JP4046697B2 - 両面エッチングシステム - Google Patents
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Description
そして、フレキシブル配線用基板3の両面について、狭ピッチ化を実現するためには、材料、前処理(清浄処理)、エッチングレジスト、露光、エッチング等の全ての工程で、精度向上の対策が必要になるが、特に、エッチング工程で高精度のエッチングが重要である。
また、フレキシブル配線用基板3上にエッチング液5が溜まる現象を回避するため、下側のスプレーノズル100のみからエッチング液5を噴霧する場合もある(例えば、特許文献2参照)。
上記特許文献1、2に示すようなエッチングにおいて、上側のエッチングにあっては、スプレー液の打力や上面に溜まったエッチング液5の重さにより、フレキシブル配線用基板3が撓み、その撓んだ部分にエッチング液5が溜まる部分(液溜まり部分5’)が生じ、その液溜まり部分5’に新しいスプレー液が当たらずに遅くエッチングされるため、導体3a幅の大きい部分が生じるという問題があった(図8(b)参照)。
図1又は図2に示すように、本実施形態の両面エッチングシステム1は、両面に第1、第2導体面31、32を有するフレキシブル配線用基板(配線用基板)3につき、それぞれ導体パターンを形成する際、サブトラクティブ法の各工程のエッチング工程に適用されるものである。
本実施形態の両面エッチング方法は、第1エッチング工程と、第1洗浄工程と、反転工程と、第2エッチング工程と、第2洗浄工程とを含む方法である。
図1に示すように、第1エッチング工程においては、第1導体面31が下向きのフレキシブル配線用基板3を、上流側の露光工程等を経た後に、第1エッチング処理室10に流入させる。この第1エッチング処理室10では、フレキシブル配線用基板10を、搬送ローラ20によって、第1水平面α上に沿って搬送し、ノズル装置30の上方を通過させる。一方、エッチング液5を、ノズル装置30によって、第1水平面αに向けて上方に噴射させ、第1導体面31を下側からエッチングする。
図4に示すように、本実施形態の両面エッチングシステム1Aは、第1、第2エッチング処理室10、13の配置、及び反転搬送室12の内部構成が上記参考実施形態と異なっており、主に、この点について説明し、同一の構成等については、同一の符号を付してその説明を省略する。
また、反転搬送室12においては、このような反転工程の他に、上記第1、第2洗浄室11、14と同様の洗浄工程が行われる。
また、本実施形態によれば、反転工程と同時に洗浄工程を行うようにしたため、第1洗浄室11を省いてシステム自体の縮小化を図ると共に、フレキシブル配線用基板3と反転ローラ51と間に生じる摩擦を洗浄水によって低減することができる。
その他の構成及び作用効果は、上記参考実施形態と同様である。
上記参考実施形態において、第1、第2洗浄室を設けずに、反転搬送室において、反転工程と同時に洗浄工程を行うようにしてもよい。
31 第1導体面
32 第2導体面
10 第1エッチング処理室
12 反転搬送室
13 第2エッチング処理室
20 搬送ローラ
32 ノズル
40 仕切り板(エッチング液の付着防止手段)
43 送り出しローラ(エッチング液の付着防止手段)
44 保護フィルム(エッチング液の付着防止手段)
45 巻き取りローラ(エッチング液の付着防止手段)
50、51 反転ローラ
A 第1水平方向(搬送方向)
B 第2水平方向(搬送方向)
α 第1水平面(第1搬送面)
β 第2水平面(第2搬送面)
Claims (3)
- 両面に第1、第2導体面を有する配線用基板につき該第1導体面をエッチングする第1エッチング処理室と、該第1導体面と該第2導体面との上下位置を逆転させる反転搬送室と、該第2導体面をエッチングする第2エッチング処理室とを備えた両面エッチングシステムであって、
前記第1、第2エッチング処理室には、前記配線用基板の搬送面を定める複数の搬送ローラと、該搬送面の下方に配置され該搬送面に対しエッチング液を噴射するノズルと、前記エッチング液の付着防止手段とが設けられており、
前記反転搬送室は、前記第1エッチング処理室の第1搬送面を、前記第2エッチング処理室の第2搬送面に変更する複数の反転ローラが設けられ、前記配線用基板を反転させているとともに、該配線用基板を洗浄するように設けられ、前記配線用基板と前記反転ローラとの間に生じる摩擦を洗浄水で軽減させており、
上記搬送ローラは、上搬送ローラと、該上搬送ローラの所定のものと接触する下搬送ローラとからなり、
前記付着防止手段は、一対の断面L字状の板状体が、前記配線用基板を両側から挟むように配置されて前記ノズルと対向する導体面と反対側の導体面に、前記エッチング液が付着するのを防止するように構成され、且つ前記板状体の切り起こし部分は、前記上搬送ローラを軸支する機能を有している両面エッチングシステム。 - 前記第1、第2エッチング処理室は、上下にわたって設置され、前記反転搬送室は、前記第1、第2エッチング処理室を上下方向に連結する部分に設置されており、該反転搬送室において、前記反転ローラは上下にわたって配置されていることを特徴とする請求項1に記載の両面エッチングシステム。
- 前記第1、第2エッチング処理室は、水平方向に連なって設置され、前記反転搬送室は、前記第1、第2エッチング処理室を水平方向に連結する部分に設置されており、該反転搬送室において、前記反転ローラは、その中心軸方向が互いに異なるように上下に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の両面エッチングシステム。
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