JP4153604B2 - 防汚・防滑性タイルとその製造方法 - Google Patents

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【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、防汚・防滑性タイルとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、タイル表面に防滑性を付与する手段として、ノンスリップ材としての硬質粒子をタイル表面に植え付けたり、サンドブラストや薬品処理でタイル表面に凹凸を付けることが行われているが、硬質粒子使用とサンドブラスト処理の場合は、概して、タイル表面の凹部に入り込んだ汚れの清掃性が難しく、防汚性の点で問題があり、また、薬品処理の場合は、主に弗素化合物を含有する腐食液が用いられ、薬品の取り扱いに危険性が伴うのが問題である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題（本発明の目的）は、防滑性と防汚性とに優れたタイルと、該タイルの容易かつ安全な製造方法とを提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明のタイルでは、表面にインクによる微小な凹凸を均一に形成しており、このインクの凹凸は、高さが３０〜１００ミクロン，間隔が２００〜４００ミクロンであるのが好ましい。
【０００５】
また、本発明のタイルの製造方法では、タイル生素地を加圧成形して、素焼きし、その表面に釉薬を施し、更にその表面に凹版印刷によってインクの微小な凹凸を形成した後、焼成するようにしている。
【０００６】
【発明の実施の形態】
図１は本発明のタイルの模式的断面図であり、図中、１はタイル本体、２は釉薬層、３はインクの凹凸をそれぞれ示している。
【０００７】
インクの凹凸３は、具体的には、その高さが３０〜１００ミクロン、間隔が２００〜４００ミクロンの範囲にあって、規則的に配列されているのが好ましい。
【０００８】
前記タイルの製造は、タイル素地の表面に釉薬を施し、更にその上に凹版印刷でインクの微小な凹凸を施した後、焼成してなされるが、この際、インクはタイル焼成条件において僅かに溶融する程度に調整して、インクの凹凸が焼成後もタイル表面に残るようにし、また、釉薬はタイル焼成条件において溶融してタイル素地と融着する程度に調整して、インクの微小な凹凸が釉薬に溶け込まないようにする。
【０００９】
前記微小な凹凸の凹版印刷は、例えば、シリコーンゴム製のローラの表面に、コンピューターで制御しつつレーザ光線を照射して、直径が１００〜２５０ミクロン、深さが３０〜１００ミクロンの孔を２００〜４００ミクロンの間隔で均一に設け、このローラに陶磁器用のインクを付けて簡単に行うことができる。
【００１０】
本発明のタイルの表面には、インクの微小な凹凸が均一に設けられているため、特に、タイルの表面が水濡れしたときにタイル表面と被接触物との間に吸着効果が生じ、優れた防滑作用が発揮される。
【００１１】
そして、凹凸の高さに対してその間隔が大きいため、汚染物質が入り込んでも清掃し易い。
【００１２】
本発明のタイルをタイルＡ，インクの凹凸を有しない点が異なるだけで他はタイルＡと同じ条件で製造されたタイルをタイルＢ，表面に硬質粒子で凹凸を施したタイルをタイルＣとして、これらタイルの滑り抵抗値をＡＳＴＭ−Ｅ−３０３「英国式振り子型すべり抵抗試験器を用いる表面摩擦特性の測定方法」により、また、汚染回復率をＪＩＳ−Ａ−４４１９「浴室用防水パン−汚染試験」により、それぞれ試験したところ、次表に示す結果が得られた。
【００１３】
【表１】
Figure 0004153604
【００１４】
なお、ＪＩＳ−Ａ−４４１９における耐汚染性能の判定基準は汚染回復率８５％以上であるが、タイルＡはタイルＢとともにこの条件を満たしており、タイルＡではインクの凹凸に伴う汚染回復率の低下は殆どなく、タイルＡが滑り抵抗において優れているとともに、耐汚染性能も良好であることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のタイルの模式的断面図である。
【符号の説明】
１：タイル本体、２：釉薬層、３：インクの凹凸。

Claims (4)

  1. タイル生素地を加圧成形して、素焼きし、その表面に釉薬を施し、更にその表面に凹版印刷でインクの直径が１００〜２５０ミクロン、高さが３０〜１００ミクロンの微小な凹凸を施した後、焼成することを特徴とする防汚・防滑性タイルの製造方法によって得られた、表面にインクによる直径が１００〜２５０ミクロン、高さが３０〜１００ミクロンの微小な凹凸が均一に形成されていることを特徴とする防汚・防滑性タイル。
  2. 凹凸の間隔が２００〜４００ミクロンの範囲である請求項１記載の防汚・防滑性タイル。
  3. タイル生素地を加圧成形して、素焼きし、その表面に釉薬を施し、更にその表面に凹版印刷でインクの直径が１００〜２５０ミクロン、高さが３０〜１００ミクロンの微小な凹凸を施した後、焼成することを特徴とする防汚・防滑性タイルの製造方法。
  4. シリコーンゴム製のローラの表面に、コンピューターで制御しつつレーザ光線を照射して、直径が１００〜２５０ミクロン、深さが３０〜１００ミクロンの孔を２００〜４００ミクロンの間隔で均一に設けた該ローラを用いて、該凹版印刷を行う請求項３記載の製造方法。
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