JP2005257962A - 位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【構成】 露光光を透過する2つの領域を有し、一方の領域を透過する前記露光光の位相を反転させる凹部が他方の領域に形成された透明基板1と、複数の膜厚にて形成され、端部が前記凹部上にかからないように、前記透明基板上に形成された、前記露光光を遮光する遮光膜2とを備えたことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
図11(a)は、フォトマスクとしてのバイナリーマスク101の断面形状を示しており、透明基板1上に遮光膜2からなる遮光パターンが設けられている。図11(b)は、光強度振幅を示しており、図11(c)は、光強度分布を示している。図11(b)に示されるように、かかる形状のフォトマスクは、遮光領域において、光強度振幅が重なり合う。したがって、図11(c)に示されるように、遮光領域における光強度分布は増幅されてしまう。これは、隣接するパターンの回折光による影響であり、この影響により、光コントラストが悪くなり、解像度が悪くなる原因となる。そのため、露光光の波長以下のパターンサイズを加工することは非常に困難となる。
本手法は、透過領域の所定スペース部分をもう一方の透過領域のスペース部分とは異なる光路長にして、ウエハ上での光の位相を両パターン間で180度シフトさせることによって、ウエハ上での光コントラストを向上させ、従来のフォト露光装置を用いたレジスト解像度を大幅に改善する手法である。
図12では、位相シフトマスクの断面形状を示しており、透明基板1上に遮光膜2からなる遮光パターンが設けられており、遮光パターンに隣り合った透過領域の一方は、透明基板1が掘り込まれ、凹部となった領域(位相シフタ3)になっている。この位相シフタ3領域を透過した露光光が、位相差180度を有するように、この掘り込み量dは、露光光の波長λと透明基板1の屈折率nに依存し、次式で表される。
掘り込み量d=λ/2(n−1)
また、本構造の位相シフトマスクについては、別途文献に開示されている(例えば、特許文献1参照)。
図13は、図12の位相シフトマスクを用いてウエハに転写されたパターンを説明するための概念図である。
実際、本構造の位相シフトマスク100を用いて、基体210上に塗布されたネガ型レジスト膜220を備えたウエハ200に露光した場合、図13に示すように、位相シフタ3である掘り込み溝を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L1とその他の透明領域を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L2との寸法差が大きく違ってしまい、問題となる。そこで、最近では、ドライエッチングとウエットエッチングとの両工程を用いて掘り込み溝をサイドにも形成する構造が一般的である。
図14に示す位相シフタ3の掘り込み溝をサイドにも形成する構造を使用することにより、位相シフタ3を透過した180度の位相を有する露光光に依存する加工寸法、すなわち、図13におけるウエハ200上のレジスト膜220のライン幅L1と、その他の透明領域を透過した0度の位相を有する露光光に依存する加工寸法、すなわち、図13におけるウエハ200上のレジスト膜220のライン幅L2との相違を調整することが可能とされている。
図15(a)は、図14における位相シフトマスクを示している。図15(b)は、光強度振幅を示しており、図15(c)は、光強度分布を示している。図15(b)に示すように、位相シフトマスク100は、隣り合う透光領域において、お互いに位相が反転しているため、遮光領域における光強度分布は相殺し合い、図15(c)に示すように、光強度は0となる。
本構造の位相シフトマスク100を用いて、基体210上に塗布されたレジスト膜220を備えたウエハ200に露光した場合、図16に示すように、位相シフタ3である掘り込み溝を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L1とその他の透明領域を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L2との寸法差の違いが改善される。
図17(a)は、例えば、露光光の波長が157nmの場合の位相シフトマスクの構造における遮光膜2からなる遮光パターンと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図17(b)は、(a)の遮光パターンサイズを1とした場合に、遮光パターンサイズがその3/4となった場合について、遮光パターンサイズと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図17(c)は、(a)の遮光パターンサイズを1とした場合に、遮光パターンサイズがその1/2となった場合について、遮光パターンサイズと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図17に示されるように、遮光パターンのサイズが徐々に小さくなってくると、位相シフタ3の掘り込み部の開口幅が遮光パターンのサイズの縮小に対応して小さくならないため、その支えとなっている透明基板1との接触面積が小さくなり、その結果として、遮光パターンの倒れや剥れが発生する。例えば、適用する露光光の波長を157nmとし、開口数(NA)を0.85とすると、位相シフタ3である掘り込み溝を透過した露光光に依存して形成されるウエハ面に転写されるレジストパターンのライン幅L1とその他の透明領域を透過した露光光に依存して形成されるウエハ面に転写されるレジストパターンのライン幅L2の寸法差を補正するのに必要なアンダーカット量は、マスク上150nmであり(非特許文献2参照)、縮小率を1/5とすると、ウエハ上では30nmとなる。仮に65nmレベルの遮光パターンの場合においては、透明基板1が支える面積率は、ほぼ半分となってしまい、更に、45nmレベルの遮光パターンにおいては、透明基板1が支える面積率は、1/3となってしまい、遮光パターンの倒れや剥れが発生する。
露光光を透過する2つの領域を有し、一方の領域を透過する前記露光光の位相を反転させる凹部が他方の領域に形成された透明基板と、
複数の膜厚にて形成され、端部が前記凹部上にかからないように、前記透明基板上に形成された、前記露光光を遮光する遮光膜と、
を備えたことを特徴とする。
透明基板上に露光光を遮光する遮光膜を成膜する遮光膜成膜工程と、
前記遮光膜成膜工程により成膜された遮光膜を選択的にエッチングする第1の遮光膜エッチング工程と、
前記第1の遮光膜エッチング工程によりエッチングされ前記透明基板面が現れた前記透明基板を選択的にエッチングする基板エッチング工程と、
前記第1の遮光膜エッチング工程によりエッチングされなかった前記遮光膜が複数の膜厚となるように前記遮光膜を選択的にエッチングする第2の遮光膜エッチング工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における位相シフトマスクの断面構成を説明するための図である。
図1において、位相シフトマスク100は、透明基板1と遮光膜2とを備えている。
透明基板1には、凹部となる位相シフタ3が形成されている。位相シフタ3を有することで、位相0度と位相180度とで露光光を透過する2つの領域を有することになる。一方の領域は、凹部となっていない透明基板面のままである。他方の領域に位相シフタ3が形成されている。位相シフタ3により、凹部となっていない透明基板面である一方の領域を透過する前記露光光の位相を反転させることができる。
遮光膜2は、複数の膜厚にて形成され、端部が位相シフタ3となる前記凹部上にかからないように、前記透明基板1上に形成されている。遮光膜2は、前記露光光を遮光する。端部が位相シフタ3となる前記凹部上にかからないように、前記透明基板1上に形成されることから、常に透明基板1で支えられているため遮光膜2による遮光パターンの倒れや剥れを発生させないようにすることができる。
ウエハに転写された際のレジストパターンのライン幅(レジストのスペース幅)と遮光膜の膜厚(例えば、ここではクロム膜厚)との関係は、図2のようになる。(a)の領域は、透過領域からの光が透過しにくくレジストが解像しない領域、(b)の領域は、透過領域から光を通すことが可能であり、光の回折による影響で寸法変動する領域、(c)の領域は、光の透過と回折の影響によりいっきにレジストが無くなる領域である。
図3において、本実施の形態では、遮光膜2を成膜する遮光膜成膜工程(S202)、電子線レジストを塗布する第1の電子線レジスト塗布工程(S204)、電子線レジストを露光する第1の露光工程(S206)、露光された電子線レジストを現像する第1の現像工程(S208)、遮光膜2をエッチングする第1の遮光膜エッチング工程(S210)、電子線レジストを剥離する第1のレジスト剥離工程(S212)、電子線レジストを塗布する第2の電子線レジスト塗布工程(S214)、電子線レジストを露光する第2の露光工程(S216)、露光された電子線レジストを現像する第2の現像工程(S218)、透明基板1をエッチングする基板エッチング工程(S220)、遮光膜2をエッチングする第2の遮光膜エッチング工程(S222)、電子線レジストを剥離する第2のレジスト剥離工程(S224)という一連の工程を実施する。
図4では、図3の遮光膜成膜工程(S202)から第1のレジスト剥離工程(S212)までを示している。それ以降の工程は後述する。
図5において、装置300では、チャンバ306の内部にて下部電極302の上に位相シフトマスク100を設置する。位相シフトマスク100は下部リング309の内側に設置する。そして、上部リング308内のガス噴出し板305からチャンバ306の内部にエッチングガスとなる混合ガスを供給し、真空ポンプ307により所定のチャンバ内圧力になるように真空引きされたチャンバ306の内部の上部電極301と下部電極302との間に高周波電源となる上部RF電源303を用いてプラズマを生成させる。一方、下部RF電源304を用いてイオンエネルギーを制御する。このように、プラズマを生成するRF電源とイオンエネルギーを制御するRF電源とが独立した方式のエッチング装置が望ましい。プラズマ生成するRF電源とイオンエネルギーを制御するRF電源が独立しない平行平板型RIE(位相シフトマスクが載置される側にのみRF電源がある)ではエッチレートを増加させるためにRFパワーを上げるとイオンエネルギーも上がるために選択比を確保することが困難であるが、独立した装置ではプラズマ生成のRFパワーを増加し、イオンエネルギー制御をおこなうRFパワーを抑えることにより容易に選択比を確保することが可能となる。
図6では、図3の第2の電子線レジスト塗布工程(S214)から第2のレジスト剥離工程(S224)までを示している。
掘り込み量d=λ/2(n−1)
本実施の形態で上述した製造方法により製造された位相シフトマスク100を投影露光装置に設置する。図7では、この実施の形態による光リソグラフィ露光技術概念を示している。図7に示すように、露光光源22から発する露光光が、レンズ23を透過してミラー25で反射され、位相シフトマスク100を透過し、露光投影系レンズ24に入射する。そして、この露光投影系レンズ24の内部で収束され、ウエハ200上のフォトレジストに露光される。
図8(a)は、本実施の形態における位相シフトマスク100を示している。図8(b)は、光強度振幅を示しており、図8(c)は、光強度分布を示している。図8(b)に示すように、位相シフトマスク100は、隣り合う透光領域において、お互いに位相が反転しているため、遮光領域における光強度分布は相殺し合い、図8(c)に示すように、光強度は0となる。したがって、遮光領域には、暗い領域が生じ、光コントラストは向上する。このように新規の位相シフトマスク100についても、位相シフタ3により、そこから出てくる露光光の位相が180度シフトし、遮光パターン領域は、回折光による影響が打ち消され、光コントラストが向上し、解像度が向上する。
図9(a)では、ウエハに転写されたパターンをウエハ上部から見た場合の概念図を表している。図9(b)は、ウエハに転写されたパターンをウエハ断面から見た場合の概念図を表している。本構造の位相シフトマスク100を用いて、基体210上に塗布されたレジスト膜220を備えたウエハ200に露光した場合、位相シフタ3側の遮光膜2を薄膜化して、散乱光を大きくしているため、図9(a)(b)に示すように、位相シフタ3である掘り込み溝を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L1とその他の透明領域を透過した露光光に依存して形成されるレジスト膜220のライン幅L2との寸法差の違いが改善される。
図10(a)は、例えば、露光光の波長が157nmの場合の位相シフトマスクの構造における遮光膜2からなる遮光パターンと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図10(b)は、(a)の遮光パターンサイズを1とした場合に、遮光パターンサイズがその3/4となった場合について、遮光パターンサイズと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図10(c)は、(a)の遮光パターンサイズを1とした場合に、遮光パターンサイズがその1/2となった場合について、遮光パターンサイズと位相シフタ3の掘り込み部との位置関係を模式的に示している。図10に示されるように、遮光パターンサイズが徐々に小さくなっても、その支えとなっている透明基板との接触面積が小さくならず、その結果として、遮光パターンの倒れや剥れが発生しない。例えば、適用する露光光の波長を157nmとし、開口数(NA)を0.85、縮小率を1/5とすると、従来、寸法差を補正するのに必要であったアンダーカット量は、マスク上150nmであり(非特許文献2参照)、ウエハ上では30nmとなってしまっていた。しかしながら、本実施の形態では、65nmレベルの遮光パターン、更に45nmレベルの遮光パターンにおいても、透明基板1は完全に遮光パターンとなる遮光膜2を支えており、遮光パターンの倒れや剥れが発生しない。
2 遮光膜
3 位相シフタ
4 レジスト膜
22 露光光源
23 レンズ
24 露光投影系レンズ
25 ミラー
26 ウエハステージ
100 位相シフトマスク
101 バイナリーマスク
200 ウエハ
210 基体
220 レジスト膜
300 装置
301 上部電極
302 下部電極
303 上部RF電源
304 下部RF電源
305 ガス噴出し板
306 チャンバ306
307 真空ポンプ
308 上部リング
309 下部リング
Claims (7)
- 露光光を透過する2つの領域を有し、一方の領域を透過する前記露光光の位相を反転させる凹部が他方の領域に形成された透明基板と、
複数の膜厚にて形成され、端部が前記凹部上にかからないように、前記透明基板上に形成された、前記露光光を遮光する遮光膜と、
を備えたことを特徴とする位相シフトマスク。 - 前記遮光膜は、2つの膜厚にて形成され、一方が他方の膜厚の略1/2の膜厚にて形成されたことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 前記遮光膜は、Cr(クロム)を用いて、2つの膜厚にて形成され、一方が110nm以上の膜厚にて形成され、他方が60nm以上の膜厚にて形成されたことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 前記遮光膜は、前記2つの領域の間に形成され、前記2つの領域の中央部にて膜厚が変更するように形成されたことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 前記遮光膜は、薄い膜厚に形成された部分においても前記露光光の透過率が1%未満となるように形成されたことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 透明基板上に露光光を遮光する遮光膜を成膜する遮光膜成膜工程と、
前記遮光膜成膜工程により成膜された遮光膜を選択的にエッチングする第1の遮光膜エッチング工程と、
前記第1の遮光膜エッチング工程によりエッチングされ前記透明基板面が現れた前記透明基板を選択的にエッチングする基板エッチング工程と、
前記第1の遮光膜エッチング工程によりエッチングされなかった前記遮光膜が複数の膜厚となるように前記遮光膜を選択的にエッチングする第2の遮光膜エッチング工程と、
を備えたことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。 - 前記基板エッチング工程において、エッチングされる領域とエッチングされない領域とが、前記遮光膜を挟んで交互に並ぶように選択的にエッチングすることを特徴とする請求項6記載の位相シフトマスクの製造方法。
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