Ti、Au、Pt、Ag、Cr等の金属材料、ポリシリコン、シリサイド、ITO(Indium Tin Oxide)、SnO2 等の無機材料も好適であるが、ハイドープされたポリピリジン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェンに代表される導電性高分子および炭素粒子、銀粒子等を分散した導電性インク等を用いることができる。特にフレキシブル電子ペーパー等に用いる場合、各電極は導電性高分子および炭素粒子、銀粒子等を分散した導電性インク等であるものが基板との熱膨張をそろえ易く好ましい。
【0031】
これら各電極、ゲート絶縁層、有機半導体層の形成方法は特に限定はされないが有機材料の場合、電解重合法、キャスティング法、スピンコート法、浸漬コート法、スクリーン印刷法、マイクロモールド法、マイクロコンタクト法、ロール塗布法、インクジェット法、LB法等で形成することができる。また、用いる材料により真空蒸着法、CVD法、電子ビーム蒸着法、抵抗加熱蒸着法、スパッタ法等も有効な形成方法である。また、これらはフォトリソグラフおよびエッチング処理により所望の形状にパターニングすることができる。その他、ソフトリソグラフ、インクジェット法も有効なパターニング方法である。また、必要に応じて各電極からの引出し電極や保護膜等を形成することができる。
【0032】
【実施例】
以下、実施例により本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0033】
参考例1
図2は、本発明の実施例および参考例に使用した電界効果型有機トランジスタの構成図を示す。
図2において、ゲート電極21としてn型に高ドープされたシリコン基板、ゲート絶縁層22としてSiO2、ソース電極23およびドレイン電極24としてクロム/金の堆積物、有機半導体層25、26として以下に示すジメチルセクシチオフェンを用いた。
【0034】
【化2】
【0035】
また、ジメチルセクシチオフェンの合成は、Advanced Materials,5,896,(1993)に記載の合成法に従って合成したものを使用した。
【0036】
以下に作製手順を示す。シリコン基板上に熱酸化膜SiO2 (膜厚300nm)を形成した。その上にリフトオフ法によりチャネル長50μm、チャネル幅50mmのクロム(5nm)/金(100nm)ソースドレイン両電極を作製した。その上にジメチルセクシチオフェンを5×10-6torrの圧力下で蒸着基板から10cm離した昇華金属用ボードから平均昇華速度0.05nm/s、基板温度25℃で膜厚10nmになるまで堆積し有機半導体層25を形成した。
【0037】
その後、平均昇華速度1nm/s、基板温度25℃で膜厚300nmまで堆積し有機半導体層26を形成した。ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極の各電極に0.1mmφの金線を銀ペーストで配線し、電界効果型有機トランジスタ素子を作製した。
【0038】
次に、ゲート電圧を0V〜50V、ソース−ドレイン電極間の電圧0V〜50Vでのドレイン電流を測定し、移動度μを式(I)に従って算出した。
また、オンオフ比はソース−ドレイン電極間の電圧が30V印加時のゲート電圧Vg=30Vのドレイン電流と、Vg=0のドレイン電流の比で算出した。結果を以下に示す。
移動度μ=2.1×10-2cm2/Vs
オンオフ比=107
【0039】
次に、以下の比較例1、2により、参考例1の有機半導体層25、26の各々の移動度を測定した結果を示す。
【0040】
比較例1
有機半導体層25,26を以下の条件で形成する以外は参考例1と同様の方法で電界効果型有機トランジスタを作製した。
ジメチルセクシチオフェンを5×10−6torrの圧力下で蒸着基板から10cm離した昇華金属用ボードから平均昇華速度1nm/s、基板温度25℃で膜厚300nmになるまで堆積し有機半導体層25,26を形成した。
【0041】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。結果を以下に示す。
【0042】
移動度μ=8.1×10-6cm2/Vs
オンオフ比=103
【0043】
比較例2
有機半導体層25,26を以下の条件で形成する以外は参考例1と同様の方法で電界効果型有機トランジスタを作製した。
ジメチルセクシチオフェンを5×10−6torrの圧力下で蒸着基板から10cm離した昇華金属用ボードから平均昇華速度0.05nm/s、基板温度25℃で膜厚300nmになるまで堆積し有機半導体層25,26を形成した。
【0044】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。結果を以下に示す。
移動度μ=2.5×10−2cm2/Vs
オンオフ比=105
【0045】
参考例2
図2は、本発明の実施例および参考例に使用した電界効果型有機トランジスタの構成図を示す。
ゲート電極21としてn型に高ドープされたシリコン基板、ゲート絶縁層22としてSiO2、ソース電極23およびドレイン電極24としてクロム/金の堆積物、有機半導体層25、26として以下に示す銅フタロシアニンを用いた。
【0046】
【化3】
【0047】
以下に作製手順を示す。シリコン基板上に熱酸化膜SiO2 (300nm)を形成した。その上にリフトオフ法によりチャネル長20μm、チャネル幅50mmのクロム(5nm)/金(100nm)ソースドレイン両電極を作製した。その上に銅フタロシアニンを3×10-6torrの圧力下で蒸着基板から10cm離した昇華金属用ボードから平均昇華速度0.1nm/s、基板温度120℃で膜厚20nmになるまで堆積し有機半導体層25を形成した。
【0048】
その後、平均昇華速度1nm/s、基板温度−50℃に冷却し、膜厚500nmまで堆積し有機半導体層26を形成した。ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極の各電極に0.1mmφの金線を銀ペーストで配線し、電界効果型有機トランジスタ素子を作製した。
【0049】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い、移動度とオンオフ比を算出した。
その結果を以下に示す。
移動μ=9.1×10−3cm2/Vs
オンオフ比=106
【0050】
次に、以下の比較例3、4により、参考例2の有機半導体層25、26の各々の移動度を測定した結果を示す。
【0051】
比較例3
有機半導体層25,26を以下の条件で形成する以外は実施例1と同様の方法で電界効果型有機トランジスタを作製した。
銅フタロシアニンを昇華金属用ボードから平均昇華速度1nm/s、基板温度−50℃で膜厚500nmになるまで堆積し有機半導体層25,26を形成した。
【0052】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。その結果を以下に示す。
移動度μ=4.6×10−8cm2/Vs
オンオフ比=102
【0053】
比較例4
有機半導体層25,26を以下の条件で形成する以外は参考例1と同様の方法で電界効果型有機トランジスタを作製した。
銅フタロシアニンを昇華金属用ボードから平均昇華速度0.1nm/s、基板温度120℃で膜厚500nmになるまで堆積し有機半導体層25,26を形成した。
【0054】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。その結果を以下に示す。
移動度μ=9.3×10−3cm2/Vs
オンオフ比=104
【0055】
実施例1
図2は、本発明の実施例および参考例に使用した電界効果型有機トランジスタの構成図を示す。
ゲート電極21としてn型に高ドープされたシリコン基板、ゲート絶縁層22としてポリアクリロニトリル(重量平均分子量150,000)、ソース電極23およびドレイン電極24として金、有機半導体層25としてペンタセン、有機半導体層26として銅フタロシアニンを用いた。
【0056】
以下に作成手順を示す。シリコン基板上にポリアクリロニトリルのジメチルスルフォキシド溶液(0.1g/ml)をスピンコート法により塗布し、70℃で6時間乾燥しゲート絶縁層を形成した。その上に金(50nm)を真空蒸着し、チャネル長50μm、チャネル幅10mmのソースドレイン両電極を作製した。その上にペンタセンを1×10-6torrの圧力下で蒸着基板から10cm離した昇華金属用ボードから平均昇華速度0.05nm/s、基板温度25℃で膜厚10nmになるまで堆積し有機半導体層25を形成した。
【0057】
その上に、銅フタロシアニンを平均昇華速度1nm/s、基板温度−50℃で膜厚300nmまで昇華し有機半導体層26を形成した。ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極の各電極に0.1mmφの金線を銀ペーストで配線し、電界効果型有機トランジスタ素子を作製した。
【0058】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。結果を以下に示す。
移動度μ=8.4×10−1cm2/Vs
オンオフ比=108
【0059】
なお、ペンタセンの有機半導体層25の移動度は1.4×10-1cm2/Vs、銅フタロシアニンの有機半導体層26の移動度は4.6×10-8cm2/Vsである。
【0060】
参考例3
図2は、本発明の実施例および参考例に使用した電界効果型有機トランジスタの構成図を示す。
ゲート電極21としてn型に高ドープされたシリコン基板、ゲート絶縁層22としてSiO2、ソース電極23およびドレイン電極24としてクロム/金の堆積物、有機半導体層25として以下に示すポリ3,4−エチレンジオキシチオフェン(重量平均分子量:10000)を用いた。
【0061】
【化4】
【0062】
また、有機半導体層26として位置不規則ポリ3−ヘキシルチオフェン(重量平均分子量:12000)を用いた。
【0063】
以下に作製手順を示す。シリコン基板21上に熱酸化膜SiO2 (300nm)を形成した。その上にリフトオフ法によりチャネル長50μm、チャネル幅50mmのクロム(5nm)/金(100nm)ソースドレイン両電極を作製した。その上にポリ3,4−エチレンジオキシチオフェンのテトラヒドロフラン溶液(0.001g/ml)をスピンコート法により塗布し、150℃で12時間乾燥し、膜厚50nmの有機半導体層25を形成した。
【0064】
そしてその上に位置不規則ポリ3−ヘキシルチオフェンのクロロホルム溶液(0.01g/ml)をスピンコート法により塗布し、120℃で6時間乾燥し、膜厚500nmの有機半導体層26を形成した。ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極の各電極に0.1mmφの金線を銀ペーストで配線し、電界効果型有機トランジスタ素子を作製した。
【0065】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。結果を以下に示す。
移動度μ=1.1×10−1cm2/Vs
オンオフ比=106
【0066】
参考例4
有機半導体層25として位置規則ポリ3−ヘキシルチオフェン(重量平均分子量)を用いる以外は参考例3と同様の方法で電界効果型有機トランジスタを作製した。
【0067】
次に、参考例1と同様の方法で評価を行い移動度とオンオフ比を算出した。結果を以下に示す。
移動度μ=4.2×10−3cm2/Vs
オンオフ比=105
【0068】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明によれば、表示デバイス、情報タグ、IC等のエレクトロ分野において、移動度が大きくしかもオンオフ比の高い電界効果型有機トランジスタ素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の電界効果型有機トランジスタの一例を示す断面模式図である。
【図2】 本発明の実施例および参考例で用いた電界効果型有機トランジスタを示す断面模式図である。
【符号の説明】
11 絶縁性基板
12 ゲート電極
13 ゲート絶縁層
14 ドレイン電極
15 ソース電極
16,17 有機半導体層
18 保護膜
19 チャネル領域
21 ゲート電極
22 ゲート絶縁層
23 ソース電極
24 ドレイン電極
25,26 有機半導体層
Claims (4)
- ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、ゲート絶縁層と、有機半導体層と、を有する電界効果型有機トランジスタであって、前記有機半導体層が、チャネル領域を構成する第1の領域と、前記第1の領域に接触して存在する第2の領域と、を有し、前記第1の領域の移動度が前記第2の領域の移動度より高く、前記第1の領域がペンタセンからなり、前記第2の領域が銅フタロシアニンからなることを特徴とする電界効果型有機トランジスタ。
- 前記第1の領域の厚みが5nm〜100nmであることを特徴とする請求項1に記載の電界効果型有機トランジスタ。
- 前記第2の領域の厚みが100〜1000nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の電界効果型有機トランジスタ。
- 前記第1の領域の移動度μ 1 と、第2の領域の移動度μ 2 との比(μ 1 /μ 2 )が10以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかの項に記載の電界効果型有機トランジスタ。
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DE602006001930D1 (de) * | 2005-12-23 | 2008-09-04 | Novaled Ag | tur von organischen Schichten |
EP1808909A1 (de) | 2006-01-11 | 2007-07-18 | Novaled AG | Elekrolumineszente Lichtemissionseinrichtung |
EP1848049B1 (de) * | 2006-04-19 | 2009-12-09 | Novaled AG | Lichtemittierendes Bauelement |
DE102006019483A1 (de) * | 2006-04-26 | 2007-10-31 | Siemens Ag | Organo-magnetoresistiver Sensor und Verwendungen dazu |
JP5196215B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-05-15 | ソニー株式会社 | 半導体装置 |
KR101221761B1 (ko) * | 2006-12-01 | 2013-01-11 | 삼성전자주식회사 | 유기 반도체 물질의 산화 및 선택적 환원을 이용한 고성능유기 박막 트랜지스터의 제조방법 |
DE102007019260B4 (de) * | 2007-04-17 | 2020-01-16 | Novaled Gmbh | Nichtflüchtiges organisches Speicherelement |
JP5148211B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2013-02-20 | 出光興産株式会社 | 有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜発光トランジスタ |
DE102008036063B4 (de) | 2008-08-04 | 2017-08-31 | Novaled Gmbh | Organischer Feldeffekt-Transistor |
DE102008036062B4 (de) | 2008-08-04 | 2015-11-12 | Novaled Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor |
US20130099215A1 (en) * | 2010-05-12 | 2013-04-25 | Teijin Limited | Organic semiconductor film, production method thereof, and contact printing stamp |
JP2012038924A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Sony Corp | 半導体装置、表示装置、および電子機器 |
JP5352599B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2013-11-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
CA2831151A1 (en) | 2011-03-24 | 2012-09-27 | Cornell University | Aromatic-cationic peptides and uses of same |
WO2012175535A1 (de) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Novaled Ag | Organisches elektronisches bauelement |
JP6346092B2 (ja) | 2011-10-17 | 2018-06-20 | コーネル ユニヴァーシティー | 芳香族カチオン性ペプチドおよびその使用 |
US20220045274A1 (en) * | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Facebook Technologies Llc | Ofets having organic semiconductor layer with high carrier mobility and in situ isolation |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4721601A (en) * | 1984-11-23 | 1988-01-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Molecule-based microelectronic devices |
JPH0650778B2 (ja) | 1985-08-20 | 1994-06-29 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JPH0638491B2 (ja) | 1986-07-04 | 1994-05-18 | 三菱電機株式会社 | 電界効果型トランジスタ |
US5107308A (en) * | 1986-07-04 | 1992-04-21 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Field-effect transistor |
JP2813428B2 (ja) * | 1989-08-17 | 1998-10-22 | 三菱電機株式会社 | 電界効果トランジスタ及び該電界効果トランジスタを用いた液晶表示装置 |
US5008041A (en) * | 1990-01-30 | 1991-04-16 | Lockheed Corporation | Preparation of conductive polyaniline having controlled molecular weight |
JP3352191B2 (ja) | 1993-12-08 | 2002-12-03 | キヤノン株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
US6278127B1 (en) | 1994-12-09 | 2001-08-21 | Agere Systems Guardian Corp. | Article comprising an organic thin film transistor adapted for biasing to form a N-type or a P-type transistor |
TW293172B (ja) * | 1994-12-09 | 1996-12-11 | At & T Corp | |
US6107117A (en) | 1996-12-20 | 2000-08-22 | Lucent Technologies Inc. | Method of making an organic thin film transistor |
US6720572B1 (en) * | 1999-06-25 | 2004-04-13 | The Penn State Research Foundation | Organic light emitters with improved carrier injection |
US6692658B2 (en) * | 1999-12-17 | 2004-02-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrolyte and secondary cell |
US6586791B1 (en) * | 2000-07-19 | 2003-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Transistor insulator layer incorporating superfine ceramic particles |
JP3619174B2 (ja) * | 2000-07-24 | 2005-02-09 | キヤノン株式会社 | 高分子液晶性化合物、それらを含む電解質および二次電池 |
US6884093B2 (en) * | 2000-10-03 | 2005-04-26 | The Trustees Of Princeton University | Organic triodes with novel grid structures and method of production |
US7026643B2 (en) * | 2001-05-04 | 2006-04-11 | International Business Machines Corporation | Organic n-channel semiconductor device of N,N' 3,4,9,10 perylene tetracarboxylic diimide |
JP4269134B2 (ja) * | 2001-11-06 | 2009-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 有機半導体装置 |
EP1367659B1 (en) * | 2002-05-21 | 2012-09-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic field effect transistor |
US7002176B2 (en) * | 2002-05-31 | 2006-02-21 | Ricoh Company, Ltd. | Vertical organic transistor |
TWI297553B (ja) * | 2002-08-28 | 2008-06-01 | Ind Tech Res Inst | |
CN100364108C (zh) * | 2002-08-28 | 2008-01-23 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 含有有机半导体的夹心型场效应晶体管及制作方法 |
JP2004103905A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Pioneer Electronic Corp | 有機半導体素子 |
US6885024B2 (en) * | 2002-09-27 | 2005-04-26 | Lucent Technologies Inc. | Devices with organic crystallite active channels |
JP2004165427A (ja) | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタ素子 |
US7285440B2 (en) * | 2002-11-25 | 2007-10-23 | International Business Machines Corporation | Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors |
TW200413803A (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-01 | Ind Tech Res Inst | Organic transistor array substrate and its manufacturing method, and LCD including the organic transistor array substrate |
CN1282260C (zh) * | 2003-01-30 | 2006-10-25 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 含有栅绝缘层的异质结型有机半导体场效应晶体管及制作方法 |
JP2004260121A (ja) | 2003-02-28 | 2004-09-16 | Hitachi Ltd | 有機半導体素子とその製造方法、およびそれを用いた表示装置 |
TW582059B (en) * | 2003-03-11 | 2004-04-01 | Ind Tech Res Inst | Organic component, method for forming organic semiconductor layer with aligned molecules, and method for forming organic component |
US6897284B2 (en) * | 2003-03-19 | 2005-05-24 | Xerox Corporation | Polythiophenes and devices thereof |
US7189987B2 (en) * | 2003-04-02 | 2007-03-13 | Lucent Technologies Inc. | Electrical detection of selected species |
JP4366116B2 (ja) * | 2003-05-20 | 2009-11-18 | キヤノン株式会社 | 電界効果型有機トランジスタ |
WO2004110745A1 (ja) * | 2003-06-11 | 2004-12-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | 機能性有機薄膜、有機薄膜トランジスタ及びそれらの製造方法 |
JP2005079560A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-24 | Hitachi Ltd | 薄膜トランジスタ,表示装置、およびその製造方法 |
US7122828B2 (en) * | 2003-09-24 | 2006-10-17 | Lucent Technologies, Inc. | Semiconductor devices having regions of induced high and low conductivity, and methods of making the same |
US6969634B2 (en) * | 2003-09-24 | 2005-11-29 | Lucent Technologies Inc. | Semiconductor layers with roughness patterning |
US7462726B2 (en) * | 2004-01-27 | 2008-12-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Conjugated thiophene compound comprising perfluorinated and alkylated sidechains, conductive organic thin film containing the compound, and field-effect type organic transistor employing the thin film |
US7045814B2 (en) * | 2004-06-24 | 2006-05-16 | Lucent Technologies Inc. | OFET structures with both n- and p-type channels |
-
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