JP4101002B2 - 形状測定装置及び形状測定方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、形状測定装置及び形状測定方法に関する。特に、本発明は、レーザビームプリンタ、デジタル複写機、ヘッドマウントディスプレイ等の機器で使用される非球面レンズないしは自由曲面レンズのような、複雑かつ非対称なレンズやその金型等の被測定物の表面形状を高精度で測定するための形状測定装置及び形状測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
非球面レンズやその金型の形状を50nm以上の高精度で測定することができる超高精度三次元形状測定装置は、例えば、特開平10−170243号公報に記載されている。この種の形状測定装置は、その先端が被測定物の被測定面に追随するプローブを備えている。プローブはX軸方向及びY軸方向に走査され、被測定面の形状に応じてZ軸方向に変位する。プローブの位置座標(X座標、Y座標、及びZ座標)はレーザ測長光学系により測定される。
【0003】
この種の形状測定装置は、例えば制御用コンピュータのメモリに構築された実行形式のプログラムに基づいて、図7に示す測定手順を実行する。まず、ステップS71において、被測定面の設計式を含む設計データが形状測定装置に入力される。次に、ステップS72において、被測定物の中心出しが実行される。この中心出しは、形状測定の原点(測定原点)を被測定面の光軸中心に一致させるための処理であり、例えば特開平2−254307号公報にその詳細が記載されている。ステップS73において、プローブをXY方向に走査して形状測定が実行され、ステップS74において測定データが記憶装置に記憶される。その後、ステップS75からステップS78のアラインメント処理が実行される。このアラインメント処理は、形状測定時の被測定面の設置ずれに起因して生じる、測定データの座標軸の設計データの座標軸に対するずれをなくし、測定データの座標軸を設計データの座標軸と一致させ、形状評価を行う処理である。
【0004】
前記アラインメント処理では、まずステップS75においてプローブ先端の極率半径Rに起因する測定誤差の補正(以下、プローブ径補正という。)が実行される。図8を参照して、プローブ径補正について以下に説明する。なお、この図8はZ−X平面を示している。プローブ1の先端のスタイラス2が被測定物3の被測定面3aに追随し、スタイラス2により検出された三次元座標は、スタイラス2の先端Tの座標(X,Y,Z)に相当する。しかし、スタイラス2の先端Tは曲率半径Rを有するので、被測定面3aが傾斜していると実際の測定点Pの座標(X,Y,Z)とスタイラス2の先端Tの座標(X,Y,Z)とは一致せず、これによって測定誤差が生じる。実際の測定点Pにおける被測定面3aのX方向の傾斜角度αとすると、図8から明らかなように、以下の式(1)の関係がある。
【0005】
【数1】
Figure 0004101002
【0006】
また、Z−Y平面についても被測定面3aのY方向の傾斜角度αとすると同様の関係が成立する。従って、傾斜角度α、αが分かれば、スタイラス2の先端Tの座標(X,Y,Z)から実際の測定点Pの座標(X,Y,Z)を求め、プローブ1の先端の曲率半径Rに起因する測定誤差を補正することができる。ある測定点における傾斜角度α、αは、その前後の2点の測定データから算出することができる。また、傾斜角度α、αは、スタイラス2の先端Tの座標と被測定物3の設計式からも求めることができる。
【0007】
次に、ステップS76において、例えば最小二乗法により、設計データの座標軸に対する測定データの座標軸のずれをなくすための座標変換移動量が算出される。この座標変換移動量には、X軸、Y軸、及びZ軸の各軸方向への平行移動量ΔX、ΔY、及びΔZと、各軸まわりに回転移動量Δθ、Δθ、及びΔθがある。ステップS77において、算出された座標変換移動量を使用して測定データを座標変換する。
【0008】
その後、ステップS78において個々の測定点の測定データから対応する設計データが差し引かれ、設計式に対する偏差データないしは形状誤差データが算出される。この偏差データに基づいて被測定面の良否が評価される。評価結果は、加工機にフィードバックされ、被測定物の実際の形状が設計式と比較して所望の精度となるまで加工が繰り返される。例えば、光ディスクのピックアップ用非球面レンズの場合、形状誤差が±0.1μm以内となるまで加工が繰り返される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
近年、レーザビームプリンタ、デジタル複写機、ヘッドマウントディスプレイ等の機器において、光学面の中心軸に対して回転非対称である自由曲面を有するレンズが多用されている。この自由曲面を有するレンズを使用すると光学系の部品点数を大幅に低減し、機器の小型化及び低コスト化が可能となる。反面、自由曲線を有するレンズ及びその金型は、設計式が複雑であるため、加工は可能であっても、以下に詳述するように従来の方法による形状測定及び形状評価は困難である。
【0010】
被測定物3の中心出し(ステップS72)では、設計式の近軸半径と、実際の測定データから被測定物の中心を算出し、この被測定物の中心の設計式の中心に対するずれ(中心ずれ量)を算出する。しかし、軸対称性のない自由曲面は近軸半径を有しないものが多く、この算出方法を適用することは困難であるので、被測定物の外形等から概略中心を求め、その点を測定原点とすることが多い。そのため、設計式の中心と被測定物の中心とは数百μm程度、又はそれ以上ずれることがある。この中心ずれ誤差によりプローブ径補正の際に補正誤差(以下、プローブ径補正誤差という。)が生じる。
【0011】
プローブ径補正における傾斜角度α、αをスタイラス2の先端Tの座標と被測定物3の設計式から求める場合、前記設計式の中心と被測定物の中心とのずれがあるとその分だけ傾斜角度にもずれが生じ、プローブ径補正誤差の原因となる。実際の自由曲面の測定では、設計式の中心と実際の測定物の中心が数百μm程度だけずれている場合、傾斜角度αのずれΔαが1度あることも起こり得る。下記の表1は、2種類の異なる曲率半径Rのスタイラス2について、プローブ径補正における傾斜角度αとそれに対応するZ軸補正量ΔZの相違を示している。この表1から明らかなように、被測定表面3aの傾斜が急である部分では傾斜角度αが1度ずれると、Z軸移動量も数μm程度ずれる。特に、半径が500μmのルビースタイラスの場合、傾斜角度αが59度から60度に1度増加するとZ軸補正量は約8μm変化する。従って、半径Rの大きいルビースタイラスを使用して50nm以下の高精度の形状測定を行う場合、プローブ径補正誤差が大きな問題となる。
【0012】
【表1】
Figure 0004101002
【0013】
表1から明らかなように、先端の半径Rが小さいダイヤモンドスタイラスを使用した場合、傾斜角度のずれによるプローブ径誤差は比較的小さい。しかし、ダイヤモンドスタイラスは、機械研磨では製作できず手作業で研磨する必要があり、かつ加工性が良好でないため、ルビースタイラスと比較して真球度が数倍程度劣る。具体的には、ダイヤモンドスタイラスの真球度は0.1μmを下回る。プローブ径補正ではスタイラス先端の真球度ずれによる形状誤差までは補正されず、真球度の低さは被測定面の形状誤差として表れる。従って、先端の半径Rの小さいスタイラスを使用しても測定精度を向上させることはできない。
【0014】
前述のように被測定面上のある測定点の傾斜角度α、αはその前後の測定データから算出することもできる。しかし、図9(a)に示すX方向とY方向の走査を行うのではなく、図9(b)に示すような方法で被測定物3の被測定面3aを走査した場合、測定点のX軸方向の間隔が広いため、傾斜角度αを一意に求めることは困難である。従って、この方法を用いることはできない。
【0015】
前述の中心出し不足に起因するプローブ径補正誤差に加え、形状測定装置に対する被測定物の設置位置のずれに基づく設置ずれも測定精度に影響する。この設置ずれ誤差には上述の中心ずれ誤差と、X軸及びY軸回りの被測定物の回転角度位置ずれ(あおりずれ誤差)とが含まれる。この設置ずれ誤差を除去するためにアラインメント処理(ステップS75〜S77)で得られる各軸毎の平行及び回転移動量を使用して、被測定物の設置ずれをキャンセルするように実際に被測定物を移動させた後に再度形状測定及び形状評価を行うことが考えられる。しかし、手作業で被測定物の実際に移動させた後、図7のフローチャートに示す処理を再度実行すると、測定時間が長くなる。また、手作業により被測定物を高精度で微少量だけ移動させるのは困難な場合もある。また、実際の形状誤差量は測定するまで明確に把握できないので、形状誤差が例えば±2μm以上であって大きな設置ずれ誤差を含んでいるにもかかわらず、測定者によっては実際の形状誤差であると判断して、加工機にそのデータをフィードバックするおそれもある。
【0016】
以上のように、従来の形状測定では、特に被測定面が自由曲面である場合に、中心出し不足に起因するプローブ径補正誤差や設置ずれ誤差により高精度の測定を行うことが困難であった。
【0017】
そこで、本発明は、中心出し不足に起因するプローブ径補正誤差や設置ずれ誤差を低減した高精度の形状測定を容易に行うことを課題としている。
【0018】
【課題を解決するための手段】
第1の発明は、被測定物の被測定面に追随させて前記被測定面を測定するプローブと、前記プローブにより測定された前記被測定面の測定データをそれぞれ第1及び第2の測定データとして記憶する第1及び第2の記憶領域と、前記第1の記憶領域に記憶された前記第1の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正する第1のプローブ径補正部と、前記第1のプローブ径補正部により補正された前記第1の測定データと、予め設定された前記被測定面の設計データとに基づいて、前記被測定物の中心ずれに起因する誤差成分を補正するための予備座標変換量を算出する予備座標変換量算出部と、前記第2の記憶領域に記憶された前記第2の測定データを、前記予備座標変換量算出部により算出された前記予備座標変換量に基づいて予備座標変換する予備座標変換処理部と、前記予備座標変換処理部により予備座標変換された前記第2の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正する第2のプローブ径補正部と、前記第2のプローブ径補正部により補正された前記第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定物の傾きに起因する誤差成分を補正するための座標変換量を算出する座標変換量算出部と、前記第2のプローブ径補正部により補正された前記第2の測定データを、前記座標変換量算出部により算出された前記座標変換量に基づいて座標変換する座標変換処理部と、前記座標変換された第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定面の形状を求める、偏差データ算出部とを備える形状測定装置を提供する。
【0019】
第1の発明の形状測定装置では、予備座標変化量算出部が被測定物の中心出し不足及び設置ずれに起因する誤差を低減する予備座標変換量を算出し、予備座標変換部で座標変換された測定データと設計データとに基づいて被測定物の形状誤差を求める。従って、測定者が実際に被測定物を移動させることなく、中心出し不足に起因するプローブ径補正誤差や設置ずれ誤差により生じる評価誤差を低減した高精度の形状測定を行うことができ、測定時間も大幅に短縮に短縮することができる。また、測定者の習熟度合いによる測定精度のばらつきをなくすことができ、容易に高精度の形状測定が可能である。
【0020】
第2の発明は、被測定物の被測定面にプローブの先端を追随させて前記被測面を測定し、前記測定により得られた前記被測定面の測定データを、第1及び第2の記憶領域にそれぞれ第1及び第2の測定データとして記憶し、前記第1の記憶領域に記憶された前記第1の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正し、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第1の測定データと、予め設定された前記被測定面の設計データとに基づいて、前記被測定物の中心ずれに起因する誤差成分を補正するための予備座標変換量を算出し、前記第2の記憶領域に記憶された前記第2の測定データを前記予備座標変換量に基づいて予備座標変換し、前記予備座標変換された前記第2の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正し、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定物の傾きに起因する誤差成分を補正するための座標変換量を算出し、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第2の測定データを、前記座標変換量に基づいて座標変換し、前記座標変換された第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定面の形状を求める、形状測定方法を提供する。
【0021】
【発明の実施の形態】
次に、図面に示す本発明の実施形態について詳細に説明する。
【0022】
(実施形態)
図1及び図2に示すように、実施形態の形状測定装置は、測定部11、制御部12、及び演算処理部13を備えている。
【0023】
測定部11は、石定盤15上にXステージ16及びYステージ17を介して配置された移動体18を備えている。被測定物であるレンズ20は石定盤15上の支持機構21に配置される。移動体18にはZ軸移動部22が取り付けられており、このZ軸移動部22には先端にスタイラス23を備えるプローブ24(図8参照)がZ軸方向に移動自在に取り付けられている。例えばHe-Neレーザである光発生部25で発生したレーザ光はレンズ等により構成された光学系26により石定盤15上のX参照ミラー27及びY参照ミラー28と、支持部を介して石定盤15に固定されたZ参照ミラー29に測長光として照射される。また、前記レーザ光は測定光としてプローブ24の上端に設けられた反射面に照射される。X参照ミラー27を基準としたプローブ24のX座標、Y参照ミラー28を基準としたプローブ24のY座標、及びZ参照ミラー29を基準としたプローブ24のZ座標が、既知の光干渉法により検出され、測定データとして演算処理部13に出力される。プローブ24によるレンズ20の表面(被測定面)20aの走査は、図9(a)に示すようにX方向とY方向の走査をおこなってもよく、図9(b)に示すようにY方向の走査を繰り返してもよい。
【0024】
図2に示すように、支持機構21は被測定物(レンズ20)をZ軸回りに回転させる回転ステージ31と、被測定物のX軸及びY軸方向の傾きを調節可能な傾斜ステージ32とを備えている。
【0025】
制御部12は、測定部11のXステージ16、Yステージ17、及び光発生部25等の動作を制御して形状測定を実行する。
【0026】
演算処理部13は測定部11から入力された測定データを処理して誤差補正と形状評価を行う。評価結果は、フロッピーディスク等の媒体やLAN等を介して図示しない加工機にフィードバックされる。制御部12は例えば形状測定装置に搭載された制御用コンピュータ(図示せず)であり、演算処理部13は例えばこの制御用コンピュータのメモリに構築された実行形式のプログラムにより具体化される。
【0027】
図3に示すように、演算処理部13は、予備座標変換量算出部41、予備座標変換処理部42、アラインメント処理部43、及び測定部11から入力された測定データや演算処理部13内のデータを記憶する記憶部44を備えている。予備座標変換量算出部41は、第1のプローブ径補正部41aと、第1の座標変換量算出部41bとを備えている。アラインメント処理部43は、第2のプローブ径補正部43a、第2の座標変換量算出部43b、座標変換処理部43c、及び偏差データ算出部43dを備えている。
【0028】
予備座標変換量算出部41は測定部11から入力された測定データ(いわゆる生データ)における被測定物の中心出し不足及び設置ずれに起因する誤差を低減するための予備座標変換量を算出する。予備座標変換処理部42は、予備座標変化量算出部41により算出された予備座標変換量で測定データを座標変換する。アラインメント処理部43は、予備座標変換量で座標変換された測定データと予め記憶部44に記憶されている設計データとに基づいて被測定物の形状誤差を求める。アラインメント処理部43が行う処理は図7に示す従来の形状測定方法におけるステップS55〜S58の処理と同様であるが、これらの処理を予備座標変化量算出部41及び予備座標変換処理部42によって被測定物の中心出し不足及び設置ずれに起因する誤差を予め低減した後に行う点に、本実施形態の特徴がある。
【0029】
次に、図4のフローチャートを参照して、形状測定方法を詳細に説明する。まず、ステップS4−1において、被測定物の設計データを演算処理部13に入力して、記憶部44に記憶する。次に、ステップS4−2において、被測定物の中心出しを実行する。その後、ステップS4−3において、形状測定を実行する。これらステップS4−1〜4−3の処理は従来の形状測定方法と同様である。ステップS4−4,4−4’において、形状測定により得られた測定データを演算処理部13に入力し、記憶部44の第1及び第2の記憶領域に記憶する。
【0030】
次に、予備座標変換算出部41がステップS4−5,4−6の処理を実行する。まず、ステップS4−5において、第1のプローブ径補正部41aがプローブ径補正を行う。図8を参照すると、このプローブ補正では、個々の測定点においてスタイラス23の先端Tの座標(X,Y,Z)と傾斜角度α、αとから、式(1)に基づいて実際の測定点Pの座標(X,Y,Z)を求める。傾斜角度α、αは、その前後の2点の測定データから算出してもよく、スタイラス2の先端Tの座標と被測定物3の設計式からも求めてもよい。次に、ステップS4−6において、第1の座標変換量算出部41bが第1のプローブ径補正部41aによりプローブ径補正がなされた測定データの設計データに対する差を低減すための予備座標変換量を算出する。本実施形態では、予備座標変換量算出部41は最小自乗法により予備座標変換量を算出する。予備座標変換量には、X軸、Y軸、及びZ軸の各軸方向の平行移動量ΔX、ΔY、及びΔZと、各軸回りの回転量ΔθX1、ΔθY1、及びΔθZ1が含まれる。
【0031】
Z軸方向の平行移動量ΔZの算出について説明すると、まず、測定データのZ座標Zkと、対応する設計データのZ座標Zk’とを比較し、下記の式(2)で示す二乗平均値RMSを算出する。次に、最小自乗法によりこの二乗平均値RMSが最小となるように、平行移動量ΔZを算出する。同様に、他の平行移動量ΔX、ΔY及び回転量ΔθX1、ΔθY1、ΔθZ1も最小自乗法により二乗平均値が最小となるように算出する。
【0032】
【数2】
Figure 0004101002
【0033】
次に、ステップS4−7において、予備座標変換処理部42が前記記憶部44の第2の記憶領域に記憶された測定データを、前記予備座標変化量算出部41により算出された予備座標変換量ΔX、ΔY、ΔZ、ΔθX1、ΔθY1、及びΔθZ1により座標変換する。
【0034】
次に、アラインメント処理部43がステップS4−8〜4−11の処理を実行する。まず、ステップS4−8において、第2のプローブ径補正部43aが前記予備座標変換処理部42により座標変換済みの測定データに対してプローブ径補正を行う。予備座標変化量算出部41の第1のプローブ径補正部41aでは未補正の測定データに対してプローブ径補正を行うのに対して、この第2のプローブ径補正部43aは前記予備座標変換処理部42による座標変換済みの測定データに対してプローブ径補正を行う点が異なる。
【0035】
次に、ステップS4−9において、第2の座標変換量算出部43bが前記予備座標変換処理部42による予備座標変換(ステップS4−7)及び前記第2のプローブ径補正部43aによるプローブ径補正(ステップS4−8)がなされた測定データの設計データに対する差を低減させる座標変化量を算出する。この座標変換量には、X軸、Y軸、及びZ軸の各軸方向の平行移動量ΔX、ΔY、及びΔZと、各軸回りの回転量ΔθX2、ΔθY2、及びΔθZ2が含まれる。第2の座標変換量算出部43bの実行する処理は、座標変換の対象となる測定データが異なる点を除いて、予備座標変化量算出部41の第1の座標変換量算出部41bが実行する処理と同一である。
【0036】
さらに、ステップS4−10において、座標変換処理部43cが、第2の座標変換量算出部43bの算出した座標変換量ΔX、ΔY、ΔZ、ΔθX2、ΔθY2、ΔθZ2を使用して、予備座標変換処理部42による予備座標変換及び前記第2のプローブ径補正部43aによるプローブ径補正がなされた測定データ座標変換をする。
【0037】
その後、ステップS4−11において、偏差データ算出部43dが、座標変換処理部43cによる座標変換後の測定データの設計データに対する差を算出する。この偏差データにより被測定物の形状誤差が評価される。
【0038】
次に、図3及び図4を参照して、測定部11から出力された測定データ(いわゆる生データ)に含まれる各種の誤差が演算処理部13での処理によってキャンセルないしは低減される過程を説明する。以下の説明において、任意のN個のデータである実際の形状(実形状)をZreal、設計式をZ=f(x,y)、プローブ径補正量をΔPr、プローブ径補正誤差ΔRerr、設置ずれ誤差をΔSetとする。設置ずれ誤差ΔSetには、設計中心に対する被測定物の中心のX軸方向及びY軸方向のずれ量である中心ずれ誤差ΔCenterと、被測定物のX軸方向及びY軸方向の傾きであるあおりずれ誤差ΔTiltが含まれる。中心出しの際の中心ずれ量が大きい、すなわち以下の式(3)の関係が成立するものとする。
【0039】
【数3】
Figure 0004101002
【0040】
まず、測定部11から出力される生データには、実形状Zrealの他に、プローブ径補正量ΔPr、プローブ径補正誤差ΔRerr、及び設置ずれ誤差ΔSetが含まれている。予備座標変化量算出部41の第1のプローブ径補正部41aによるプローブ径補正(ステップS4−5)により、プローブ補正量ΔPrが除去されるので、第1の座標変換量算出部41bに送られるプローブ径補正済みの測定データには、実形状Zrealの他に、プローブ径補正誤差ΔRerr及び設置ずれ誤差ΔSetが含まれている。従って、第1の座標変換量算出部41bが算出する予備座標変換量は、設置ずれ誤差ΔSetに対応する。また、前記式(3)の関係が成立するので、ΔSet≒ΔCenterであり、予備座標変換量は中心ずれ誤差ΔCenterに対応する。
【0041】
予備座標変換処理部42による座標変換(ステップS4−7)は、上記中心ずれ誤差ΔCenterに対応する分だけ生データを座標変換するため、中心ずれ誤差ΔCenterと、主として中心ずれ誤差ΔCenterに起因して発生するプローブ径補正誤差ΔRerrとが測定精度に殆ど影響しない程度まで除去される。従って、予備座標変換処理部42からアラインメント処理部43の第2のプローブ径補正部43aに出力される測定データは、実形状Zreal、プローブ径補正量ΔPr及びあおりずれ誤差ΔTiltが含まれているとみなすことができる。
【0042】
第2のプローブ径補正部43aのプローブ径補正(ステップS4−8)によりプローブ径補正量ΔPrが除去されるので、第2のプローブ径補正部43aから第2の座標変換量算出部43bに出力される測定データは、実形状Zrealとあおりずれ誤差ΔTiltが含まれる。従って、第2の座標変換量算出部43bが算出する座標変換量はあおりずれ誤差ΔTiltに対応し、座標変換処理部43cにより座標変換されたデータはほぼ実形状Zrealに対応する。従って、偏差データ算出部43dでは、高精度で形状誤差を算出することができる。
【0043】
このように本実施形態に係る形状測定装置では、測定者が実際に被測定物を移動させることなく、中心出し不足や設置ずれに起因する評価誤差を低減した高精度の形状測定を行うことができるので、測定時間も大幅に短縮に短縮することができる。また、測定者の習熟度合いによる測定精度のばらつきをなくすことができ、容易に高精度の形状測定が可能である。
【0044】
なお、被測定物の加工が上手くいかず被測定物の形状誤差が大きな場合、予備座標変化量算出部41の第1の座標変換量算出部41bによる予備座標変換量の算出(ステップS4−6)が困難な場合がある。予備座標変換量算出部41と共に予備座標変化量を手動入力する手段を設け、測定者の入力した予備座標変化量に基づいて、予備座標変換処理部42が予備座標変換を行うと形状評価が可能となる場合がある。
【0045】
参考例
図5は本発明の参考例に係る形状測定装置を示している。この形状測定装置では、演算処理部13は予備座標変換処理部42(図3参照)を備えておらず、予備座標変換量算出部41により算出された予備座標変換量が測定部にフィードバックされ、予備座標変換量に応じて実際に被測定物が移動される。
【0046】
図6のフローチャートを参照して、図5の形状測定装置による形状測定について説明する。ステップS6−1で被測定物の設計データを入力し、ステップS6−2で被測定物の中心出しを行った後、ステップS6−3で1回目の形状測定を実行し、ステップS6−4で測定データを記憶部44に記憶する。
【0047】
次に、予備座標変換量算出部41が測定データに対してプローブ径補正を行い(ステップS6−5)、最小自乗法により予備座標変換量ΔX、ΔY、ΔZ、ΔθX1、ΔθY1、及びΔθZ1を算出する(ステップS6−6)。次に、ステップS6−7において、これらの予備座標変換量ΔX、ΔY、ΔZ、ΔθX1、ΔθY1、及びΔθZ1の分だけ実際に被測定物を移動させる。平行移動量ΔX、ΔY、及びΔZに対応する移動は、移動体18及びZ軸移動部22によりなされる。各軸まわりの回転は支持機構21の回転ステージ31及び傾斜ステージ32によりなされる。
【0048】
予備座標変換量に応じた測定物の移動後、ステップS6−8において2回目の形状測定を行う。この2回目の形状測定の測定データを使用してアラインメント処理部43がプローブ径補正(ステップS6−9)、最小自乗法による座標変換量の算出(ステップS6−10)、座標変換(ステップS6−11)、及び偏差データの算出(ステップS6−12)を行う。
【0049】
このように予備座標変換量に基づいて被測定物を移動させた後に形状測定を行うので、中心出し不足や設置ずれに起因する評価誤差を低減した高精度の形状測定を行うことができる。また、測定者が手作業で被測定物を移動させる必要がないので、測定作業が測定者の習熟度合いによる測定精度のばらつきをなくすことができ、容易に高精度の形状測定が可能である。参考例のその他の構成及び作用は実施形態と同一であるので、同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0050】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の形状測定装置及び形状測定方法では、被測定物の中心出し不足及び設置ずれに起因する誤差を低減するための予備座標変換量を算出し、この予備座標変換量算で座標変換された測定データと予め入力された設計データとに基づいて被測定物の形状誤差を求める。従って、測定者が実際に被測定物を移動させることなく、中心出し不足や設置ずれに起因する評価誤差を低減した高精度の形状測定を行うことができ、測定時間も大幅に短縮に短縮することができる。また、測定者の習熟度合いによる測定精度のばらつきをなくすことができ、容易に高精度の形状測定が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態に係る形状測定装置を示す斜視図である。
【図2】 本発明の実施形態に係る形状測定装置を示す部分正面図である。
【図3】 本発明の実施形態に係る形状測定装置を示すブロック図である。
【図4】 本発明の実施形態に係る形状測定装置による形状測定を示すフローチャートである。
【図5】 本発明の参考例に係る形状測定装置を示すブロック図である。
【図6】 本発明の参考例に係る形状測定装置による形状測定を示すフローチャートである。
【図7】 従来の形状測定装置による形状測定を示すフローチャートである。
【図8】 プローブの先端と被測定面の関係を示す概略図である。
【図9】 (a)及び(b)は被測定面の走査の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
11 測定部
12 制御部
13 演算処理部
15 石定盤
16 Xステージ
17 Yステージ
18 移動体
20 レンズ(被測定物)
20a 表面(被測定面)
21 支持機構
22 Z軸移動部
23 スタイラス
24 プローブ
25 光発生部
26 光学系
27 X参照ミラー
28 Y参照ミラー
29 Z参照ミラー
31 回転ステージ
32 傾斜ステージ
41 予備座標変換量算出部
41a 第1のプローブ径補正部
41b 第1の座標変換量算出部
42 予備座標変換処理部
43 アラインメント処理部
43a 第2のプローブ径補正部
43b 第2の座標変換量算出部
43c 座標変換処理部
43d 偏差データ算出部
44 記憶部

Claims (2)

  1. 被測定物の被測定面に追随させて前記被測定面を測定するプローブと、
    前記プローブにより測定された前記被測定面の測定データをそれぞれ第1及び第2の測定データとして記憶する第1及び第2の記憶領域と、
    前記第1の記憶領域に記憶された前記第1の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正する第1のプローブ径補正部と、
    前記第1のプローブ径補正部により補正された前記第1の測定データと、予め設定された前記被測定面の設計データとに基づいて、前記被測定物の中心ずれに起因する誤差成分を補正するための予備座標変換量を算出する予備座標変換量算出部と、
    前記第2の記憶領域に記憶された前記第2の測定データを、前記予備座標変換量算出部により算出された前記予備座標変換量に基づいて予備座標変換する予備座標変換処理部と、
    前記予備座標変換処理部により予備座標変換された前記第2の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正する第2のプローブ径補正部と、
    前記第2のプローブ径補正部により補正された前記第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定物の傾きに起因する誤差成分を補正するための座標変換量を算出する座標変換量算出部と、
    前記第2のプローブ径補正部により補正された前記第2の測定データを、前記座標変換量算出部により算出された前記座標変換量に基づいて座標変換する座標変換処理部と、
    前記座標変換された第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定面の形状を求める、偏差データ算出部と
    を備える形状測定装置。
  2. 被測定物の被測定面にプローブの先端を追随させて前記被測面を測定し、
    前記測定により得られた前記被測定面の測定データを、第1及び第2の記憶領域にそれぞれ第1及び第2の測定データとして記憶し、
    前記第1の記憶領域に記憶された前記第1の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正し、
    前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第1の測定データと、予め設定された前記被測定面の設計データとに基づいて、前記被測定物の中心ずれに起因する誤差成分を補正するための予備座標変換量を算出し、
    前記第2の記憶領域に記憶された前記第2の測定データを前記予備座標変換量に基づいて予備座標変換し、
    前記予備座標変換された前記第2の測定データを、前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正し、
    前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定物の傾きに起因する誤差成分を補正するための座標変換量を算出し、
    前記プローブの先端の曲率半径に起因する誤差成分について補正された前記第2の測定データを、前記座標変換量に基づいて座標変換し、
    前記座標変換された第2の測定データと、前記設計データとに基づいて、前記被測定面の形状を求める、
    形状測定方法。
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