JP4059368B2 - 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル - Google Patents
微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル Download PDFInfo
- Publication number
- JP4059368B2 JP4059368B2 JP20858799A JP20858799A JP4059368B2 JP 4059368 B2 JP4059368 B2 JP 4059368B2 JP 20858799 A JP20858799 A JP 20858799A JP 20858799 A JP20858799 A JP 20858799A JP 4059368 B2 JP4059368 B2 JP 4059368B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- oxide
- weight
- silica gel
- slurry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 377
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 title claims description 93
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 title claims description 93
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims description 63
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 title claims description 47
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 296
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 61
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 46
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 31
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 13
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 13
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000006378 damage Effects 0.000 claims description 12
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 12
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 9
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 claims description 5
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 claims description 4
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical compound [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(III) oxide Inorganic materials O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N manganese(iii) oxide Chemical compound O=[Mn]O[Mn]=O GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XMFOQHDPRMAJNU-UHFFFAOYSA-N lead(ii,iv) oxide Chemical compound O1[Pb]O[Pb]11O[Pb]O1 XMFOQHDPRMAJNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940035105 lead tetroxide Drugs 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 141
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 139
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 105
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 45
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 31
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 31
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 27
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 27
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 26
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 23
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 20
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 20
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 11
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 11
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 10
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 10
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 10
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 10
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 239000011817 metal compound particle Substances 0.000 description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 2
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L strontium sulfate Chemical compound [Sr+2].[O-]S([O-])(=O)=O UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-[4-(chloromethyl)phenyl]benzene Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=C(CCl)C=C1 INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJFCXDHFYISGTE-UHFFFAOYSA-N O=[Co](=O)=O Chemical compound O=[Co](=O)=O VJFCXDHFYISGTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZECUPJJEIXUKY-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[U+6] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[U+6] WZECUPJJEIXUKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneantimony Chemical compound [Sb]=S YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenenickel Chemical compound [Ni]=S WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910000439 uranium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/16—Preparation of silica xerogels
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、微小粒子状シリカゲル、微小球状シリカゲル及び金属酸化物等の金属化合物微粒子を粒子内に内包した微小粒子状シリカゲルに関する。
【0002】
【従来の技術】
微小球状等の微小粒子状シリカゲルは、液体クロマトグラフィー用分離剤、化粧品用フィラー、樹脂用充填剤、触媒担体およびスペーサー等の各種の用途に使用されている。
【0003】
また、金属化合物微粒子を粒子内に内包した微小球状等の粒子状シリカゲル(以下、「金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル」という。 )は、紫外線遮蔽剤、光酸化触媒および抗菌剤などに使用されている。
【0004】
シリカゲル微粒子は、窒素吸着法で測定される細孔構造が細孔容積0.2〜2ml/g、比表面積が150〜900m2 /gの、細孔を有する多孔質粒子であり、吸油量が100ml/100g以上のものが化粧品材料などの各種用途に好ましく使用されている。
【0005】
しかしながら、シリカゲルは、その多孔性のため、一般的には、空気中の水分を高度に吸湿する性質を有している。
水分を高く吸湿したシリカゲルは、例えば、化粧品の配合材料に使用する場合には、溶媒等の吸油量が減少する現象が起きるため、不都合が生じる。一方、水分を高く吸湿したシリカゲルを樹脂組成物に配合し、射出成形や押し出し成形を行う場合には、シリカゲル粒子に吸着された水分が脱着し、発生した水蒸気のために樹脂が発泡してしまう等の不都合が生ずる。
【0006】
従って、通常、シリカゲル微粒子をこのような用途に使用する場合には、保存中に空気中の水分を吸着しないような、厳重な包装体としたり、密閉容器に収納しておく必要がある。また、シリカゲル微粒子を長期間保存する場合は、いずれにせよある程度の水分吸着は避けられないので、使用に際し、例えば150℃以上に加熱し、水分を脱着させる等の煩わしい処理が必要である。
【0007】
一方、化粧品用フィラーや樹脂フィルム用フィラー用途等の特定の用途においては、しばしばシリカゲル微粒子の機械的強度が小さいことが要求される。シリカゲル微粒子を含む最終配合組成物における粒子間の空隙率を低くするためには、シリカゲル微粒子が易崩壊性であることが好ましいからである。
【0008】
しかしながら、シリカゲル微粒子についていえば、従来、シリカゲル粒子の低吸湿性と低機械強度の要請を両立させることは非常に困難であった。
【0009】
一方、金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルは、吸油量100ml/100g以上のものが化粧品材料や樹脂フィルムなどのフィラーとして使用されているが、これについても上記した粒子状シリカゲルと基本的に同様な問題がある。
【0010】
すなわち、この金属化合物内包粒子状シリカゲルにおいても、一般的にシリカが空気中の水分を高く吸湿する性質を有しているため、水分を高く吸湿した金属化合物内包粒子状シリカゲルは、化粧品の配合材料に使用する場合には、溶媒等の吸油量が減少する現象が起きて、不都合が生じる。
【0011】
同様に、水分を高く吸湿した金属化合物内包粒子状シリカゲルを樹脂組成物に配合し、射出成形や押し出し成形を行う場合にも、吸着された水分が脱着し、発生した水蒸気のために樹脂が発泡してしまう等の不都合が生ずる。
【0012】
従って、金属化合物内包粒子状シリカゲル微粒子をこのような用途に使用する場合には、同様に空気中の水分を遮断するような厳重な包装体としたり、密閉容器に収納する必要があり、また長期間保存の場合、ある程度の水分吸着は避けられないので、使用時に150℃等以上に加熱し、水分を脱着させる等の煩わしい処理が必要である。
【0013】
さらに、化粧品用フィラーや樹脂フィルム用フィラー用途等の特定の用途においては、しばしば易崩壊性なシリカゲル微粒子が好ましく、粒子の機械的強度が小さいことが要求されるが、金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルについても、同様に低吸湿性と低機械強度の要請を両立させることは、従来非常に困難であった。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、一般的な吸油量のレベルである100ml/100g以上を保持しつつ、空気中の水分吸着に伴う前記問題点を大幅に改善した、吸湿率の低い微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルを提供することである。
【0015】
さらに本発明の目的は、上記の性質を保持しつつ、機械的強度が小さく易崩壊性の微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルを提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、
その請求項1は、以下の(1)〜(3)の特性により特徴づけられる微小粒子状シリカゲルを提供するものである。
(1) 平均粒子径:1〜200μm
(2)JIS−K5101法による吸油量:100〜300ml/100g
(3)JIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における水分吸着量で表示した吸湿率:20重量%以下
本発明の微小粒子状シリカゲルは、このように吸油量を低下させずに吸湿量が低いと云う特徴を有する。
【0017】
請求項2は、上記において、粒子形状が、微小球形粒子状である微小粒子状シリカゲルであることを規定する。すなわち、好ましい粒子形状は、微小球形粒子状のものである。
【0018】
請求項3は、請求項2の微小球形粒子において、粒子径2〜10μmの粒子の機械的強度の平均値が、0.1〜1.0Kgf/mm2 である微小球形粒子状シリカゲルであることを規定する。すなわち、特に平均粒子径5〜10μmの微小球形粒子は、その機械的強度が従来のものより低いという特徴を有するものである。
【0019】
請求項4は、以下の(1)〜(4)の特性により特徴づけられる金属化合物微粒子を内包した粒子状シリカゲルを提供するものである。
(1) 平均粒子径:1〜200μm
(2) 粒子中の金属化合物微粒子のSiO2 に対する存在比率:5〜80重量%
(3)JIS−K5101法による吸油量:100〜300ml/100g
(4)JIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における水分吸着量で表示した吸湿率:20重量%以下
本発明の金属化合物微粒子を内包した微小粒子状シリカゲルは、このように吸油量を低下させずに吸湿量が低いと云う特徴を有する。
【0020】
請求項5は、請求項4において、金属化合物微粒子を内包した、粒子形状が微小球形粒子状であるシリカゲルであることを規定する。すなわち、金属化合物微粒子を内包した場合にあっても、好ましい粒子形状は、微小球形粒子状のものである。
【0021】
請求項6は、請求項5の微小球形粒子において、粒子径2〜10μmの粒子の機械的強度の平均値が、0.1〜1.0Kgf/mm2 である金属化合物微粒子を内包した微小球形粒子状シリカゲルであることを規定する。すなわち、金属化合物微粒子を内包した場合にあっても、粒子径2〜10μmの微小球形粒子は、その機械的強度が従来のものより低いという特徴を有するものである。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の微小粒子状シリカゲルおよび金属化合物微粒子を内包した粒子状シリカゲル(以下、両者を意味する場合は、単に「微小粒子状シリカゲル等」という。)は、平均粒子径1〜200μmであり、かつ、JIS−K5101法による吸油量が100〜300ml/100gであるが、その吸湿率および機械的強度については、以下のように特定される。
【0023】
▲1▼ まず、微小粒子状シリカゲル等の吸湿率に関しては、JIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における水分吸着量 (平衡吸着水分量) で表示した吸湿率が、20重量%以下、好ましくは4〜10重量%と極めて低いものであることである。
【0024】
吸湿率が20重量%を越える場合は、水分吸着に伴う上記した問題点が顕在化し、不都合が生ずる。一方、吸湿率が4重量%に満たない場合は、吸油量が100ml/100g未満となり、不都合が生ずる。
【0025】
従来の微小粒子状シリカゲル等においては、平均粒子径:1〜200μm、JIS−K5101法による吸油量:100〜300ml/100gものが一般的であるが、特にJIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における吸湿率が、微小粒子状シリカゲルの場合30〜80重量%であり、また金属化合物微粒子を内包した粒子状シリカゲルの場合35〜60重量%であり、いずれもきわめて吸湿率が高い。これと比較して、本発明の微小粒子状シリカゲル等においては、この吸湿率が20重量以下であることは、著しい特徴をなしていると言える。
【0026】
なお、本発明の微小粒子状シリカゲル等の比表面積は、好ましくは30〜200m2 /g、より好ましくは40〜180m2 /gである。
【0027】
▲2▼ 一方、微小粒子状シリカゲル等の機械的強度に関しては、例えば、球形粒子の場合の機械的強度の一般式として、次の平松らの式が知られている (平松ら:日本鉱業会誌,81,10,24 (1965))。
【0028】
St=2.8P/(πd2 )
〔ここで、St:測定値として得られる破壊時の粒子の機械的強度(Kgf/mm2 )P:圧縮荷重(Kgf/mm2)、d:粒子径(mm)〕
式から明らかなように、微粒子の機械的強度は、粒子径の2乗に反比例し、粒子径が小さくなると、粒子強度が大きくなる。
【0029】
本発明においては、微粒子の機械的強度は、この式を使用して島津製作所(株)製、微小圧縮試験機 (MCTM−500型) などにより測定される。すなわち、粒子径dの粒子に一定速度で負荷をかけていき、変化の急激な増加の点で試料粒子が圧裂したことを示すことから求められる。このようにして粒子径d1 ,d2 ,・・・,dn についてそれぞれ測定を行い、平均値を求める。ここでは、30個の粒子の平均値を採用した。なお、粒子径は、光学顕微鏡で測定した値である。
【0030】
本発明の微小粒子状シリカゲル等は、このようにして測定された粒子径2〜10μmの粒子30粒の機械的強度の平均値が、0.1〜1.0Kgf/mm2 と極めて低いものである。
【0031】
機械的強度がこの0.1〜1.0Kgf/mm2 の場合は、粉体の輸送や単純な混合などの通常の粉体操作の際には、微粒子の破壊は、実質的に起こらない範囲であり、かつ、化粧品用フイラーや樹脂フィルム用フィラーに使用される際には、求められる易崩壊性の特性を充足しうるという好ましい範囲である。
【0032】
機械的強度が0.1Kgf/mm2 に満たない場合には、強度が低すぎて、粉体の輸送や単純な混合などの通常の粉体操作の際にも、微粒子が破壊されてしまい、一方1.0Kgf/mm2 を越える場合には、強度が高すぎて、化粧品用フイラーや樹脂フィルム用フィラーに使用された際に、求められる易崩壊性の特性を満たすのが困難になる。
【0033】
本発明の微小粒子状シリカゲル等は、この機械的強度に関しても、従来の吸油量が100〜300ml/100gの多種類の微小粒子状シリカゲルの市販品の粒子径2〜10μmの機械的強度(30粒平均値)が、いずれも3.0〜10.0Kgf/mm2 、多種類の金属酸化物内包球形粒子状シリカゲルの市販品の粒子径2〜10μmの機械的強度(30粒平均値)が、いずれも1.2〜3.0Kgf/mm2 であることを考慮すると、大きな特徴をなしているものである。
【0034】
本発明の金属化合物微粒子を内包した粒子状シリカゲルについて、当該粒子中の金属化合物微粒子のSiO2 に対する存在比率は5〜80重量%である。
【0035】
金属化合物含量が5重量%未満では、紫外線遮蔽効果、光酸化触媒効果、抗菌効果等の金属化合物の効果を十分に奏することができない。また、これが80重量%を越えると、シリカゲルにより金属化合物粒子を十分内包することで困難になり、当該金属化合物微粒子が直接配合されるべき樹脂、化粧品等のマトリクス成分と接触してこれを変質させたり分解するおそれがある。
【0036】
使用する金属化合物微粒子としては、微細粒子が好ましく、特にいわゆる超微粒子と称するものが好ましい。
このように本発明における金属化合物微粒子の一次粒子の大きさ(粒径)は、0.002〜0.5μmのものである。そして、0.01〜0.5μmが好ましく、0.01〜0.3μmであるものがさらに好ましい。
【0037】
金属化合物として使用可能なものは、例えば金属酸化物の微粒子であって、酸化チタン、過酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化第一鉄、酸化第二鉄、酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化銀、酸化第一銅、酸化第二銅、酸化第一コバルト、四三酸化コバルト、酸化第二コバルト、酸化第一ニッケル、酸化第二ニッケル、酸化トリウム、酸化タングステン、酸化モリブデン、二酸化マンガン、三酸化マンガン、酸化ウラン、酸化ゲルマニウム、酸化第一錫、酸化第二錫、一酸化鉛、四三酸化鉛、二酸化鉛、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、三酸化ビスマス等が好ましいものとして挙げられる。
【0038】
また、金属酸化物以外に、硫化カドミウム、硫化亜鉛、硫化アンチモン、硫化鉛、硫化ニッケル、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウム等の硫化物微粒子や硫酸塩微粒子;ピロ燐酸銅等の燐酸塩;炭化タンタル、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化バナジウム、炭化チタン、炭化珪素、フッ化カルシウム等の炭化物微粒子やハロゲン化物微粒子を使用することもできる。また、金、銀、白金、銅、アルミニウム等の金属またはその合金の微粒子も場合によっては使用可能である。
【0039】
上記の金属化合物の中で、紫外線遮蔽機能を付与する金属化合物としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、酸化ジルコニウムなどを使用する事が好ましい。光酸化触媒機能を付与する金属化合物としては、酸化チタンを使用する事が好ましい。
【0040】
本発明の微小粒子状シリカゲル及び金属化合物を内包粒子状シリカゲルとしては、その製法を特に限定するものではないが、本発明者らにより提案されている以下の製造方法が望ましい。すなわち、
【0041】
(1) 微小粒子状シリカゲルを製造する場合は、
▲1▼アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させ、SiO2 の重量に対する水の重量の比率が、1.5〜5.0重量倍であるシリカヒドロゲルを得るヒドロゲル化工程、及び
【0042】
▲2▼得られたシリカヒドロゲルを、SiO2 濃度が5.0〜15.0重量%のスラリー状態で、攪拌下水熱処理し、平均粒子径100μm以下の微細化したシリカヒドロゲルスラリーとする水熱微粉砕工程、及び
【0043】
▲3▼当該微細化したヒドロゲルスラリーを乾燥する乾燥工程からなる微小粒子状シリカゲルの製造方法を実施することが好ましい。
【0044】
(2)また、金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルを製造する場合は、
▲1▼アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させ、SiO2 の重量に対する水の重量の比率が、1.5〜5.0重量倍であるシリカヒドロゲルを得るヒドロゲル化工程、及び
【0045】
▲2▼得られたシリカヒドロゲルを、SiO2 濃度が5.0〜15.0重量%のスラリー状態で、攪拌下水熱処理し、平均粒子径100μm以下の微細化したシリカヒドロゲルスラリーとする水熱微粉砕工程からなる微細化シリカヒドロゲルスラリ−の調製工程とともに、
【0046】
▲3▼当該微細化シリカヒドロゲルスラリー中に金属化合物微粒子を導入しシリカヒドロゲル微粒子と金属化合物微粒子との混合スラリーを得る混合スラリー化工程を有し、さらに、
【0047】
▲4▼当該混合スラリーを乾燥する乾燥工程からなる金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルの製造方法を実施することが好ましい。
【0048】
以下、上記製造方法を具体的に説明する。
(ヒドロゲル化工程)
Na等のアルカリ金属珪酸塩の水溶液と鉱酸水溶液とを、放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合し、SiO2 濃度換算で130g/l以上、pH7〜9のシリカゾルを生成せしめ、直ちに上記放出口から、空気等の気体媒体中に放出させて、放物線を描いて滞空させる間に空中でゲル化させる。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて数分〜数十分熟成させる。
【0049】
これに適当な酸を添加してpHを下げて熟成を停止させる。得られたシリカヒドロゲルは、平均粒子径数mmの球状粒子である。このシリカヒドロゲルは、反応により生成したNa2 SO4 等のアルカリ金属塩を含有しているので、常法に従って水洗によりこれを十分除去することが好ましい。
【0050】
このシリカヒドロゲルは、例えばロールクラッシャーなどで粗粉砕すれば、平均粒径0.1〜5mmの破砕品シリカヒドロゲルが容易に得られる。この粒径は、次の水熱微粉砕工程における撹拌操作等を効果的に行うために好ましい範囲である。
【0051】
なお、シリカヒドロゲルを得る別な方法としては、アルカリ金属珪酸塩水溶液と鉱酸水溶液とを反応容器内で短時間で均一混合してシリカゾルを生成させた後、該溶液を別の受皿板上でゲル化させる方法でもよい。
【0052】
ここで水洗後のシリカヒドロゲル中の、SiO2 重量に対する水の重量の比率が1.5〜5.0重量倍であることが好ましい。
【0053】
SiO2 重量に対する水の重量の比率が、1.5重量倍未満の場合には、次の水熱処理工程において、シリカヒドロゲルの平均粒子径を微細化する効果が小さくなり、一方、SiO2 重量に対する水の重量の比率が、5.0重量倍を越える場合には、シリカヒドロゲルの機械的強度がきわめて弱いものとなり、以後のハンドリングに困難を伴ない好ましくない。
【0054】
(水熱微粉砕処理工程)
次に、このようにして得られたシリカヒドロゲルを、SiO2 濃度が5.0〜15.0重量%のスラリー状態で、攪拌下水熱処理し、平均粒子径100μm以下の微細化したシリカヒドロゲルスラリーとする水熱微粉砕工程を行う。
【0055】
水熱処理装置としては、通常、攪拌羽根付きの高圧装置であるオートクレーブが使用される。なお、平均粒子径が0.1〜5mmであれば、液攪拌下の水熱処理のみにより平均粒子径100μm以下、さらに好ましくは20μm以下1μm以上の粒子径まで容易に微粒子化できる。
【0056】
水熱処理の温度範囲は、130〜230℃、好ましくは150〜230℃が望ましい。温度が130℃未満と低い場合には、水熱処理によるシリカヒドロゲルの粒子径微細化の効果が乏しく、230℃を越える場合には、温度レベルの増大に見合う水熱処理によるシリカヒドロゲルの粒子径微細化の促進効果が少なく、技術的・経済的に無意味である。
【0057】
水熱微粉砕処理の時間は、水熱処理温度によって変わりうるが、通常0.2〜24hrが適当である。水熱処理時間が0.2hrに満たない場合には、水熱処理による粒子径微細化の十分な効果が得られず、また水熱処理時間が24hrを越えると、粒子の再凝集現象が生じるようになる。
【0058】
(湿式微粉砕処理)
シリカヒドロゲルスラリーを乾燥して得られる微小球状シリカゲルの目標平均粒子径が100μm以下、好ましくは10μm以下のより小さな粒子を得ようとする場合には、水熱微粉砕処理により平均粒子径20μm以下に微細化したシリカヒドロゲルスラリーを、機械的に湿式粉砕して、シリカヒドロゲルの平均粒子径を、1〜3μmまでさらに微細化することが好ましい。このような粉砕処理により、噴霧乾燥等で得られる微小球状シリカゲルが、一層真球形状に近く、また粒子表面がより滑らかなものが得られる。
【0059】
ここで用いられる湿式粉砕機としては、粒子径1mm以下のビーズを用いる湿式媒体攪拌ミルであるビーズミル、粒子径数mmのボールを用いる湿式媒体攪拌粉砕機や湿式ボールミルなどが適用される。
【0060】
(乾燥工程)
かくして得られたシリカヒドロゲルスラリーを乾燥して、単分散した微小シリカゲル粒子を得る乾燥装置としては、粒子同志の凝集を防止するため固定層を形成しないで粒子や液滴が熱風中で分散する形式が好ましく、例えば噴霧乾燥機、媒体流動層乾燥機、気流乾燥機などが適している。
特に、微小球状のシリカゲルを得ようとする場合には、乾燥装置としては、噴霧乾燥機が適している。
【0061】
(金属化合物微粒子を導入する混合スラリー化工程)
金属化合物微粒子を内包させる場合も、基本的には上記と同様であるが、適当な時点で金属化合物微粒子の導入混合工程を行う。
【0062】
具体的な実施の態様としては、水熱微粉砕工程により微細化されたシリカヒドロゲルスラリー中に、または必要に応じてさらに湿式粉砕によりいっそう微細化されたシリカヒドロゲルスラリー中に、例えば平均粒子径0.002〜0.5μmの二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、酸化ジルコニウムなどの金属化合物微粒子を、SiO2 重量に対して、すでに述べたように5〜80重量%添加導入して十分に分散させ、シリカヒドロゲル微粒子と金属化合物微粒子との混合スラリーを得るのである。この分散は、上記したように水熱微粉砕処理を行うオートクレーブや湿式粉砕機中で行うことが好ましい。
【0063】
このようにして得られた混合スラリーを、微小粒子状シリカゲルを得る場合と同様に、噴霧乾燥等することにより、微小金属化合物微粒子を内包した微小粒子状シリカゲルが得られるのである。
【0064】
なお、すでに述べたように、シリカゲル中に内包された金属化合物微粒子は、その粒径がシリカゲル粒子の粒径に対してはるかに微小なものであり、一個のシリカゲル中に一個以上、通常数個好ましくは多数の金属化合物微粒子が分散した状態で包含されている。本発明に云う「内包」とは、このような状態で金属化合物微粒子がシリカゲル粒子中に含まれていることを意味する。
【0065】
多数の細孔を有するシリカゲル粒子が乾燥する過程において、当該細孔内を満たしているスラリーの液相のみが揮発して乾燥し、不揮発の金属化合物微粒子がシリカゲル内部の細孔に担持された状態で残留するものと推定される。これが本発明において、シリカゲル粒子中に金属化合物微粒子が内包されている態様ではないかと考えられる。
【0066】
【実施例】
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明の技術的範囲がこれに限定されるものではない。
【0067】
〔実施例1〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させた。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させた。
【0068】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が6mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、103ppmであった。
【0069】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径1.0mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リットルのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度200℃で時間3hr、攪拌回転数90rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0070】
水熱微粉砕処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微粉砕化されており、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径15μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.3重量%であった。
【0071】
(湿式粉砕工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま湿式粉砕機(シンマルエンタープライゼス社製ダイノ−ミル、直径0.5mmビーズ使用)を用いて、さらに微粉砕した。微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.6μmであった。
また、上記微粉砕後のシリカヒドロゲルスラリー中のシリカヒドロゲルと水の量の測定は以下の方法で行った。
【0072】
シリカヒドロゲルスラリー50gをビーカーに取り、孔径0.45μmのミリポアフィルターを用いて、絶対圧5mmHgの減圧下で全量を濾過し、40分間脱水する。得られた濾液の重量を水の量とし、得られたウエットケーキの重量をシリカヒドロゲルの重量とする。なお、得られたウエットケーキ中のSiO2 重量は、乾燥機で、温度180Cで、4hr乾燥後の重量から求められる。
この測定方法で求められたスラリー中のシリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、4.4重量倍であった。
【0073】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、4.5μmであった。粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は滑らかであった。
【0074】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で 測定した結果、細孔容積0.85ml/g、比表面積130m2 /gであった。
【0075】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、177ml/100gであった。
粒子のJIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、9.9重量%であった。
【0076】
粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.45Kgf/mm2 であった。
【0077】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に、上記粒子10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうし、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0078】
〔実施例2〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させた。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させた。
【0079】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が5mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、100ppmであった。
【0080】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径1.0mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リットルのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度200℃で時間20hr、攪拌回転数50rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0081】
水熱微粉砕処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微粉砕化されており、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm 使用) による粒子径測定では、平均粒子径13μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.3重量%であった。
【0082】
(湿式粉砕工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同一の湿式粉砕機を用いて、さらに微粉砕した。微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.5μmであった。
【0083】
また、実施例1と同様にして、上記微粉砕後のシリカヒドロゲルスラリー中のシリカヒドロゲルと水の量の測定を行ったが、シリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、4.4重量倍であった。
【0084】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、4.5μmであった。粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は滑らかであった。
【0085】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソ−プ28型、BET方式)で 測定した結果、細孔容積0.31ml/g、比表面積53m2 /gであった。
【0086】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、151ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、
相対湿度90%における水分吸着率は、4.5重量%であった。
【0087】
粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.78Kgf/mm2 であった。
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタ−プライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に、粒子10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0088】
〔実施例3〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させた。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させた。
【0089】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が4mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シルカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、95ppmであった。
【0090】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径0.8mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リットルのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度は185℃で時間20hr、攪拌回転数100rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0091】
水熱微粉砕処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微粉砕化されており、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径17μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.3重量%であった。
【0092】
(湿式粉砕工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同じ湿式粉砕機を用いて微粉砕した。微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.7μmであった。
【0093】
また、実施例1と同様にして、上記微粉砕後のシリカヒドロゲルスラリー中のシリカヒドロゲルと水の量の測定を行ったが、シリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、4.4重量倍であった。
【0094】
(乾燥工程)
上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、4.5μmであった。粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は滑らかであった。
【0095】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で 測定した結果、細孔容積0.87ml/g、比表面積110m2 /gであった。
【0096】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、180ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、
相対湿度90%における水分吸着率は、12.5重量%であった。
【0097】
粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.40Kgf/mm2 であった。
【0098】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子10gを入れ、アルミナボールを入れないで、20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0099】
〔実施例4〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0100】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が5mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.0重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、98ppmであった。
【0101】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径1.5mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル20,000gおよび水20,000gを仕込みスラリー状態とし、水酸化ナトリウム水溶液を添加して、pHを10に調整したSiO2 濃度10.0重量%のシリカヒドロゲルスラリーを温度200℃で、時間3hr、攪拌回転数90rpmで水熱微粉砕処理を行った。
【0102】
水熱微粉砕処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微粉砕化されており、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径13μmであった。また水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は10.2重量%であった。
【0103】
(湿式粉砕工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同じ湿式粉砕機を用いて湿式粉砕した。湿式粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.4μmであった。
【0104】
また、実施例1と同じ測定方法で求められた上記微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル重量に対する、水の重量の比率は、3.5重量倍であった。
【0105】
(乾燥工程)
上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子は、コールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、5.2μmであり、粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は滑らかであった。
【0106】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.45ml/g、比表面積53m2 /gであった。
【0107】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、161ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、4.2重量%であった。
【0108】
また、粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.56Kgf/mm2 であった。
【0109】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0110】
〔実施例5〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 23.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0111】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子の、粒子形状は、球状であり、平均粒子径が3mmであった。シリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、1.7重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、108ppmであった。
【0112】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径0.2mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル20,000gおよび水30,000gを仕込み、SiO2 濃度14.8重量%のスラリー状態で、温度210℃で、時間24hr、攪拌回転数120rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0113】
水熱処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径20μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、14.5重量%であった。
【0114】
(湿式粉砕工程)
上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同じ湿式粉砕機を用いて湿式粉砕した。湿式粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、2.0μmであった。
【0115】
また、実施例1と同じ測定方法で求められた上記微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル重量に対する、水の重量の比率は、1.7重量倍であった。
【0116】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、9.0μmであり、粒子形状は、球状であった。
【0117】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.38ml/g、比表面積47m2 /gであった。
【0118】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、145ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、4.3重量%であった。
【0119】
また、粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.98Kgf/mm2 であった。
【0120】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0121】
〔実施例6〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0122】
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が5mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.2重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、100ppmであった。
【0123】
(水熱微粉砕処理工程)
シリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径2.0mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度200℃で、時間3hr、攪拌回転数100rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0124】
水熱処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径18μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.2重量%であった。
【0125】
実施例1と同様にして、上記水熱処理後のシリカヒドロゲルスラリー中のシリカヒドロゲルと水の量の測定を行ったが、シリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、2.0重量倍であった。
【0126】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま媒体流動層乾燥機(大川原製作所製SFDーミニ型)を用いて、スラリー供給量65ml/min、熱風温度255℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、8.9μmであり、粒子形状は、不定形であった。
【0127】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.72ml/g、比表面積144m2 /gであった。
【0128】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、193ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、8.0重量%であった。
【0129】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0130】
〔実施例7〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のpHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
熟成後、pHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が6mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、98ppmであった。
【0131】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径0.7mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル20,000gおよび水7,970gを仕込み、スラリー状態とし、水酸化ナトリウム水溶液を添加して、pHを10に調整したSiO2 濃度13.0重量%のシリカヒドロゲルスラリーを温度200℃で、時間24hr、攪拌回転数90rpmで水熱微粉砕処理を行った。
【0132】
水熱処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径19μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は13.2重量%であった。
【0133】
(湿式粉砕工程)
上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同じ湿式粉砕機を用いて湿式粉砕した。湿式粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.7μmであった。
【0134】
また、実施例1と同じ測定方法で求められた上記微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、3.5重量倍であった。
【0135】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で、噴霧乾燥を行い微小乾燥シリカゲル粒子を得た。得られた乾燥粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、9.8μmであり、粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は滑らかであった。
【0136】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.35ml/g、比表面積45m2 /gであった。
【0137】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、130ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、4.0重量%であった。
【0138】
また、粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.85Kgf/mm2 であった。
【0139】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0140】
〔実施例8〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のPHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0141】
熟成後、PHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が5mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、100ppmであった。
【0142】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径0.2mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込んでスラリー状態とし、水酸化ナトリウム水溶液を添加して、pHを10に調整したSiO2 濃度10.0重量%のシリカヒドロゲルスラリーを温度210Cで、時間24hr、攪拌回転数120rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは10であった。
【0143】
水熱微粉砕処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径6μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.3重量%であった。
【0144】
また、実施例1と同じ測定方法で求められた上記水熱微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル重量に対する水の重量の比率は、1.6重量倍であった。
【0145】
(乾燥工程)
次いで、上記スラリーを、その濃度のまま噴霧乾燥機(直径1.5m、噴霧部は、高速回転円盤方式)を用いて、スラリー供給量80ml/min、熱風温度200Cで、噴霧乾燥を行った。
【0146】
得られた乾燥粒子は、コールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径280μm使用)による平均粒子径は、52μmであり、粒子形状は球状であった。
【0147】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.38ml/g、比表面積50m2 /gであった。
【0148】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、138ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、4.2重量%であった。
【0149】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0150】
〔実施例9〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のPHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0151】
熟成後、PHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が4mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、101ppmであった。
【0152】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径1.0mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度200℃での時間3hr、攪拌回転数90rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0153】
水熱処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径17μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.2重量%であった。
【0154】
(湿式粉砕工程)
上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同じ湿式粉砕機を使用して湿式粉砕した。微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子のコールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.6μmであった。
【0155】
(混合スラリー化工程)
上記湿式粉砕後のシリカヒドロゲルスラリー17,000gに、石原産業(株)製の酸化チタン(品名TTOー51A、平均粒子径0.02μm、ルチル型)200g、住友大阪セメント(株)製の酸化亜鉛(品名ZnOー310、平均粒子径0.03μm)600gを添加し、スラリーのpHを10に調整した後、上記と同じ湿式粉砕機を用いて、シリカヒドロゲル、酸化チタン、酸化亜鉛の3つを、混合・分散させた。
【0156】
(乾燥工程)
上記分散後のスラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で噴霧乾燥を行い、シリカゲル粒子中に酸化チタンおよび酸化亜鉛の微粒子が分散内包された微小球状粒子を得た。得られた粒子形状は、ほぼ真球状で、粒子表面は、滑らかであった。
【0157】
コールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、5.6μmであった。
粒子の化学組成を分析した結果は、SiO2 68.2重量%、TiO2 7.9重量%、ZnO 23.9重量%であった。
【0158】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.83ml/g、比表面積113m2 /gであった。
【0159】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、180ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、7.0重量%であった。
【0160】
また、粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.18Kgf/mm2 であった。
【0161】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0162】
(分光透過率の測定)
上記微小球状粒子0.4gに、ワセリン1.12g、流動パラフィン0.48gを添加し、3本ロールを用いて良く分散させて得たペーストを、厚さ2mmの石英板2枚に挟み込み、層厚が25μmになるまで展着させ、自記式分光光度計を用いて分光透過率を測定した。
【0163】
400nm以上は可視光領域、400〜280nmは紫外光領域である。紫外光領域における透過率が小さい程、紫外線遮蔽効果が良いことを示し、可視光領域での透過率が大きい程、肉眼で観察される透明性が高いことを示す。
【0164】
500nmでは透過率81.3%、400nmでは透過率69.4%、360nmでは透過率21.2%、320nmでは透過率18.0%、290nmでは透過率17.6%であった。
【0165】
〔実施例10〕
(ヒドロゲル化工程)
SiO2 /Na2 O= 3.0(モル比)、SiO2 濃度= 21.0重量%である珪酸ナトリウム水溶液を2.0l/minおよび硫酸濃度= 20.0重量%の硫酸水溶液とを放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合して、放出口から空気中に放出される液のPHが7.5〜8.0になるように2液の流量比を調整し、均一混合されたシリカゾル液を放出口から連続的に空気中に放出させる。放出された液は、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約1秒間滞空する間に空中でゲル化する。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて熟成させる。
【0166】
熟成後、PHを6に調整し、さらに十分水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲル粒子は、粒子形状が、球状であり、平均粒子径が6mmであった。このシリカヒドロゲル粒子中のSiO2 重量に対する水の重量比率は、4.5重量倍であり、シリカヒドロゲル粒子中の残存ナトリウムは、97ppmであった。
【0167】
(水熱微粉砕処理工程)
次にシリカヒドロゲルを、ロールクラッシャーを用いて、平均粒子径1.0mmに粗粉砕した。アンカー型攪拌羽根を備えた内容量50リッターのオートクレーブに上記の粗粉砕されたシリカヒドロゲル22,000gおよび水18,000gを仕込み、SiO2 濃度10.0重量%のスラリー状態で、温度200℃での時間3hr、攪拌回転数90rpmで水熱微粉砕処理を行った。シリカヒドロゲルスラリーのpHは6であった。
【0168】
水熱処理後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、微細化され、コールターカウンター(MAII型、コールターエレクトロニクス社製、アパーチャーチューブ径280μm使用) による粒子径測定では、平均粒子径15μmであった。また、水熱処理後のスラリー中のSiO2 濃度は、10.3重量%であった。
【0169】
(湿式粉砕工程)
上記スラリーを、その濃度のまま実施例1と同一の湿式粉砕機を使用して湿式粉砕した。微粉砕後のスラリー中のシリカヒドロゲル粒子は、コールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、1.4μmであった。
【0170】
(混合スラリー化工程)
上記湿式粉砕後のシリカヒドロゲルスラリー17,000gに、石原産業(株)製の酸化チタン(品名TTOー51A、平均粒子径0.02μm、ルチル型)915gを添加し、上記と同じ湿式粉砕機を用いて、シリカヒドロゲル、酸化チタンの2つを、混合・分散させた。
【0171】
(乾燥工程)
上記分散後のスラリーを、その濃度のまま小型のスプレードライヤー(ヤマト科学社製GA32型)を用いて、スラリー供給量13ml/min、噴霧圧力1.2Kg/cm2 (G)、熱風温度200℃で噴霧乾燥を行い、シリカゲル粒子中に酸化チタン微粒子が分散内包された微小球状粒子が得られた。粒子形状は、ほぼ真球状であり、粒子表面は、滑らかであった。
【0172】
コールターカウンター(MAII型、アパーチャーチューブ径50μm使用) による平均粒子径は、5.2μmであった。
粒子の化学組成を、分析した結果は、SiO2 64.8重量%、TiO2 35.2重量%であった。
【0173】
粒子の細孔構造をベルソープ(日本ベル社製、ベルソープ28型、BET方式)で測定した結果、細孔容積0.50ml/g、比表面積115m2 /gであった。
【0174】
また、粒子のJIS−K5101法による吸油量は、175ml/100gであった。
JIS−Z0701法による25Cにおける平衡水分吸着率を測定した結果、相対湿度90%における水分吸着率は、6.8重量%であった。
また、粒子の機械的強度を島津製作所製、微小圧縮試験機(型式MCTM−500型)で、測定した結果、30粒の平均値は、0.45Kgf/mm2 であった。
【0175】
小型粉体混合機である(株)シンマルエンタープライゼス製のターブラーシェカーミキサーの粉体容器に粒子粉体10gを入れ、アルミナボールを入れないで20分間振とうして、振とう前後の粒子を走査型電子顕微鏡で観察したが、粒子破壊は、認められなかった。
【0176】
(分光透過率の測定)
上記微小球状粒子0.4gに、ワセリン1.12g、流動パラフィン0.48gを添加し、3本ロールを用いて良く分散させて得たペーストを、厚さ2mmの石英板2枚に挟み込み、層厚が25μmになるまで展着させ、自記式分光光度計を用いて分光透過率を測定した。
【0177】
500nmでは透過率56.3%、400nmでは透過率41.9%、360nmでは透過率13.0%、320nmでは透過率7.5%、290nmでは透過率7.8%であった。
以上の結果を表1にまとめた。
【0178】
【表1】
【0179】
【発明の効果】
本発明に従えば、一般的な吸油量のレベルである100ml/100g以上を保持しつつ、空気中の水分吸着に伴う問題点が大幅に改善された、吸湿率の低い微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルが提供される。
【0180】
また、本発明に従えば、上記の性質を保持しつつ、機械的強度が小さく易崩壊性の微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルが提供される。
Claims (6)
- 以下の(1)〜(4)の特性により特徴づけられる低吸湿性かつ易崩壊性の微小球形粒子状シリカゲル。
(1) 平均粒子径:1〜200μm、
(2)JIS−K5101法による吸油量:100〜300ml/100g、
(3)JIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における水分吸着量で表示した吸湿率:20重量%以下、および
(4)粒子径2〜10μmの粒子の下記式(1)を使用して以下のようにして測定した粒子の破壊時の機械的強度の平均値が、0.1〜1.0Kgf/mm 2 である。
St=2.8P/(πd 2 ) (1)
〔ここで、St:測定値として得られる破壊時の粒子の機械的強度(Kgf/mm 2 )P:圧縮荷重(Kgf/mm 2 )、d:粒子径(mm)を示す。〕
この式(1)を使用して、微小圧縮試験機により粒子径d 1 ,d 2 ,・・・,d n の各粒子dについてそれぞれ破壊時の粒子の機械的強度Stを測定し、その平均値を求める。 - 粒子形状が、微小真球状である請求項1記載のシリカゲル。
- 以下の(1)〜(4)の特性により特徴づけられる、酸化チタン、過酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化第一鉄、酸化第二鉄、酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化銀、酸化第一銅、酸化第二銅、酸化第一コバルト、四三酸化コバルト、酸化第二コバルト、酸化第一ニッケル、酸化第二ニッケル、酸化トリウム、酸化タングステン、酸化モリブデン、二酸化マンガン、三酸化マンガン、酸化ウラン、酸化ゲルマニウム、酸化第一錫、酸化第二錫、一酸化鉛、四三酸化鉛、二酸化鉛、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン及び三酸化ビスマスからなる群より選択される金属化合物微粒子を内包した微小粒子状シリカゲル。
(1) 平均粒子径:1〜200μm、
(2) 粒子中の金属化合物微粒子のSiO2 に対する存在比率:5〜80重量%、
(3)JIS−K5101法による吸油量:100〜300ml/100g、および
(4)JIS−Z0701法による相対湿度90%、25℃における水分吸着量で表示した吸湿率:20重量%以下である。 - 前記金属化合物微粒子を内包した粒子形状が微小球形粒子状である請求項3記載のシリカゲル。
- 粒子径2〜10μmの粒子の下記式(1)を使用して以下のようにして測定した粒子の破壊時の機械的強度の平均値が、0.1〜1.0Kgf/mm2 である請求項4記載の微小球形粒子状シリカゲル。
St=2.8P/(πd 2 ) (1)
〔ここで、St:測定値として得られる破壊時の粒子の機械的強度(Kgf/mm 2 )P:圧縮荷重(Kgf/mm 2 )、d:粒子径(mm)を示す。〕
この式(1)を使用して、微小圧縮試験機により粒子径d 1 ,d 2 ,・・・,d n の各粒子dについてそれぞれ破壊時の粒子の機械的強度Stを測定し、その平均値を求める。 - 金属化合物微粒子が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄及び酸化ジルコニウムからなる群より選択される金属化合物の微粒子である請求項3〜5の何れかに記載の微小粒子状シリカゲル。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20858799A JP4059368B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル |
EP00114972A EP1070679B1 (en) | 1999-07-23 | 2000-07-19 | Fine particulate silica gel and fine particulate silical gel internally containing microparticles of a metal compound |
DE60002402T DE60002402T2 (de) | 1999-07-23 | 2000-07-19 | Feinteiliges Kieselsäuregel und feinteiliges Kieselsäuregel enthaltende Metallverbindungsmikropartikel |
US09/621,483 US6495257B1 (en) | 1999-07-23 | 2000-07-21 | Fine particulate silica gel and fine particulate silica gel internally containing microparticles of a metal compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20858799A JP4059368B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001031414A JP2001031414A (ja) | 2001-02-06 |
JP4059368B2 true JP4059368B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=16558669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20858799A Expired - Fee Related JP4059368B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6495257B1 (ja) |
EP (1) | EP1070679B1 (ja) |
JP (1) | JP4059368B2 (ja) |
DE (1) | DE60002402T2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030219753A1 (en) * | 2002-05-22 | 2003-11-27 | Quinn John G. | Biosensor and method |
US8785179B2 (en) * | 2002-05-22 | 2014-07-22 | Texas Instruments Incorporated | Biosensor and method |
US6797203B2 (en) * | 2002-07-12 | 2004-09-28 | Cerco Llc | Method of forming ceramic beads |
US7450217B2 (en) * | 2005-01-12 | 2008-11-11 | Asml Netherlands B.V. | Exposure apparatus, coatings for exposure apparatus, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
WO2008059607A1 (fr) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | Ibiden Co., Ltd. | Procédé permettant de produire une structure en nid d'abeilles et structure en nid d'abeilles ainsi formée |
PL383968A1 (pl) | 2007-12-06 | 2009-06-08 | Poch Spółka Akcyjna | Proszek składający się z nanocząsteczek srebra metalicznego osadzonych na nośniku krzemionkowym, sposób jego otrzymywania i zastosowania |
JP5631530B2 (ja) * | 2007-12-07 | 2014-11-26 | 日揮触媒化成株式会社 | 表面平滑性を備えた多孔質シリカ系粒子、その製造方法および該多孔質シリカ系粒子を配合してなる化粧料 |
CN102015594B (zh) * | 2008-04-25 | 2014-10-22 | 旭硝子株式会社 | 四氟乙烯的纯化方法 |
JP5205223B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2013-06-05 | Agcエスアイテック株式会社 | 人体用デオドラント剤 |
PL217617B1 (pl) | 2010-01-27 | 2014-08-29 | Inst Chemii Przemysłowej Im Prof Ignacego Mościckiego | Sposób wytwarzania nanoproszków krzemionkowych o właściwościach biobójczych, zwłaszcza do kompozytów polimerowych |
PL217463B1 (pl) * | 2010-05-07 | 2014-07-31 | Inst Chemii Przemysłowej Im Prof Ignacego Mościckiego | Sposób wytwarzania nanoproszków krzemionkowych o właściwościach grzybobójczych, zwłaszcza do kompozytów polimerowych |
WO2022271638A1 (en) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | Osteonovus Llc | A composition of substantially spherical granule for bone regeneration |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2765242A (en) * | 1952-02-29 | 1956-10-02 | Du Pont | Process of making reinforced silica gel and esterified silica gel |
US3935299A (en) * | 1972-05-11 | 1976-01-27 | Andrei Vladimirovich Kiselev | Process for preparation of wide-pore adsorbent for use in chromatography |
US3950316A (en) * | 1974-05-03 | 1976-04-13 | Phillips Petroleum Company | Catalyst support formed by adding acidic material to silica containing titanium |
US5256386A (en) * | 1987-06-29 | 1993-10-26 | Eka Nobel Ab | Method for preparation of silica particles |
DE69113705T2 (de) * | 1990-02-15 | 1996-03-21 | Pq Corp | Verfahren zur behandlung von bratöl unter verwendung einer aluminiumoxid- und amorphen kieselerdezusammensetzung. |
US5234673A (en) * | 1990-02-20 | 1993-08-10 | J. M. Huber Corporation | Low temperature-very high structure silica and methods |
US5229096A (en) * | 1990-11-19 | 1993-07-20 | Scm Chemicals, Inc. | Silica gel |
EP0513975B1 (en) * | 1991-03-15 | 1996-01-17 | Mizusawa Industrial Chemicals, Ltd. | Amorphous silica-type filler |
JPH085660B2 (ja) * | 1993-04-13 | 1996-01-24 | 工業技術院長 | 酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法 |
JPH0881329A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-03-26 | Pola Chem Ind Inc | 化粧料 |
DE69502788T2 (de) * | 1994-09-30 | 1999-02-25 | Asahi Glass Co Ltd | Zinkoxid enthaltende Kieselsäure und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5658553A (en) * | 1995-05-02 | 1997-08-19 | The Procter & Gamble Company | Dentifrice compositions |
JPH0971410A (ja) * | 1995-09-04 | 1997-03-18 | Doukai Kagaku Kogyo Kk | 高吸湿性シリカゲル |
JP3292872B2 (ja) * | 1997-11-05 | 2002-06-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光触媒シリカゲルおよびその製造方法 |
JPH11302011A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-02 | Dokai Kagaku Kogyo Kk | 非晶質・無孔質シリカ微粒子および金属酸化物との組成物 |
-
1999
- 1999-07-23 JP JP20858799A patent/JP4059368B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-19 EP EP00114972A patent/EP1070679B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-19 DE DE60002402T patent/DE60002402T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-07-21 US US09/621,483 patent/US6495257B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001031414A (ja) | 2001-02-06 |
US6495257B1 (en) | 2002-12-17 |
DE60002402T2 (de) | 2004-03-11 |
EP1070679A1 (en) | 2001-01-24 |
DE60002402D1 (de) | 2003-06-05 |
EP1070679B1 (en) | 2003-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11975978B2 (en) | Preparation of precipitated silicas useful as fillers in silicon matrices | |
JP4059368B2 (ja) | 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲル | |
RU2170212C2 (ru) | Осажденный кремнезем, используемый в качестве упрочняющего материала для эластомеров, и способ его получения | |
KR940009929B1 (ko) | 흡수성 침강 실리카 및 이 실리카 기재의 조성물 | |
EP3521247B1 (en) | Flake-like mesoporous particles and manufacturing method therefor | |
RU2092435C1 (ru) | Осажденный диоксид кремния и способ его получения | |
US7438895B2 (en) | Precipitated silica materials exhibiting high compatibility with cetylpyridinium chloride | |
KR100476150B1 (ko) | 침강 실리카 기재 지지체 상에 흡수된 액체 함유 조성물 | |
JP2007524555A (ja) | 沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法 | |
JPH10501738A (ja) | 球状吸着剤粒子の製造方法 | |
JPS61174103A (ja) | 金属酸化物からなる多孔質真球状微粒子粉末の製造法 | |
JP2007519593A (ja) | 低吸水性の高度構造化シリカ、その製造方法及びその使用 | |
JP4063421B2 (ja) | シリカ−金属酸化物微粒子複合体およびそれに使用するシリカ凝集体粒子の製造方法 | |
US20080160053A1 (en) | High electrolyte additions for precipitated silica material production | |
US7731790B2 (en) | Composition comprising a liquid absorbed on a support based on precipitated silica | |
JP3454554B2 (ja) | 非晶質シリカ粒状体及びその製法 | |
CN112275277A (zh) | 光催化剂组合物 | |
JP2840601B2 (ja) | 金属化合物含有中実多孔質シリカビーズ、その製造方法及び粉末消臭剤 | |
JPH06127932A (ja) | 金属酸化物担持シリカおよびその製造方法 | |
JP2018167178A (ja) | 重金属吸着剤 | |
JP4059365B2 (ja) | 微小粒子状シリカゲル及び金属化合物微粒子内包粒子状シリカゲルの製造方法 | |
US20030035823A1 (en) | Composition comprising a liquid absorbed on a support based on precipitated silica | |
JP2555367B2 (ja) | 包装材用鮮度保持剤 | |
JPH11302011A (ja) | 非晶質・無孔質シリカ微粒子および金属酸化物との組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071213 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4059368 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131228 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |