JP4137840B2 - 電力用半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、電力用半導体装置に関し、特にベース板を樹脂ケースに接着材を介して接合する電力用半導体装置において、接着材の厚みを一定にする技術に関する。
電力用半導体装置は、一般に、ベース板とベース板上に接合された樹脂ケースを備えている。そして、樹脂ケースとベース板の接合面に接着材を塗布することにより、樹脂ケースとベース板は接合されている。さらに、ベース板を樹脂ケースにネジ等で螺着することで、樹脂ケースとベース板の接合部の強度を増している。
しかし、ネジの締め込みが場所によって異なった場合、樹脂ケースとベース板の間に形成された接着材の厚みを一定にすることができない。すなわち、ネジの締め込みがきつい場所は、接着材は薄くなり、緩い場所は接着材は厚く形成される。その結果、半導体装置の外形高さ寸法にばらつきを生じるという問題があった。
そこで、特許文献1では、樹脂ケースのうち、ベース板との接合面に突起部を設けている。さらに、ベース板のうち、樹脂ケースとの接合面には前記突起部と形状の異なる溝部を設けている。そして突起部を溝部に嵌め込んで接合することで、樹脂ケースとベース板を一定の間隔で離間して接合し、接着材の厚みを一定に規定する発明が開示されている。
また、特許文献2では、樹脂ケースにS字型金属円筒が埋め込まれている。特許文献3では、樹脂ケースに金属製筒状カラーが埋め込まれている。そしてS字金属円筒又は金属製筒状カラーの先端を樹脂ケースの裏面から所定部分だけ突出させている。そしてその突出部でベース板と樹脂ケースの間隔を一定に保ち、接着材の厚みを一定にする発明が開示されている。
特開昭64−017455号公報 特開平09−129823号公報 特開平08−162572号公報
しかし、特許文献1の発明では、樹脂ケースとベース板の両方に突起部又は溝部を形成する必要がある。そのため、製造工程が増加し製造コストが増加する。また特許文献2,3の発明は、S字型金属円筒又は金属製筒状カラーを埋め込む必要があるため、組み立てが複雑化する。製造工程が増加するため、製造コストも増加する。
そこで本発明は、製造コストを抑えつつ、接着材の厚みがばらつくことなくベース板と樹脂ケースを接合する半導体装置を提供する。
この発明に係る電力用半導体装置は、ベース板と、前記ベース板上に絶縁基板を介して接合された半導体素子と、前記半導体素子を囲うように、前記ベース板上に接合された樹脂ケースを備える電力用半導体装置であって、前記ベース板と前記樹脂ケースの接合面のうち、前記ベース板若しくは前記樹脂ケースの少なくとも一方に形成され、所定の高さを有する突起部と、前記樹脂ケースと前記ベース板を押圧して接合する押圧手段と、を備える。そして、前記押圧手段は、前記樹脂ケースと反対側から前記ベース板を前記樹脂ケースに螺着する螺着体であって、前記螺着体の端が前記ベース板の裏主面より突出しないことを特徴とする。
本発明は、樹脂ケース又はベース板に形成された突起部の先端を押圧手段によって樹脂ケースに密着することができる。そのため、突起部の高さによって、樹脂ケースとベース板の間隔を一定に保つことができる。その結果、接着材の厚みがばらつくことなく、ベース板と樹脂ケースを接合することができる。
また突起部は、樹脂ケース又はベース板のどちらか一方に形成すればよく、さらに樹脂ケースに金属性カラー等を埋め込む必要がないので、製造コストを抑えることができる。また、螺着体がベース板の裏主面から突出しないように形成されている。そのため、放熱フィンをベース板の裏主面に密着して取り付けることができ、その結果、放熱効果の低減を防止することができる。
実施の形態1.
図1は、本実施の形態1に係る電力用半導体装置の構成を示す断面図である。絶縁基板2の表主面上に電極パターン4を介して電力用半導体素子(以下単に半導体素子と称する場合がある)6,7が並列に配置されている。半導体素子6は、例えばダイオードである。また半導体素子7は、例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)である。そして半導体素子6と半導体素子7の図示しない上部電極同士が、アルミワイヤ8等の金属配線で接続されている。半導体素子6,7の図示しない下部電極は、電極パターン4と電気的に接続されている。そして、電極パターン4と外部電極25がアルミワイヤ10で接続されている。また、半導体素子7の図示しない上部電極と外部電極14が、アルミワイヤ9で接続されている。
絶縁基板2の裏主面には半田パターン3が形成されている。そして、半田パターン3と金属ベース板(以下、単にベース板と称する場合がある)1は半田層5を介して接合されている。
樹脂ケース12は、半導体素子6,7の周囲を囲うように形成されている。そして樹脂ケース12は、ベース板1上に接着材18を介して接合されている。樹脂ケース12のうち、ベース板1との接合面には、突起部19が形成されている。ベース板1にはネジ孔15が形成されている。そして、樹脂ケース12とベース板1は、螺着体としてネジ16等を用いた押圧手段によって押圧されて接合されている。またネジ16の端は、ベース板1の裏主面から突出しないように形成されている。ここで螺着体は、ネジ以外にボルトであってもよい。ネジは、締め付け力が大きくなるとネジ頭部が変形する可能性がある。しかし、ボルトを使用するとその心配が無くなる。なお、ネジに代えてボルトを使用する場合は、ネジ孔15のうち、ボルトの頭部が収まる部分の径を大きく形成する。このようにすることで、ボルトを用いた場合でも、ボルトをベース板1の内部まで締めこむことが容易にできる。
そして外部電極14,25の一部は、図示しない外部機器と接続するために樹脂ケース12から外部に引き出されている。樹脂ケース12内部にはシリコンゲル13が充填されている。そして蓋11が樹脂ケース12の上端に取り付けネジ(図示せず)で固着され、樹脂ケース12内を密封している。ベース板1の裏主面には放熱フィン20が取り付けられている。ベース板1の四隅には、ネジ孔22が設けられている。ネジ孔22には、バネ座金21を介してボルト17が挿入されている。そして、ベース板1と放熱フィン20は、ボルト17によって接合されている。
次にベース板1と樹脂ケース12の接合部について詳細に説明する。図2は、ベース板1の上面図を示す図である。ベース板1上には、円柱状の突起部19が形成されている。この突起部19は、ベース板1のうち、樹脂ケース12との接合面に対応する位置に形成されている。すなわち、樹脂ケース12の接合面に沿って周状に配置されている。また突起部19は、所定間隔毎に配置されている。そして突起部19は、所定の高さに形成されている。
このような突起部19は、例えば金属片を所望の形状の部品に加工した後、接着材でベース板1上の所定位置に接合することで形成できる。また、ベース板1上の所定位置に金属片を接合した後に、所望の形状に整形するようにしてもよい。ここで、突起部19とベース板1は、接着材による接合である必要はなく、圧接接合によって接合してもよい。さらに、ベース板1の厚みが薄い場合には、裏面からのプレス加工により突起を形成し、必要に応じて所望の形状に加工するようにしてもよい。
ベース板1には、ネジ孔15が設けられている。ネジ孔15は、突起部19が配列された所定の配列線上に配置されている。さらに、放熱フィン20を取り付けるためのネジ孔22がベース板1の四隅に設けられている。図3,4は、以上のように形成した突起部19を備えるベース板1と樹脂ケース12の接合部の拡大図を示している。
図3は、突起部19が形成された領域の断面に対応する拡大図を示している。ベース板1と樹脂ケース12はネジ16により押圧して接合されている。そのため、突起部19の上端は樹脂ケース12に密着している。そして突起部19により、樹脂ケース12とベース板1との間が所定の間隔に保たれる。その結果、突起部19以外の部分に形成された接着材18の厚みもまた、突起部19の高さによって規定されて形成される。
図4は、ネジ16が形成された領域の断面図を示している。樹脂ケース12とベース板1との間に形成される隙間のうち、ネジ16以外の部分に接着材18が形成されている。この領域に形成された接着材18の厚みもまた突起部19の高さによって規定されている。
ここで図3,4において、樹脂ケース12とベース板1の接合面のうち、樹脂ケース12側に設けられた突起は、接着材18が外部に食み出るのを防止するために設けられたものである。
次に、以上のように形成された樹脂ケース12とベース板1の接合部の形成過程について説明する。まず、ベース板1上の突起部19に沿って接着材18を塗布する。そして、樹脂ケース12の接着面を張り合わせる。この段階では、樹脂ケース12と突起部19の先端は密着しておらず、樹脂ケース12と突起部19の間には接着材18の層が存在している。次に、ネジ16で押圧していくと、徐々に突起部19上に存在する接着材18は押し出される。最終的に、突起部19は樹脂ケース12に密着する。その結果、接着材18の厚みは、突起部19の高さによって規定される。
本実施の形態に係る電力用半導体装置は、ベース板1が突起部19を備えている。さらにネジ16等の押圧手段によって、ベース板1と樹脂ケース12は、押圧して接合されている。そのため、突起部19を樹脂ケース12に確実に密着することができる。その結果、突起部19の高さにより、接着材18の厚みが一定に保たれる。接着材18の厚みを一定にすることができるので、半導体装置の外形寸法のばらつきを抑えることができる。
また、本実施の形態ではベース板1に突起部19を形成している。この突起部19は、プレス加工法等により容易に形成することができる。そのため、製造コスト増加の問題なく、接着材18の厚みを一定にすることができる。さらに突起部19は、部分的に設けられているので、材料費を抑えることができる。さらにまた、接着材18によって接合される面積が広いため、接着強度を高めることができる。
本実施の形態においては、ネジ16がベース板1の裏主面から突出しないように形成されている。ネジ16がベース板1の裏主面から突出した場合、ベース板1と放熱フィン20の間には隙間が形成される。そのため、ベース板1と放熱フィン20間の熱抵抗が増大し、放熱効果が低減される。本実施の形態では、放熱フィン20をベース板1の裏主面に密着して取り付けできる。その結果、放熱効果の低減を防止することができる。
本実施の形態では、突起部19は、所定の配列線に沿って設けられている。そしてネジ孔15も突起部19が配列されている所定の配列線上に配列されている。ここで、樹脂ケース12とベース板1が接合できればよく、必ずしもネジ孔15は、突起部19が配列された配列線上に形成する必要はない。しかし、例えば突起部19が配列された配列線上以外にネジを配置すると、ネジを接合するための場所を確保するため、樹脂ケース12の接合面を広くする必要がある。その結果、樹脂ケース12の内容積が小さくなる。
本実施の形態では、ネジ孔15が突起部19が配列された配列線上に形成されているため、樹脂ケース12の内容積を大きく確保しつつ、樹脂ケース12の平面寸法がコンパクトな半導体装置を形成することができる。
なお、本実施の形態においては、突起部19は部分的に設けられた突起としたが、連続的な形状に形成してもよい。図5は、突起部19が連続的な形状を備えるベース板1の上面図を示している。ベース板1の樹脂ケース12との接合面に対応する位置に、突起部19が形成されている。突起部19は、四角形の環状に形成されている。そして、ネジ孔15が突起部19内に形成されている。このように突起部19を連続的な形状に形成することで、樹脂ケース12と接触する突起部19の面積が大きくなる。その結果、突起部19の強度を大きく確保することができる。
実施の形態2.
図6は本実施の形態に用いられるベース板1の上面図を示す。本実施の形態においては、ベース板1上の樹脂ケース1との接合面に対応する位置に、金属ワイヤ31が配置されている。金属ワイヤ31は所定の長さに切断されており、所定の間隔毎に長手方向が樹脂ケース1の接合面の周方向に沿うように配置されている。金属ワイヤ31は、半田等の接着材32により、ベース板1に接合されている。その他の構成は実施の形態1と同様であり、同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
図7は、ベース板1と樹脂ケース12の接合部分の拡大図を示している。本実施の形態においても、押圧手段によって金属ワイヤ31が樹脂ケース12に接することで、接着材18の厚みは金属ワイヤ31の高さによって規定される。その結果、実施の形態1と同様の効果を有する。さらに本実施の形態においては、金属ワイヤ31をベース板1の表面上に接合することにより突起部を形成している。その結果、突起部の形成が容易となり、製造コストを低減できる。
なお、金属ワイヤ31の形状は、上記の形状に限られるものではない。例えば、複数の金属ワイヤ31を接合するのではなく、一つの環状の金属ワイヤ31を形成して、ベース板1に接合するようにしてもよい。このようにすることで、ベース板1の製造が容易になる。
実施の形態3.
図8は本実施の形態3に用いられる樹脂ケース12の下面図を示している。本実施の形態においては、樹脂ケース12に突起部19が形成されている。突起部19は、樹脂ケース12のうち、ベース板1への接合面に形成されている。突起部19は、円柱状の形状を備えている。そして突起部19は、所定間隔毎に配置されている。
また、突起部19が配列された配列線上には、ネジ孔23が形成されている。ネジ孔23は、ベース板1に形成されるネジ孔15に対応する位置に形成されている。その他の構成は、実施の形態1と同一であり、同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
以上の構成を備えているので、突起部19の高さによって接着材18の厚みは規定され、実施の形態1と同様の効果を有する。また、突起部19が円柱状に部分的に設けられているので、樹脂ケース12の材料費を削減することができる。そして、接着材18の樹脂ケース12との接合面積が広がることで、樹脂ケース12とベース板1との接合強度を増すことができる。
さらに、樹脂ケース12は、金型に樹脂を流すことによって形成される。金型において突起部19に対応する部分を形成すれば、樹脂ケース12と一体に突起部19を形成できる。そのため突起部19を形成するための工程及びその形成に用いる製造装置が必要なく、容易に突起部19を形成することができるとともに生産性を高めることができる。また金型において突起部19を形成するので、突起部19の寸法精度を向上することできる。その結果、半導体装置の外形寸法の精度をさらに向上することができる。
なお、突起部19は連続的な形状に形成してもよい。図9は、突起部19が連続的な形状に形成された樹脂ケース12の下面図を示す図である。樹脂ケース12のうち、ベース板1との接合面に突起部19が連続的な形状に周状に形成されている。また突起部19には、ベース板11と接合するためのネジ孔23が設けられている。ネジ孔23はベース板1に形成されるネジ孔15に対応する位置に形成されている。連続的な形状に突起部19を形成した場合、突起部19が部分的に設けられた場合に比べて、突起部19の強度を増すことができる。
実施の形態4.
図10は、本実施の形態4に用いられる樹脂ケース12の下面図を示す図である。本実施の形態では、突起部19の両側に2つの溝部61が設けられている。2つの溝部61は、樹脂ケース12の接合面に周状に形成されている。そして突起部19を挟んで内側と外側にそれぞれ形成されている。その他の構成は実施の形態3と同一であり、同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
図11は、ベース板1と樹脂ケース12の接合部の拡大図である。図11に示すように、突起部19の両側には溝部61が形成されている。従来の半導体装置では、接着材18が樹脂ケース12の内側に食み出す可能性がある。そして接着材18の量によっては、絶縁基板2に至って硬化する可能性がある。接着材18の内部には、一般に、多数の気泡が存在する。接着材18が絶縁基板2に至って硬化すると、電極パターン4からこの気泡を介してベース板1へ至る電流の経路が形成される。そのため、電極パターン4から放電が生じ易くなり、半導体装置の絶縁耐圧が低下することが実験の結果確認されている。また、接着材18が樹脂ケース12の外部に食み出すと、樹脂ケース12の接合後に食み出した接着材18をふき取る作業がさらに必要になるという問題もあった。
本実施の形態に係る電力用半導体装置では、突起部19の内側及び外側に溝部61を設けている。その結果、接着材18の食み出しを防止することができる。本実施の形態では、溝部61を連続的な形状にしたが、必ずしも連続的な形状にする必要はない。溝部61を不連続な形状に形成してもよい。図12は、不連続に溝部61を形成した樹脂ケース12の下面図を示す。溝部61を不連続に形成した場合であっても、内外部への接着材18の食み出しを防止することができる。
なお本実施の形態では、溝部61を樹脂ケース12に形成したが、ベース板1に形成してもよい。
実施の形態5.
図13は、本実施の形態に係る電力用半導体装置の上面図である。また図14は、図13のB−B線断面図を示している。図15は、図13のC−C線断面図を示している。図14に示すように、本実施の形態に係る電力用半導体装置は、複数のベース板(部分ベース板)1を備えている。ここで本実施の形態では、3つのベース板1を備えた例を示している。
樹脂ケース12は、樹脂ケース12内部を仕切る複数の仕切り部51を備えている。仕切り部51は、複数のベース板1が互いに接する領域に対向するように形成されている。そのため樹脂ケース12は、仕切り部51によって仕切られた複数の開口部(本実施の形態では3つ)を有している。そして夫々の開口部に対して、ベース板1が配置されている。
また夫々の開口部は、蓋11によって密封されている。そして開口部内にはシリコンゲルが充填されている。図16は、本実施の形態に用いられる樹脂ケース12の下面図を示す図である。樹脂ケース12の下面には複数の突起部19が形成されている。
突起部19は、樹脂ケース12に形成された開口部の外周に沿って形成されている。そのため、仕切り部51にも突起部19が形成されている。そして、仕切り部51に形成された突起部19は、隣り合うベース板1が接する領域が同一の突起部19を共有できるように、形成されている。樹脂ケース12には、ネジ孔23が形成されている。そしてネジ孔23は、夫々のベース板1の四隅部に対応する位置に形成されている。
その他の構成は実施の形態1と同様であり、同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
複数のベース板1を備える電力用半導体装置では、隣り合うベース板1が段差を生じる場合がある。段差が生じると放熱フィン20をベース板に密着して取り付けることができず、熱抵抗が増加し放熱性が悪化する。
本実施の形態では、図14に示すように隣り合うベース板1が同一の突起部19に接するように、突起部19が形成されている。そのため、隣り合うベース板1と樹脂ケース12の間隔は、突起部19の高さによって規定される。その結果、隣り合うベース板1同士に生じる段差を防止することができる。
樹脂ケース12は、金型内に高温の樹脂を流し、冷まして固めることで形成される。そして樹脂を冷まして固める段階で、一般に樹脂ケース12は歪みを生じる。本実施の形態では、樹脂ケース12が一体成形された仕切り部51を備えているので、樹脂ケース12の歪みを低減することができる。その結果、樹脂ケース12とベース板1をネジ16により押圧して接合する際に、樹脂ケース12に生じる応力を低減することができる。
なお、突起部19の形状は、図16に示した形状に限られるものではない。図17に示すように、突起部19を連続的な形状にしてもよい。図17では、四角形状の開口部の各辺に対応して、長方形の突起部19が形成されている。このような形状にすることで、ベース板1と接する面積が大きくなり、より突起部19の強度を増すことができる。
また、本実施の形態では、樹脂ケース12に突起部19を形成したが、ベース板1に形成するようにしてもよい。図18は、突起部19が形成されたベース板1の上面図である。ベース板1上の樹脂ケース12との接合面に対応する位置に、突起部19が形成されている。夫々のベース板1に形成された突起部19の高さは同一に形成されている。また、ベース板1と樹脂ケース12との接合のための複数のネジ孔15が設けられている。
図19はこのように形成されたベース板1が使用された電力用半導体装置の断面図(図13のB−B線断面図に対応)を示す。夫々のベース板1は、同一の高さを持つ突起部19を備えている。図19に示すように、ベース板1と樹脂ケース12の間隔が夫々のベース板1で同一になるので、隣り合うベース板1間に段差が生じるのを防止することができる。
さらに突起部19の形状を夫々のベース板1で同一の形状にしてもよい。図20は、突起部19の形状を同一にしたベース板1の上面図を示す。図20に示すように、中央に配置されたベース板1と端に配置されたベース板1は、突起部19の形状が同一なので、ベース板1の取り付け位置を間違える問題が無くなり、組み立てを容易にすることができる。
実施の形態1に係る電力用半導体装置の断面図である。 実施の形態1の部分的に設けられた突起部を備えるベース板の構成を示す上面図である。 実施の形態1に係る電力用半導体装置のベース板と樹脂ケースの接合部のうち、突起部が形成された領域の断面を示す拡大図である。 実施の形態1に係る電力用半導体装置のベース板と樹脂ケースの接合部のうち、ネジ部分の断面を示す拡大図である。 実施の形態1における連続的な形状に形成された突起部を備えるベース板の構成を示す上面図である。 実施の形態2の突起部が金属ワイヤにより形成されたベース板を示す上面図である。 実施の形態2に係る電力用半導体装置のベース板と樹脂ケースの接合部の断面を示す拡大図である。 実施の形態3の部分的に設けられた突起部を備える樹脂ケースの構成を示す下面図である。 実施の形態3の連続的な形状に形成された突起部を備える樹脂ケースの構成を示す下面図である。 実施の形態4における突起部の両側に溝部が形成された樹脂ケースの構成を示す断面図である。 実施の形態4に係る電力用半導体装置におけるベース板と樹脂ケースの接合部の断面を示す拡大図である。 実施の形態4の溝部が不連続な形状に形成された樹脂ケースの構成を示す下面図である。 実施の形態5に係る電力用半導体装置の上面図である。 図13のB−B線断面図である。 図13のC−C線断面図である。 実施の形態5における樹脂ケースの構成を示す下面図である。 実施の形態5における樹脂ケースの別の構成を示す下面図である。 実施の形態5におけるベース板の上面図である。 実施の形態5におけるベース板に突起部を設けた電力用半導体装置を示す断面図である。 実施の形態5におけるベース板に形成された突起部の別形状を示す上面図である。
符号の説明
1 金属ベース板、2 絶縁基板、6,7 電力用半導体素子、12 樹脂ケース、15,22 ネジ孔、16 ネジ、18 接着材、19 突起部、31 金属ワイヤ、51 仕切り部、61 溝部。

Claims (3)

  1. ベース板と、
    前記ベース板上に絶縁基板を介して接合された半導体素子と、
    前記半導体素子を囲うように、前記ベース板上に接合された樹脂ケースを備える電力用半導体装置であって、
    前記ベース板と前記樹脂ケースの接合面のうち、前記ベース板若しくは前記樹脂ケースの少なくとも一方に形成され、所定の高さを有する突起部と、
    前記樹脂ケースと前記ベース板を押圧して接合する押圧手段と、
    を備え、
    前記押圧手段は、前記樹脂ケースと反対側から前記ベース板を前記樹脂ケースに螺着する螺着体であって、
    前記螺着体の端が前記ベース板の裏主面より突出しないことを特徴とする電力用半導体装置。
  2. 前記突起部は、所定の配列線に沿って設けられ、
    前記螺着体は、前記配列線上に配列されたことを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
  3. ベース板と、
    前記ベース板上に絶縁基板を介して接合された半導体素子と、
    前記半導体素子を囲うように、前記ベース板上に接合された樹脂ケースを備える電力用半導体装置であって、
    前記ベース板と前記樹脂ケースの接合面のうち、前記ベース板若しくは前記樹脂ケースの少なくとも一方に形成され、所定の高さを有する突起部と、
    前記樹脂ケースと前記ベース板を押圧して接合する押圧手段と、
    を備え、
    前記樹脂ケースは、前記接合面のうち、前記突起部に対応する部分の両側に設けられた溝部を有することを特徴とする電力用半導体装置。
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JP5602077B2 (ja) * 2011-03-23 2014-10-08 三菱電機株式会社 半導体装置
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EP3166140B1 (en) * 2014-07-04 2020-06-03 Mitsubishi Materials Corporation Substrate unit for power modules, and power module
JP6316434B2 (ja) * 2014-07-31 2018-04-25 三菱電機株式会社 半導体装置
CN107112316B (zh) * 2014-12-26 2020-04-21 三菱电机株式会社 半导体模块
WO2018055667A1 (ja) * 2016-09-20 2018-03-29 三菱電機株式会社 半導体装置
JP6811580B2 (ja) * 2016-10-20 2021-01-13 株式会社 日立パワーデバイス パワー半導体モジュール
JP6827402B2 (ja) * 2017-11-17 2021-02-10 三菱電機株式会社 半導体装置
DE112019007915T5 (de) * 2019-11-27 2022-09-08 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitermodul
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