JP4106526B2 - 光偏向光学系 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザービームプリンタ等の画像形成装置の画像書き込み露光用に用いられる光偏向光学系に係り、特に、回転多面鏡等の偏向反射面に光ビームを順に2度入射させる光偏向光学系に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡を配置し、偏向反射面で反射された偏向光ビームを2枚の固定平面鏡で順に反射させ、再びその偏向反射面に入射させて光偏向を行うことで、偏向反射面の回転軸の倒れや偏向反射面そのものの面毎の倒れによる偏向光ビームの射出方向の変化を補正するものが特開昭51−6563号で提案されている。
【0003】
また、回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡を配置し、その2枚の固定平面鏡の稜線が偏向反射面の回転軸に直交する平面内に位置させるようにして、偏向反射面と2枚の固定平面鏡の間から偏向反射面へ向けて光ビームを入射させ、反射された偏向光ビームをその2枚の固定平面鏡を順に反射させて再びその偏向反射面に入射させて反射させ、その反射された偏向光ビームを偏向反射面と2枚の固定平面鏡の間あるいは2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するようにて、走査線の歪みを補正する光偏向光学系が特開昭61−7818号(米国特許第4,796,965号)で提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開昭51−6563号のものにおいては、2枚の固定平面鏡と入射光ビームや射出光ビームが干渉することを避けるために光偏向角度が小さくなってしまうという問題がある。
【0005】
また、特開昭61−7818号のものにおいては、偏向反射面を回転多面鏡で構成する場合等において、偏向反射面の回転軸に対する偏心等による各偏向反射面の回転軸からの出入りにより、走査線のピッチが変化してしまう問題は考慮されていない。
【0006】
また、偏向された光ビームが走査線の周辺部でねじれる問題も考慮されていない。
【0007】
さらには、特開昭61−7818号の光偏向光学系においては、この光偏向光学系に入射する光ビームと反射された偏向光ビームとの間に1枚の固定平面鏡が挟まれることになるため、実際上幅の極めて狭い高精度の平面鏡を用いなければならず、加工が困難なため高価にならざるを得ない問題もある。
【0008】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、偏向反射面の回転軸の倒れや偏向反射面そのものの面毎の倒れに起因する偏向光ビームの射出方向の変化が完全に補正されている光学系であって、広い偏向角をとることができ、幅の狭い平面鏡を用いる必要がなく、偏向反射面に出入りがあっても走査線のピッチ変化が起こらず、また、偏向光ビームのねじれもない光偏向光学系を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明の光偏向光学系は、回転軸に平行でその回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡が配置され、前記偏向反射面に入射して反射された光ビームが前記2枚の固定平面鏡で順に反射され、その反射された光ビームが再び前記偏向反射面に入射して反射される光偏向光学系において、
前記偏向反射面に最初に入射する光ビームを含み前記回転軸に平行な面を入射平面とするとき、前記2枚の固定平面鏡は前記入射平面に対して垂直に相互に間隙をおいて配置され、
前記偏向反射面に最初に入射する光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、前記偏向反射面で2回目に反射された偏向光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成されていることを特徴とするものである。
【0010】
この場合、入射平面内に偏向光ビームが含まれる位置での偏向反射面に最初に入射する光ビームの偏向反射面に対する入射角をθ1、偏向反射面で2回目に反射された偏向光ビームの射出角をθ2とすると、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(16)
の関係を満足するように構成することが望ましい。
【0011】
また、偏向反射面の回転軸からの出入りによる回転軸を含む断面内の射出光ビームのずれ量をYとし、偏向反射面の2回目の反射点から被走査面の間の光学系によるそのずれ量Yに対応した被走査面での走査点のずれ量をY’とし、β’=Y’/Yとし、被走査面での走査線ピッチをLPとするとき、単位をmmとして、
0.1・|β’・(sinθ1−sinθ2)|≦0.25・LP・・・(21)
の関係を満足するように構成することが望ましい。
【0012】
この場合、さらに、単位をmmとして、
0.1・|β’・(sinθ1−sinθ2)|≦0.125・LP・・・(22)
の関係を満足するように構成することが望ましい。
【0013】
また、θ1:θ2≒1:1の関係を満足するように構成することがより望ましい。
【0014】
これらの本発明の光偏向光学系は、例えば画像形成装置の画像書き込み露光用に用いられる。
【0015】
本発明においては、偏向反射面の回転軸の倒れや偏向反射面そのものの面毎の倒れに起因する偏向光ビームの射出方向の変化が完全に補正されている光学系において、広い偏向角をとることができ、また、比較的幅の広い平面鏡を固定平面鏡として用いることができるので、高精度の平面鏡であって加工が容易で安価なものを用いることができるようになり、さらに、偏向反射面に出入りがあっても走査線のピッチ変化が起こらず、また、射出光ビームのねじれがない光偏向光学系を得ることが可能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づき本発明の光偏向光学系の原理と実施例について詳細に説明する。
【0017】
図1は、本発明の光偏向光学系を含む光走査装置の全体構成を示す斜視図であり、図2は、その主要部の光偏向光学系を示す斜視図である。
【0018】
この構成では、光偏向部は多面柱の側面に複数(図の場合は6面)の偏向反射面11を有するポリゴンミラー10で構成され、その回転軸12の周りで偏向反射面11が回転する構成になっている。そして、光偏向に関与する偏向反射面11に面して2枚の固定平面鏡13、14が相互に角度をなして、かつ、間に間隙15を開けて配置されている。
【0019】
そして、光源21からの光がレンズ22により平行光ビームa0に変換され(面倒れ補正を行う場合は、回転軸12に直交する方向には平行光になり、回転軸12に平行な方向には偏向反射面11近傍に集光するように変換され)、その光ビームa0は固定平面鏡13と14の間隙15を通って回転軸12に沿った図の場合は斜め下方から偏向反射面11に入射する。その偏向反射面11で1回目の反射を行った光ビームa1は斜め上方へ進み、一方の固定平面鏡13に入射し、そこで反射された光ビームa2は下方へ進み、今度は他方の固定平面鏡14に入射し、そこで反射された光ビームa3は再度偏向反射面11に入射し、その偏向反射面11で2回目の反射を行った光ビームa4は、固定平面鏡13と14の間隙15を通って斜め上方へ進み、走査光学系23を経て集束光ビームに変換され、被走査面24に入射して集束する。偏向反射面11は回転軸12の周りで回転するので、その集束光ビームは偏向反射面11の回転速度の略4倍の回転速度で回転して被走査面24上に走査線bを描く。ポリゴンミラー10の回転に伴って入射光ビームa0の入射位置に隣接する偏向反射面11が順次入っては出るので、ポリゴンミラー10の回転に伴って被走査面24上の同じ位置に走査線bが一端から他端へ順次描かれる。この方向の走査が主走査になる。被走査面24上の被走査体を走査線bと直交する方向へ一定速度で副走査することにより、被走査体上には走査線bが一定ピッチで並ぶラスター走査が行われることになる。
【0020】
ここで、入射光ビームa0の中心光線を含み、回転軸12に平行な平面を入射平面と定義すると、2枚の固定平面鏡13、14は入射平面に対して垂直に配置されている。
【0021】
以下、このような光偏向光学系において、射出光ビームa4にねじれがないための条件と、入射光ビームa0の入射位置に順次入れ代わる偏向反射面11の回転軸12からの出入りにより、射出光ビームa4の副走査方向の位置が変動しないための条件について検討する。なお、射出光ビームa4にねじれがある場合の問題点は後で説明する。
【0022】
まず、予備的に、図1、図2のような構成で、射出光ビームa4の偏向により生じる射出角度差について検討する。
【0023】
図3に示すように、偏向反射面11が入射平面に垂直で正面を向いているときには、光ビームa0〜a4は全て紙面の入射平面内にあり、このときの入射光ビームa0の偏向反射面11に対する入射角をθ1、射出光ビームa4の射出角をθ2とする。
【0024】
図4は、光ビームa0〜a4を入射平面に投影した図であり、実線は偏向反射面11が正面を向き光ビームa0〜a4が入射平面内にあるときであり、破線は偏向反射面11を正面を向いているときより回転角ωだけ回転したときの光ビームa0〜a4を入射平面に投影した図である。また、図5は、偏向反射面11が正面を向いているときより回転角ωだけ回転したときの光ビームa0〜a4を偏向反射面11の回転軸12に垂直な平面に投影した図である。
【0025】
また、図6は、光ビームa0とa1の偏向反射面11が正面を向いているとき(a)と回転角ωだけ回転したとき(b)の角度関係を示す図であり、図7は、光ビームa3とa4の偏向反射面11が回転角ωだけ回転したときの角度関係を示す図である。ここで、φ1は、図4に図示のように、光ビームa1を入射平面に投影したときの、偏向反射面11が正面を向いているときと回転角ωだけ回転したときとの射出角の差であり、φ2は、図4に図示のように、光ビームa4を入射平面に投影したときの、偏向反射面11が正面を向いているときと回転角ωだけ回転したときとの射出角の差である。また、2ω’は、図5に図示のように、偏向反射面11が回転角ωだけ回転したときの、偏向反射面11の回転軸12に垂直な平面に投影した光ビームa3の入射平面に対する角度である。
【0026】
まず、1回目の偏向に注目する。図6(b)から明らかなように、φ1は次のように表わされる。
【0027】
L・tan(θ1+φ1)=L・tanθ1/cos2ω ・・・(1)
∴ φ1=tan-1(tanθ1/cos2ω)−θ1 ・・・(2)
次に、偏向反射面11へ2回目に入射する光ビームa3の状態を考える。
【0028】
図8示すように、入射平面をS−U面、偏向反射面11の回転軸12と垂直な面をT−U面とするような座標系を考え、偏向反射面11で1回目の反射を行った光ビームa1の方向ベクトル(単位ベクトル)の各座標方向への成分を(s,t,u)とすると、
√(s2 +t2 +u2 )=1 ・・・(3)
である。この光ビームa1の方向ベクトルをS−U面へ投影した大きさdは次のように表される。
【0029】
d=√(s2 +u2 ) ・・・(4)
また、偏向反射面11の回転角はωであるので、
u・tan2ω=t ・・・(5)
u・tan(θ1+φ1)=s ・・・(6)
となる。
【0030】
式(3)、式(5)、式(6)から、
u2 =1/{tan2 (θ1+φ1)+tan2 2ω+1}・・・(7)
となり、式(4)、式(6)、式(7)から、
となる。
【0031】
図8の場合と同様の座標系を図9にとり、偏向反射面11へ2回目に入射する光ビームa3の方向ベクトル(単位ベクトル)の各座標方向への成分を(s’,t’,u’)とすると、
√(s’2 +t’2 +u’2 )=1 ・・・(9)
である。1回目の偏向から2回目の偏向の間は、S−U面(入射平面)に垂直な固定平面鏡13と14で折り返されるので、(s’,t’,u’)をS−U面に投影したときの大きさ(光ビームa3の方向ベクトルをS−U面へ投影したときの大きさ)d’は、d’=dである。したがって、
d’=d=√(s’2 +u’2 )=√(s2 +u2 ) ・・・(10)
また、
u’・tan2ω’=t’ ・・・(11)
u’・tan(θ2−φ1)=s’ ・・・(12)
となる。
【0032】
式(9)、式(10)から、
t’2 =1−d2 ・・・(13)
であり、式(9)、式(12)、式(13)から、
u’2 ・{tan2 (θ2−φ1)+1}+(1−d2 )=1・・・(14)
∴ u’2 =d2 /{tan2 (θ2−φ1)+1} ・・・(15)
となる。
【0033】
式(11)、式(15)から、
|2ω’|=|tan-1(t’/u’)|
=tan-1[√〔(1−d2 ){tan2 (θ2−φ1)+1}/d2 〕]・・・(16)
となる。式(16)中のd2 は式(8)で表される。
【0034】
次に、光ビームa3から光ビームa4への2回目の偏向について考える。図7のA−A断面とB−B断面(入射平面に平行な断面)に注目して、
tanγ=tan(θ2−φ1)・cos2ω’ ・・・(17)
さらに、C−C断面のγ’はγ’=γなので、
tanγ’=tanγ=tan(θ2−φ1)・cos2ω’・・・(18)
となる。
【0035】
C−C断面を入射平面に投影すると、
tan(θ2+φ2)=tanγ’/cos(2ω+2ω’)
=cos2ω’・tan(θ2−φ1)/cos(2ω+2ω’)・・・(19)
となる。この式(19)をφ2について展開すると、
となる。
【0036】
上記の式(2)のφ1と式(20)のφ2が以下に検討する光ビームa4のねじれに関係する。
【0037】
次に、射出光ビームa4のねじれについて検討する。偏向反射面11に平行光が入射すると考え、図10に示すように入射ビームa0(a3)に座標を設定し、その座標の回転に注目する。図中、「1」は入射光ビームa0(a3)に設定した入射平面に垂直な座標軸、「2」は中心光線と「1」に垂直な座標軸である。また、走査平面を、偏向反射面11により入射平面内に反射された光線を含む入射平面に垂直な面と定義する。
【0038】
入射光ビームa0(a3)が偏向反射面11で反射されたときの座標「1」、「2」が変換された座標をそれぞれ「1’」、「2’」とする。そして、射出光ビームa1(a4)がねじれていない状態を、上記走査平面に「1’」が平行な状態、と定義する。
【0039】
また、偏向による射出光ビームa1(a4)のねじれ角を、偏向後の「1’」と中心光線とを含む面と走査平面のなす角度、と定義する。
【0040】
入射光ビームa0の「1」が偏向反射面11で2回反射して偏向されることで生じる射出光ビームa4のねじれ角は、次のように表される。
【0041】
図11、図12に偏向反射面11に入射光ビームa0が入射して1回反射されて偏向された光ビームa1に生じるねじれ角Ψ1を説明するための図であり、図11(a)は回転軸12に垂直な平面に投影した図、図11(b)は入射平面へ投影した図、図12(a)は図11(b)の反射点近傍の拡大図、図12(c)は光ビームa1進行側から光ビームa1の正面を見た図である。
【0042】
図11、図12から、図中の記号を用いて、
となる。したがって、図1に示される2度入射光偏向光学系の1回目の反射による光ビームa1の回転角Ψ1は、
となる。
【0043】
また、2回目反射後の光ビームa4がねじれていないと仮定したときの、2回目入射光ビームa3のねじれ角Ψ2を説明するための図13、図14を参照すると、次のようになる。ただし、図13(a)は回転軸12に垂直な平面に投影した図、図13(b)は入射平面へ投影した図、図14(a)は図13(b)の反射点近傍の拡大図、図14(c)は光ビームa3の進行方向後側から光ビームa3の背面を見た図である。
【0044】
次に、光ビームa4のねじれに対する走査線湾曲の影響を検討する。図15に、走査線b(図1)に湾曲があった場合の、偏向角2ω+2ω’のときの、射出光ビームa4の「1’」とその中心光線とを含む面S’と走査平面Sの関係を示す。図15(a)は走査平面Sに投影した図、図15(b)は図15(a)を下から見た側面図、図15(c)は光ビームa4進行側から光ビームa4の正面を見た図である。この図15を参照すると、光ビームa4の走査線湾曲の影響によるねじれ角Ψ3は次のようになる。
【0045】
D・cosΨ3・sin(2ω+2ω’)・tanφ2
=D・sinΨ3・・・(27)
∴ Ψ3=tan-1{sin(2ω+2ω’)・tanφ2}・・・(28)
図2に示すように、2回目の反射で光ビームa1の座標は鏡像となるので、前記ねじれ角Ψ1は符号が反転し、また、図15(c)のねじれ角Ψ3は反時計回りであるので、2回の反射後のねじれ角度ΨALL は、
ΨALL =Ψ2−Ψ1−Ψ3 ・・・(29)
となる。式(2)、式(20)、式(23)、式(26)、式(28)、式(29)からΨALL が求まる。
【0046】
図16は、射出光ビームa4に上記のねじれ角ΨALL がゼロでない場合の、主走査方向に沿う両端近傍と中心での射出光ビームa4の進行側から正面を見た図であり、射出光ビームa4のねじれ形状は副走査断面(回転軸12に平行な断面)に対称な形状になっている。
【0047】
図17は、射出光ビームa4のねじれ角度ΨALL がキャンセルされてゼロとなる条件を示す図であり、図18は、1回反射による偏向の構成の場合であって、図1の場合と同じ射出角度とし、同じ偏向角ωを得る場合のねじれ角の1/10以下になる条件を示す図である。図中、○の曲線と△の曲線で挟まれる範囲が良好に補正されている範囲である。
【0048】
図17と図18の関係から、射出光ビームa4のねじれが良く補正されるのは、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(30)
の関係を満たす場合であり、特に、θ1:θ2=1:1のとき、射出光ビームa4のねじれは略キャンセルされてゼロとなる。
【0049】
ここで、光偏向光学系からの偏向射出光ビームa4にねじれがある場合の問題点を説明しておく。レーザー走査装置では、一般的に面倒れ補正が組み込まれている。すなわち、偏向反射面11と被走査面24が副走査方向について共役関係になるように、走査光学系23が構成されている。また、主走査方向については、被走査面24でのビームスポットの適当な走査を得るため、偏向反射面11では主走査方向については略平行な光線を反射偏向する。
【0050】
このように、主走査方向と副走査方向の光ビームa4の収束(あるいは、発散)角度が異なるような、レーザー走査装置の偏向反射面11以降の光学系は、アナモルフィックな光学系となり、シリンダ面あるいはトーリック面等の副走査方向にパワーの強いレンズ面を走査光学系23の一部に採用して、面倒れ補正を行うのが一般的である。
【0051】
このような光学系において、走査により光ビームa4がねじれている場合の影響を示すために、図19〜図21のようなモデルを考える。図19のように、X方向に平行で、Y方向について収束する光束a4を、図20のように、適当なシリンダレンズSLを配置することで、X方向、Y方向共に被走査面24で略点像となるように結像させることができる。このシリンダ面が上述の面倒れ補正を行うためのシリンダ面に相当する。このシリンダレンズSLをねじると、図21のように、被走査面24上でねじれた非点収差が生じる。ねじれていないシリンダレンズSLにねじれた光ビームa4が入射する場合も同じことが起こる。
【0052】
したがって、図1のような構成で、少なくとも式(30)を満たすか、望ましくはθ1:θ2≒1:1となるように構成して偏向射出光ビームa4のねじれを可能な限り小さくしておくことが望ましい。
【0053】
次に、偏向反射面11が回転軸12から出入りがある場合の条件について検討する。図22に偏向反射面11の面毎の出入りの影響を示す図である。偏向反射面11に実線と破線で示すような距離εの出入りがある場合、1回目の反射による光線のずれ量Δ1、及び、2回目の反射によるずれ量Δ2は、
Δ1=2・ε・sinθ1 ・・・(31)
Δ2=2・ε・sinθ2 ・・・(32)
となる。この2回の反射による射出光ビームa4のずれ量Δ3は、
Δ3=Δ1−Δ2 ・・・(33)
となる。
【0054】
偏向反射面11の反射面毎の2回目反射点の位置ずれΔ3は、偏向反射面11と被走査面24の間の走査光学系23を介して被走査面24での走査線bの変位となる。したがって、走査光学系23の副走査方向の拡張定義横倍率をβ’、被走査面24での走査線bの変位をΔとすると、
Δ=β’・Δ3=2・ε・|β’・(sinθ1−sinθ2)|・・・(34)
となる。ここで、走査光学系23は、図23に示すように、偏向反射面11の2回目反射点から被走査面24の間の光学系を意味し、走査光学系23の副走査方向の拡張定義横倍率β’は、図24の副走査方向の光路展開図に示すように、偏向反射面11の出入りによる副走査方向の射出光ビームa4のずれ量Yと、それに対応する被走査面24での副走査方向の走査点のずれ量Y’との比:β’=Y’/Yで定義される量である。
【0055】
偏向反射面11の出入りεは、一般のポリゴンミラー(回転多面鏡)10で0.05mm程度と見積もられる。また、走査線変位Δは、濃度の中間階調が重要でないモノクロ電子写真装置では、走査線変位Δを走査線間隔の1/4程度以下、濃度の中間階調が重要なカラー電子写真装置では、走査線変位Δを走査線間隔の1/8程度以下にする必要がある。これらを考慮すると、(34)式は、走査線ピッチをLPとして次のように表わされる(単位はmm)。
【0056】
モノクロ電子写真装置に対して、
0.1・|β’・(sinθ1−sinθ2)|≦0.25・LP・・・(35)
カラー電子写真装置に対して、
0.1・|β’・(sinθ1−sinθ2)|≦0.125・LP・・・(36)
となるように、偏向反射面11に対する入射角θ1、射出光ビームa4の射出角θ2を選ぶ必要がある。
【0057】
また、式(34)から明らかなように、θ1=θ2とすると、偏向反射面11の回転軸12からの出入りによる走査線変位を完全になくすことができ、この点からは理想的な配置となる。
【0058】
このように、本発明においては、回転軸12に平行でその回転軸12を中心に回転又は振動する偏向反射面11に面して2枚の固定平面鏡13、14を配置し、偏向反射面11に入射して反射された光ビームa1が2枚の固定平面鏡13、14で順に反射され、その反射された光ビームa3が再び偏向反射面11に入射して反射される光偏向光学系において、偏向反射面11に最初に入射する光ビームa0を含み回転軸12に平行な面を入射平面とするとき、2枚の固定平面鏡13、14は入射平面に対して垂直に相互に間隙15をおいて配置し、偏向反射面11に最初に入射する光ビームa0が2枚の固定平面鏡13、14の間の間隙15を通して入射し、偏向反射面11で2回目に反射された偏向光ビームa4がその間隙15を通して射出するように構成されているので、2枚の固定平面鏡13、14は何れも入射光ビームa0と射出光ビームa4との間に挟まれることがなくなるため、比較的幅の広いものを用いることができ、高精度の平面鏡であって加工が容易で安価なものを用いることができる。
【0059】
また、偏向反射面11が正面を向いているときの入射光ビームa0の入射角θ1と射出光ビームa4の射出角θ2とを略等しくする配置とすることにより、偏向反射面11に出入りがあっても走査線のピッチ変化が起こらず、また、射出光ビームa4のねじれがない光偏向光学系を得ることが可能となる。
【0060】
なお、以上の説明では、偏向反射面11としてポリゴンミラー(回転多面鏡)10を使用するものについて説明したが、振動するガルバノミラーの場合でも同様の効果を達成することができる。
【0061】
以上、本発明の光偏向光学系をその原理と実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれらに限定されず、種々の変形が可能である。
【0062】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の光偏向光学系によれば、偏向反射面の回転軸の倒れや偏向反射面そのものの面毎の倒れに起因する偏向光ビームの射出方向の変化が完全に補正されている光学系において、広い偏向角をとることができ、また、比較的幅の広い平面鏡を固定平面鏡として用いることができるので、高精度の平面鏡であって加工が容易で安価なものを用いることができるようになり、さらに、偏向反射面に出入りがあっても走査線のピッチ変化が起こらず、また、射出光ビームのねじれがない光偏向光学系を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光偏向光学系を含む光走査装置の全体構成を示す斜視図である。
【図2】図1の光走査装置の主要部の本発明の光偏向光学系を示す斜視図である。
【図3】入射光ビームの偏向反射面に対する入射角θ1と射出光ビームの射出角θ2との定義を説明するための図である。
【図4】光ビームを入射平面に投影した図である。
【図5】光ビームを偏向反射面の回転軸に垂直な平面に投影した図である。
【図6】光ビームa0とa1の偏向反射面が正面を向いているときと回転角ωだけ回転したときの角度関係を示す図である。
【図7】光ビームa3とa4の偏向反射面が回転角ωだけ回転したときの角度関係を示す図である。
【図8】偏向反射面で1回目の反射を行った光ビームa1の方向ベクトルの成分を考察するための図である。
【図9】偏向反射面へ2回目に入射する光ビームa3の方向ベクトルの成分を考察するための図である。
【図10】入射ビームと射出光ビームのねじれを示すための座標を説明するための図である。
【図11】偏向反射面に入射光ビームa0が入射して1回反射されて偏向された光ビームa1に生じるねじれ角Ψ1を説明するための図である。
【図12】1回目の反射がされて偏向された光ビームa1に生じるねじれ角Ψ1を説明するための図である。
【図13】2回目反射後の光ビームa4がねじれていないと仮定したときの2回目入射光ビームa3のねじれ角Ψ2を説明するための図である。
【図14】2回目反射後の光ビームa4がねじれていないと仮定したときの2回目入射光ビームa3のねじれ角Ψ2を説明するための図である。
【図15】走査線に湾曲があった場合の偏向角4ωのときの射出光ビームa4の「1’」とその中心光線とを含む面S’と走査平面Sの関係を示す図である。
【図16】射出光ビームa4にねじれがある場合の主走査方向に沿う両端近傍と中心でのねじれ形状を示すための図である。
【図17】射出光ビームa4のねじれ角度ΨALL がキャンセルされてゼロとなる条件を示す図である。
【図18】1回反射による偏向の構成の場合のねじれ角の1/10以下になる条件を示す図である。
【図19】走査により光ビームがねじれている場合の影響を説明するための図である。
【図20】走査により光ビームがねじれている場合の影響を説明するための図である。
【図21】走査により光ビームがねじれている場合の影響を説明するための図である。
【図22】偏向反射面の面毎の出入りの影響を示す図である。
【図23】走査光学系の定義を説明するための図である。
【図24】走査光学系の副走査方向の拡張定義横倍率β’の定義を説明するための図である。
【符号の説明】
a1〜a4…光ビーム
b…走査線
SL…シリンダレンズ
10…ポリゴンミラー(回転多面鏡)
11…偏向反射面
12…回転軸
13、14…固定平面鏡
15…間隙
21…光源
22…レンズ
23…走査光学系
24…被走査面
Claims (3)
- 回転軸に平行でその回転軸を中心に回転又は振動する偏向反射面に面して2枚の固定平面鏡が配置され、前記偏向反射面に入射して反射された光ビームが前記2枚の固定平面鏡で順に反射され、その反射された光ビームが再び前記偏向反射面に入射して反射される光偏向光学系において、
前記偏向反射面に最初に入射する光ビームを含み前記回転軸に平行な面を入射平面とするとき、前記2枚の固定平面鏡は前記入射平面に対して垂直に相互に間隙をおいて配置され、
前記偏向反射面に最初に入射する光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して入射され、前記偏向反射面で2回目に反射された偏向光ビームが前記2枚の固定平面鏡の間の間隙を通して射出するように構成されており、
前記入射平面内に前記偏向光ビームが含まれる位置での前記偏向反射面に最初に入射する光ビームの前記偏向反射面に対する入射角をθ1、前記偏向反射面で2回目に反射された偏向光ビームの射出角をθ2とすると、
0.92≦(θ2/θ1)≦1.25 ・・・(16)の関係を満足するように構成されていることを特徴とする光偏向光学系。 - θ1:θ2≒1:1の関係を満足するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の光偏向光学系。
- 請求項1又は2記載の光偏向光学系を画像書き込み露光用に用いているいることを特徴とする画像形成装置。
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