JP4163374B2 - 光触媒膜 - Google Patents
光触媒膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4163374B2 JP4163374B2 JP2000280570A JP2000280570A JP4163374B2 JP 4163374 B2 JP4163374 B2 JP 4163374B2 JP 2000280570 A JP2000280570 A JP 2000280570A JP 2000280570 A JP2000280570 A JP 2000280570A JP 4163374 B2 JP4163374 B2 JP 4163374B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- tio
- photocatalytic
- less
- membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims description 51
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title description 43
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 36
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 31
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 23
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 11
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 11
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 30
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 13
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 8
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 6
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 3
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- -1 alcohol amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 2
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高い光触媒性能を有する光触媒膜に係り、特に、空気浄化、水浄化等の環境浄化型装置へ適用可能な光触媒膜に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、空気浄化・脱臭、水浄化・排水処理、防汚、抗菌・殺菌、防曇等の広い分野で光触媒が注目されている。光半導体粒子にそのバンドギャップ以上のエネルギを持つ波長の光を与えた場合、価電子帯に存在している電子が光励起され伝導帯に移動し、一方、価電子帯には正孔(ホール)が生成される。生成した電子(e―)は酸素(O2)と反応してスーパーオキサイドアニオン(・O2 ―)を生成し、また、正孔(h+)は水と反応してヒドロキシラジカル(・OH)を生成する。
【0003】
スーパーオキサイドアニオン(・O2 ―)は強い還元力を示し、ヒドロキシラジカル(・OH)は強い酸化力を示すため、これらを利用して上記のような様々な環境浄化分野へ応用しようとする試みがなされている。
【0004】
光触媒は、応用範囲が極めて広いこと、また、エネルギー源として太陽光や蛍光灯の光が直接利用できることなどから“環境に優しい”という点で大変注目されているものの、触媒反応はそれほど強力で迅速なものではなかった。従って、触媒反応の効率を向上させるというのが最重要課題となっており、光触媒膜の効率向上を目的として、多くの検討がなされている。
【0005】
例えば、特開平9−262482号公報には、Cr、V、Cu、Fe、Mg、Ag、Pd、Ni、MnおよびPtの群から選択される1種以上の金属イオンを1×1015イオン/g−TiO2以上の割合で酸化チタンの表面から内部に含有させることが記載されている。具体的には、上記金属イオンを30keV以上の高エネルギーに加速して、これを酸化チタンに照射することにより、金属イオンを酸化チタンにドーピングする方法が記載されている。
【0006】
また、特開平2−107339号公報には、反応ガスおよび光が流通可能な3次元構造を有する基材上に、光触媒活性成分を担持させて触媒構造体を形成することが記載されており、空気中に含まれる悪臭成分を効率よく除去できるとしている。
【0007】
また、特開平8−103631号公報には、球状の耐熱ガラスを融着して作ったガラスフィルタに、チタンのアルコキシドとアルコールアミン類などから調整されたチタニアゾルあるいはそれにポリエチレングリコールまたはポリエチレンオキサイドを添加したものをコーティングした後、室温から徐々に600℃から700℃の最終温度にまで加熱昇温して製造することが記載されており、これにより汚染物質を吸着および分解除去できるとしている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような様々な検討がなされているにもかかわらず、いずれの場合も未だ効率が十分とは言い難く、さらに効率向上のための有効な施策が求められていた。
【0009】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、触媒反応の効率をより向上させた光触媒膜およびその製造方法を得ることを目的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、光触媒膜の効率向上に関して鋭意研究を重ねた結果、光触媒膜の構造を表面および内部で気孔率、気孔径を制御する事で、効率よく比表面積、被分解物質の吸着部位を大幅に増大することができ、見かけ上光触媒性能が急激に向上すること、またこのような光触媒膜を再現性良く、かつ自由にコントロールする方法を見い出し、本発明を完成したものである。
【0011】
すなわち、本発明に係る光触媒膜は、TiO2を主成分とした光触媒膜であって、この光触媒膜の気孔率は、膜表面で80%以下、膜内部で10%以上の分布を有し、かつ、平均気孔径は、膜表面で5μm以下、膜内部で2nm以上の分布を有し、上記光触媒膜の膜表面から膜内部に向かい、気孔率および平均気孔径が徐々に減少していることを特徴とする。
【0012】
本発明によれば、TiO2を主成分とする光触媒膜は、TiO2膜の表面の気孔率が高く、気孔径が大きい構造となっている。触媒膜の構造を表面と内部とで変化させることで、比表面積の増大により反応面積が増え、分解吸着サイトの増加により光触媒効率が向上する。また、本発明によれば、膜表面の気孔率が大きく、かつ気孔径が大きいためTiO2膜内部まで光が効率良く透過できる。さらに、光が比較的透過しにくく光触媒反応が起こりにくい膜内部では、気孔率が低くかつ気孔径も小さいため、効率良くガスの吸着を行える。これらの相乗効果により光触媒効率を大幅に向上することができる。
【0013】
また、TiO2膜の気孔率を膜表面で80%以下、膜内部で10%以上と規定したが、膜表面での気孔率が80%を超えると、TiO2膜粒子の脱離等が生じるためであり、膜内部での気孔率が10%未満では光が透過しない部位が多くなり吸着サイトの量も減り、反応効率が低下するためである。
【0014】
なお、本発明において、膜表面および膜内部としたが、表面および内部の境界は、触媒膜の表面から100nmの厚さの箇所であり、この境界よりも触媒膜の表面側である場合に膜表面とし、この境界よりも下部である場合に膜内部としたものである。
【0016】
本発明において、膜表面から膜内部に向かって、気孔率および平均気孔径を減少させた構造とすることで、膜内部まで効率よく光を透過すると共に、気孔に分解および吸着させる分子を選択的に吸着できるようにするためである。
【0017】
なお、本発明において、触媒膜の表面から内部にかけて、気孔率および気孔径を減少させることで、より多くの種類の被分解物質を吸着させる事が可能となり、被分解物質が特定されない状況での光触媒性能が向上する。
【0018】
請求項2記載の発明は、光触媒膜の厚さが、5μm以下であることを特徴とする請求項1記載の光触媒膜である。
【0019】
本発明において、光触媒膜の厚さを5μm以下と規定したが、厚さが5μmを超えると、光が膜内部まで透過できず光触媒性能が低下するためである。
【0020】
請求項3記載の発明は、光触媒膜が多層構造からなり、この多層構造を形成する各層の膜厚が0.2μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の光触媒膜である。
【0021】
本発明において、触媒膜の各層をそれぞれ0.2μm以上と規定したが、0.2μm未満では製造プロセスが困難となり、製造コストが高くなるためである。
【0022】
請求項4記載の発明は、各層が、10層以下であることを特徴とする請求項3に記載の光触媒膜である。
【0023】
触媒膜を多層構造とした場合、各層を10層よりも多くすると、製造プロセスコストが増加する半面、特性向上がそれほど増加しない。このため、本発明において触媒膜を10層以下にすると良い。
【0024】
請求項5記載の発明は、金属粒子が0.01%以上30%以下含有され、この金属粒子の平均粒径が0.1μm以下であることを特徴とする請求項1から4までのいずれかに記載の光触媒膜である。
【0025】
本発明において、光触媒膜に金属粒子を含有させることで、触媒反応により生成した電子を金属粒子に移動させて酸化−還元部位の分離を行い、見かけ上の光触媒効率の向上を図れる。なお、本発明では、金属粒子の含有量を0.01%以上30%以下と規定したが、含有量が0.01%未満であると酸化−還元部位の分離による効率向上が小さくなり、含有量が30%を超えると、相対的にTiO2の量が低下して全体の効率が低下するためである。なお、金属粒子としては、特に、空気浄化や水浄化等へ適用する場合には化学的安定性という点から、Pt、Au、Ag、Ru、Rh、Pd、Os、Irなどの金属粒子を含有させると良い。
【0026】
また、光触媒膜に金属のりん酸塩を添加しても良く、金属のりん酸塩を含有させる場合には、0.1%以上50%以下の範囲で含有させると良い。含有量が0.1%未満では十分な量を吸着できないことから光触媒反応の効率が悪く、含有量が50%を超えると、TiO2量が相対的に低下して光触媒効率が低下するためである。
【0027】
光が良く当たる膜表面では光触媒により分解反応が重点的に起こり、光が相対的に当たりにくい膜内部では吸着を起こしたほうが膜全体としての光触媒効率は向上するため、表面および内部において金属のりん酸塩含有量を変化させると良い。具体的には、金属りん酸塩の含有量は、膜表面で0.1%以上、膜内部で50%以下とすると良い。りん酸塩の含有量が膜表面で0.1%未満であると、膜表面の吸着量が少なすぎて光触媒効率が低下し、膜内部でりん酸塩の含有量が50%を超えると、膜内部での分解効率が低下しすぎて光触媒効率が低下するためである。
【0028】
請求項6記載の発明は、ゼオライトが、0.1%以上50%以下含有されていることを特徴とする請求項1から5までのいずれかに記載の光触媒膜である。
【0029】
本発明において、光触媒膜に含有されるゼオライトの含有量を0.1%以上50%以下と規定したが、含有量が0.1%未満であると十分な量を吸着できず光触媒効率が悪い。一方、含有量が50%を超えるとTiO2量が相対的に低下して光触媒効率が低下するためである。
【0030】
また、ゼオライトの含有量についても、上記金属粒子と同様に、光が良く当たる膜表面では光触媒により分解反応が重点的に起こるようにし、光が相対的に当たりにくい膜内部では吸着を起こすようにして、膜全体としての反応効率を向上させるため、光触媒膜の表面および内部でのゼオライト含有量を変化させると良い。具体的には、ゼオライト含有量を膜表面で0.1%以上、膜内部で50%以下とすると良い。含有量が膜表面で0.1%より小さいと膜表面の吸着量が少なすぎ光触媒効率が低下してしまい、膜内部でゼオライト含有量が50%より大きいと、膜内部での分解効率が低下して光触媒効率が低下するためである。
【0031】
本発明に係る光触媒膜の製造方法は、TiO2を主成分とした原料にバインダを添加してスラリーを作製し、このスラリーを基板上にスリップキャスト法を用いて塗布した後、焼結したことを特徴とする。
【0032】
本発明によれば、スリップキャスト法を用いて光触媒膜をコーティングしているため、光触媒膜の膜表面および膜内部の気孔率および気孔径分布を容易に制御することができる。従って、光触媒膜を連続的に、平易な方法で作製する事が可能であることから、製造コストの低減を図ることができる。
【0033】
また、光触媒膜を多数回焼成すると製造コストが高くなるが、本発明によれば、一回の焼成で光触媒膜を作製することできることから、製造コストの低減を図れる。また、総焼成時間を短縮することで、TiO2の粒成長を抑制し、光触媒効率の低下を防ぐことができる。
【0034】
一方、焼結を多数回の焼成により行う場合には、各層を異なる焼成温度でコーティングすることで、各層の気孔率および気孔径を容易に制御することが可能となる。なお、多数回焼成する場合には、焼成温度が600℃より高いとTiO2の焼結が促進し、比表面積が低下して光触媒効率が低下してしまうため最高焼成温度を600℃以下にすると良い。
【0035】
また、TiO2スラリー中に有機バインダ成分を添加し、各層で添加濃度を変えることにより焼成前の各層の密度を制御する事が可能になる。このため、有機バインダ成分濃度を調整することで、必ずしも多数回焼成を繰り返す必要がなくなる。
【0036】
なお、バインダを添加する場合には、バインダ成分濃度を70%以下とすると良い。濃度が70%を超えると、TiO2粒子間距離が広がりすぎて実質的な強度が低下し、またバインダコストが高価となり製造コストが引き上がってしまうためである。
【0037】
本発明に係る光触媒膜の製造方法において、原料として、平均粒径が100nm以下であるTiO2の一次粒子を用いることが好ましい。
【0038】
TiO2膜を構成するTiO2の平均粒径は、細かいほど一個一個の粒子の比表面積が高くなるため、表面への被分解物質の吸着および反応等が起こりやすく光触媒効率が高い。平均粒径が100nmを超えると光触媒効率が低下してしまうため、本発明において、TiO2の一次粒子の平均粒径を100nm以下と規定した。
【0039】
本発明に係る光触媒膜の製造方法において、TiO2の一次粒子を凝集させて、凝集体の平均粒径を0.2μm以下とした二次粒子を用いることが好ましい。
【0040】
本発明において、TiO2の一次粒子を凝集させた凝集体である二次粒子の平均粒径を0.2μm以下に規定したが、平均粒径が0.2μmを超えると十分な比表面積が得られず、従って紫外線照射下での光触媒性能も十分でない。また、TiO2をコーティングする際に均質にコーティングすることが困難となるためである。
【0041】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、実施例1〜実施例10および比較例1〜比較例10を用いて具体的に説明する。
【0042】
実施例1(図1)
本実施例では、まず、溶媒である水に結晶粒子径6nmの酸化チタンを添加して、濃度30%の酸化チタンゾルを作製した。この酸化チタンゾルに対して、有機バインダであるポリエチレングリコールをそれぞれ10%、20%、40%、60%添加し、各々スラリーを作製した。
【0043】
次に、アルミナを主成分とする3次元網目構造を有する開気孔率85%の基材上に有機バインダ添加量が多い、低濃度のスラリーから順番にディップコーティングし、各層の厚さを0.5μmとし、密度が異なる4層からなるTiO2膜を形成した。その後、大気中550℃で1時間焼成して4層からなる厚さ2.0μmのTiO2膜を得た。
【0044】
熱処理後、走査型電子顕微鏡でコーティング膜の断面を観察したところ、4層の異なる気孔率を有するTiO2膜が観察された。
【0045】
なお、実施例1における4層からなる触媒膜の各層における気孔率および気孔径を調査する目的で、有機バインダ濃度が異なるスラリーを一層のみコーティングしたもので、同様に熱処理を行い気孔率および気孔径を測定した。なお、有機バインダ添加量を10%、20%、40%、60%とした4種類の光触媒膜を作製した。その結果、有機バインダを10%添加した場合には、気孔率および気孔径は15%、5nmであり、有機バインダを20%、30%または40%添加した場合には、気孔率および気孔径が、それぞれ30%、100nm、50%、2μm、70%、4μmとなっていた。
【0046】
従って、本実施例により作製された4層からなる触媒膜は、気孔率が膜表面で80%以下、膜内部で10%以上であり、触媒膜の表面から内部にかけて気孔率が低下し、また、気孔径が膜表面で5μm以下、膜内部で2nm以上の分布であることから、本発明の範囲内となっていた。
【0047】
比較例1(図1)
本比較例では、3種類のTiO2膜を作製した。なお製造方法は、実施例1とほぼ同様の方法を用いたものである。
【0048】
まず最初は、酸化チタンゾルに対して有機バインダを10%添加したスラリーを一層のみコーティングしたTiO2膜を作製した。
【0049】
次に、焼成温度および時間を変化させた触媒膜を作製した。具体的には、大気中で800℃、2時間焼成して気孔率をほぼ0%としたTiO2膜を作製した。
【0050】
さらに最後に、有機バインダの添加量を増やして、気孔率が80%より多いものを作製しようと試みたが、触媒膜からのTiO2粒子の脱落が多く、健全な膜を作製することが出来なかった。
【0051】
実施例1および比較例1の上記各TiO2膜について、光触媒効率を評価した。光触媒効率は、アンモニアの分解効率の測定により評価したものであり、具体的には、TiO2を担持したアルミナを主成分とする3次元網目構造を有する開気孔率85%の基材に、ブラックライト(平均波長370nm、強度3mW/cm2)の光を当てながら、アンモニア濃度を100ppmおよび流量を0.5l/minとしたアンモニアガスを基材の一方から流入した。そして、流入側と反対の出口側におけるアンモニア濃度を測定した。この結果を図1に示す。
【0052】
図1に示すように、有機バインダの添加量を10%とした酸化チタン膜を一層とした場合、および気孔率を0%とした場合には、いずれも出口側のアンモニア濃度が60%近い値となっており、アンモニアの分解効率が悪かった。一方、触媒膜の気孔率および気孔径を本発明の範囲内の分布とすることで、出口側のアンモニア濃度がほぼ0%となっており、アンモニアの分解効率が良く、光触媒性能が優れていることが判明した。
【0053】
実施例2(図2)
本実施例では、光触媒膜を構成するTiO2の一次粒子の粒子径について調査したものであり、実施例1と同様の方法を用いて、結晶粒子径が6nmの酸化チタンゾルを用いた。
【0054】
比較例2(図2)
本比較例では、実施例2の粒子径6nmの酸化チタンゾルの代わりに平均粒径0.2μmの酸化チタン粉末を使用し、一次粒子の粒径が大きいTiO2多結晶球状粒子をアルミナ焼結体の表面に形成したものである。
【0055】
上記実施例2および比較例2について、実施例1と同様の評価条件下で、アンモニアガスの分解性能を評価した。この結果を図2に示す。
【0056】
図2に示すように、実施例2では、出口側のアンモニア濃度がほぼ0%となっておりアンモニア分解効率が優れていたが、比較例2では、一次粒子の平均粒径が、本発明の範囲内の100nmを超えた大きいものを適用しているため、十分な比表面積が得られず、アンモニア分解効率が低下していた。
【0057】
実施例3(図3)
本実施例では、酸化チタンの一次粒子を凝集させた二次粒子の粒子径について調査した。
【0058】
実施例1の粒子径6nmの酸化チタンゾル中に塩酸を添加してpHを調整し、二次粒子の凝集度を変え、二次粒子の粒径を0.05μm、0.10μm、0.20μmとした。その他の条件は実施例1と同様とした。
【0059】
比較例3(図3)
本比較例では、実施例3と同様に酸化チタンゾル中に塩酸を添加し、二次粒子の粒径を0.40μmとして凝集度を高くし、アルミナ焼結体の表面にTiO2多層膜を形成したものである。
【0060】
上記実施例3および比較例3について、実施例1と同様の条件下で、アンモニアガスの分解性能を評価した。この結果を図3に示す。
【0061】
図3に示すように、二次粒子の粒径を0.02μm以下とした実施例3では、出口側のアンモニア濃度がほぼ0%となっており、アンモニアの分解効率が優れていたが、二次粒子の粒径が0.02μmを超える比較例3では、十分な比表面積が得られずアンモニア分解効率が低下していた。
【0062】
実施例4(図4、図5)
本実施例では、実施例1とほぼ同様の方法を用いて、4層の異なる気孔率、気孔径を有するTiO2膜を形成した。TiO2膜を形成する際、コーティング時間を変えることで、TiO2膜の各層の膜厚を0.2μm、0.4μm、1.0μmと変化させた。
【0063】
また、TiO2膜の各層の膜厚を変えて、膜厚全体の厚さを1μm、2μm、3μm、5μmとしたTiO2膜を作製した。
【0064】
比較例4(図4、図5)
本比較例では、実施例4のコーティング時間を変化させて、TiO2膜の各層の膜厚を0.1μmとした。
【0065】
また、TiO2膜の各層の膜厚を変えて、膜厚全体の厚さを7μmとしたTiO2膜を形成した。
【0066】
上記実施例4および比較例4について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、条件は実施例1と同様として、その結果を図4、5に示す。
【0067】
図4に示すように、TiO2膜が5μmを超える場合には、アンモニア分解効率が低下していた。
【0068】
また、図5に示すように、TiO2膜中の各層の膜厚が0.2μm以上の場合には、出口アンモニア濃度がほぼ0%であったが、0.2μm未満の場合には、アンモニア分解効率が低下していた。
【0069】
実施例5(図6)
本実施例では、実施例1の有機バインダ添加スラリーに加えて、さらに5%、15%、25%、30%、50%、60%、65%の有機バインダを添加したスラリーを作製し、低濃度のものより順にコーティングした。その他は、実施例1と全く同様とし、アルミナ焼結体の表面にTiO2多層コーティング膜を形成した。なお本実施例では、TiO2膜の積層数を、4層、8層、10層とした。
【0070】
比較例5(図6)
本比較例では、実施例5と同様のスラリーを用いて、1層のTiO2膜および11層のTiO2多層コーティング膜を形成した。
【0071】
上記実施例5および比較例5について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、条件は実施例1と同様とした。また、1層からなるTiO2膜を形成した場合の製造コストを1とし、積層数を変化させた場合の製造コストについて評価した。その結果を図6に示す。
【0072】
図6に示すように、TiO2膜の積層数を4層以上とした場合には、アンモニア分解効率が優れているが、TiO2膜が1層、すなわち、膜表面の膜内部とで均一のスラリーを適用した場合には、製造コストを低減できるものの、十分なアンモニア分解効率を得ることができなかった。また、TiO2膜の積層数を増やすにつれて製造コストも増加するため、アンモニア分解効率および製造コストの両側面を考慮すると、TiO2膜は4層〜10層の積層数とすると良い。
【0073】
実施例6(図7)
本実施例では、実施例1の20%有機バインダ添加スラリーを一層コーティングした後、熱処理工程を4回繰り返した。熱処理温度は、1回目550℃、2回目500℃、3回目400℃、4回目300℃とし、各層の気孔率、気孔径を制御した他は、実施例1と同様の方法でアルミナ焼結体の表面にTiO2多層膜を形成した。
【0074】
比較例6(図7)
本比較例では、1回目の熱処理を700℃で行い、2回目以降は実施例6と同様とした。
【0075】
また、比較例として熱処理回数を1回とし、550℃の温度で焼結を行った。
【0076】
上記実施例6および比較例6について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、評価条件は実施例1と同様とした。その結果を図7に示す。
【0077】
図7に示すように、4回の熱処理により各層の気孔率および気孔径を制御することで、アンモニアの分解効率を向上することができる。
【0078】
実施例7(図8)
本実施例では、濃度30%の結晶粒子径6nmのチタニアゾルを用い、スリップキャスト法によってコージェライト多孔質基材上にTiO2膜を付着させた。
【0079】
なお、スリップキャスト法は、基材上に連続的にTiO2膜を形成させるものであり、具体的には以下に示すような方法である。
【0080】
チタニアの結晶粒子径分布が、1nmから100nmまで広く分布した出発原料を用い、濃度30%のチタニアゾル中にバインダ成分を添加し、粘性を20cps程度に調整した。大気中にて十分乾燥させたコージェライト多孔質基材を上記ゾル中に浸漬し、水分を多孔質基材上に含ませ、チタニア粒子のみを基材表面に残すようにコーティングする方法である。
【0081】
このスリップキャスト法を用いて、基材上にTiO2膜を形成した後、500℃の熱処理を加え、膜の表面から内部に向かって、気孔径および気孔率を変化させたTiO2膜を形成した。
【0082】
比較例7(図8)
本比較例では、スリップキャスト法のかわりに吹き付け法を用いて、実施例7と同様にコージェライト多孔質基材上にTiO2膜を形成した。
【0083】
上記実施例7および比較例7について、アンモニアガスの分解性能を評価した。その結果を図8に示す。なお、評価条件は実施例1と同様とした。
【0084】
図8に示すように、比較例7の吹き付け法を用いた場合には、アンモニアの分解性能が低下していたが、スリップキャスト法を用いた場合にはアンモニアの分解性能が向上していた。
【0085】
実施例8(図9)
実施例1の粒子径6nmの酸化チタンゾルに加えて、Pt、Au、Ag、Ru、Rh、Pd、Os、Irなどの金属アルコキシドの少なくとも一種の粒子を添加した他は、実施例1と全く同様の方法を用いて、アルミナ焼結体の表面にTiO2多層膜を形成した。
【0086】
比較例8(図9)
本比較例では、実施例8の金属アルコキシドを添加せずにTiO2多層膜を形成したものである。
【0087】
上記実施例8および比較例8について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、評価条件は、アンモニア濃度を200ppmおよび流量を0.5l/minとしたアンモニアガスを基材の一方から流入し、流入側と反対の出口側におけるアンモニア濃度を測定したものである。その結果を図9に示す。
【0088】
図9に示すように、金属を添加しない場合には、金属を添加した実施例8の場合と比較して、出口アンモニア濃度が高く、アンモニア分解効率が低かった。
【0089】
実施例9(図10)
実施例1の粒子径6nmの酸化チタンゾルに加えて、ゼオライトを添加してアルミナ基材に酸化チタンゾルをディップコートした。その際、TiO2膜の膜表面で0.2%、膜内部で35%、または、膜表面で0.3%、膜内部で35%となるようにゼオライト添加量を調整した。その他は、実施例1と同様とした。
【0090】
比較例9(図10)
本比較例では、実施例9と同様の方法を用いて、膜表面で0.2%、膜内部で35%となるようにゼオライト添加量を調整した。
【0091】
上記実施例9および比較例9について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、評価条件は実施例8と同様とした。その結果を図10に示す。
【0092】
図10に示すように、ゼオライトの添加量が膜表面で0.1%以上および膜内部で50%以下である実施例9の場合には、比較例9に比較してアンモニア分解効率が低かった。
【0093】
実施例10(図11)
本実施例では、実施例1の粒子径6nmの酸化チタンゾルに加えて、金属のりん酸塩を添加してアルミナ基材に酸化チタンゾルをディップコートした。その際に、膜表面で0.2%、膜内部で35%、または膜表面で0.3%、膜内部で35%となるように金属のりん酸塩添加量を調整した。その他は、実施例1と同様とした。
【0094】
比較例10(図11)
本比較例では、実施例10と同様の方法を用い、膜表面で0.3%、膜内部で35%となるように金属のりん酸塩添加量を調整した。
【0095】
上記実施例10および比較例10について、アンモニアガスの分解性能を評価した。なお、評価条件は実施例8と同様とした。その結果を図11に示す。
【0096】
図11に示すように、りん酸塩添加量が膜表面で0.1%以上、膜内部で50%以下とすることにより、アンモニアガスの分解性能を向上できる。
【0097】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光触媒膜およびその製造方法によれば、気孔率および気孔径を膜表面と膜内部とで異なる分布とすることで、膜表面から膜内部まで光を効率良く透過し、かつ膜内部で効率良くガスの吸着を行えることから、効率的な被分解物質の吸着および分解が可能となるため、光触媒性能を大幅に向上させた光触媒膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を説明する図で、実施例1および比較例1のTiO2多層化膜と光触媒効率の関係を示す図。
【図2】実施例2および比較例2における、TiO2膜中のTiO2粒子径と光触媒効率との関係を示す図。
【図3】実施例3および比較例3における、TiO2膜中の二次粒子径と光触媒効率との関係を示す図。
【図4】実施例4および比較例4における、TiO2膜の膜厚と光触媒効率との関係を示す図。
【図5】実施例4および比較例4における、TiO2膜中の各層の膜厚と光触媒効率との関係を示す図。
【図6】実施例5および比較例5における、TiO2膜の積層数と光触媒効率および製造コストとの関係を示す図。
【図7】実施例6および比較例6における、熱処理回数および熱処理温度と光触媒効率との関係を示す図。
【図8】実施例7および比較例7における、TiO2膜コーティング方法と光触媒効率との関係を示す図。
【図9】実施例8および比較例8における、TiO2膜中への金属粒子添加と光触媒効率との関係を示す図。
【図10】実施例9および比較例9における、TiO2膜中へのゼオライト添加量と光触媒効率との関係を示す図。
【図11】実施例10および比較例10における、TiO2膜中へのりん酸塩添加量と光触媒効率との関係を示す図。
Claims (6)
- TiO2を主成分とした光触媒膜であって、この光触媒膜の気孔率は、膜表面で80%以下、膜内部で10%以上の分布を有し、かつ、平均気孔径は、膜表面で5μm以下、膜内部で2nm以上の分布を有し、上記光触媒膜の膜表面から膜内部に向かい、気孔率および平均気孔径が徐々に減少していることを特徴とする光触媒膜。
- 光触媒膜の厚さが、5μm以下であることを特徴とする請求項1記載の光触媒膜。
- 光触媒膜は多層構造からなり、この多層構造を形成する各層の膜厚が0.2μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の光触媒膜。
- 各層は、10層以下であることを特徴とする請求項3に記載の光触媒膜。
- 金属粒子が0.01%以上30%以下含有され、この金属粒子の平均粒径が0.1μm以下であることを特徴とする請求項1から4までのいずれかに記載の光触媒膜。
- ゼオライトが、0.1%以上50%以下含有されていることを特徴とする請求項1から5までのいずれかに記載の光触媒膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000280570A JP4163374B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | 光触媒膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000280570A JP4163374B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | 光触媒膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002085967A JP2002085967A (ja) | 2002-03-26 |
JP4163374B2 true JP4163374B2 (ja) | 2008-10-08 |
Family
ID=18765381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000280570A Expired - Fee Related JP4163374B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | 光触媒膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4163374B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102317069A (zh) * | 2009-02-18 | 2012-01-11 | 新日本制铁株式会社 | 表面处理预涂金属板及其制造方法以及表面处理液 |
US9469829B2 (en) | 2009-04-17 | 2016-10-18 | The Procter & Gamble Company | Fabric care compositions comprising organosiloxane polymers |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005279366A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Mitsubishi Materials Corp | 多孔質光触媒膜 |
JP2006263896A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kansai Tlo Kk | 核酸の分離、精製又は検出用の磁性金属担体 |
KR101218871B1 (ko) * | 2005-12-07 | 2013-01-07 | 센트럴 제팬 레일웨이 컴퍼니 | 광촉매 담지체 및 그 제조방법 |
WO2007143013A1 (en) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Carrier Corporation | Preparation and manufacture of an overlayer for deactivation resistant photocatalysts |
ATE539813T1 (de) | 2006-06-01 | 2012-01-15 | Carrier Corp | Systeme zur entfernung von verunreinigungen aus fluidströmen |
EP2043761A4 (en) | 2006-06-01 | 2011-11-30 | Carrier Corp | DEACTIVATING PHOTO CATALYSTS |
JP5422973B2 (ja) * | 2008-11-18 | 2014-02-19 | 株式会社豊田中央研究所 | 球状酸化物半導体粒子、並びに、これを用いた集積体及び光電極 |
JP2011092876A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Ngk Insulators Ltd | ナノ濾過膜の製造方法 |
JP7065378B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2022-05-12 | 文修 斎藤 | 多孔質焼結体および空気浄化装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0427440A (ja) * | 1990-05-23 | 1992-01-30 | Babcock Hitachi Kk | 板状触媒およびその製造法 |
JP3411942B2 (ja) * | 1993-09-30 | 2003-06-03 | マツダ株式会社 | 排気ガス浄化用のhc吸着剤、排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置 |
JP2636158B2 (ja) * | 1993-12-09 | 1997-07-30 | 工業技術院長 | 酸化チタン多孔質薄膜光触媒及びその製造方法 |
JP2775399B2 (ja) * | 1995-01-24 | 1998-07-16 | 工業技術院長 | 多孔質光触媒及びその製造方法 |
JP2000051712A (ja) * | 1998-08-13 | 2000-02-22 | Hitachi Metals Ltd | 光触媒体 |
JPH11216365A (ja) * | 1997-10-20 | 1999-08-10 | Tao:Kk | 光触媒体、光触媒装置及び収容装置 |
JP2001070802A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-21 | Toshiba Corp | 光触媒膜およびその製造方法 |
JP3783530B2 (ja) * | 2000-06-22 | 2006-06-07 | ヤマハ株式会社 | 光酸化触媒 |
-
2000
- 2000-09-14 JP JP2000280570A patent/JP4163374B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102317069A (zh) * | 2009-02-18 | 2012-01-11 | 新日本制铁株式会社 | 表面处理预涂金属板及其制造方法以及表面处理液 |
US9469829B2 (en) | 2009-04-17 | 2016-10-18 | The Procter & Gamble Company | Fabric care compositions comprising organosiloxane polymers |
US9518247B2 (en) | 2009-04-17 | 2016-12-13 | The Procter & Gamble Company | Fabric care compositions comprising organosiloxane polymers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002085967A (ja) | 2002-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4803180B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒とその製造方法及び用途 | |
JP4957244B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒とその製造方法、およびその利用 | |
US9636660B2 (en) | Photocatalyst, manufacturing method therefor, and photocatalyst apparatus | |
JP4163374B2 (ja) | 光触媒膜 | |
JP2008284411A (ja) | 中空状多孔質シェル層に包含される光触媒及びその作製方法 | |
JP2007216223A (ja) | 半導体特性を有する光触媒物質及びその製造方法と利用方法 | |
CN104226287A (zh) | 纳米二氧化钛光催化剂薄膜的制备工艺 | |
JP2001070802A (ja) | 光触媒膜およびその製造方法 | |
JP5740947B2 (ja) | 可視光応答型光触媒およびこれを含む親水性部材ならびにこれらの製造方法 | |
KR102562529B1 (ko) | 전이금속이 도핑된 이산화티탄 광촉매 복합체 및 이의 제조방법 | |
JP3567693B2 (ja) | 固定化光触媒の製造方法および有害物質の分解・除去方法 | |
CN110893342B (zh) | 光催化剂复合材料、光催化剂复合材料的制造方法及光催化剂装置 | |
JP7436992B2 (ja) | 光触媒抗菌脱臭材料、その製造方法、抗菌脱臭材、および抗菌脱臭フィルター | |
CN1887416A (zh) | 一种微波制备泡沫镍负载改性纳米TiO2的方法与应用 | |
JP3911355B2 (ja) | 光触媒体の作製方法 | |
JPH105598A (ja) | 光触媒粉体およびそれを用いた光触媒体ならびにそれらの製造方法、それらを用いた環境浄化方法 | |
JP2002113369A (ja) | 光触媒および光触媒の製造方法 | |
JP2004313844A (ja) | 有害物質の分解方法 | |
JP2002186861A (ja) | 多孔質光触媒およびその製造方法 | |
JP2001232190A (ja) | 光触媒膜およびその製造方法 | |
KR102175462B1 (ko) | 가시광 활성 광촉매 및 이의 제조방법 | |
CN115770562B (zh) | 一种网状二氧化钛光触媒材料、制备方法及其应用和设备 | |
KR20220125762A (ko) | 광촉매-기재 복합체 제조방법 및 이를 통해 제조된 광촉매-기재 복합체 | |
JP5666802B2 (ja) | 放電型光触媒およびその製造方法 | |
JP2004141737A (ja) | 光触媒体、その製造方法及びその再生方法並びに光触媒フィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080616 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080704 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080722 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080724 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110801 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110801 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110801 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120801 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120801 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130801 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |