JP4139859B2 - 照射パターンツール、及び照射パターンツールの形成方法 - Google Patents
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Claims (12)
- 照射パターンツールであって、該ツールは、
ロウ及びカラム方向に配列された四角形状の主要形状パターンのアレイであって、該主要形状パターンはそれを光が通過するとき、光の波長の位相を回転させるように構成されており、前記主要形状パターンは位相に第1の回転を与える第1タイプと位相に第2の回転を与える第2タイプとを有し、前記第2の回転は第1の回転に対して約170°から約190°異なるものであり、前記二つのタイプの主要形状パターンがアレイのロウ方向に沿って互いに交互に入れ替わっている、主要形状パターンのアレイと、
光の波長の位相に前記第1の回転を与えるように構成された複数の第1リムであって、該リムは、四角形状である前記第2タイプの主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組みの辺に沿っては設けられていない、第1リムと、
光の波長の位相に前記第2の回転を与えるように構成された複数の第2リムであって、該リムは、四角形状である前記第1タイプの主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組みの辺に沿っては設けられていない、第2リムと、
を具備し、前記第1及び第2リムの設けられた辺は前記アレイのロウ方向に沿って延びる辺であり、前記第1及び第2リムは前記アレイのカラム方向に並んで設けられていることを特徴とする照射パターンツール。 - 請求項1に記載のツールにおいて、該ツールは、石英ベースと、該石英ベース上の第1位相シフト層と、該第1位相シフト層の上に設けられ、前記第1位相シフト層とは異なる組成を有する第2位相シフト層と、該第2位相シフト層上の不透明層とを含む基板を備え、
前記第1タイプの主要形状パターンは、前記第1位相シフト層、第2位相シフト層及び不透明層を貫通して前記石英ベースの中までエッチングされたパターンを有し、前記第2リムは前記不透明層を貫通して前記第2位相シフト層の上表面までエッチングされたパターンを有し、
前記第2タイプの主要形状パターンは、前記第1位相シフト層、第2位相シフト層及び不透明層を貫通して前記石英ベースの上表面までエッチングされたパターンを有し、前記第1リムは前記不透明層及び第2位相シフト層を貫通して前記第1位相シフト層の上表面までエッチングされたパターンを有することを特徴とする照射パターンツール。 - 請求項1に記載のツールにおいて、前記二つのタイプの主要形状パターンは、前記アレイのカラム方向に沿っては互いに交互になっていないことを特徴とする照射パターンツール。
- 請求項1に記載のツールにおいて、前記二つのタイプの主要形状パターンは、前記アレイのカラム方向に沿って互いに交互になっていることを特徴とする照射パターンツール。
- 照射パターンツールを形成する方法であって、該方法は、
基板を提供する過程と、
前記基板に支持される第1主要形状パターンを形成する過程であって、前記第1主要形状パターンは四角形状の外縁を有し、前記第1主要形状パターンは該第1主要形状パターンを通過する光の波長の位相に第1の回転を与えるように構成される、第1主要形状パターンを形成する過程と、
前記基板に支持される第1リムを形成する過程であって、前記第1リムは、四角形状である前記第1主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組みの辺に沿っては設けられておらず、前記第1リムは、光が該リムを通過するとき、光の波長の位相に第2の回転を与えるように構成され、前記第2の回転は前記第1の回転に対して約170°から約190°異なる、第1リムを形成する過程と、
前記基板に支持される第2主要形状パターンを形成する過程であって、前記第2主要形状パターンは四角形状の外縁を有し、前記第2主要形状パターンは該第2主要形状パターンを通過する光の波長の位相に第3の回転を与えるように構成され、前記第3の回転は前記第1の回転に対して約170°から約190°異なる、第2主要形状パターンを形成する過程と、
前記基板に支持される第2リムを形成する過程であって、前記第2リムは、四角形状である前記第2主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組みの辺に沿っては設けられておらず、前記第2リムは、光が該リムを通過するとき、光の波長の位相に第4の回転を与えるように構成され、前記第4の回転は前記第3の回転に対して約170°から約190°異なる、第2リムを形成する過程と、
を具備し、
前記第1及び第2主要形状パターンはロウ方向及びカラム方向にアレイ状に配列され、前記第1及び第2主要形状パターンはアレイの前記ロウ方向に沿って互いに交互になっており、前記第1及び第2リムの設けられた辺は前記アレイのロウ方向に沿って延びる辺であり、前記第1及び第2リムは前記アレイのカラム方向に並んで設けられることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 請求項5に記載の方法において、前記基板は光の波長に対して透過な材料から成り、光の波長に対して不透明な層が前記基板の上に設けられ、前記第1及び第2主要形状パターンと第1及び第2リムは、
前記不透明な層の上にフォトレジストの層を形成する過程であって、前記フォトレジストの第1部分は、画定された第1主要形状パターン位置の上にあり、前記フォトレジストの第2部分は、画定された第1リム位置の上にあり、前記フォトレジストの第3部分は、画定された第2主要形状パターン位置の上にあり、前記フォトレジストの第4部分は、画定された第2リム位置の上にある、フォトレジストの層を形成する過程と、
前記第1主要形状パターン位置及び第2リム位置内に前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの第1及び第4部分を除去する過程と、
前記第1主要形状パターン位置及び第2リム位置から、前記不透明な層の露出した一部部分を除去し、そして、前記基板の第1主要形状パターン位置及び第2リム位置内に、開口を形成するために、前記基板内までエッチングする過程と、
前記第1主要形状パターン位置及び第2リム位置内に開口を形成した後、前記第1リム位置及び第2主要形状パターン位置内に前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの前記第2部分及び第3部分を除去する過程と、
前記第1リム位置及び前記第2主要形状パターンから、前記不透明な層の露出した一部部分を除去する過程と、
で形成されることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 照射パターンツールを形成する方法であって、該方法は、
基板を提供する過程であって、前記基板は光の波長に対して透過性のマスと、該マス上に、光の波長に対して不透明な層を有する、基板を提供する過程と、
前記不透明な層の上にフォトレジストの層を形成する過程であって、前記フォトレジストの第1部分は、画定された第1主要形状パターン位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第2部分は、画定された第1リム位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第3部分は、画定された第2主要形状パターン位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第4部分は、画定された第2リム位置の上に設けられる、フォトレジストの層を形成する過程と、
前記第1主要形状パターン位置と第2リム位置内に、前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの第1及び第4部分を除去する過程と、
前記第1主要形状パターン位置及び第2リム位置から前記不透明な層の露出した一部部分を除去する過程と、
前記不透明な層の露出した一部部分を除去した後、前記第1主要形状パターン位置及び第2リム位置の前記基板内にドーパントを注入する過程と、
前記ドーパントを注入した後、前記第1リム位置及び第2主要形状パターン位置に前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの前記第2及び第3部分を除去する過程と、
前記第1リム位置及び第2主要形状パターン位置から前記不透明な層の露出した一部部分を除去する過程と、を有し、
前記第1主要形状パターン位置における前記ドーパントの注入された領域は、そこを光が通過するとき、光の波長の位相に第1の回転を与えるように構成された四角形状の第1主要形状パターンからなり、
前記第1リム位置は、四角形状である前記第1主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、そこを光が通過するとき、光の波長の位相に第2の回転を与えるように構成された第1リムからなり、前記第2の回転は、前記第1の回転に対して約170°から約190°異なり、
前記第2主要形状パターン位置は、そこを光が通過するとき、光の波長の位相に第3の回転を与えるように構成された四角形状の第2主要形状パターンからなり、前記第3の回転は、前記第1の回転に対して、約170°から約190°異なり、
前記第2リム位置における前記ドーパントの注入された領域は、四角形状である前記第2主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、そこを光が通過するとき、光の波長の位相に第4の回転を与えるように構成された第2リムからなり、前記第4の回転は前記第3の回転に対して約170°から約190°異なり、
前記第1及び第2主要形状パターンはロウ方向及びカラム方向にアレイ状に配列され、前記第1及び第2主要形状パターンはアレイの前記ロウ方向に沿って互いに交互になっており、前記第1及び第2リムの設けられた辺は前記アレイのロウ方向に沿って延びる辺であり、前記第1及び第2リムは前記アレイのカラム方向に並んで設けられることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 照射パターンツールを形成する方法であって、該方法は、
基板を提供する過程であって、該基板は、光の波長に対して透明なマスと、該マス上の光の波長に対して不透明な層とから成る、基板を提供する過程と、
前記不透明な層の上にフォトレジストの層を形成する過程であって、前記フォトレジストの第1部分は、画定された第1主要形状パターン位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第2部分は、画定された第1リム位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第3部分は、画定された第2主要形状パターン位置の上に設けられ、前記フォトレジストの第4部分は、画定された第2リム位置の上に設けられる、フォトレジストの層を形成する過程と、
前記第1及び第2主要形状パターン位置内に前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの前記第1及び第3部分を除去する過程と、
前記第1及び第2主要形状パターン位置から前記不透明な層の前記露出した一部部分を除去する過程と、
前記第1及び第2主要形状パターン位置から前記不透明な層の前記露出した一部部分を除去した後、前記第1及び第2リム位置から前記不透明な層の一部部分を露出させるために、前記フォトレジストの第2及び第4部分を除去する過程と、
前記第1及び第2リム位置から前記不透明な層の前記露出した一部部分を除去する過程と、
前記第1及び第2リム位置から前記不透明な層の前記露出した一部部分を除去した後、前記第1主要形状パターン位置及び前記第1リム位置の上にフォトレジストマスを形成する過程と、
前記フォトレジストマスの形成後、前記第2主要形状パターン位置及び前記第2リム位置の前記基板内にドーパントを注入する過程と、
前記ドーパントを注入後、前記フォトレジストマスを除去する過程と、からなり、
前記第1主要形状パターン位置は、そこを光が通過するとき、光の波長の位相に第1の回転を与えるように構成された四角形状の第1主要形状パターンを有し、
前記第1リム位置は、四角形状である前記第1主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、そこを光が通過したとき、光の波長の位相に第2の回転を与えるように構成された第1リムを有し、前記第2の回転は、前記第1の回転に対して約170°から約190°異なり、
前記第2主要形状パターン位置における前記ドーパントの注入された領域は、そこを通過する光の波長の位相に第3の回転を与えるように構成された四角形状の第2主要形状パターンからなり、前記第3の回転は前記第1の回転に対して約170°から約190°異なり、
前記第2リム位置における前記ドーパントの注入された領域は、四角形状である前記第2主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、そこを光が通過したとき、光の波長の位相に第4の回転を与えるように構成された第2リムからなり、前記第4の回転は前記第3の回転に対して約170°から約190°異なり、
前記第1及び第2主要形状パターンはロウ方向及びカラム方向にアレイ状に配列され、前記第1及び第2主要形状パターンはアレイの前記ロウ方向に沿って互いに交互になっており、前記第1及び第2リムの設けられた辺は前記アレイのロウ方向に沿って延びる辺であり、前記第1及び第2リムは前記アレイのカラム方向に並んで設けられることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 照射パターンツールを形成する方法であって、該方法は、
石英ベースと、該石英ベース上の第1位相シフト層と、該第1位相シフト層の上であって、前記第1位相シフト層とは異なる組成から成る第2位相シフト層と、該第2位相シフト層上の不透明層とを有する基板を提供する過程と、
前記第1位相シフト層、第2位相シフト層及び不透明層を貫通して前記基板の中まで第1パターンをエッチングする過程であって、該第1パターンは第1主要形状パターンであり、前記第1主要形状パターンは四角形状の外縁を有すると共にそこを通過する光の波長の位相に第1の回転を与えるように構成されている、第1パターンをエッチングする過程と、
前記第1位相シフト層、第2位相シフト層及び不透明層を貫通して第2パターンをエッチングする過程であって、該第2パターンは第2主要形状パターンであり、前記第2主要形状パターンは四角形状の外縁を有すると共にそこを通過する光の波長の位相に第2の回転を与えるように構成されており、前記第2の回転は前記第1の回転に対して約170°から約190°異なる、第2パターンをエッチングする過程と、
前記不透明層を貫通して第3パターンをエッチングする過程であって、該第3パターンは第1リムであり、前記第1リムは、四角形状である前記第1主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、前記第1リムはそこを光が通過するとき、光の波長の位相に第3の回転を与えるように構成されており、前記第3の回転は前記第1の回転に対して約170°から約190°異なる、第3パターンをエッチングする過程と、
前記不透明層及び前記第2位相シフト層を貫通して、前記第1位相シフト層まで第4パターンをエッチングする過程であって、該第4パターンは第2リムであり、該第2リムは前記第2主要形状パターンの互いに対向する一組の辺の少なくとも一部に沿って設けられているが、他の組の辺に沿っては設けられておらず、前記第2リムはそこを光が通過するとき、光の波長の位相に第4の回転を与えるように構成されており、前記第4の回転は前記第2の回転に対して約170°から約190°異なる、第4パターンをエッチングする過程と、
を具備し、
前記第1及び第2主要形状パターンはロウ方向及びカラム方向にアレイ状に配列され、前記第1及び第2主要形状パターンはアレイの前記ロウ方向に沿って互いに交互になっており、前記第1及び第2リムの設けられた辺は前記アレイのロウ方向に沿って延びる辺であり、前記第1及び第2リムは前記アレイのカラム方向に並んで設けられることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 請求項9に記載の方法において、前記第1リム及び第1主要形状パターンの形成は、
前記不透明層の上にフォトレジストの層を形成する過程であって、前記フォトレジストの第1部分は、画定された第1主要形状パターン位置の上にあり、前記フォトレジストの第2部分は、画定された第1リム位置の上にある、フォトレジストの層を形成する過程と、
前記第1主要形状パターン位置よりも前記第1リム位置の上が厚いステップ状フォトレジストマスクを形成するために、前記第2部分に対して前記第1部分上の前記フォトレジストの厚さを薄くする過程と、
前記第1リム位置上のフォトレジストを残したまま、前記第1主要形状パターン位置上のフォトレジストを除去するために、前記フォトレジストをエッチングに付する過程であって、前記第1主要形状パターン位置上からの前記フォトレジストの除去は前記不透明層の一部部分を露出させる、前記フォトレジストをエッチングに付する過程と、
前記不透明層の前記露出した一部部分を除去し、前記第1主要形状パターン位置内に延びる第1開口を形成するために、前記第1主要形状パターン位置内までエッチングを行う過程と、
前記第1開口を、前記第1及び第2位相シフト層を貫通して前記基板内まで延長する過程と、
前記第1開口の延長の後、前記第1リム位置上から前記フォトレジストを除去する過程と、
前記不透明層を貫通し前記第2位相シフト層まで延在する第1リムを形成するために、前記第1リムパターン上から前記不透明層を除去する過程と、
を有することを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。 - 請求項9に記載の方法において、前記第1及び第2主要形状パターンは前記アレイのカラム方向には互いに交互になっていないことを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。
- 請求項9に記載の方法において、前記第1及び第2主要形状パターンは前記アレイのカラム方向に沿って互いに交互になっていることを特徴とする照射パターンツールを形成する方法。
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