CN110577412A - 一种柔光砖防污处理工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及建筑陶瓷技术领域,具体涉及一种柔光砖防污处理工艺,包括步骤:抛光处理:砖胚进入抛光线进行抛光,多个磨块的最佳排列方法为:150目弹性磨块16组,240目的弹性磨块8组,230目弹性磨块5组,400目弹性磨块10组,600目弹性磨块8组,180目炭刷磨块3组,240目纤维磨块13组,320目纤维磨块9组;抛光后的砖胚进行超洁亮处理;再使用纳米液进行防污处理,纳米液的质量配比根据瓷砖表面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔大小进行调整。本发明的柔光砖防污处理工艺,能生产出高质量、防污能力强、柔光效果好的柔光砖。

Description

一种柔光砖防污处理工艺
技术领域
本发明属于建筑陶瓷技术领域,具体涉及一种柔光砖防污处理工艺。
背景技术
随着人们生活水平的不断提高,人们审美的提升,对室内装饰的要求亦越来越高,柔光砖以其独特的视觉效果避免了抛光砖,微晶石的富丽堂皇、绚丽明亮。柔光砖视觉舒适,表面光线产生散射效果,降低了反光率以前光度是95度,经过防污剂后产品光度45度左右,产品的质感更柔和,光感细腻润泽,从而解决了亮光瓷砖产品的光污染问题,营造出视觉舒适,具有艺术情调的温暖空间,更适应人们对柔和空间的需要。砖面平整不显水波纹,坚固耐磨不易刮花,纹理更清晰,层次更立体,因此市场对柔光砖的需求会越来越大。
柔光砖以其光感柔和、质感丰富的特点著称,这种特点易于与周边环境相协调。但它有一个缺陷的防污性差,易于在凹凸不平的表面积累污垢,因此,其防污问题已成为这类瓷砖的一大难题。我们通过多年的探索和研究,找到了其防污的关键所在,通过对纳米液及模块组合的调整,经过多次试验和攻关,最终解决了柔光砖防污的难题,得到了业内专家们的认可,赢得了广大消费者的赞誉,走在了防污瓷砖研究的前列。
发明内容
为了解决现有技术中存在的柔光砖防污性差的问题,本发明提供了一种柔光砖防污处理工艺,能生产出高质量、防污能力强、柔光效果好的柔光砖。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:
一种柔光砖防污处理工艺,包括如下步骤:
(1)抛光处理:砖胚进入抛光线进行抛光,所述抛光线由多个磨块组成,所述磨块的最佳排列方法为:150目弹性磨块16组,240目的弹性磨块8组,230目弹性磨块5组,400目弹性磨块10组,600目弹性磨块8组,180目炭刷磨块3组,240目纤维磨块13组,320目纤维磨块9组;
(2)超洁亮处理:抛光后的砖胚进行超洁亮处理;
(3)纳米防污处理:经超洁亮的砖胚,使用纳米液进行防污处理。
进一步地,上述纳米液按重量份数包括:溶剂油94-97份、硅油1-2份、分散剂0.04-1.06份、含氰剂2-3份、10号纳剂0.5-0.7份、催化剂0.03-0.05份。
进一步地,上述纳米液的质量配比根据瓷砖表面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔大小进行调整。
进一步地,上述纳米液的质量配比是:溶剂油96、硅油1.5、分散剂0.05、含氰剂2.5、10号纳剂0.6、催化剂0.04。
进一步地,上述超洁亮处理步骤中经超洁亮前砖胚加热至46-50℃,使用高速磨盘加工小于1分钟。
进一步地,上述纳米防污处理步骤中纳米液的使用量为0.3-0.5g/砖,且纳米液的使用量从进砖胚到出砖胚依次减少。
进一步地,上述纳米防污处理步骤中防污处理的磨头包括羊毛垫和海绵垫,所述羊毛垫位于海绵垫的前面。
进一步地,上述纳米防污处理步骤中纳米液使用后在70-80℃之间使用羊毛垫和海绵垫加工约一分钟。
进一步地,上述抛光处理步骤中抛光时用水量大于抛光砖胚用水量的三分之一。
一种防污柔光砖,采用上述的柔光砖防污处理工艺制备而成。
与现有技术相比,本发明的有益效果:
本发明的柔光砖防污处理工艺,砖胚进入抛光线进行抛光,根据柔光砖的砖面要求及特性,通过数次的试验、改进,找到了最佳磨块排列方法,抛光后的砖胚进行超洁亮处理,经超洁亮的砖胚,再使用纳米液进行防污处理,制备的柔光砖具有防污能力强,柔光效果好的优点。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。
实施例1:
为了解决柔光砖防污性差的问题,本实施例提供了一种柔光砖防污处理工艺,能生产出高质量、防污能力强、柔光效果好的柔光砖。该柔光砖防污处理工艺,包括如下步骤:(1)抛光处理;(2)超洁亮处理;(3)纳米防污处理。
本发明在创新的过程中,首先对防污用纳米液进行了细致的研究,对组成纳米液的各种成分进行了详细的分析,彻底明确了各种成分的作用和性能,以及组合后表现出的特性,最终研究出了适合柔光砖使用的纳米液的配方。配制出了高渗透、速结晶、防污效果好的纳米液。
通过屡次实验确定它的配方是一个动态,是和砖面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔的大小相配合的。比如抛光砖用纳米液的的配比是:溶剂油96,硅油1.5,分散剂0.05,含氰剂2.5,10号纳剂0.6,催化剂0.04,配好后用搅拌桶搅拌,这样的配方比基本适用所有抛光砖。而柔光砖根据对瓷砖毛细孔的测量,及光度的要求,对纳米液的配比进行调整,再配置出适合的纳米液。纳米液的配比按重量份数包括:溶剂油94-97份、硅油1-2份、分散剂0.04-1.06份、含氰剂2-3份、10号纳剂0.5-0.7份、催化剂0.03-0.05份。
纳米液的使用,最关键的一点是从进砖到出砖依次减少。超洁亮磨头由原来用的抛片,全部换成前面用羊毛垫和后面用海绵垫磨防污剂。以此来达到柔光砖的效果和防污效果。纳米液的使用量是在每片砖在0.3-0.5g之间,在打完纳米液后,在70-80度之间,加工1分钟左右。
在抛光过程中,根据柔光砖的砖面要求及特性,通过数次的试验、改进,找到了最佳磨块排列方法。即:150目弹性磨块16组;240目的弹性磨块8组;230目弹性磨块5组;400目弹性磨块10组;600目弹性磨块8组;180目炭刷磨块3组;240目纤维磨块13组;320目纤维磨块9组。再就是在抛光时所用的水必须清澈,水量要大于抛光砖用水量的三分之一。
进超洁亮前砖必须加热到46-50摄氏度左右,24个高速磨盘,加工小于1分钟,为了让纳米液更好固化,过高过低都会影响防污效果。
以此工艺操作,就能生产出高质量,防污能力强,柔光效果好的柔光砖,适合现代装潢风格。
实施例2:
本实施例还提供了一种防污柔光砖,采用实施例1的柔光砖防污处理工艺制备而成。具体步骤如下:
(1)配制造砖胚所用的原料;
(2)清磨,将制造砖胚所用的原料磨成浆料;
(3)将浆料通过干燥塔干燥,烘干后制成粉料,控制含水率7%-8%;
(4)粉料通过压机压成胚体,压机压力约310pa;
(5)胚体通过干燥窑干燥;
(6)干燥后通过窑炉烧成,制成毛坯;
(7)窑炉出来的砖坯半成品,进入抛光机抛光;
(8)经过磨边机,前磨边、修边进入干燥室,干燥温度46度左右;
(9)在经过超洁亮处理;
(10)纳米防污处理;
(11)进入精修,修边(打磨);
(12)分机包装。
本实施例的抛光线由多个磨块组成,磨块的最佳排列方法为:150目弹性磨块16组,240目的弹性磨块8组,230目弹性磨块5组,400目弹性磨块10组,600目弹性磨块8组,180目炭刷磨块3组,240目纤维磨块13组,320目纤维磨块9组。抛光时用水量大于抛光砖胚用水量的三分之一。经超洁亮前砖胚加热至46-50℃,使用高速磨盘加工小于1分钟。
纳米防污处理过程中使用的纳米液的质量配比根据瓷砖表面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔大小进行调整。纳米液的使用量为0.3-0.5g/砖,且纳米液的使用量从进砖胚到出砖胚依次减少。纳米液使用后在70-80℃之间使用羊毛垫和海绵垫加工约一分钟。本实施例的防污瓷砖具有质量高、防污能力强、柔光效果好的优点。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种柔光砖防污处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:
(1)抛光处理:砖胚进入抛光线进行抛光,所述抛光线由多个磨块组成,所述磨块的最佳排列方法为:150目弹性磨块16组,240目的弹性磨块8组,230目弹性磨块5组,400目弹性磨块10组,600目弹性磨块8组,180目炭刷磨块3组,240目纤维磨块13组,320目纤维磨块9组;
(2)超洁亮处理:抛光后的砖胚进行超洁亮处理;
(3)纳米防污处理:经超洁亮的砖胚,使用纳米液进行防污处理。
2.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米液按重量份数包括:溶剂油94-97份、硅油1-2份、分散剂0.04-1.06份、含氰剂2-3份、10号纳剂0.5-0.7份、催化剂0.03-0.05份。
3.根据权利要求2所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米液的质量配比根据瓷砖表面要求的光度及釉料、烧成的毛细孔大小进行调整。
4.根据权利要求2所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米液的质量配比是:溶剂油96、硅油1.5、分散剂0.05、含氰剂2.5、10号纳剂0.6、催化剂0.04。
5.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述超洁亮处理步骤中经超洁亮前砖胚加热至46-50℃,使用高速磨盘加工小于1分钟。
6.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米防污处理步骤中纳米液的使用量为0.3-0.5g/砖,且纳米液的使用量从进砖胚到出砖胚依次减少。
7.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米防污处理步骤中防污处理的磨头包括羊毛垫和海绵垫,所述羊毛垫位于海绵垫的前面。
8.根据权利要求7所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述纳米防污处理步骤中纳米液使用后在70-80℃之间使用羊毛垫和海绵垫加工约一分钟。
9.根据权利要求1所述的柔光砖防污处理工艺,其特征在于,所述抛光处理步骤中抛光时用水量大于抛光砖胚用水量的三分之一。
10.一种防污柔光砖,其特征在于,所述防污柔光砖采用权利要求1-9中任一项所述的柔光砖防污处理工艺制备而成。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112391120A (zh) * 2021-01-21 2021-02-23 佛山市纳德新材料科技有限公司 一种纯色瓷砖防渗蜡防污剂及其制备方法与应用
CN114685190A (zh) * 2022-04-08 2022-07-01 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种柔光防滑防污陶瓷板材的制备方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000109384A (ja) * 1998-10-02 2000-04-18 Danto Corp 防汚・防滑性タイルとその製造方法
CN101613574A (zh) * 2009-07-28 2009-12-30 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 水性抛光砖防污液
CN102875765A (zh) * 2012-08-31 2013-01-16 江苏创基新材料有限公司 具有纳米微结构的有机硅氟低表面能防污涂层剂制备方法
CN103588512A (zh) * 2013-11-19 2014-02-19 金陵科技学院 一种超洁防污陶瓷砖的制备方法
CN103964901A (zh) * 2014-05-04 2014-08-06 佛山市三水宏源陶瓷企业有限公司 一种抛光砖抛釉砖加工工艺
CN104016725A (zh) * 2014-05-04 2014-09-03 姚燕春 有色抛光砖洁亮工艺
CN108559395A (zh) * 2018-05-10 2018-09-21 佛山市三水普朗克新型材料有限公司 一种用于瓷砖保洁保鲜的防污剂及表面处理方法
CN109279918A (zh) * 2018-10-09 2019-01-29 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种柔光砖及其制备方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000109384A (ja) * 1998-10-02 2000-04-18 Danto Corp 防汚・防滑性タイルとその製造方法
CN101613574A (zh) * 2009-07-28 2009-12-30 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 水性抛光砖防污液
CN102875765A (zh) * 2012-08-31 2013-01-16 江苏创基新材料有限公司 具有纳米微结构的有机硅氟低表面能防污涂层剂制备方法
CN103588512A (zh) * 2013-11-19 2014-02-19 金陵科技学院 一种超洁防污陶瓷砖的制备方法
CN103964901A (zh) * 2014-05-04 2014-08-06 佛山市三水宏源陶瓷企业有限公司 一种抛光砖抛釉砖加工工艺
CN104016725A (zh) * 2014-05-04 2014-09-03 姚燕春 有色抛光砖洁亮工艺
CN108559395A (zh) * 2018-05-10 2018-09-21 佛山市三水普朗克新型材料有限公司 一种用于瓷砖保洁保鲜的防污剂及表面处理方法
CN109279918A (zh) * 2018-10-09 2019-01-29 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种柔光砖及其制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112391120A (zh) * 2021-01-21 2021-02-23 佛山市纳德新材料科技有限公司 一种纯色瓷砖防渗蜡防污剂及其制备方法与应用
CN112391120B (zh) * 2021-01-21 2021-05-14 佛山市纳德新材料科技有限公司 一种纯色瓷砖防渗蜡防污剂及其制备方法与应用
CN114685190A (zh) * 2022-04-08 2022-07-01 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种柔光防滑防污陶瓷板材的制备方法

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