JP4180371B2 - 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用抗日光組成物及びその使用 - Google Patents

遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用抗日光組成物及びその使用 Download PDF

Info

Publication number
JP4180371B2
JP4180371B2 JP2002550939A JP2002550939A JP4180371B2 JP 4180371 B2 JP4180371 B2 JP 4180371B2 JP 2002550939 A JP2002550939 A JP 2002550939A JP 2002550939 A JP2002550939 A JP 2002550939A JP 4180371 B2 JP4180371 B2 JP 4180371B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
group
derivatives
composition according
screening agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002550939A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004526684A (ja
Inventor
キャンドー，ディディエ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LOreal SA
Original Assignee
LOreal SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LOreal SA filed Critical LOreal SA
Publication of JP2004526684A publication Critical patent/JP2004526684A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4180371B2 publication Critical patent/JP4180371B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/42—Amides
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
    • A61K8/496—Triazoles or their condensed derivatives, e.g. benzotriazoles
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
    • A61K8/4966—Triazines or their condensed derivatives
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/4973—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with oxygen as the only hetero atom
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
    • A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Description

本発明は、特に紫外線から皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所使用される新規の化粧品用組成物(以下、この組成物を単に抗日光組成物と呼称する)、及び上述した化粧品用途におけるそれらの使用に関する。特に、化粧品的に許容可能なビヒクル中に、少なくとも二の特定の遮蔽剤、すなわち一方は、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有する不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤、他方は４,４-ジアリールブタジエン化合物を組み合わせて含有してなる抗日光組成物に関する。
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は褐色となり、ＵＶ-Ｂの名で知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている；よって、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽されなくてはならない。
また、皮膚を褐色化する３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に好ましくない変化を引き起こすおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、結果として皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。よって、ＵＶ-Ａ線もまた遮蔽することが望ましい。
皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供されている。
これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の従来からの親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなる水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許容可能なビヒクル)の形態であり、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の日光保護ファクターに従って選択され、日光保護ファクター(ＳＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線量に対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線量の比率を数学的に表したものである。
欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願第１００８５８６号、独国特許出願第１０００７０１７号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１１３３９８１号においては、４,４-ジアリールブタジエン類をベースとし、他の付加的な遮蔽剤を含有可能な抗日光組成物が知られている。
しかして、上述した光保護の分野において多くの研究を行ったところ、本出願人は、予期しないことに、また驚くべきことに、従来技術でそれ自体は既に知られている２種の特定のサンスクリーン剤を明確に定まった範囲内の割合で組み合わせることで、顕著な相乗効果のために、顕著に改善され、いずれかの遮蔽剤だけを使用して得られるものよりもとにかく高い保護ファクターを示す抗日光組成物が得られることを見出した。
この発見が、本発明の基礎を形成する。
よって、本発明の主題事項の一つでは、化粧品的に許容可能なビヒクル中に、少なくとも：
(ａ)第１の遮蔽剤として、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有する一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤；及び
(ｂ)第２の遮蔽剤として、一の４,４-ジアリールブタジエン化合物；
を含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するための、局所使用される新規な化粧品用組成物が提供される。
本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造における、このような組成物の使用にある。
本発明の他の主題事項は、付与される日光保護ファクターに関して相乗効果を生じせしめる目的での、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有する少なくとも一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤を含有する、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の製造における、４,４-ジアリールブタジエン化合物の使用にある。
本発明の意味において「不溶性のＵＶ遮蔽剤」なる用語は、水中での溶解度が０．１重量％未満で、また流動パラフィン、脂肪アルコールベンゾアート及び脂肪酸トリグリセリド等、例えばダイナミット・ノーベル社(Dynamit Nobel)から販売されているミグリオール(Miglyol)(登録商標)８１２といったの多くの有機溶媒中における溶解度が１重量％未満である任意の有機又は無機ＵＶ遮蔽剤を意味すると理解される。懸濁液中において過剰の固形物で平衡させた場合の溶媒中に溶解した生成物の量として７０℃で定義されるこの溶解度は、実験室において簡単に評価することができる。
本発明において、「４,４-ジアリールブタジエン」なる用語は、少なくとも一の４,４-ジアリールブタジエン発色団を有する任意の分子を意味すると理解される。この分子は、発色団を含有するグラフトを鎖上に有する単純化合物、オリゴマー、又はポリマーの形態で存在し得る。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
一般に、不溶性のＵＶ遮蔽剤及び４,４-ジアリールブタジエン化合物は、付与される日光保護ファクターに関して相乗活性を生じる割合で前記組成物中に存在する。
本発明の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤は、１０〜５μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜２μｍ、特に２０ｎｍ〜２μｍで変わる平均粒子径を有する。
本発明の不溶性の有機遮蔽剤は、特に乾燥粉砕又は溶剤媒質中での粉砕、篩い分け、噴霧化(アトマイゼーション)、微粉化(マイクロナイゼーション)又は噴霧法(スプレー法)のような任意の臨機応変の手段により所望の粒状形態にすることができる。
微粉化形態の本発明に係る不溶性の有機遮蔽剤は、特にこのようにして得られた粒子の化粧品処方物中における分散性を改善することを可能にする適切な界面活性剤の存在下で粗い粒子形態の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤を粉砕する方法により得ることができる。
不溶性の有機遮蔽剤の微粉化法の一例は、本明細書の一体部分を構成する英国特許出願公開第２３０３５４９号及び欧州特許出願公開第８９３１１９号に開示されている。これらの文献において使用されている粉砕装置はエアジェットミル、ビードミル(bead mill)、振動ミル又はハンマーミルであり、好ましくは、高速攪拌ミル又はインパクトミル、特にロータリービードミル、振動ミル、チューブミル又はロッドミルとできる。
この特定の方法によれば、ｎが８〜１６の整数であり、ｘが(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)単位の平均重合度であり、１．４〜１．６まで変化する、構造ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)ｘＨを有するアルキルポリグルコシド類が上記遮蔽剤の粉砕のための界面活性剤として使用される。これらは、構造ＣｎＨ２ｎ＋１Ｏ(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)ｘＨを有する化合物のＣ１-Ｃ１２エステル、特に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、スルホコハク酸、クエン酸又は酒石酸のようなＣ１-Ｃ１２カルボン酸を、グルコシド単位(Ｃ６Ｈ１０Ｏ５)上の一又は複数のフリーのＯＨ官能基と反応させることにより得られるエステルから選択することができる。上記界面活性剤は、一般に微粉化された形態の不溶性遮蔽剤に対して１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％の範囲の濃度で使用される。
本発明の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤は、オキサラニリド(oxalanilide)タイプ、トリアジンタイプ、ベンゾトリアゾールタイプ；ビニルアミドタイプ；シンナマミド(cinnamamide)タイプ；一又は複数のベンザゾール及び／又はベンゾフラン又はベンゾチオフェン基を有するタイプ又はインドールタイプ；アリールビニレンケトンタイプ；フェニレンビス(ベンゾオキサジノン)誘導体タイプ；又はアクリロニトリルアミド、スルホンアミド又はカルバマート誘導体タイプの有機ＵＶ遮蔽剤から特に選択され得る。
本発明で使用される意味において、ベンザゾールなる用語は、ベンゾチアゾール類、ベンゾオキサゾール類及びベンゾイミダゾール類を同時に含む。
本発明のオキサラニリドタイプのＵＶ遮蔽剤としては、次の構造：
Figure 0004180371
 ［上式中、Ｔ１、Ｔ'１、Ｔ２及びＴ'２は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル基又はＣ１-Ｃ８アルコキシ基を示す］
に相当するものを挙げることができる。これらの化合物は国際公開第９５／２２９５９号に開示されている。
例としては、それぞれ次の構造：
Figure 0004180371
 を持つチバ-ガイギー社(Ciba-Geigy)から販売されている市販品であるティニュビン(Tinuvin)３１５及びティニュビン３１２が挙げられる。
また、本発明のトリアジンタイプの不溶性のＵＶ遮蔽剤としては、次の式(２)：
Figure 0004180371
 ［上式中、Ｔ３、Ｔ４及びＴ５は独立して、フェニル、フェノキシ又はピロロであり、ここでフェニル、フェノキシ及びピロロ基は、Ｔ６がＣ１-Ｃ１８アルキルかシンナミルで、ｎは０又は１である-(ＣＨ=ＣＨ)ｎ(ＣＯ)-ＯＴ６基、メチルベンジリデンショウノウ基、Ｃ５-Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１-Ｃ１８カルボキシアルキル、Ｃ１-Ｃ１８アルコキシ又はＣ１-Ｃ１８アルキル、ＯＨから選択される１、２又は３の置換基で置換されるか、又は未置換である］
に相当するものを挙げることができる。
これらの化合物は、国際公開第９７／０３６４２号、英国特許第２２８６７７４号、欧州特許第７４３３０９号、国際公開第９８／２２４４７及び英国特許第２３１９５２３号(本明細書の一体部分を形成する)に開示されている。
本発明に係るトリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤としては、またベンザルマロナート及び／又はフェニルシアノアクリラート基を担持する不溶性ｓ-トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願公開第０７９０２４３号(本明細書の一体部分を形成する)に開示されたものを挙げることができる。
特に、トリアジンタイプの不溶性のＵＶ遮蔽剤として、次の化合物：
− ２,４,６-トリス(ジエチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
− ２,４,６-トリス(ジイソプロピル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
− ２,４,６-トリス(ジメチル-４'-アミノベンザルマロナート)-ｓ-トリアジン、
− ２,４,６-トリス(エチル-α-シアノ-４-アミノシンナマート)-ｓ-トリアジン、
を挙げることができる。
本発明に係るトリアジンタイプのＵＶ遮蔽剤としては、またベンゾトリアゾール及び／又はベンゾチアゾール基を担持する不溶性ｓ-トリアジン誘導体、例えば国際公開第９８／２５９２２号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されたものを挙げることができる。
これらの化合物のなかでも、特に：
− ２,４,６-トリス［(３'-(ベンゾトリアゾル-２-イル)-２'-ヒドロキシ-５'-メチル)フェニルアミノ］-ｓ-トリアジン、
− ２,４,６-トリス［(３'-(ベンゾトリアゾル-２-イル)-２'-ヒドロキシ-５'-tert-オクチル)フェニルアミノ］-ｓ-トリアジン、
を挙げることができる。
本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、国際公開第９５／２２９５９号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されたような次の式(３)：
Figure 0004180371
 ［上式中、Ｔ７は水素原子又はＣ１-Ｃ１８アルキル基を示し；Ｔ８及びＴ９は同一又は異なっており、フェニルで置換されていてもよいＣ１-Ｃ１８アルキル基を示す］
のものを挙げることができる。
式(３)の化合物の例としては、次の構造：
Figure 0004180371
 を持つチバ-ガイギー社からの市販品であるティニュビン３２８、３２０、２３４及び３５０が挙げられる。
本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、米国特許第５６８７５２１号、米国特許第５３７３０３７号及び米国特許第５３６２８８１号に開示されている化合物、特に次の構造：
Figure 0004180371
 を持つ、特にフェアマウントケミカル社(Fairmount Chemical)からミキシム(Mixxim)ＰＢ３０の名称で販売されている［２,４'-ジヒドロキシ-３-(２Ｈ-ベンゾトリアゾール-２-イル)-５-(１,１,３,３-テトラメチルブチル)-２'-(ｎ-オクトキシ)-５'-ベンゾイル］ジフェニルメタンを挙げることができる。
本発明に係るベンゾトリアゾールタイプの不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤としては、次の構造：
Figure 0004180371
 ［上式中、Ｔ１０及びＴ１１基は同一又は異なっており、アリール残基、Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ１-Ｃ４アルキル基から選択される一又は複数の基で置換可能なＣ１-Ｃ１８アルキル基を示す］
を有するメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体を挙げることができる。これらの化合物はそれ自体既知であり、米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願公開第２３０３５４９号、独国特許第１９７２６１８４号及び欧州特許出願公開第８９３１１９号(本明細書の一体部分を形成する)に開示されている。
上記の式(４)において：Ｃ１-Ｃ１８アルキル基は直鎖状又は分枝状であってよく、例えば、メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、tert-オクチル、ｎ-アミル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、イソオクチル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシル、テトラデシル、ヘキシルデシル又はオクタデシルであり；Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル基は、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロオクチルであり；アリール基は例えばフェニル又はベンジルである。
式(４)の化合物としては、次の構造を有するものが特に好適である：
Figure 0004180371
Figure 0004180371
２,２'-メチレンビス［６-(２Ｈ-ベンゾトリアゾル-２-イル)-４-(１,１,３,３-テトラメチルブチル)フェノール］なる命名の化合物(ａ)は、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals)からチノソーブ(Tinosorb)Ｍなる名称で微粉化された形態で販売されている。
また、２,２'-メチレンビス［６-(２Ｈ-ベンゾトリアゾル-２-イル)-４-メチルフェノール］なる命名の化合物(ｃ)は、フェアマウントケミカル社からミキシムＢＢ／２００の名称で固形形態で販売されている。
ビニルアミドタイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、例えば国際公開第９５／２２９５９号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されたような次の式：
Ｔ１２-(Ｙ)ｒ-Ｃ(=Ｏ)-Ｃ(Ｔ１３)=Ｃ(Ｔ１４)-Ｎ(Ｔ１５)(Ｔ１６) (５)
［上式中、Ｔ１２は、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル基、Ｃ１-Ｃ８アルコキシ基、又は-Ｃ(=Ｏ)-ＯＴ１７基で、Ｔ１７がＣ１-Ｃ１８アルキルであるものから選択される１、２又は３の基で置換されていてもよいフェニル基、又はＣ１-Ｃ１８、好ましくはＣ１-Ｃ５のアルキル基であり；Ｔ１３、Ｔ１４、Ｔ１５及びＴ１６は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ１８、好ましくはＣ１-Ｃ５のアルキル基又は水素原子を示し；ＹはＮ又はＯであり、ｒは０又は１である］
の化合物を挙げることができる。
これらの化合物としては、特に：
− ４-オクチルアミノ-３-ペンテン-２-オン；
− エチル-３-オクチルアミノ-３-ブテノアート；
− ３-オクチルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オン；
− ３-ドデシルアミノ-１-フェニル-２-ブテン-１-オン；
を挙げることができる。
本発明に係るシンナマミドタイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、国際公開第９５／２２９５９号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示され、次の構造：
Figure 0004180371
 ［上式中、ＯＴ１８は、ヒドロキシル又はＣ１-Ｃ４アルコキシ基、好ましくはメトキシ又はエトキシ基であり；Ｔ１９は、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル、好ましくはメチル又はエチルであり；Ｔ２０は、-(ＣＯＮＨ)ｓ-フェニル基で、ｓが０又は１であり、フェニル基が、ＯＨ、Ｃ１-Ｃ１８アルキル、Ｃ１-Ｃ８アルコキシ、又はＴ２１がＣ１-Ｃ１８アルキル、より好ましくはＴ２１がフェニル、４-メトキシフェニル又はフェニルアミノカルボニル基である-Ｃ(=Ｏ)-ＯＴ２１基から選択される１、２又は３の基で置換されうるものである］
に相当する化合物を挙げることができる。
例えば次の構造：
Figure 0004180371
 を有する化合物のような米国特許第５８８８４８１号に開示された、シンナマミドダイマーを挙げることもできる。
ベンザゾールタイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、次の式：
Figure 0004180371
 [上式中、各符号Ｘは独立して、酸素又は硫黄原子、又はＮＲ２基を表し、
各符号Ｚは独立して、窒素原子又はＣＨ基を表し、
各符号Ｒ１は独立して、ＯＨ基、ハロゲン原子、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキル基、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルコキシ基を表し、
各数字ｍは独立して０、１又は２であり、
ｎは１〜４の整数を表し、
ｐは０又は１に等しく、
各数字ｑは独立して０又は１に等しく、
各符号Ｒ２は独立して、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキル基、ベンジル、又は水素原子を表し、
Ａは次の式：
Figure 0004180371
 (上式中、各符号Ｒ３は独立して、ハロゲン原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４アルキル又はアルコキシ基、又はヒドロキシル基を表し、
Ｒ４は水素原子、又は直鎖状又は分枝状のＣ１−４アルキル基を表し、ｃ＝０-４、ｄ＝０-３、ｅ＝０又は１及びｆ＝０-２)
のものから選択される結合価ｎを有する基を表す]
に相当するものを挙げることができる。
これらの化合物は、特に独国特許第６７６１０３号及びスイス国特許第３５０７６３号、米国特許第５５０１８５０号、米国特許第５９６１９６０号、欧州特許出願第０６６９３２３号、米国特許第５５１８７１３号、米国特許第２４６３２６４号、論文J. Am. Chem. Soc., 79, 5706-5708, 1957, 論文J. Am. Chem. Soc., 82, 609-611, 1960, 欧州特許出願第０９２１１２６号及び欧州特許出願第７１２８５５号に開示されている。
式(７)の好ましい化合物の例として、２-アリールベンザゾール類、２-(ベンゾオキサゾル-２-イル)-４-メチルフェノール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾル-２-イル)-４-メトキシフェノール又は２-(ベンゾチアゾル-２-イル)フェノールのファミリーを挙げることができ、これらの化合物は、例えばスイス国特許第３５０７６３号に開示されている方法に従って調製することができる。
式(７)の好ましい化合物の例として、ベンゾイミダゾリルベンザゾール類、２,２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５',６,６'-テトラメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、５,５'-ジメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、６-メトキシ-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾル-２-イル)-ベンゾチアゾール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾル-２-イル)ベンゾオキサゾール及びＮ,Ｎ'-ジメチル-２,２'-ビスベンゾイミダゾールのファミリーを挙げることができ、これらの化合物は米国特許第５９６１９６０号及び米国特許第２４６３２６４号に開示されている手順に従って調製することができる。
また、式(７)の好ましい化合物の例として、フェニレンベンザゾール類、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)、１,３-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス(ベンゾイミダゾリル)、１,４-フェニレンビス(Ｎ-(２-エチルヘキシル)-２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フェニレンビス(Ｎ-トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイミダゾリル)のファミリーを挙げることができ、これらの化合物は、米国特許第２４６３２６４号及び出版物であるJ. Am. Chem. Soc., 82, 609(1960)及びJ. Am. Chem. Soc., 79, 5706-5708(1957)に開示されている手順に従って調製することができる。
さらに、式(７)の好ましい化合物の例として、ベンゾフラニルベンゾオキサゾール類、２-(２-ベンゾフラニル)ベンゾオキサゾール、２-(ベンゾフラニル)-５-メチルベンゾオキサゾール及び２-(３-メチル-２-ベンゾフラニル)ベンゾオキサゾールのファミリーを挙げることができ、これらの化合物は、米国特許第５５１８７１３号に開示されている手順に従って調製することができる。
式(８)の好ましい化合物として、例えば次の式：
Figure 0004180371
 に相当する、２,６-ジフェニル-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾール、又は２,６-ジスチリル-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾール、又は２,６-ジ(ｐ-tert-ブチルスチリル)-１,７-ジヒドロベンゾ[１,２-ｄ；４,５-ｄ']ジイミダゾールを挙げることができ、該化合物は欧州特許出願第０６６９３２３号に従って調製することができる。
式(９)の好ましい化合物として、次の式：
Figure 0004180371
 の５,５'-ビス(２-フェニルベンゾイミダゾール)を挙げることができ、その調製方法はJ. Chim. Phys., 64, 1602(1967)に記載されている。
ＵＶ線を遮蔽するこれらの不溶性の有機化合物の中でも特に好ましいのは、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾル-２-イル)ベンゾオキサゾール、６-メトキシ-２,２'-ビスベンゾイミダゾール、２-(１Ｈ-ベンゾイミダゾル-２-イル)ベンゾチアゾール、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,４-フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)、１,３-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス(２-ベンゾオキサゾリル)、１,２-フェニレンビス(２-ベンゾイミダゾリル)及び１,４-フェニレンビス(Ｎ-トリメチルシリルメチル-２-ベンゾイミダゾリル)である。
アリールビニレンケトンタイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、次の式(１０)及び(１１)：
Figure 0004180371
 [上式中：
ｎ'＝１又は２、
Ｂは、式(１０)においてｎ'＝１の場合、又は式(１１)においては、次の式(ａ')ないし(ｄ')から選択されるアリール基であり、式(１０)においてｎ'＝２の場合、次の式(ｅ')ないし(ｈ')から選択される基であり、
Figure 0004180371
 ここで：
各符号Ｒ８は独立して、ＯＨ基、ハロゲン原子、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル基、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、直鎖状又は分枝状のＣ１−５アルコキシカルボニル基、又はアミノ酸官能基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキルスルホンアミド基を表し、
ｐ'は０〜４の整数を表し、
ｑ'は０又は１を表し、
Ｒ５は水素又はＯＨ基を表し、
Ｒ６は水素、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル基、シアノ基、Ｃ１−６アルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル基を表し、
Ｒ７は１又は２のＲ４基で置換されていてもよく、二環を形成可能なフェニル基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル基を表し、もしくは
Ｒ６及びＲ７は共同して、アミノ酸官能基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキルスルホンアミド基で置換されていてもよく、他のカルボニルを含有可能で、一又は複数の窒素、硫黄及び酸素原子が挿入されていてもよい一環、二環又は三環のＣ２−１０炭化水素性(hydrocarbonaceous)残基を形成し；
但し、ｎ'＝１の場合、Ｒ６及びＲ７はショウノウ環を形成しない]
のいずれかに相当するものを挙げることができる。
１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、ＵＶ線を遮蔽し、不溶性であり、式(１０)においてｎ'＝１の化合物の例としては、次のファミリー：
− 日本国特許出願第０４１３４０４２号に開示されているようなスチリルケトンタイプの化合物、例えば１-(３,４-ジメトキシフェニル)-４,４-ジメチルペント-１-エン-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンシネオールタイプの化合物、例えばE. Marianiら, 16th IFSCC Congress, New York(1990)の論文に記載されているもの、例えば１,３,３-トリメチル-５-(４-メトキシベンジリデン)-２-オキサビシクロ[２.２.２]オクタン-６-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンクロマノンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているもの、例えば３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,４ａ,８ａ-テトラヒドロクロメン-４-オン；
Figure 0004180371
 − ベンジリデンチオクロマノンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているもの、例えば３-(４-メトキシベンジリデン)-２,３,４ａ,８ａ-テトラヒドロクロメン-４-チオン；
Figure 0004180371
 − ベンジリデンキヌクリジノンタイプの化合物、例えば欧州特許出願第０５７６９７４号に開示されているもの、例えば４-メトキシベンジリデン-１-アザビシクロ[２.２.２]オクタン-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンシクロアルカノンタイプの化合物、例えば仏国特許出願第２３９５０２３号に開示されているもの、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)シクロペンタノン及び２-(４-メトキシベンジリデン)シクロヘキサノン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンヒダントインタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０１１５８０９０号に開示されているもの、例えば５-(３,４-ジメトキシベンジリデン)イミダゾリジン-２,４-ジオン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンインダノンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているもの、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)インダン-１-オン；
Figure 0004180371
 − ベンジリデンテトラロンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているもの、例えば２-(４-メトキシベンジリデン)-３,４-ジヒドロ-２Ｈ-ナフタレン-１-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンフラノンタイプの化合物、例えば欧州特許出願第０３９０６８３号に開示されているもの、例えば４-(４-メトキシベンジリデン)-２,２,５,５-テトラメチルジヒドロフラン-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンベンゾフラノンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４１号に開示されているもの、例えば２-ベンジリデンベンゾフラン-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンインダンジオンタイプの化合物、例えば２-(３,５-ジ(tert-ブチル)-４-ヒドロキシベンジリデン)インダン-１,３-ジオン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンベンゾチオフラノンタイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４３号に開示されているもの、例えば２-ベンジリデンベンゾ[ｂ]チオフェン-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンバルビツル酸タイプの化合物、例えば５-(４-メトキシベンジリデン)-１,３-ジメチルピリミジン-２,４,６-トリオン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンピラゾロンタイプの化合物、例えば４-(４-メトキシベンジリデン)-５-メチル-２-フェニル-２,４-ジヒドロピラゾール-３-オン：
Figure 0004180371
 − ベンジリデンイミダゾロンタイプの化合物、例えば５-(４-メトキシベンジリデン)-２-フェニル-３,５-ジヒドロイミダゾール-４-オン：
Figure 0004180371
 − カルコンタイプの化合物、例えば１-(２-ヒドロキシ-４-メトキシフェニル)-３-フェニルプロペノン：
Figure 0004180371
 − 仏国特許第２５０６１５６号公報に開示されているようなベンジリデノン化合物、例えば３-ヒドロキシ-１-(２-ヒドロキシ-４-メトキシフェニル)-３-フェニルプロペノン：
Figure 0004180371
 を挙げることができる。
１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、ＵＶ線を遮蔽し、不溶性であり、式(１０)においてｎ'＝２の化合物の例としては、次のファミリー：
− 欧州特許第０６９３４７１号公報に開示されているようなフェニレンビス(メチリデンノルショウノウ)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス{３-メチリデンビシクロ[２.２.１]-ヘプタン-２-オン}：
Figure 0004180371
 − 仏国特許第２５２８４２０号公報に開示されているようなフェニレンビス(メチリデンショウノウ)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス{３-メチリデン-１,７,７-トリメチルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-オン}：
Figure 0004180371
 又は１,３-フェニレンビス{３-メチリデン-１,７,７-トリメチルビシクロ[２.２.１]ヘプタン-２-オン}：
Figure 0004180371
 − フェニレンビス(メチリデンショウノウスルホンアミド)タイプの化合物、例えば仏国特許第２５２９８８７号公報に開示されているもの、例えば１,４-フェニレンビス{３,３'-メチリデンショウノウ-１０,１０'-エチルスルホンアミド又は-(２-エチルヘキシル)スルホンアミド}：
Figure 0004180371
 − E. Marianiら, 16th IFSCC Congress, New York(1990)の論文に記載されているようなフェニレンビス(メチリデンシネオール)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス{５-メチリデン-３,３-ジメチル-２-オキサビシクロ[２.２.２]オクタン-６-オン}：
Figure 0004180371
 − 欧州特許出願第０６９４５２１号に開示されているようなフェニレンビス(メチリデンケトトリシクロデカン)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス(オクタヒドロ-４,７-メタノ-６-インデン-５-オン)：
Figure 0004180371
 − フェニレンビス(アルキレンケトン)タイプの化合物、例えば日本国特許出願第０４１３４０４１号に開示されているもの、例えば１,４-フェニレンビス(４,４-ジメチルペント-１-エン-３-オン)：
Figure 0004180371
 − 仏国特許出願第２６３８３５４号に開示されているようなフェニレンビス(メチリデンフラノン)タイプの化合物、例えば１,４-フェニレンビス(４-メチリデン-２,２,５,５-テトラメチルジヒドロフラン-３-オン)：
Figure 0004180371
 − フェニレンビス(メチリデンキヌクリジノン)タイプの化合物、例えば欧州特許出願第０７１４８８０号に開示されているもの、例えば１,４-フェニレンビス{２-メチリデン-１-アザビシクロ[２.２.２]オクタン-３-オン}：
Figure 0004180371
 を挙げることができる。
式(１１)の化合物としては、次のファミリー：
− ビス(ベンジリデン)シクロアルカノンタイプの化合物、例えば２,５-ジ(ベンジリデン)シクロペンタノン：
Figure 0004180371
 − 日本国特許第０４２９０８８２号に開示されているようなγ-ピロンタイプの化合物、例えば２,６-ビス(３,４-ジメトキシフェニル)ピラン-４-オン：
Figure 0004180371
 を挙げることができる。
アリールビニレンケトンタイプのＵＶ線を遮蔽するこれらの不溶性有機化合物の中でも、式(１０)においてｎ'＝２である化合物が特に好ましい。
フェニレンビス(ベンゾオキサジノン)タイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、次の式(１２)：
Figure 0004180371
 [上式中、Ｒは次の式(ｅ'')ないし(ｈ'')：
Figure 0004180371
 (上式中：
各符号Ｒ９は独立して、アミノ酸官能基、又はケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキルスルホンアミド基、直鎖状又は分枝状のＣ１−５アルコキシカルボニル基、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルコキシ基、ケイ素原子を有していてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−６アルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ基を表し、
ｐ''は０〜４の整数を表し、
ｑ''は０又は１を表す)
から選択される二価の芳香族残基を表す]
に相当するものを挙げることができる。
１０ｎｍ〜５μｍの平均粒子径を有し、ＵＶ線を遮蔽し、不溶性である式(１２)の化合物の例としては、次の誘導体：
− ２,２'-ｐ-フェニレンビス(３,１-ベンゾオキサジン-４-オン)、サイテック社(Cytec)からの市販品サイアソーブ(Cyasorb)ＵＶ-３６３８、
− ２,２'-(４,４'-ビフェニレン)ビス(３,１-ベンゾオキサジン-４-オン)、
− ２,２'-(２,６-ナフチレン)ビス(３,１-ベンゾオキサジン-４-オン)、
を挙げることができる。
アクリロニトリルアミド、スルホンアミド又はカルバマート誘導体タイプの不溶性の有機遮蔽剤としては、次の式(１３)：
Figure 0004180371
 [上式中：
Ｒ１０は直鎖状又は分枝状のＣ１−８アルキル基を表し、
ｎ'''は０、１又は２であり、
Ｘ２は式-(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１１-(Ｃ=Ｏ)-、-ＳＯ２-Ｒ１１-ＳＯ２-又は-(Ｃ=Ｏ)-Ｏ-Ｒ１１-Ｏ-(Ｃ=Ｏ)-の二価の基を表し、
Ｙは-(Ｃ=Ｏ)-Ｒ１２又は-ＳＯ２Ｒ１３基を表し、
Ｒ１１は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一又は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は複数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分枝状で二価のＣ１-Ｃ３０アルキレン又はＣ３-Ｃ３０アルケニレン基、又は単結合を表し、
Ｒ１２は-ＯＲ１４又は-ＮＨＲ１４基を表し、
Ｒ１３はＣ１-Ｃ４アルキル又はアルコキシ基で置換されるか未置換のフェニル環又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル基を表し、
Ｒ１４は、酸素、窒素及びケイ素原子から選択される一又は複数のヘテロ原子を炭素性鎖に含有可能で、一又は複数のヒドロキシル置換基を担持可能な、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル又はＣ３-Ｃ３０アルケニル基を表す]
に相当するものを挙げることができる。
シアノ置換基がパラ-アミノフェニル置換基に対してシス位にある異性体のみが上述した式(１３)で表されるが、この式は、対応するトランス異性体をも含むと理解すべきであり；２つの二重結合それぞれに対し、独立して、シアノ及びパラ-アミノフェノール置換基は互いにシス又はトランス立体配置であり得る。
また、例として、次の式：
Figure 0004180371
 の２-エチルヘキシル-２-シアノ-３-[４-(アセチルアミノ)フェニル]アクリラートのダイマーを挙げることもできる。
本発明に係る不溶性有機遮蔽剤の他の特定のファミリーは、スルホン酸又はカルボン酸有機遮蔽剤の多価金属塩(例えば、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ２＋、Ａｌ３＋又はＺｒ４＋)、例えばベンジリデンショウノウのスルホン化誘導体の多価金属塩、例えば仏国特許出願公開第２６３９３４７号に開示されているもの；ベンゾイミダゾールのスルホン化誘導体の多価金属塩、例えば欧州特許出願公開第８９３１１９号に開示されているもの；又はケイ皮酸誘導体の多価金属塩、例えば日本国特許出願第８７１６６５１７号に開示されているものである。
国際公開第９３／１０７５３号、国際公開第９３／１１０９５号及び国際公開第９５／０５１５０号に開示されたＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂに対する有機遮蔽剤の金属又はアンモニウム又は置換アンモニウム錯体を挙げることもまたできる。
本発明の不溶性のＵＶ遮蔽剤は、組成物の全重量に対して、約０．５〜１５重量％、好ましくは約１〜１０重量％、特に２〜８重量％の全濃度で存在する。
本発明における好ましい４,４-ジアリールブタジエン化合物としては、次の式(Ｉ)：
Figure 0004180371
 [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基；Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のジ(Ｃ１-Ｃ１２)アルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３は、ＣＯＯＲ５、ＣＯＲ５、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルケニル基；Ｃ６-Ｃ１８アリール；又はＣ３-Ｃ７ヘテロアリールを示し；
− Ｒ４は、ＣＯＯＲ６、ＣＯＲ６、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｒ５及びＲ６は同一又は異なっており、水素；[Ｖ]ｏ-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＰＯ３Ｕ；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｖは、-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｗ-、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｗ-、-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-Ｗ-、-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｗ-又は-ＣＨ２-ＣＨ(ＣＨ２ＣＨ３)-Ｗ-基を示し；
− Ｂ'は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は-Ｎ(Ｒ８)４ ＋を示し；
− Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
− Ｒ７及びＲ８は同一又は異なっており、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ２-Ｃ６アルケニル基；又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ６アシル基を示し；
− Ｒ９は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ６アルキル基；又はＣ２-Ｃ６アルケニル基を示し；
− ｌは１〜３で変化し；
− ｏは０〜１５０で変化する]
に相当する化合物が選択される。
Ｃ１-Ｃ２０アルキル基としては、例えば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジメチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチルブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-トリメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデシル、ｎ-ノナデシル又はｎ-エイコシルを挙げることができる。
Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基としては、例えば：エテニル、ｎ-プロペニル、１-メチルエテニル、ｎ-ブテニル、１-メチルプロペニル、２-メチルプロペニル、１,１-ジメチルエテニル、ｎ-ペンテニル、１-メチルブテニル、２-メチルブテニル、３-メチルブテニル、２,２-ジメチルプロペニル、１-エチルプロペニル、ｎ-ヘキセニル、１,１-ジメチルプロペニル、１,２-ジメチルプロペニル、１-メチルペンテニル、２-メチルペンテニル、３-メチルペンテニル、４-メチルペンテニル、１,１-ジメチルブテニル、１,２-ジメチルブテニル、１,３-ジメチルブテニル、２,２-ジメチルブテニル、２,３-ジメチルブテニル、３,３-ジメチルブテニル、１-エチルブテニル、２-エチルブテニル、１,１,２-トリメチルプロペニル、１,２,２-トリメチルプロペニル、１-エチル-１-メチルプロペニル、１-エチル-２-メチルプロペニル、ｎ-ヘプテニル、ｎ-オクテニル、ｎ-ノネニル又はｎ-デセニルを挙げることができる。
Ｒ１及びＲ２基におけるＣ１-Ｃ１２アルコキシ基としては：メトキシ、ｎ-プロポキシ、１-メチルエトキシ、１-メチルプロポキシ、ｎ-ペントキシ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキシ、ｎ-ブトキシ、２-メチルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げることができる。
Ｒ６及びＲ７基におけるＣ３-Ｃ１０シクロアルキル基としては、例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシクロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシクロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチルシクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルを挙げることができる。
Ｒ６及びＲ７基における一又は複数の二重結合を有するＣ３-Ｃ１０シクロアルケニル基としては：シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１,３-シクロヘキサジエニル、１,４-シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１,５-シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得る。それらは、１〜３のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒素で、そのフリーの結合価が水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基により占有されていてもよいものをさらに有してもよい。
アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル又はｎ-ブチリルを挙げることができる。
ビシクロアルキル又はビシクロアルケニル基は、例えば、二環式テルペン類、例えばピナン、ボルナン、ピネン、又はショウノウ又はアダマンタン誘導体から選択される。
アリール基は、好ましくは、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環から選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフェニル及びナフチルである。
ヘテロアリール基は、一般的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数のヘテロ原子を含有する。
水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容可能なカチオンとの塩、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリス(ヒドロキシアルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもできる。
式(Ｉ)の好ましい化合物は、次の式(Ｉａ)：
Figure 0004180371
 [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素；Ｃ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ１-Ｃ８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３は、ＣＯＯＲ５、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ４は、ＣＯＯＲ６又はＣＯＮＲ５Ｒ６基を示し；
− Ｒ５は、水素；[Ｖ]O-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｒ６は、[Ｖ]ｏ-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｖは、-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｏ-、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-Ｏ-基を示し；
− Ｂ'は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は-Ｎ(Ｒ８)４ ＋を示し；
− Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３アルキル基を示し；
− ｏは０〜５０で変化し、
− ｌは１〜３で変化する]
のものから選択される。
式(Ｉ)のさらに好ましい化合物は、次の式(Ｉｂ)：
Figure 0004180371
 [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素；Ｃ１-Ｃ８アルキル基；又はＣ１-Ｃ８アルコキシ基を示し；
− Ｒ３は、ＣＯＯＲ５、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ４は、ＣＯＯＲ６又はＣＯＮＲ５Ｒ６基を示し；
− Ｒ５は、水素；[Ｖ]O-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｒ６は、[Ｖ]ｏ-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｖは、-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｏ-、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-Ｏ-基を示し；
− Ｂ'は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は-Ｎ(Ｒ８)４ ＋を示し；
− Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３アルキル基を示し；
− ｏは０〜５０で変化する]
に相当するものから選択される。
式(Ｉ)のより好ましい化合物は、次の式(Ｉｃ)：
Figure 0004180371
 [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素；Ｃ１-Ｃ８アルキル基；又はＣ１-Ｃ８アルコキシ基を示し；
− Ｒ３は、ＣＯＯＲ５、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基を示し；
− Ｒ４は、ＣＯＯＲ６又はＣＯＮＲ５Ｒ６基を示し；
− Ｒ５は、水素；[Ｖ]O-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｒ６は、[Ｖ]ｏ-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕ；又はＣ１-Ｃ６-アルキレン-Ｎ(Ｒ８)３ ＋Ｂ'−を示し；
− Ｖは、-ＣＨ２-ＣＨ２-Ｏ-、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ-又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-Ｏ-基を示し；
− Ｂ'は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
− Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は-Ｎ(Ｒ８)４ ＋を示し；
− Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一又は異なっており、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ３アルキル基を示し；
− ｏは０〜５０で変化する]
に相当するものから選択される。
特に好ましい化合物は、次の化合物：
Figure 0004180371
 から選択される。
上述した式(Ｉ)の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号及び独国特許出願第１９７５５６４９号(明細書の内容の一体部分を形成)に開示されている。
本発明において好ましい４,４-ジアリールブタジエン化合物としては、次の式(ＩＩ)：
Figure 0004180371
 [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
− Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｌは、上述した式(Ｉ)において示したものと同じ意味を有し；
− Ｙ'は、-Ｏ-又は-ＮＲ１０-基を示し；
− Ｒ１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；又はヘテロアリールを示し；
− Ｘ'は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する直鎖状又は分枝状で脂肪族又は脂環式のポリオール残基を示し；該残基の炭素性鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；又は一又は複数のＣ１-Ｃ４アルキルイミン基が挿入されていてもよく；
− ｑは２〜１０で変化する]
に相当するオリゴマーを挙げることができる。
Ｘ'は２〜１０のヒドロキシル基を有するポリオール残基、特に：
Figure 0004180371
 のものである。
さらに好ましい式(ＩＩ)の化合物は：
− Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素；Ｃ１-Ｃ１２アルキル基；Ｃ１-Ｃ８アルコキシ基；又はカルボキシラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３は、ＣＯＯＲ５、ＣＯＮＲ５Ｒ６又はＣＮ基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；又はＣ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基を示し；
− Ｒ５及びＲ６は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基；Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７-Ｃ１０ビシクロアルキル基；又は置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
− Ｘ'は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものである。
より好ましい式(ＩＩ)の化合物は：
− Ｘ'がエタノール又はペンタエリトリトール残基を示す；
ものである。
特に好ましい式(ＩＩ)の化合物は、次の化合物：
Figure 0004180371
Figure 0004180371
から選択される。
上述した式(ＩＩ)の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願公開第１００８５８６号(明細書の内容の一体部分を形成)に開示されている。
本発明において、４,４-ジアリールブタジエン化合物は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．５重量％〜１５重量％、より好ましくは１〜１０重量％、さらに好ましくは２〜８重量％の範囲の割合で、本発明の組成物中に存在する。
さらに、本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある可溶性の有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)をさらに含有可能である。それらは、特にアントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；ベンゾイルメタン誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３６７３９０号、欧州特許出願第８６３１４５号、欧州特許出願第５１７１０４号、欧州特許出願第５７０８３８号、欧州特許出願第７９６８５１号、欧州特許出願第７７５６９８号、欧州特許出願第８７８４６９号及び欧州特許出願第９３３３７６号に開示されているもの；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体、例えば欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に開示されているもの；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に開示されているもの；α-アルキルスチレンから誘導されるダイマー、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に開示されているもの；及びそれらの混合物から選択される。
ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある付加的な可溶性有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものが挙げられる：
パラ-アミノ安息香酸誘導体：
− ＰＡＢＡ、
− エチルＰＡＢＡ、
− エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
− 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチルＰＡＢＡ、
− グリセリルＰＡＢＡ、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
サリチル酸誘導体：
− ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーズ社から「ユーソレックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート(homosalate)、
− ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
ジベンゾイルメタン誘導体：
− ホフマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パルソール(Parsol)１７８９」の商品名で販売されているブチル-メトキシジベンゾイルメタン、
− イソプロピル-ジベンゾイルメタン。
ケイ皮酸誘導体：
− 特にホフマン-ラロシュ社から「パルソールＭＣＸ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
− メトキシケイ皮酸イソプロピル、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＥ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
− シノキサート、
− ＤＥＡメトキシシンナマート、
− メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
− グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシンナマート。
β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体：
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
ベンゾフェノン誘導体：
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン-１、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-２、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-４、
− ベンゾフェノン-５、
− ノーケイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-６、
− アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン-８、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン-９、
− ベンゾフェノン-１２。
ベンジリデンショウノウ誘導体：
− シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウノウ、
− メルク社(Merck)から「ユーソレックス６３００」の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
− シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体：
− 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
トリアジン誘導体：
− チバ-ガイギー社からチノソーブ(Tinosorb)Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasorb)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ベンゾトリアゾール誘導体：
− ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール-トリシロキサン、
アントラニル誘導体：
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
− ホフマン-ラロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
及びそれらの混合物。
特に好ましい付加的な可溶性の有機ＵＶ遮蔽剤は次の化合物：
− サリチル酸エチルヘキシル、
− ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
− メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸
− ベンゾフェノン-３、
− ベンゾフェノン-４、
− ベンゾフェノン-５、
− ４-メチルベンジリデンショウノウ、
− フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ドロメトリゾールトリシロキサン
及びそれらの混合物、
から選択される。
付加的な可溶性のＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類は、組成物の全重量に対して、一般的に約０．１５〜１５重量％、好ましくは約１〜１０重量％の範囲の濃度で存在している。
また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)をさらに含有してもよい。
また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造において通常使用されている任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解される。それらは、直鎖状又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール、及び脂肪酸エステル、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。
油としては、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサグスリ種油又はホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクアレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル(例えばファインテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)ＴＮ」の商品名で販売されている安息香酸Ｃ１２-Ｃ１５アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、又はカプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセリド類)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はＰＤＭＳ)；フッ化油；及びポリアルキレン類を挙げることができる。
ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、カルナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げることができる。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオール類を挙げることができる。
もちろん、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に相乗効果が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、この又はこれらの任意の付加的な化合物及び／又はその量を選択するであろう。
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製することができる。
これらの組成物は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固形チューブの形態で提供することができ、また場合によってはエアゾールとして包装することもでき、さらにフォーム又はスプレーの形態で提供することもできる。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol., 13, 238 (1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］に従って調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、固形チューブ、パウダー、スティック、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、及びパーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はスタイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化、染色又は脱色のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、口紅チューブ、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、無水又は水性、ペースト状又は固体状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液として提供され得る。
指針として、水中油型エマルション型のビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題事項は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための化粧品用組成物の調製における、本発明の組成物の使用にある。
本発明の他の主題事項は、遮蔽力の水に対する耐性(水に対する残留性)を増加させる目的で、エマルションに不溶の少なくとも一の有機ＵＶ遮蔽剤を含有する、光保護のための化粧品用又は皮膚用組成物の製造における、上述した両親媒性ポリマーの使用にある。
以下に、本発明を例証するものであって限定するものではない具体例を付与する。
Figure 0004180371
Figure 0004180371
Figure 0004180371
Figure 0004180371
Figure 0004180371

Claims (22)

  1. 化粧品的に許容可能なビヒクル中に、少なくとも：
    (ａ)第１の遮蔽剤として、次の構造：
    Figure 0004180371
    ［上式中、Ｔ１０及びＴ１１基は同一又は異なっており、アリール残基、Ｃ５-Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ１-Ｃ４アルキル基から選択される一又は複数の基で置換可能なＣ１-Ｃ１８アルキル基を示す］
    を有するメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体から選択される、１０ｎｍ〜５μｍの範囲の粒子径を有する一の不溶性の有機ＵＶ遮蔽剤；及び
    (ｂ)第２の遮蔽剤として、次の式(Ｉ)：
    Figure 0004180371
    [上式中、ジエン系はＺ,Ｚ；Ｚ,Ｅ；Ｅ,Ｚ又はＥ,Ｅ立体配置を有するか、又は該立体配置の混合物からなり、ここで：
    − Ｒ１及びＲ２は、水素、又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基を示し；
    − Ｒ３は、ＣＯＯＲ５又はＣＮ基を示し；
    − Ｒ４は、ＣＯＯＲ６基を示し；
    − Ｒ５及びＲ６は同一又は異なっており、水素；[Ｖ]O-Ｒ７；Ｃ１-Ｃ６-アルキレン-ＳＯ３Ｕを示し；
    − Ｖは、-ＣＨ２-ＣＨ２- Ｗ-、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｗ-、-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-Ｗ-、-ＣＨ２-ＣＨ２- ＣＨ２-ＣＨ２-Ｗ-又は-ＣＨ２-ＣＨ(ＣＨ２-ＣＨ３)- Ｗ-基を示し；
    − Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
    − Ｕは、水素を示し、
    − Ｒ７及びＲ８は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ６アルキル基を示し；
    − ｏは１〜５０で変化し；
    − ｌは１〜３で変化する]
    に対応する４,４-ジアリールブタジエン化合物；
    を含有してなることを特徴とする、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物。
  2. 式(４)の化合物が、次の構造：
    Figure 0004180371
    Figure 0004180371
    を有する化合物からなる群から選択される請求項１に記載の組成物。
  3. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、スルホン酸又はカルボン酸有機ＵＶ遮蔽剤の多価金属塩である請求項１に記載の組成物。
  4. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、ベンジリデンショウノウのスルホン化誘導体の多価金属塩；ベンゾイミダゾールのスルホン化誘導体の多価金属塩；又はケイ皮酸誘導体の多価金属塩から選択される請求項３に記載の組成物。
  5. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂに対する有機遮蔽剤の多価金属又はアンモニウム又は置換アンモニウム錯体である請求項１に記載の組成物。
  6. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、組成物の全重量に対して０．５〜１５重量％の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、組成物の全重量に対して１〜１０重量％の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項６に記載の組成物。
  8. 不溶性のＵＶ遮蔽剤が、組成物の全重量に対して２〜８重量％の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項７に記載の組成物。
  9. 式(Ｉ)の化合物が次の化合物：
    Figure 0004180371
    から選択される、請求項１に記載の組成物。
  10. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％の範囲の割合で組成物中に存在している、請求項１ないし９のいずれか１項に記載の組成物。
  11. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して１重量％〜１０重量％の範囲の割合で組成物中に存在している、請求項１０に記載の組成物。
  12. ４,４-ジアリールブタジエン化合物が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％の範囲の割合で組成物中に存在している、請求項１１に記載の組成物。
  13. 皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。
  14. ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある少なくとも一の可溶性の有機ＵＶ遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の組成物。
  15. 可溶性の有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類；α-アルキルスチレンから誘導されたダイマー；並びにその混合物から選択される、請求項１４に記載の組成物。
  16. 可溶性の有機ＵＶ遮蔽剤が：
    − サリチル酸エチルヘキシル、
    − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
    − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
    − オクトクリレン、
    − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
    − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸
    − ベンゾフェノン-３、
    − ベンゾフェノン-４、
    − ベンゾフェノン-５、
    − ４-メチルベンジリデンショウノウ、
    − ベンゾイミダジラート、
    − アニソトリアジン、
    − エチルヘキシルトリアゾン、
    − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
    − ドロメトリゾールトリシロキサン
    及びそれらの混合物、
    から選択される、請求項１５に記載の組成物。
  17. 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の組成物。
  18. 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
  19. 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、又は着色料から選択される少なくとも一の化粧品用アジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
  20. ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、エマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、フォーム又はスプレーの形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の組成物。
  21. まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップするための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又は固体状の形態、エマルション、懸濁液又は分散液の形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれか１項に記載の組成物。
  22. 紫外線から毛髪を保護することを意図した組成物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれか１項に記載の組成物。
JP2002550939A 2000-12-18 2001-11-20 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用抗日光組成物及びその使用 Expired - Fee Related JP4180371B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0016520A FR2818128B1 (fr) 2000-12-18 2000-12-18 Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergetique de filtres et utilisations
PCT/FR2001/003637 WO2002049597A2 (fr) 2000-12-18 2001-11-20 Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004526684A JP2004526684A (ja) 2004-09-02
JP4180371B2 true JP4180371B2 (ja) 2008-11-12

Family

ID=8857815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002550939A Expired - Fee Related JP4180371B2 (ja) 2000-12-18 2001-11-20 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用抗日光組成物及びその使用

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7166274B2 (ja)
EP (1) EP1370232A2 (ja)
JP (1) JP4180371B2 (ja)
AU (1) AU2002218390A1 (ja)
FR (1) FR2818128B1 (ja)
WO (1) WO2002049597A2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7817720B2 (en) 1996-03-18 2010-10-19 Hitachi, Ltd. Method of coding and decoding image

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005530763A (ja) * 2002-05-13 2005-10-13 アイシーエージェン，インコーポレイティド カリウム・チャネル調節物質としてのビス−ベンズイミダゾール及び関連化合物
AU2002953533A0 (en) 2002-12-24 2003-01-16 Arthron Limited Fc receptor modulating compounds and compositions
FR2853536B1 (fr) * 2003-04-14 2006-06-23 Oreal Emulsion huile dans eau obtenue par inversion de phase a base de nanopigments d'oxyde metallique et d'un 4,4-diarylbutadiene, procede de preparation et utilisations
US7316808B2 (en) 2003-04-14 2008-01-08 L'oreal Phase inverted oil-in-water photoprotective emulsions comprising nanopigments of metal oxides and 4,4-diarylbutadiene UV-A sunscreens
WO2004100998A2 (en) * 2003-05-07 2004-11-25 General Electric Company Compositions and methods for non-invasive imaging of soluble beta-amyloid
BRPI0510938A (pt) * 2004-06-18 2007-11-20 Dsm Ip Assets Bv vitamina k1 como energizador em formulações cosméticas
US7855310B2 (en) 2006-05-03 2010-12-21 Symrise Gmbh & Co. Kg AH receptor antagonists
JP5236297B2 (ja) * 2007-03-30 2013-07-17 富士フイルム株式会社 ヘテロ環化合物
EP2078521A1 (de) * 2008-01-08 2009-07-15 Stada Arzneimittel Ag Kosmetische Zusammensetzung, enthaltend ein Benzotriazolderivat und einen AHR-Antagonisten
FR2947172B1 (fr) 2009-06-29 2011-09-09 Natura Cosmeticos Sa Composition cosmetique, kit de traitement de la peau, procede pour traiter les peaux grasses, mixtes ou acneiques
KR101395146B1 (ko) * 2011-02-09 2014-05-16 부산대학교 산학협력단 피부미백, 항산화 및 ｐｐａｒ 활성을 갖는 신규 화합물 및 이의 의학적 용도
WO2014011540A1 (en) 2012-07-09 2014-01-16 Emory University Bone morphogenetic protein pathway activation, compositions for ossification, and methods related thereto
US8652449B1 (en) * 2012-12-19 2014-02-18 L'oreal Sunscreen compositions having synergistic combination of UV filters

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5237071A (en) * 1991-01-22 1993-08-17 Fairmount Chemical Company, Inc. Process for preparing 2,2'-methylene-bis(6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-hydrocarbyl phenols)
US5166355A (en) * 1991-02-04 1992-11-24 Fairmount Chemical Co., Inc. Process for preparing substituted 2,2'-methylene-bis-[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-hydrocarbyl-phenols]
US5362881A (en) * 1993-05-27 1994-11-08 Fairmount Chemical Company, Inc. Coupled benzotriazole and benzophenone UV absorbers
GB9403451D0 (en) * 1994-02-23 1994-04-13 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
US5687521A (en) * 1994-12-09 1997-11-18 Carlson Ventures, Inc. Translucent block assemblies
GB9515048D0 (en) 1995-07-22 1995-09-20 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
EP0818450B1 (de) * 1996-07-08 2003-01-15 Ciba SC Holding AG Triazinderivate als UV-Filter in Sonnenschutzmitteln
US6361764B2 (en) * 1996-12-13 2002-03-26 Societe L'oreal S.A. Insoluble s-triazine derivatives and their use as UV filters
FR2757163B1 (fr) * 1996-12-13 1999-02-05 Oreal Nouveaux derives insolubles de s-triazine, leur procede de preparation, compositions les contenant et leurs utilisations
GB9715751D0 (en) * 1997-07-26 1997-10-01 Ciba Geigy Ag Formulations
DE19755649A1 (de) * 1997-12-15 1999-06-17 Basf Ag Photostabile UV-Filter enthaltende kosmetische und pharmazeutische Zubereitungen
ES2231925T3 (es) * 1997-08-13 2005-05-16 Basf Aktiengesellschaft Preparados cosmeticos y farmaceuticos que contienen filtros uv fotoestables.
DE19746654A1 (de) * 1997-08-13 1999-02-18 Basf Ag Photostabile UV-Filter enthaltende kosmetische und pharmazeutische Zubereitungen
DE69907454T2 (de) * 1998-06-22 2004-03-18 Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. Sonnenschutzformulierungen
DE19828463A1 (de) * 1998-06-26 1999-12-30 Basf Ag 4,4-Diarylbutadiene als wasserlösliche photostabile UV-Filter für kosmetische und pharmazeutische Zubereitungen
DE19857127A1 (de) * 1998-12-11 2000-06-15 Basf Ag Oligomere Diarylbutadiene
JP2002532403A (ja) 1998-12-11 2002-10-02 コグニス・ドイチュラント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Ｕｖ光に対する保護を与えるナノスケール有機フィルターの使用
IL146778A0 (en) * 1999-06-18 2002-07-25 Ciba Sc Holding Ag Micropigment mixture
FR2799964B1 (fr) * 1999-10-22 2002-07-26 Oreal Emulsions contenant au moins un filtre uv organique insoluble et un polymere associatif
DE10007017A1 (de) 2000-02-16 2001-08-23 Cognis Deutschland Gmbh Sonnenschutzmittel
DE10012413A1 (de) * 2000-03-15 2001-09-20 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil 4,4'-Diarylbutadiene enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen
DE10012408A1 (de) 2000-03-15 2001-09-20 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil aminosubstituierte Hydroxybenzophenone enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7817720B2 (en) 1996-03-18 2010-10-19 Hitachi, Ltd. Method of coding and decoding image
US8204110B2 (en) 1996-03-18 2012-06-19 Hitachi, Ltd. Method of coding and decoding image
US8233543B2 (en) 1996-03-18 2012-07-31 Hitachi, Ltd. Method of coding and decoding image

Also Published As

Publication number Publication date
AU2002218390A1 (en) 2002-07-01
WO2002049597A3 (fr) 2003-10-09
FR2818128B1 (fr) 2004-04-02
JP2004526684A (ja) 2004-09-02
EP1370232A2 (fr) 2003-12-17
US20040047820A1 (en) 2004-03-11
FR2818128A1 (fr) 2002-06-21
US7166274B2 (en) 2007-01-23
WO2002049597A2 (fr) 2002-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6627180B2 (en) Synergistically UV-photoprotecting compositions comprising mixed screening agents
JP6265894B2 (ja) ヒドロキシルおよびエーテル官能基からなる特定の極性基を含むメロシアニン誘導体を含有する化粧品および／または皮膚科学的組成物
JP4180371B2 (ja) 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用抗日光組成物及びその使用
JP4805521B2 (ja) １，３，５−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体及びアミノ置換２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を含有する遮蔽組成物
JP4364140B2 (ja) 少なくとも二のシラン性パラ−アミノベンザルマロナート基を有するｓ−トリアジン誘導体；これらの誘導体を含有する光保護化粧品用組成物；該ｓ−トリアジン誘導体の使用
JP4205013B2 (ja) ３つの特定のパラ−アミノベンザルマロナート基を含むｓ−トリアジン誘導体、これらの誘導体を含む光保護化粧品用組成物、前記ｓ−トリアジン誘導体の使用
JP3607864B2 (ja) 不溶性有機遮蔽剤によるジベンゾイルメタン誘導体サンスクリーン剤の光安定化法
JP3955922B2 (ja) ｎ−ブチルフタルイミド／イソプロピルフタルイミドの共融混合物に溶解したトリアジン誘導体を含有する組成物；美容用途
JP3844349B2 (ja) 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした化粧品用サンスクリーン組成物及び使用
JP2003171251A (ja) 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途
CN105705131B (zh) 包含部花青和uv-遮蔽剂的化妆品或皮肤病学组合物
JP2004517096A (ja) １，３，５−トリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体と４，４−ジアリールブタジエン化合物を含有する遮蔽組成物
US20060177394A1 (en) Sunscreen compositions comprising insoluble organic UV-screening agents and hydroxyalkylurea compounds
US6703002B2 (en) Synergistically UV-photoprotecting sunscreen compositions comprising camphorsulfonic acid/benzophenone compounds
JP2004517094A (ja) ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプの遮蔽剤と４，４−ジアリールブタジエンタイプの遮蔽剤を含有する遮蔽組成物
US20040136931A1 (en) Photoprotective cosmetic compositions comprising 3-(2-azacycloalkylidene)-1,3-dihydroindol-2-one compounds
JP2004182732A (ja) 少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と少なくとも一の３−（２−アザシクロアルキリデン）−１，３−ジヒドロインドル−２−オン誘導体を含有する遮蔽組成物及び光安定化方法
EP1671678A1 (fr) Composition solaire comprenant au moins un filtre uv organique insoluble et au moins une hydroxyalkyluree
EP3709966A1 (en) Compositions comprising at least one acrylic polymer and at least one insoluble organic screening agent
JP2004182733A (ja) ３−（２−アザシクロアルキリデン）−１，３−ジヒドロインドル−２−オン誘導体を含有する光保護化粧品用組成物及びその用途
JP2004517095A (ja) ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプの遮蔽剤とｐ−メチル−ベンジリデンショウノウとジアリールブタジエン化合物を含有する遮蔽組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060117

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20060417

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20060424

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060714

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070109

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070409

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070711

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080108

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080408

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080415

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080612

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080729

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080827

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees