JP4079449B2 - 隠蔽カードの製造方法 - Google Patents
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Description
基材に磁気記録層を形成し、カード基材を得る工程と、
転写基材に剥離層、オーバーコート層、絵柄印刷層、隠蔽層、接着層、蛍光印刷層を順次形成し、前記蛍光印刷層の蛍光インキが前記隠蔽層に浸透した転写シートを得る工程と、
前記カード基材に前記転写シートを加熱加圧して転写させた後、前記剥離層により前記転写基材を剥離する工程と、を有し、隠蔽カードを製造する製造方法であって、
前記隠蔽層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が15%、Alペーストが30%、シクロヘキサン:イソホロン:ソルベッツ♯200を1:1:1とした溶剤が55%で構成される組成のインキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1〜2μmで形成して構成し、
前記接着層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂で構成される組成のインキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1μm以下で形成して構成し、
前記蛍光印刷層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が1000重量部、蛍光染料が2〜4重量部、溶剤が400〜500重量部で構成される蛍光インキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1μm以下で形成して構成し、
前記蛍光印刷層の蛍光インキが前記隠蔽層に浸透した転写シートを得ることを特徴とする。
東洋インキ(株)製、商品名SS8−800メジウム
ワックス
MEK−トルエン溶剤(1:1)
塩ビ−酢ビ共重合体樹脂 15%
Alペースト 30%
溶剤(シクロヘキサン、イソホロン、ソルベッソ#200を1:1:1としたシンナー) 55%
塩ビ−酢ビ共重合体樹脂
(東洋インキ(株)製、商品名SS6K−600メジウム
溶剤(東洋インキ(株)製、商品名S718)
蛍光インキ
塩ビ−酢ビ共重合体樹脂(メジウム)
(東洋インキ(株)製、商品名SS−8WACワニス) 1000重量部
蛍光染料
(チバガイギー(株)製、商品名ユービテックスOB) 2〜4重量部
溶剤(イソホロン、アノン、MIBK、キシレン等)
(東洋インキ(株)製、商品名S718) 400〜500重量部
転写条件
温度 120〜130℃
圧力 16〜18Kg/cm 2
時間 15〜25分
Alペースト(アルミ粉をアクリル樹脂で覆った樹脂コーティングタイプにミネラルスピリット溶剤を加え、ペースト化したもの)
東洋アルミ(株)製、商品名FZE0240 6重量部
旭化成メタルズ(株)製、商品名CR−909CM 6重量部
ポリエステル樹脂
東洋インキ(株)製、商品名6K−600メジューム 10重量部
溶剤
東洋インキ(株)製、商品名S−695 10重量部
アクリル樹脂
帝国インキ(株)製、商品名NANメジューム 100重量部
蛍光染料
チバガイギー(株)製、商品名ユービテックス 0.3重量部
溶剤
帝国インキ(株)製、商品名C−002 50重量部
14、16 センターコアシート
20 磁気テープ
22 PETフィルム
24 剥離層
26 オーバーコート層
28 絵柄層
30 シルバー隠蔽層
32 接着層
34 蛍光印刷層
Claims (1)
- 基材に磁気記録層を形成し、カード基材を得る工程と、
転写基材に剥離層、オーバーコート層、絵柄印刷層、隠蔽層、接着層、蛍光印刷層を順次形成し、前記蛍光印刷層の蛍光インキが前記隠蔽層に浸透した転写シートを得る工程と、
前記カード基材に前記転写シートを加熱加圧して転写させた後、前記剥離層により前記転写基材を剥離する工程と、を有し、隠蔽カードを製造する製造方法であって、
前記隠蔽層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が15%、Alペーストが30%、シクロヘキサン:イソホロン:ソルベッツ♯200を1:1:1とした溶剤が55%で構成される組成のインキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1〜2μmで形成して構成し、
前記接着層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂で構成される組成のインキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1μm以下で形成して構成し、
前記蛍光印刷層は、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂が1000重量部、蛍光染料が2〜4重量部、溶剤が400〜500重量部で構成される蛍光インキを用いてシルクスクリーン印刷により厚さ1μm以下で形成して構成し、
前記蛍光印刷層の蛍光インキが前記隠蔽層に浸透した転写シートを得ることを特徴とする隠蔽カードの製造方法。
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