JP4128344B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4128344B2 JP4128344B2 JP2001245985A JP2001245985A JP4128344B2 JP 4128344 B2 JP4128344 B2 JP 4128344B2 JP 2001245985 A JP2001245985 A JP 2001245985A JP 2001245985 A JP2001245985 A JP 2001245985A JP 4128344 B2 JP4128344 B2 JP 4128344B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- processing apparatus
- shielding
- holes
- pin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Weting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はベルヌーイ効果を利用して基板を支持する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体基板(以下、「基板」という。)を回転させながら処理を行う基板処理装置において、支持体上のスリット状の開口(以下、「スリット」という。)から基板に向けてガスを噴出し、ベルヌーイ効果を利用して基板を支持する手法が知られている。ベルヌーイ効果を利用して基板を支持する場合、基板の周縁部に均一にベルヌーイ効果を生じさせることが重要となり、スリットは基板の周縁部に沿って設けられるとともにスリット幅には高い精度が要求される。また、スリットから噴出されるガスの消費量を削減するためにはスリット幅を小さくする必要があり、スリット形成にはさらに高い精度が必要とされる。
【0003】
そこで、従来の支持体では、環状のスリットの外側の部材と内側の部材とを精度よく組み合わせることにより、スリットを形成している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板の処理に用いられる処理液に対する耐腐食性を考慮した場合、支持体は樹脂系の材料にて形成されることが好ましい。しかしながら、樹脂系の材料で支持体の各部材を形成した場合、各部材に対して高い形状精度を得ることが困難となり、微小で精度のよいスリット幅を得るには精密な調整機構や高い調整技術が必要となる。
【0005】
特に、近年の基板の大型化に伴い、高い精度でスリット幅を調整するにはコストがかかるとともに技術的にも困難になりつつある。
【0006】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、容易に作製することができる支持体にてベルヌーイ効果を利用した基板の適切な支持を実現することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板処理装置であって、基板を支持する基板支持体と、基板を処理する処理手段とを備え、前記基板支持体が、複数の穴からガスを噴出することによりベルヌーイ効果を利用して基板を支持する支持面と、前記複数の穴へとガスを導く流路とを備え、前記複数の穴のそれぞれが、穴の形成方向に垂直な断面において最大幅が2mm以下とされ、前記複数の穴が、支持される基板の周縁部に沿って環状に形成されるとともに前記基板の外縁部に向かって外側に傾斜しており、前記処理手段が、前記基板支持体に支持された状態で前記基板を回転させる手段と、前記基板支持体に支持されて回転される基板に向けて処理液を供給する手段とを有する。
【0008】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理装置であって、前記複数の穴のそれぞれが、穴の形成方向に垂直な断面において円形である。
【0009】
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の基板処理装置であって、前記支持面が、1つの部材上の面である。
【0010】
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記複数の穴が、30mm以下の間隔で形成される。
【0011】
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記複数の穴が、30個以上形成される。
【0012】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置1の主要構成を示す断面図である。基板処理装置1は基板9を主面に平行な面内にて回転させつつ化学薬品、有機溶剤等の薬液や純水(以下、「処理液」という。)を供給することにより基板9の表面に処理を行う装置である。基板処理装置1では、基板9の下面に対してベベルエッチングを含む様々な処理を行うことが可能であり、さらに、基板9の上面に対しても処理を行うことが可能とされている。
【0013】
図1は基板処理装置1が基板9の下面に処理を行う様子を示している。基板9の下面は基板9を回転させる回転ベース11と対向し、基板9の上面は遮蔽部12に対向する。基板9は遮蔽部12が退避した状態で回転ベース11に移載され、その後、遮蔽部12が基板9に近接するように移動して遮蔽部12から窒素ガス(以下、「ガス」という。)が噴出される。基板9はガスの流れにより生じるベルヌーイ効果により遮蔽部12に非常に近接した状態で支持される。すなわち、遮蔽部12は基板9を上方から支持する支持体となっている。
【0014】
回転ベース11はモータ21の回転軸211に接続され、遮蔽部12もモータ22の回転軸221に接続される。モータ21の回転軸211は中空となっており、回転軸211内には処理液供給部31から供給される処理液の流路となる供給管311が配置される。供給管311からの処理液は基板9の下面に向けて吐出される。モータ22の回転軸221も中空となっており、回転軸221内には処理液供給部32からの処理液の流路となる供給管321が配置される。基板9の上面の処理の際には供給管321から処理液が基板9の上面に向けて吐出される。
【0015】
回転ベース11は、基板9の下面に対向する板状の回転台111上に複数のピン112が基板9の外周に沿って配置された構造となっている。各ピン112の上部は遮蔽面121aに垂直な棒状となってり、ピン112は基板9の外縁と当接して基板9の水平面内の移動範囲を拘束する部材としての役割を果たす。遮蔽部12は、基板9の上面に対向する遮蔽面121aを有する遮蔽部材121、および、遮蔽部材121の上部を覆う蓋部材122により構成される。遮蔽部材121は皿状となっており、蓋部材122が嵌め合わされることにより遮蔽部12の内部に空間12aが形成される。
【0016】
遮蔽部材121の下部には、空間12aから遮蔽面121aに向かって伸びる複数の穴である噴出口121bが形成されており、空間12aに供給されるガスが噴出口121bから基板9に向けて勢いよく噴出される。すなわち、空間12aは噴出口121bにガスを導く流路の一部となっている。
【0017】
遮蔽部12の上部には、空間12aにガスを供給するために流路部材131および供給ポート132が設けられており、供給ポート132にはガス供給部からチューブ133を介してガスが供給される。流路部材131は回転軸221に取り付けられ、供給ポート132は回転軸221の回転とは無関係な固定部位に取り付けられる。供給ポート132は流路部材131の外周を覆う形状をしており、流路部材131と供給ポート132との間には僅かな隙間が設けられる。このような構造により、回転軸221および流路部材131を回転させつつ固定設置される供給ポート132から流路部材131内の流路に向けて絶えずガスを供給することが可能とされる。
【0018】
図2は、遮蔽部材121の下面(すなわち、遮蔽部12の下面)を示す図である。遮蔽部材121の遮蔽面121aには基板9の周縁部に沿って微小な噴出口121bが多数(好ましくは30個以上)形成される。具体的には、穴の形成方向(穴が伸びる方向)に垂直な断面において直径0.3〜1mm程度の円形の噴出口121bが、1〜6mmの範囲内で環状に等間隔で形成される。また、噴出口121bの向きは基板9の外縁に向かって傾斜する方向とされる(図1参照)。好ましくは、遮蔽面121aに対して角度αが20°〜40°の範囲で形成される。これにより、噴出口121bからガスが勢いよく噴出されるとベルヌーイ効果により基板9が遮蔽面121aから0.1mm程度離れた状態で上方から支持される。
【0019】
また、微小な噴出口121bが基板9の周縁部に対向して等間隔に多数形成されることから、基板9が大型であってもガスの消費量を抑えつつ基板9の周縁部に均一かつ高速のガスの流れを生じさせることができ、安定して基板9を支持することが実現される。
【0020】
遮蔽部材121は処理液に対する耐腐食性を有する樹脂にて一体成型される。好ましくは、PVC(ポリ塩化ビニル)や、硬めのフッ素樹脂としてPCTFE(ポリクロロフルオロエチレン)や、フッ素樹脂より機械強度が高いPEEK(ポリエーテルエーテルケトン)により一体成型される。噴出口121bは一体成型時に形成されてもよく、遮蔽部材121の原型に対してドリルを用いて形成されてもよい。いずれの手法を用いても精度のよい噴出口121bを有する遮蔽部材121を容易に作製することができる。その結果、基板処理装置1の製造コストを削減しつつ、処理性能の向上および安定化を図ることができる。
【0021】
図3は、遮蔽部12側からの回転ベース11および基板9の様子を示す図である。回転台111上には3つのピンが取り付けられており、1つのピン112aは基板9のノッチ91内に位置するように配置され、2つのピン112bは基板9の外縁に近接して配置される。以下の説明においてこれらのピンを総称する際に「ピン112」という。
【0022】
3つのピン112は、基板9の姿勢を固定するように基板9を強固に保持するのではなく、いずれかのピン112と基板9の外縁との間に隙間が生じるように(いわゆるガタを持たせるように)配置される。すなわち、基板9がピン112の間で僅かに水平方向に移動可能にピン112が配置される。したがって、各ピン112は回転台111に固定されるが、この状態で基板9を3つのピン112の間に挿入可能とされる。
【0023】
一方で、ピン112と基板9との間の隙間は基板9の回転を拘束するように設定される。すなわち、ピン112aがノッチ91から外れないように3つのピン112の間隔が設定される。したがって、回転台111と共に3つのピン112が遮蔽面121aに平行な面内にて回転を開始すると、ピン112aがノッチ91と当接するとともに他の2つのピン112bのうちのいずれか一方が基板9の外縁に当接し、基板9が主面に平行な面内にて回転する。このとき、他方のピン112bと基板9との間には隙間が生じる。このように、基板処理装置1ではノッチ91を利用することにより略円形の基板9を強固に保持することなく容易に回転させることができる。
【0024】
回転台111の回転が減速する際には、基板9と当接していなかったピン112bと基板9とが当接し、基板9と接していたピン112bが基板9から離れる。また、ノッチ91内のピン112aは回転の加速時と減速時とで接触位置が変化する。
【0025】
図1に示すように基板9の下面に処理が行われる場合、基板9はガスの噴出によるベルヌーイ効果により遮蔽部12と非接触の状態で支持され、基板9の水平方向の位置はピン112により制限される。そして、モータ21による回転ベース11の回転により遮蔽部12に支持された状態で基板9がピン112に当接して回転する。このとき、回転ベース11側の供給管311から基板9の下面に向けて処理液が吐出されることにより、基板9の下面および側面、さらには、側面から僅かに上面に至る部位に処理が施される。
【0026】
基板9はベルヌーイ効果を利用して支持され、かつ、基板9は回転ベース11のピン112に保持されないことから、遮蔽部12の遮蔽面121aと回転台111との平行度に多少の誤差が存在したり遮蔽面121aが多少上下したとしても基板9は遮蔽面121aに沿う状態で回転する。したがって、基板9と遮蔽面121aとが接することはない。また、基板9を回転させるピン112は回転台111に固定されているだけである。
【0027】
その結果、極めて簡素化された構成により基板9と遮蔽面121aとを0.1mm程度まで安定して近づけることが可能となり、基板9の上面の雰囲気制御(パーティクルの上面側への進入防止を含む。)を適切に行うことができるとともに、基板9から飛散する処理液が基板処理装置1内で跳ね返った後に基板9の上面に付着することが確実に防止される。
【0028】
なお、基板9が回転する際には、基板9の回転にほぼ合わせるようにして遮蔽部12がモータ22により回転する。これにより、基板9の上面と遮蔽面121aとの間の速度差をなくし、基板9と遮蔽面121aとの間に外気が引き込まれてしまうことが防止される。
【0029】
また、基板9の下面に施される処理として洗浄(例えば、ベベルエッチングによる洗浄)が行われる場合には、処理中に基板9と各ピン112とが接したり離れたりするとともに基板9がピン112に対して僅かに上下動することから、基板9と各ピン112との間の洗浄が特別な機構(例えば、ピン112を移動させる機構)を設けることなく行うことが可能となる。すなわち、未洗浄部分が基板9に残存したり、メカニカルなチャックで基板9が搬送される際にチャックを介して後続の基板9が汚染されることが、特別な機構を用いずに防止することが実現される。
【0030】
さらに、基板処理装置1は既述のように簡素化された構成であることから、基板処理装置1の製造コストの削減およびフットプリントの削減も実現される。
【0031】
図4は基板9の下面に処理が行われた後に上面に処理が行われる際の基板処理装置1の様子を示す断面図である。
【0032】
基板9の上面に処理が行われる際には、まず、図1に示す状態において遮蔽部12へのガスの供給が停止され、基板9が回転台111側へと落下する。図5はピン112の形状を示す図である。ピン112は上部が径の小さい当接部1121となっており、下部が径の大きい支持部1122となっている。すなわち、ピン112はいわゆる2段ピンとされる。
【0033】
当接部1121は、基板9が遮蔽部12に支持される際に基板9の外縁に当接して基板9を回転させる。一方、支持部1122は、遮蔽部12による基板9の支持が解除されて図5中の二点差線にて示す状態から実線にて示すように基板9が落下すると、基板9を下方から接触して支持する役割を果たす。このように、ピン112を2段ピンとすることにより、下面処理時の基板9の回転および上面処理時の基板9の支持が簡単な構成で実現される。
【0034】
基板9がピン112の支持部1122に支持されると、図4に示すように遮蔽部12が基板9から遠ざけられ、遮蔽部12側の供給管321から基板9の上面に向けて処理液が供給される。その後、モータ21が回転することにより基板9が回転ベース11と共に高速で回転し、基板9の表面に処理が施される。
【0035】
以上のように、基板処理装置1では回転ベース11に支持部1122を有するピン112が配置され、供給管311から処理液を吐出することが可能であるため、基板9の下面の処理のみならず上面の処理も行うことが実現される。
【0036】
以上、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置1について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【0037】
上記実施の形態では、基板処理装置1は半導体基板に処理を行うが、処理対象は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用のガラス基板であってもよい。
【0038】
図6は、ガラス基板のような角形基板の場合の遮蔽部12の構造を示す図であり、図7は回転ベース11の構造を示す図である。図6に示すように、角形の基板9を取り扱う場合、基板9に覆われる領域内にて環状に多数の噴出口121bが遮蔽面121aに形成される。これは、回転ベース11の回転と遮蔽部12の回転とを同期させることができなくても基板9の周縁部全体にベルヌーイ効果を発生させるためである。もちろん、回転ベース11と遮蔽部12との回転を完全に同期させることができる場合には、噴出口121bは基板9の外周に沿って矩形状に配列されることが好ましい。
【0039】
一方、図7に示すように回転ベース11の回転台111上には6個のピン112が配置される。これらのピン112は略円形の基板の場合と同様に基板9を強固に保持するのではなく、基板9との間に僅かな隙間が生じるように配置される。これにより、基板9が回転する際には、各ピン112が基板9の外縁に当接したり離れたりすることにより、ピン112と基板9との間においても適切に処理が行われる。
【0040】
図7に示すように、基板9を回転させるためにはいずれかのピン112を周方向(回転方向)に対してほぼ垂直な方向から基板9に当接させる必要はない。複数のピン112の少なくとも一部が基板9と当接し、当接する際に生じる力が周方向の成分を有することにより基板9を回転させることが実現される。すなわち、基板9を非固定状態とし、基板9に当接させる複数の部材のうちの少なくとも一部を基板9の略周方向に当接させることにより、ベルヌーイ効果を利用しつつ基板9を回転させることが実現される。
【0041】
上記実施の形態では、ピン112が回転ベース11に設けられるが、ピン112を遮蔽部12に設けることも可能である。この場合、遮蔽部12の回転と基板9の回転とを完全に同期させることが可能となる。
【0042】
また、ピン112は加工の容易さおよび構造の簡素化の観点から棒状であることが好ましいが、棒状に限定されるものではなく、任意の形状であってよい。例えば、図8に示すように、平面112dを円形の基板9の外縁に当接させるピン112cが用いられてもよい。なお、図8に示すピン112cは縦断面においてL字状となっており、上面処理の際にはピン112cの下部が基板9を下方から当接して支持する。
【0043】
さらに、ピン112の下部が支持部とされる必要はなく、図9に示すように円筒状のピン112eを配置し、基板9を下方から支持する支持部材112fが別途設けられてもよい。
【0044】
上記実施の形態では、供給管から処理液を吐出することにより基板9に処理液を付与するが、処理液の供給はどのような手法が利用されてもよい。例えば、スプレー式、スリット式等が利用されてもよい。
【0045】
上記実施の形態において噴出口121bの直径は0.3〜1mmが好ましいと説明したが、2mm以下であれば8インチ以上の大型の基板9に対しても適切な支持が可能である。噴出口121bはドリルを用いることにより穴の形成方向に垂直な断面において円形となるものが容易に形成できるが、穴の形状は円形に限定されない。例えば、耐腐食性樹脂を用いて金型で一体成形する際に噴出口121bを形成する場合には矩形等であっても容易に形成することができる。この場合であっても穴の形成方向に垂直な断面において最大幅を2mm以下とすることにより、基板9を適切に支持することができる。
【0046】
上記実施の形態では噴出口121bの間隔は1〜6mmが好ましいと説明したが、実用上は30mm以下という条件が満たされると基板9を適切に支持することができる。また、噴出口121bは等間隔に形成される必要はなく、さらに、円環状に配置されなくても基板9を支持することができる。もちろん、ベルヌーイ効果を基板9の周縁部にて均等に発生するには、噴出口121bが基板9の周縁部に沿って等間隔に形成されることが好ましい。
【0047】
上記実施の形態では、基板9の周縁部に対向する位置からガスを噴出するようにしているが、ガスは基板9の中心に対向する位置からも噴出されてよい。これにより、大型の基板9の中央部に生じるたわみを制御することができる。
【0048】
上記実施の形態では、ピン112をガタを持たせつつ基板9に当接させることにより基板9を回転させるが、ベルヌーイ効果にて基板9を支持した後にピン112を移動させて基板9が強固に保持されてもよい。さらには、基板9の支持体である遮蔽部12の構造が回転ベース11に利用されてもよい。
【0049】
図10は回転ベース11Aに多数の噴出口111bが形成される場合の構造を示す断面図である。回転ベース11Aの構造はピン112が配置されるという点を除いて図1における遮蔽部12と同様である。すなわち、チューブ133、供給ポート132および流路部材131を介して回転ベース11A内にガスが導入され、回転ベース11A内の空間から噴出口111bへと導かれる。これにより、基板9が下方からベルヌーイ効果を利用して非接触にて支持することが実現される。図10に示すピン112gはモータ114により偏心した回動を行い、ベルヌーイ効果を利用して基板9が支持された後に、ピン112gを含む複数のピン112により基板9が強固の保持される。もちろん、基板9が下方から支持される場合であっても図1と同様に、基板9を強固に保持することなく回転させることも可能である。
【0050】
さらに、微小な多数の噴出口によるベルヌーイ効果を利用して基板を支持する技術は様々な種類の基板処理装置における他の用途に利用されてもよい。例えば、基板9を回転ベース11まで搬送する搬送機構における支持体として遮蔽部12と同様の構成が利用されてもよい。このように、微小な多数の噴出口を有する支持体は、基板の処理に係る支持体以外の構成と任意の関係で設けられてよい。
【0051】
【発明の効果】
請求項1ないし5の発明では、処理される基板を適切に支持することができる。
【0052】
また、請求項2および3の発明では、基板支持体を容易に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 基板処理装置の主要構成を示す断面図である。
【図2】 遮蔽部材の下面を示す図である。
【図3】 遮蔽部側からの回転ベースおよび基板の様子を示す図である。
【図4】 基板の上面に処理が行われる際の基板処理装置の様子を示す断面図である。
【図5】 ピンを示す図である。
【図6】 遮蔽部の他の構造を示す図である。
【図7】 回転ベースの他の構造を示す図である。
【図8】 ピンの他の形状を説明するための図である。
【図9】 支持部材を設けた様子を示す図である。
【図10】 回転ベースを示す断面図である。
【符号の説明】
9 基板
11,11A 回転ベース
12 遮蔽部
12a 空間
31 処理液供給部
121 遮蔽部材
121b 噴出口
121a 遮蔽面
131 流路部材
132 供給ポート
311 供給管
Claims (5)
- 基板処理装置であって、
基板を支持する基板支持体と、
基板を処理する処理手段と、
を備え、
前記基板支持体が、
複数の穴からガスを噴出することによりベルヌーイ効果を利用して基板を支持する支持面と、
前記複数の穴へとガスを導く流路と、
を備え、
前記複数の穴のそれぞれが、穴の形成方向に垂直な断面において最大幅が2mm以下とされ、
前記複数の穴が、支持される基板の周縁部に沿って環状に形成されるとともに前記基板の外縁部に向かって外側に傾斜しており、
前記処理手段が、
前記基板支持体に支持された状態で前記基板を回転させる手段と、
前記基板支持体に支持されて回転される基板に向けて処理液を供給する手段と、
を有することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記複数の穴のそれぞれが、穴の形成方向に垂直な断面において円形であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記支持面が、1つの部材上の面であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記複数の穴が、30mm以下の間隔で形成されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記複数の穴が、30個以上形成されることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001245985A JP4128344B2 (ja) | 2001-08-14 | 2001-08-14 | 基板処理装置 |
US10/102,391 US6669808B2 (en) | 2001-03-22 | 2002-03-18 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001245985A JP4128344B2 (ja) | 2001-08-14 | 2001-08-14 | 基板処理装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006154117A Division JP4544634B2 (ja) | 2006-06-02 | 2006-06-02 | 基板支持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003060015A JP2003060015A (ja) | 2003-02-28 |
JP4128344B2 true JP4128344B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=19075632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001245985A Expired - Fee Related JP4128344B2 (ja) | 2001-03-22 | 2001-08-14 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4128344B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050151282A1 (en) * | 2004-01-13 | 2005-07-14 | Harper Bruce M. | Workpiece handler and alignment assembly |
JP4450371B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-04-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
US7628864B2 (en) | 2004-04-28 | 2009-12-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus and method |
JP2006080392A (ja) * | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Seiko Epson Corp | 基板処理装置、半導体基板、半導体部品および半導体装置 |
CN101023713B (zh) | 2004-09-29 | 2010-09-29 | 积水化学工业株式会社 | 等离子加工设备 |
JP4255478B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2009-04-15 | 株式会社カイジョー | 洗浄装置及び洗浄方法 |
DE102006022882B4 (de) * | 2006-05-15 | 2016-04-14 | Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Schichten mit einer Messsonde |
JP2008091576A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Kaijo Corp | 乾燥方法 |
JP5553062B2 (ja) * | 2011-06-30 | 2014-07-16 | 三菱電機株式会社 | 位置決め装置と位置決め方法 |
-
2001
- 2001-08-14 JP JP2001245985A patent/JP4128344B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003060015A (ja) | 2003-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6669808B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US10964556B2 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method | |
US7722736B2 (en) | Apparatus for and method of processing a substrate with processing liquid | |
JP6521242B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP4474438B2 (ja) | 基板処理装置及び方法、そしてこれに用いられる噴射ヘッド | |
JP5470306B2 (ja) | 2流体ノズル、基板液処理装置、基板液処理方法、及び基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
KR102018397B1 (ko) | 판상 물체들의 습식 처리를 위한 방법 및 디바이스 | |
US20160351421A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP4128344B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US20090173446A1 (en) | Substrate support, substrate processing apparatus including substrate support, and method of aligning substrate | |
JP2008108830A (ja) | 二流体ノズルユニットおよびそれを用いた基板処理装置 | |
JP4544634B2 (ja) | 基板支持装置 | |
JP3846697B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5009053B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
WO2006030561A1 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6416652B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6491900B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4931699B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP3292639B2 (ja) | 回転保持装置及び方法 | |
JP2012099833A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2006060161A (ja) | 基板処理装置 | |
JP7187268B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2007335587A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006120666A (ja) | 基板処理装置 | |
US11211264B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060602 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070109 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070214 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070316 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080417 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080514 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110523 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110523 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110523 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120523 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120523 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |