JP4182002B2 - 金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスと装置、およびこのプロセスによって生成される被膜 - Google Patents
金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスと装置、およびこのプロセスによって生成される被膜 Download PDFInfo
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Description
本発明の第1態様によれば、第1電極が取り付けられ、かつ水性アルカリ電解液で満たされる電解槽であって、他の電極が接続された物品が浸漬された電解槽内において、金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスであって、前記プロセスがプラズマ放電方式でなされるようにパルス電流が前記電極間に供給されるプロセスにおいて、前記電極に予め定められた周波数範囲を有する高周波の二極性電流パルスを供給し、同時に、予め定められた音波周波数範囲の音響振動を前記電解液中に生成させる工程であって、前記音響振動の周波数範囲は前記電流パルスの周波数範囲と重なるような工程を備え、前記電流パルスは500から10,000Hzの範囲内にあるパルス継続周波数を有するプロセスが提供される。
図1は供給源と電解槽との間の回路を通過する電流パルス(正パルスと負パルス)の形状の時間依存性の好ましい形態を示している。各電流パルスは急勾配の最前部を有し、電流は全パルス持続時間の10%よりも大きくない時間内に最大振幅に達し、次いで、電流は急激に降下し、その後、最大値の50%以下まで徐々に減少する。
[実施例]
Claims (21)
- 第1電極が取り付けられ、かつ水性アルカリ電解液で満たされる電解槽であって、他の電極が接続された物品が浸漬された電解槽内において、金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスであって、前記プロセスがプラズマ放電方式でなされるようにパルス電流が前記電極間に供給されるプロセスにおいて、
前記電極に予め定められた周波数範囲を有する高周波の二極性電流パルスを供給し、同時に、予め定められた音波周波数範囲の音響振動を前記電解液中に生成させる工程であって、前記音響振動の周波数範囲は前記電流パルスの周波数範囲と重なるような工程を備え、
前記電流パルスは500から10,000Hzの範囲内にあるパルス継続周波数を有するプロセス。 - 前記被膜はMg、Al、Ti、Nb、Ta、Zr、Hfといった金属もしくはそれらの合金、またはAl−Be、Ti−Al、Ni−Ti、Ni−Al、Ti−Nb、Al−Zn、Al−Al2O3,Mg−Al2O3といった化合物もしくは複合物に形成される請求項1に記載のプロセス。
- 各電流パルスはそのパルスの全持続時間の10%よりも大きくない時間内に最大値に至る電流の初期急勾配増大部分とそれに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の50%以下まで徐々に減少する部分を含む形状を有している請求項1または2に記載のプロセス。
- 超分散固体粒子を前記電解液内に導き、前記音響振動によって安定した水性ゾルを生成する工程をさらに備える請求項1乃至3のいずれかに記載のプロセス。
- 前記固体粒子は0.5μmよりも大きくない粒子径を有している請求項4に記載のプロセス。
- 前記固体粒子は金属の酸化物、硼化物、炭化物、窒化物、珪化物、または硫化物の形態の化合物から構成される請求項4または5に記載のプロセス。
- 前記プラズマ放電方式はプラズマ電解酸化方式である請求項1乃至6のいずれかに記載のプロセス。
- 前記セラミック被膜は2から10μm/分の速度で形成される請求項1乃至7のいずれかに記載のプロセス。
- 前記物品に印加される電流は3から200A/dm2の電流密度を有する請求項1乃至8のいずれかに記載のプロセス。
- 前記物品に印加される電流は10から60A/dm2の電流密度を有する請求項9に記載のプロセス。
- 金属および合金にセラミック被膜を形成する装置であって、電極を有する電解槽と、パルス電流を前記電極に送る供給源と、少なくとも1つの音響振動発生器を備える装置において、
前記供給源は前記電極に予め定められた周波数範囲の高周波の二極性電流パルスを供給するのに適応するようにされ、前記少なくとも1つの音響振動発生器は、前記槽内に含まれる電解液内への前記二極性電流パルスの供給と同時に、音響振動を生成させるのに適応するようにされ、前記音響振動は前記電流パルスの周波数範囲と重なる予め定められた音波周波数範囲を有し、
前記電流パルスは500から10,000Hzの範囲内にあるパルス継続周波数を有する装置。 - 前記供給源は各電流パルスがそのパルスの全持続時間の10%よりも大きくない時間内に最大値に至る電流の初期急勾配増大部分とそれに続く電流が最初は急速に減少してその後最大値の50%以下まで徐々に減少する部分を含む形状を有するのに適応するようにされている請求項11に記載の装置。
- 請求項1ないし10のいずれか1つに記載のプロセスによって金属または合金に形成されるセラミック被膜。
- 請求項11または12のいずれか1つに記載の装置を用いて金属または合金に形成されるセラミック被膜。
- 前記被膜は全被膜厚みの14%よりも大きくない厚みの多孔性外層を有する請求項13または14に記載のセラミック被膜。
- 前記多孔性外層は全被膜厚みの10%よりも大きくない厚みを備える請求項15に記載のセラミック被膜。
- 前記多孔性外層は全被膜厚みの8%よりも大きくない厚みを備える請求項16に記載のセラミック被膜。
- 前記被膜は0.6から2.1μmの低い粗さ(Ra)の表面を有する請求項13ないし17のいずれか1つに記載のセラミック被膜。
- 請求項1ないし10のいずれか1つに記載のプロセスによって金属または合金にプラズマ放電プロセスによって形成されるセラミック被膜であって、0.6から2.1μmの低い粗さ(Ra)の表面を有するセラミック被膜。
- 前記被膜は500から2100HVの微小硬度を有する緻密な微細多結晶性構造を有する請求項13ないし19のいずれか1つに記載のセラミック被膜。
- 2から150μmの全厚みを有する請求項13ないし20のいずれか1つに記載のセラミック被膜。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008038256A (ja) * | 2002-03-27 | 2008-02-21 | Isle Coat Ltd | 金属および合金にセラミック被膜を形成するプロセスと装置、およびこのプロセスによって生成される被膜 |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7196459B2 (en) * | 2003-12-05 | 2007-03-27 | International Resistive Co. Of Texas, L.P. | Light emitting assembly with heat dissipating support |
CN100348780C (zh) * | 2004-03-16 | 2007-11-14 | 天津大学 | 脉冲镀镍基纳米复合镀层的方法及设备 |
GB2422249A (en) | 2005-01-15 | 2006-07-19 | Robert John Morse | Power substrate |
CN100420775C (zh) * | 2005-05-23 | 2008-09-24 | 狄士春 | 钢铁表面微弧氧化处理方法 |
CN100396823C (zh) * | 2005-09-29 | 2008-06-25 | 陕西科技大学 | 一种超声水热电沉积制备涂层或薄膜的方法及其装置 |
CN100469946C (zh) * | 2005-12-19 | 2009-03-18 | 广东工业大学 | 一种TiC陶瓷涂层的制备方法 |
JP4125765B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2008-07-30 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属のセラミックス皮膜コーティング方法およびそれに用いる電解液ならびにセラミックス皮膜および金属材料 |
US20080086195A1 (en) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Polymer-Free Coatings For Medical Devices Formed By Plasma Electrolytic Deposition |
WO2008099618A1 (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-21 | National University Corporation Hokkaido University | 導体微粒子を製造する方法 |
EP1967615A1 (de) * | 2007-03-07 | 2008-09-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Aufbringen einer Wärmedämmbeschichtung und Turbinenbauteile mit einer Wärmedämmbeschichtung |
WO2008120046A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Gostevs, Vladimirs | Method of forming a protective ceramic coating on the surface of metal products |
EP2187988B1 (en) | 2007-07-19 | 2013-08-21 | Boston Scientific Limited | Endoprosthesis having a non-fouling surface |
JP2010535541A (ja) | 2007-08-03 | 2010-11-25 | ボストン サイエンティフィック リミテッド | 広い表面積を有する医療器具用のコーティング |
GB0720982D0 (en) | 2007-10-25 | 2007-12-05 | Plasma Coatings Ltd | Method of forming a bioactive coating |
EP2271380B1 (en) | 2008-04-22 | 2013-03-20 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Medical devices having a coating of inorganic material |
WO2009132176A2 (en) | 2008-04-24 | 2009-10-29 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Medical devices having inorganic particle layers |
CN101333673B (zh) * | 2008-07-29 | 2011-11-23 | 浙江工业大学 | 用于微弧氧化制备纳米陶瓷涂层的电解液及处理方法 |
JP5394021B2 (ja) * | 2008-08-06 | 2014-01-22 | アイシン精機株式会社 | アルミニウム合金ピストン部材およびその製造方法 |
EP2179752B1 (de) * | 2008-10-06 | 2014-08-13 | Biotronik VI Patent AG | Implantat sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
AT506583B9 (de) * | 2008-10-23 | 2009-12-15 | Happy Plating Gmbh | Elektrochemisches beschichtungsverfahren |
DE102008043970A1 (de) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | Biotronik Vi Patent Ag | Verfahren zur Herstellung einer korrosionshemmenden Beschichtung auf einem Implantat aus einer biokorrodierbaren Magnesiumlegierung sowie nach dem Verfahren hergestelltes Implantat |
DE102009012945A1 (de) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer abrasiven Beschichtung und Bauteil für eine Turbomaschine |
GB2469115B (en) | 2009-04-03 | 2013-08-21 | Keronite Internat Ltd | Process for the enhanced corrosion protection of valve metals |
CN101892507B (zh) * | 2010-07-29 | 2012-02-22 | 南昌航空大学 | 一种提高钛合金微弧氧化膜生长速度的方法 |
EP2673403B1 (en) | 2011-02-08 | 2018-11-14 | Cambridge Nanotherm Limited | Insulated metal substrate |
KR101349076B1 (ko) * | 2011-07-20 | 2014-01-14 | 현대자동차주식회사 | 연료전지 스택용 매니폴드 블록의 산화층 형성 장치 및 방법 |
EP2919762A4 (en) * | 2012-11-16 | 2016-07-20 | Merck Sharp & Dohme | PROCESS FOR THE PREPARATION OF AGGLOMERATES BY MEANS OF ACOUSTIC MIXING TECHNOLOGY |
KR101476235B1 (ko) * | 2012-12-11 | 2014-12-24 | 한국기계연구원 | 플라즈마 전해산화를 이용한 마그네슘재 표면처리 방법, 이에 의해 형성된 마그네슘 양극산화피막 및 플라즈마 전해산화에 사용되는 마그네슘재 표면처리액 |
WO2014175653A1 (ko) * | 2013-04-23 | 2014-10-30 | 인제대학교 산학협력단 | 전기 화학 증착에 의한 나노 구조체의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 나노 구조체 |
KR101572849B1 (ko) * | 2013-04-23 | 2015-12-01 | 인제대학교 산학협력단 | 전기 화학 증착에 의한 나노 구조체의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 나노 구조체 |
GB2513575B (en) | 2013-04-29 | 2017-05-31 | Keronite Int Ltd | Corrosion and erosion-resistant mixed oxide coatings for the protection of chemical and plasma process chamber components |
KR101419273B1 (ko) * | 2013-08-27 | 2014-07-15 | (주)엠에스티테크놀로지 | 플라즈마 전해 산화에 의해 금속 표면에 투명층을 형성하는 방법 |
CN103567404A (zh) * | 2013-11-04 | 2014-02-12 | 虞雪君 | 一种用于结晶器的复合镀层材料及制备方法 |
CN103567405A (zh) * | 2013-11-04 | 2014-02-12 | 虞雪君 | 一种用于冶金连铸机结晶器的复合镀层材料 |
CH708829A1 (fr) | 2013-11-11 | 2015-05-15 | Panerai Ag Off | Composant en alliage aluminium-lithium comprenant un revêtement céramique et procédé pour former le revêtement. |
CN103695985B (zh) * | 2013-12-16 | 2016-02-10 | 电子科技大学 | 一种镍氢电池镍电极表面制备氧化钛涂层的方法 |
CN104562130B (zh) * | 2014-08-22 | 2017-06-16 | 东莞市武华新材料有限公司 | 轻金属或其合金表面氧化钛基陶瓷膜层的制造方法 |
US9506161B2 (en) * | 2014-12-12 | 2016-11-29 | Metal Industries Research & Development Centre | Surface treatment of a magnesium alloy |
JP2016156036A (ja) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | 株式会社栗本鐵工所 | 皮膜形成方法 |
KR101701268B1 (ko) * | 2015-04-09 | 2017-02-13 | 현대성우메탈 주식회사 | 마그네슘 합금용 플라즈마 전해 산화용 전해액 및 이를 이용한 전해산화방법 |
WO2017102511A1 (en) | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Method for deposition of titanium-based protective coatings on aluminum |
CN109385654A (zh) * | 2017-08-11 | 2019-02-26 | 昆山汉鼎精密金属有限公司 | 自动微弧氧化***及其方法 |
KR102205173B1 (ko) | 2019-06-19 | 2021-01-20 | 오엠피주식회사 | 금속제 물품의 내표면에 산화피막을 형성하는 방법 |
KR102205172B1 (ko) | 2019-06-19 | 2021-01-20 | 오엠피주식회사 | 금속제 물품의 내표면에 산화피막을 형성하는 장치 |
CN110257878B (zh) * | 2019-07-16 | 2021-06-08 | 广西大学 | 一种制备铝钛复合板微弧氧化膜的方法 |
CN113943964A (zh) * | 2020-07-15 | 2022-01-18 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 钛合金表面热控耐磨损涂层及其制备方法 |
CN112708917A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-27 | 西安工业大学 | 一种钛合金涡轮叶片表面微弧氧化层的制备方法 |
CN113774459A (zh) * | 2021-09-29 | 2021-12-10 | 上海交通大学 | 一种锆合金表面致密高耐蚀微弧氧化膜层的制备方法 |
GB2613562A (en) | 2021-12-03 | 2023-06-14 | Keronite International Ltd | Use of chelating agents in plasma electrolytic oxidation processes |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD151330A1 (de) * | 1980-06-03 | 1981-10-14 | Peter Kurze | Verfahren zur herstellung von diffusionsschichten in metallen |
DE4139006C3 (de) * | 1991-11-27 | 2003-07-10 | Electro Chem Eng Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Oxidkeramikschichten auf sperrschichtbildenden Metallen und auf diese Weise erzeugte Gegenstände aus Aluminium, Magnesium, Titan oder deren Legierungen mit einer Oxidkeramikschicht |
CA2283467A1 (en) * | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Almag Al | Process and apparatus for coating metals |
WO1999031303A1 (en) * | 1997-12-17 | 1999-06-24 | Isle Coat Limited | Method for producing hard protection coatings on articles made of aluminium alloys |
FR2808291B1 (fr) * | 2000-04-26 | 2003-05-23 | Mofratech | Procede electrolytique d'oxydation pour l'obtention d'un revetement ceramique a la surface d'un metal |
JP2002121699A (ja) * | 2000-05-25 | 2002-04-26 | Nippon Techno Kk | めっき浴の振動流動とパルス状めっき電流との組み合わせを用いた電気めっき方法 |
WO2003083181A2 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-09 | Isle Coat Limited | Process and device for forming ceramic coatings on metals and alloys, and coatings produced by this process |
-
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