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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、表示装置に係り、特に、複数の表示素子を含んで構成される画素部をマトリクス状に配置してなる表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図8に示すように、有機EL表示装置は、一般に表示画素PXとしてマトリクス状に配置される複数の有機EL素子OLEDを備える。これら有機EL素子OLEDは、供給電流量に応じた輝度で自己発光する能動素子であり、有機EL素子OLEDの行に沿って形成される複数の走査線Y(Y1〜Ym)および有機EL素子OLEDの列に沿って形成される複数の信号線X(X1〜X3n)の交差位置近傍に配置される電流制御回路によりそれぞれ制御される。
【0003】
各電流制御回路は、対応走査線Yを介して駆動されたときに対応信号線からの表示信号を取り込む画素スイッチN11、画素スイッチN11からの表示信号をゲート電位として有機EL素子OLEDに流れる電流量により輝度を制御するために一対の電源線Vdd,Vss間において有機EL素子OLEDと直列に接続される駆動トランジスタP11、及び、画素スイッチN11が非導通である状態で駆動トランジスタP11のゲート電位を保持する容量素子C11等を含む。画素スイッチN11は、例えばNチャネル型薄膜トランジスタにより構成され、駆動トランジスタP11は、例えばPチャネル型薄膜トランジスタにより構成される。
【0004】
典型的な有機EL素子OLEDは、陽極と陰極との間に有機薄膜を挟持した構造を有する。この有機薄膜は、例えば赤、緑、または青の蛍光性有機化合物を含む薄膜である発光層、この発光層に陽極からの正孔を注入する正孔輸送層、及び、この発光層に陰極からの電子を注入する電子輸送層などの積層でなる。
【0005】
直流電圧が有機EL素子OLEDの陽極と陰極との間に印加されると、発光層は、正孔輸送層及び電子輸送層を介して注入される電子及び正孔の再結合により励起子を生成し、この励起子の失活時に生じる光放出により発光する。発光層からの光は、陽極及び陰極の一方を介して外部に取り出される。
【0006】
この光が例えば陽極を介して取り出される場合には、陽極がITO等からなる光透過性電極として形成され、陰極がバリウム等の低仕事関数の金属からなる光反射性電極として形成される。この構成により、有機EL素子は、10V以下の印加電圧で100〜100000cd/m2程度の輝度を得ることができる。
【0007】
ところで、上述の有機EL表示装置は、例えば行方向において隣接する表示画素PXを3個1組でカラー画素部PXUとし、各組の表示画素PXをそれぞれ赤(R),緑(G),青(B)という3原色に設定することによりカラー画像を表示することが可能である。これら3原色は、例えば発光層の有機材料を互いに異ならせて3個の有機EL素子をそれぞれ赤,緑,青で発光させる方法で得ることができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
従来、複数の走査線Y1〜Ym及び複数の信号線X1〜X3nは、図8に示すように各行の有機EL素子OLEDを1個ずつ区画するように配置される。そして、例えば発光層の面積を大きくする場合には、電流制御回路用素子及び配線のレイアウトを変更する必要が生じ、また各層をパターニングするためのマスクを作り直す必要も生じる。この結果、有機EL表示装置の開発時間及び費用が増大するという問題がある。
【0009】
そこで、信号線を対応するカラー画素部毎に配置する構造も考えられるが、この構造において各カラー画素部を構成する表示画素を順次駆動する場合、ある信号線と表示画素とを接続する配線と、隣接信号線との間のカップリング容量が増大し、画像劣化を引き起こす恐れがあった。
【0010】
この発明は、上述のような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、有機EL素子や各種配線及び各種回路などのレイアウトの自由度を容易に向上できるとともに、表示品位の良好な表示装置を提供することにある。また、この発明の目的は、近接配置される信号線に順次信号を供給して駆動する表示装置において、画像劣化を抑制し、表示品位の良好な表示装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
この発明による様態による表示装置は、
複数の表示画素を含み略マトリクス状に配置される複数の画素部と、前記画素部の行毎にそれぞれ接続される複数の走査線と、前記画素部の列に沿って前記表示素子に対応するように配置される複数の信号線と、前記各信号線と対応する前記表示画素とを接続する複数の接続配線と、を備え、
前記画素部の列間に配置される信号線数が前記画素部に含まれる表示素子数と一致するとともに、
前記接続配線と前記信号線との交差部において、前記接続配線と前記信号線との間をシールドするシールド電極を有することを特徴とする。
【0012】
この表示装置によれば、レイアウト設計の自由度を容易に向上することができる。また、同一画素ピッチに対して発光面積を増大させることが可能となり、画質を良好なものにすることができ、さらに電流密度を小さくして寿命を長くすることが可能となる。さらに、走査線のシールド電極は、接続配線と信号線との間をシールドするため、信号線間のカップリング容量の増大を防止できる。これにより、不所望な電位の低下を防止することができ、表示品位を向上することが可能となる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。
【0014】
(第1実施形態)
この発明の第1実施形態に係る表示装置すなわち有機EL表示装置は、回路等の形成された基板側から外部に光を取り出す下面発光型である。
【0015】
図1は、第1実施形態に係る有機EL表示装置の回路構成を示し、図2は、図1に示した一カラー画素部及びその周辺の平面構造を示す。この有機EL表示装置は、カラー画像を表示するために表示領域DSにマトリクス状に配置される複数のカラー画素部PXU、複数のカラー画素部PXUの行に沿った複数の走査線Y(Y1〜Ym)、各カラー画素部PXUの列に沿った複数の信号線X(X1〜X3n)、走査線Y1〜Ymを駆動する走査線駆動回路1、及び、信号線X1〜X3nを駆動する信号線駆動回路2を備えている。走査線駆動回路1及び信号線駆動回路2は、表示領域DSの外側に配置される。
【0016】
各カラー画素部PXUは、例えば赤(R),緑(G),青(B)のように互いに異なる発光色で自己発光する3種類の有機EL素子OLEDによりそれぞれ含む3個の表示画素PXと、各表示画素に対応して配置される画素スイッチN11を含む。ここでは3個の表示画素PXは、対応する有機EL素子OLEDにそれぞれ流れる電流を制御する電流制御部として用いられる3個の電流制御回路3にそれぞれ接続されている。
【0017】
信号線X1〜X3nは、図1に示すように、複数のカラー画素部PXUをn列に区分するように3本1組として束ねた形式で配置される。電流制御回路3は、図2に示すように、3種類の有機EL素子OLEDに平面的に重ならないようにして各々対応走査線Y及び対応信号線Xの交差位置近傍に配置される。
【0018】
各電流制御回路3は、画素スイッチN11を介して供給される表示信号を所定期間保持する容量素子C11、一対の電源線Vdd,Vss間において対応有機EL素子OLEDと直列に接続される駆動制御素子P11を備えて構成されている。
【0019】
例えば、画素スイッチN11は、ダブルゲート型Nチャネル型薄膜トランジスタで構成されている。駆動制御素子P11は、Pチャネル型薄膜トランジスタで構成されている。
【0020】
画素スイッチN11のソース電極は、対応信号線Xに接続され、ドレイン電極は駆動制御素子P11のゲート電極に接続され、ゲート電極は対応走査線Yに接続されている。容量素子C11の一方の端子は、P11のゲート電極に接続され、他方の端子は、駆動制御素子P11のソース電極に接続されている。駆動制御素子P11のソース電極は、駆動電源線Vddに接続され、そのドレイン電極は有機EL素子OLEDの一方の電極、ここでは陽極に接続されている。
【0021】
画素スイッチN11は、対応走査線Yを介して駆動されたときに対応信号線Xから表示信号を取り込み、この表示信号をゲート電位として駆動制御素子P11に印加する。容量素子C11は、画素スイッチN11が非導通状態であるときに駆動制御素子P11のゲート電位を保持するために用いられる。
【0022】
図2に示すように、赤用の有機EL素子OLED(R),緑用の有機EL素子OLED(G),及び、青用の有機EL素子OLED(B)は、カラー画素部毎に、複数の信号線X及び走査線Yによって規定されるカラー画素部PXU用領域に配置される。
【0023】
このように、各有機EL素子間に信号線を配置せず、カラー画素部に対応する有機EL素子の信号線をカラー画素部毎に近接配置するため、有機EL素子をカラー画素部毎に信号線Xと走査線Yとで囲われた空地部に配置することができる。
【0024】
このような構成とすることにより、有機EL素子の設計レイアウトの自由度を向上させることができる。また、配線や回路の変更なくして有機EL素子のレイアウトを変更することが可能となる。例えば、発光層に高分子材料を採用してインクジェット法を用い、発光層の縦横比が1:1となる場合、有機EL素子の形成面積を増大させようとすると、従来構造においては、信号線の配置間隔を大きくする必要があり、有機EL素子のレイアウト変更に伴い、配線、回路等のレイアウト変更が必要であった。しかし、カラー画素部間にこれに対応する信号線を配置することにより、下地回路のレイアウトを変更することなく、有機EL素子のレイアウトを変更することが可能となる。
【0025】
図3は、カラー画素部PXUに含まれるここでは赤用の表示画素PX(R)の断面構造を示す。有機EL表示装置は、光透過性のガラス基板10上に、駆動制御素子P11,画素スイッチN11、信号線駆動回路、走査線駆動回路等を構成する薄膜トランジスタ及び、有機EL素子OLEDを順に積層した構造を有している。ガラス基板10は、例えば合成樹脂のような絶縁材に置き換えてもよい。薄膜トランジスタの各々は、ゲート電極Gを例えばポリシリコン(Poly−Silicon)薄膜で構成される半導体能動層を覆うゲート絶縁膜上に設けたトップゲート型である。有機EL素子OLEDは、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の光透過性電極材料から成る陽極AD、例えばバリウム・アルミ合金から成る陰極CD間に、アノードバッファ層AB及び発光層EMを積層した有機薄膜を保持した構造である。
【0026】
陽極ADは、薄膜トランジスタのゲート電極Gを覆う光透過性の絶縁層間膜上に形成される。薄膜トランジスタP11のソース電極S及びドレイン電極D、信号線X(R)、X(G)、X(B)は、陽極ADと共にこの層間膜上に形成される。駆動制御素子P11のソース電極S及びドレイン電極Dは、層間膜及びゲート絶縁膜に形成されるコンタクトホールを介して駆動制御素子P11の半導体能動層に設けられるソース及びドレインに接続されている。
【0027】
信号線X(R)、X(G)、X(B)は、層間膜及びゲート絶縁膜に形成されるコンタクトホールを介して薄膜トランジスタN11のソース側の半導体能動層に接続されている。駆動電源線Vddは、容量素子C11の第2電極として容量素子C11の第1電極にゲート絶縁膜を介して部分的に容量結合するようにして形成され、駆動制御素子P11のソース電極Sに接続される。容量素子C11の第1電極は、画素スイッチN11のドレイン側が延在した半導体能動層である。駆動制御素子P11のドレイン電極Dは、有機EL素子OLEDの陽極膜の一端を覆うようにして形成され、陽極ADと駆動制御素子P11のドレイン電極Dとが電気的に接続される。
【0028】
信号線X(R)、X(G)、X(B)、薄膜トランジスタP11のソース電極S及びドレイン電極D、層間膜は、光透過性絶縁保護膜により覆われている。この保護膜は、陽極ADを露出するように開口され、各陽極間を電気的に絶縁している。陽極ADの露出部及び保護膜は、親水膜により覆われ陽極ADを露出するよう開口され、さらにこの親水膜が隔壁膜で全体的に覆われ陽極ADを露出するよう開口されている。
【0029】
有機EL素子OLEDのアノードバッファ層AB及び発光層EMは、有機薄膜としてこの開口内にインクジェット法により順番に重ねて形成され、さらに各有機EL素子OLEDに共通に連続して例えばバリウムが複数の有機EL素子OLEDの陰極CDとして隔壁膜及び発光層EMを覆って形成される。さらに陰極上には、陰極保護層として例えばアルミニウムが形成される。
【0030】
上述した有機EL素子OLEDの構成では、陽極ADから注入されたホールと陰極CDから注入された電子とが有機薄膜の内部で再結合したときに、有機薄膜を構成する有機分子を励起して励起子を発生させる。この励起子が放射失活する過程で発光し、この光が有機薄膜から光透過性を有する陽極AD、層間膜、ゲート絶縁膜、およびガラス基板10を介して外部へ発射される。こうしてアレイ基板側を表示面とした有機EL表示装置が形成される。
【0031】
上述した第1実施形態に係る有機EL表示装置では、信号線X1〜X3nが複数のカラー画素部PXUをn列に区分するように3本1組として束ねた形式で配置され、画素スイッチおよび電流制御回路3が3種類の有機EL素子OLEDに平面的に重ならないようにして各々対応走査線Y及び対応信号線Xの交差位置近傍に配置される。これにより、赤,緑,及び、青用の有機EL素子OLEDが共通のカラー画素部PXU用領域において自由なレイアウトで配置できる。
【0032】
これら有機EL素子OLEDは、インクジェット法で有機薄膜を形成する場合に適した縦横比1対1の形式で配置した場合にも、レイアウト変更を容易に行うことができる。したがって、従来例のように正方形のカラー画素部用領域を行方向に3等分したストライプ状の領域にインクジェット法でこれら赤,緑,青用の有機EL素子OLEDをそれぞれ形成したときに列方向において有機EL素子OLEDの両側に残るような無駄なスペースを無くすことができる。そして、同一の画素ピッチでも発光面積を増大させることができる。
【0033】
さらに、3個の電流制御回路3および画素スイッチを電流制御部として所定範囲に集中させることができるため、配線や素子構造を共通化して得られる領域的な余裕を赤,緑,及び、青用の有機EL素子OLEDに均等に配分して全体的な発光面積を向上させることが可能である。また、有機EL素子OLEDの両側に残るような無駄なスペースに起因した発光面積の低下に伴う画像品質の劣化および素子寿命の劣化を防止することもできる。
【0034】
また、配線や素子構造のレイアウト変更することなく、有機EL素子のレイアウト変更を行うことが可能となるので、配線やTFT等を形成する際のマスクを作りなおす必要がなく、製造コストも削減することができる。
【0035】
さらに、複数の有機EL素子OLEDの発光特性に合わせて、発光面積を容易に調整することができる。有機EL表示装置の寿命は、これら有機EL素子OLEDのうちで最も短い有機EL素子OLEDの寿命に一致してしまうことから、これら有機EL素子OLEDの面積比率がそれぞれの寿命を揃えるように設定される。ここでは、同一面積で形成した場合に青用の有機EL素子OLED(B)の寿命が最も短く、次いで緑用の有機EL素子OLED(G)の寿命が短く、赤用の有機EL素子OLED(R)の寿命が最も長い材料を用いた場合について説明する。いずれの発光色であっても、有機EL素子OLEDに流れる電流の密度が高いほど寿命が短くなる。逆にいえば、この電流密度を低下させることにより寿命を長くすることが可能である。このため、青用の有機EL素子OLED(B)の面積が赤用の有機EL素子OLED(R)および緑用の有機EL素子OLED(G)よりも広く設定されている。
【0036】
このように発光色の異なる3種類の有機EL素子OLEDの面積比率を変更する場合に、配線、電流制御回路3の回路構成を変更する必要がないため、開発時間および費用を抑えることが可能である。また、有機EL素子OLEDが駆動制御素子P11、画素スイッチN11、容量素子C11、走査線Y、信号線Xおよびこれらの配線に隣接する状態では、一般的な配線相互間のマージンよりも大きなマージンが必要とされるが、複数の有機EL素子OLEDが所定範囲に集中することによって、上述の配線等がこれら有機EL素子OLEDに隣接するような状態を少なくできるため、複数の有機EL素子OLEDが集中する所定範囲自体を広げることもできる。また、信号線Xが有機EL素子OLEDを迂回して配置されることもないため配線面積も小さく保つことが可能である。これにより、同じ画素ピッチでも発光面積を上げ、見栄えと寿命を改善することが可能になる。
【0037】
ところで、図2に示した第1実施形態のように、3本の赤,緑,青用信号線X(R),X(G),X(B)がカラー画素部PXUの一方側で束ねられているため場合、緑用及び赤用の画素スイッチN11のソース電極Sと3箇所で信号線X(G),X(B)との交差部での容量結合を防止するため、この交差部に走査線を延在させてなるシールド電極を備える。
【0038】
図4は、図1に示す有機EL表示装置のタイミングチャートを示す図であり、図の実線は上記第1の実施形態に対応し、図の点線はシールド電極がない従来構造に対応するものである。1水平走査期間内において、カラー画素部PXUの赤用の有機EL素子OLED(R)、緑用の有機EL素子OLED(G)、青用の有機EL素子OLED(B)のそれぞれにこの順で書き込みを行う場合について説明する。このとき、選択されていない信号線はフローティング状態となっている。
【0039】
このような場合、従来構造においては、赤用の駆動制御素子P11のゲート電位は、緑用の有機EL素子OLEDに書き込みを行う際に、信号線X(R)と赤用画素スイッチN11のソースとの間の半導体能動層と、信号線X(G)と、の交差部において容量結合することによって変動する。また、青用の有機EL素子OLEDに書き込みを行う際に、信号線X(R)と赤用画素スイッチN11のソースとの間の半導体能動層と、信号線X(B)と、の交差部において容量結合することによって赤用の駆動制御素子P11のゲート電位がさらに変動する。このため、赤用の駆動制御素子P11のゲート電位(図4中の点線)は、2度の不所望な電位変動により、所定値より低下し、赤用の有機EL素子OLED(R)を所望の輝度で発光することができなくなる。
【0040】
同様に、この緑用の駆動制御素子P11のゲート電位は、青用の有機EL素子OLEDに書き込みを行う際に、信号線X(G)と緑用画素スイッチN11のソースとの間の半導体能動層と、信号線X(B)と、の交差部において容量結合することによって変動する。このため、緑用の駆動制御素子P11のゲート電位(図4中の点線)は、所定値より低下し、緑用の有機EL素子OLED(R)を所望の輝度で発光することができなくなる。
【0041】
そこで、この第1実施形態では、図2及び図3に示すように、走査線Yの一部を延出し、ある信号線と、この信号線と交差し且つ異なる信号線と接続する半導体能動層の間をシールドしている。すなわち、ここでは信号線X(R)と接続する画素スイッチN11のソースである半導体能動層と、信号線X(G)と、の交差部において、これらの層間に配置され、信号線X(G)の書き込みの際、固定電位を保持する第1シールド電極YS1を備えている。また、信号線X(R)と接続する画素スイッチN11のソースである半導体能動層と、信号線X(B)と、の交差部、また、信号線X(G)と接続する画素スイッチN11のソースである半導体能動層と、信号線X(B)と、の交差部において、これらの層間をに配置され、信号線X(B)の書き込みの際、固定電位を保持する第2シールド電極YS2を備えている。ここでは、上述の通り第1および第2シールド電極は走査線の一部を延出して形成され、固定電位は走査信号のONパルスである。
【0042】
このため、ある信号線とこの信号線とは別の信号線に接続する配線との容量結合による不所望な電位変動を防止することができ、画像劣化を抑制し、表示品位を向上することが可能となる。
【0043】
また、シールド電極は走査線と一体的に同一工程で形成することができるので、製造工程を増大させることなく、シールド電極を配置することが可能となる。
【0044】
また、この有機EL表示装置において、信号線と画素スイッチを接続する配線である半導体能動層は、画素スイッチのソース・ドレインと同一工程で一体的に形成され、画素スイッチのソース・ドレインと同じ不純物が同量注入されてなる。例えば、本実施形態においては、画素スイッチはN型薄膜トランジスタで構成されるため、信号線と画素スイッチを接続する配線は、n型不純物が高濃度注入された半導体能動層である。このように構成することにより、シールド電極とその下層に配置された半導体層がTFT機能を有することなく、良好な動作を行うことができる。
【0045】
尚、このようなアレイ基板は、例えば特開2001−339070号公報に記載される方法によって製造することができる。
【0046】
(第2実施形態)
図5は、第2実施形態に係る有機EL表示装置の回路構成を示し、図6は、図5に示した一カラー画素部およびその周辺の平面構造を示し、図7は、カラー画素部PXUに含まれる各表示画素PXの断面構造の一例として赤用表示画素PX(R)を示す。図5乃至図7では、第1実施形態と同様な部分を同一参照符号で示し、その説明を省略または簡素化する。
【0047】
この有機EL表示装置では、各カラー画素部PXUは赤(R),緑(G),青(B)のように互いに異なる発光色で自己発光する3種類の有機EL素子OLEDによりそれぞれ構成される3個の表示画素PXを含む。3種類の有機EL素子OLEDは、これら有機EL素子OLEDにそれぞれ流れる電流を制御する電流制御部として用いられる3個の電流制御回路3にそれぞれ接続されている。
【0048】
信号線X1〜X3nは、図5に示すように表示領域DSの最外郭を除き第1実施形態と同様に3本1組として束ねられてカラー画素部PXUの列間に配置されている。各電流制御部3は、図5の対応カラー画素部PXUの左側において隣接する信号線Xの2本及び右側において隣接する信号線Xの1本に接続されている。すなわち、表示領域DSの左側最外郭では、赤用及び緑用の信号線X(R)及びX(G)が配置されている。また、表示領域DSの右側最外郭では、青用の信号線X(B)のみが配置されている。
【0049】
上述のような構成では、3つの表示画素でなる画素部において、ある信号線と接続する画素スイッチのソース配線と、他の信号線との交差部数を削減することにより、容量結合による電位変動をさらに抑制することができる。つまり、3つの表示画素に接続する信号線のうち、2つの信号線を画素部の一方側から、1つの信号線を画素部の他方側から各表示画素に接続するようレイアウトすると、各画素部におけるある信号線と接続する画素スイッチのソース配線と、他の信号線との交差部数を1つにすることができる。
【0050】
例えば図5に示す例では、赤用の画素スイッチN11のソースが1箇所でだけ信号線X(G)と交差することになり、この部分の容量結合を防止するよう信号線X(G)と赤用表示画素の画素スイッチのソース配線との層間にシールド電極を配置する。この第2実施形態でも、図6及び図7に示すように、走査線Yの一部を延出し、上記交差部での容量結合をシールドしている。すなわち、走査線Yは、信号線X(R)と接続する画素スイッチN11のソースである半導体能動層と、信号線X(G)と、の交差部において、これら層間をシールドするように延出配置され、信号線X(G)の書き込み時に固定電位を保持するシールド電極YS3を備えている。
【0051】
このため、不所望な容量結合を抑制し、電位変動を防止することができ、表示品位を向上することが可能となる。また、このような構造においても、カラー画素部の有機EL素子を、対応する信号線で分割配置することなく、集中配置することができ、第1実施形態と同様の効果を奏することができる。
【0052】
なお、この発明は、上述の第1及び第2実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で様々に変形可能である。
【0053】
例えば、各実施形態では、有機EL素子の一対の電極のうち、駆動制御素子と接続する陽極を光透過性導電部材を用いて形成し、これを表示面側に配置する下面発光型について説明したが、陰極を光透過性導電部材により形成し、陰極を介して光を取り出す上面発光型を採用してもよく、少なくとも表示面となる側の電極が光透過性を有する。
【0054】
また、各実施形態では、駆動電源線Vddを信号線と平行に配置する場合について説明したが、走査線と平行に配置してもよい。
【0055】
さらに本発明はこのような有機EL表示装置だけでなく、所定数の表示画素列に対応する信号線を近接配置し、この順次信号を供給して動作する様々な表示装置に適用可能である。
【0056】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、有機EL素子や各種配線及び各種回路などのレイアウトの自由度を容易に向上できるとともに、表示品位の良好な表示装置を提供することが可能となる。また、この発明によれば、近接配置される信号線に順次信号を供給して駆動する表示装置において、画像劣化を抑制し、表示品位の良好な表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、この発明の第1実施形態に係る有機EL表示装置の回路構成を示す図である。
【図2】図2は、図1に示したカラー画素部およびその周辺の平面構造を示す図である。
【図3】図3は、図2に示したカラー画素部に含まれる各表示画素の断面構造を示す図である。
【図4】図4は、図1の構成に係る有機EL表示装置の動作タイミングチャートの一例を示す図である。
【図5】図5は、この発明の第2実施形態に係る有機EL表示装置の回路構成を示す図である。
【図6】図6は、図5に示したカラー画素部およびその周辺の平面構造を示す図である。
【図7】図7は、図6に示したカラー画素部に含まれる各表示画素の断面構造を示す図である。
【図8】図8は、従来の有機EL表示装置の回路構成を示す図である。
【符号の説明】
DS…表示領域
PX…表示画素
Y…走査線
X(R、G、B)…信号線
N11…画素スイッチ
C11…容量素子
P11…駆動制御素子
OLED…有機EL素子
Vss…基準電源線
Vdd…駆動電源線
PXU…カラー画素部
YS(1,2,3)…シールド電極
Claims (6)
- 複数の表示画素を含み略マトリクス状に配置される画素部と、前記画素部の行毎にそれぞれ接続される走査線と、前記画素部の列に沿って前記表示画素に対応するように配置される複数の信号線と、前記表示画素に流れる電流量を制御するための駆動トランジスタと、前記各信号線と対応する前記表示画素の前記駆動トランジスタのゲート電極とを接続する接続配線と、を備え、前記表示画素のそれぞれの前記駆動トランジスタのゲート電位を決めるための信号を前記信号線に順次供給して、前記画素部を構成する前記表示画素を順次駆動する表示装置であって、
前記駆動トランジスタは、前記接続配線と同一工程で形成された半導体能動層と、前記半導体能動層を覆う絶縁膜上において前記走査線とともに形成された前記ゲート電極と、前記ゲート電極を覆う絶縁層間膜上において前記信号線とともに形成されたソース電極及びドレイン電極と、を備え、
前記画素部の列間に配置される信号線数が前記画素部に含まれる表示画素数と一致するとともに、
前記接続配線と前記信号線との交差部において、前記絶縁膜上において前記走査線と一体的に形成され前記接続配線と前記信号線との間をシールドするシールド電極を有することを特徴とする表示装置。 - 前記各表示画素は、前記接続配線を介して、対応する前記画素部の一方側に配置された前記信号線に接続されることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記画素部の前記各表示画素は、前記接続配線を介して、対応する前記画素部の一方側の前記列間に配置された信号線の一部および他方側の前記列間に配置された信号線の一部に接続されることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記接続配線は、ポリシリコン薄膜であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記表示装置はソースが対応する前記接続配線に接続し、ゲートが対応する前記走査線に接続し、ドレインが対応する表示画素に接続する薄膜トランジスタを更に備え、前記接続配線と前記薄膜トランジスタのドレインは、同一の不純物をほぼ同量含んでなることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。
- 前記各表示画素は、有機エレクトロスミネッセンス素子を含むことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
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