JP4044342B2

JP4044342B2 - 塗付装置

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Publication number: JP4044342B2
Application number: JP2002032550A
Authority: JP
Inventors: 保次鶴岡
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2002-02-08
Filing date: 2002-02-08
Publication date: 2008-02-06
Anticipated expiration: 2022-02-08
Also published as: JP2003230858A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はノズルから溶液を噴射して基板の板面にこの溶液を塗付する塗付装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に機能性薄膜を形成する成膜プロセスがある。このプロセスでは、ノズルから機能性薄膜を形成する溶液を噴射して基板の上面にこの溶液を塗布するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。
【０００３】
この塗布装置は、基板を搬送する搬送テーブルと、この搬送テーブルの上面側に基板の搬送方向に直交する方向に沿って並設された複数のノズルヘッドとを有している。各ノズルヘッドは、それぞれピエゾ素子を有しており、これらピエゾ素子を駆動することで各ノズルヘッドに穿設された複数のノズルから溶液を吐出させるようになっている。
【０００４】
ところで、インクジェット方式の塗付装置を用いて基板に溶液を塗付する場合、ノズルヘッドのノズル面にノズルを覆うように溶液が付着残留すると、上記ピエゾ素子を駆動してもノズルから溶液が吐出されない歯抜けや、ノズルから吐出された溶液がノズル面に対して垂直に噴射されないミスディレクションなどを引き起こすことがあった。
【０００５】
そのため、従来は、上記ノズルヘッドを可動式にして、上記ノズルから所定回数の噴射がなされるごとに、上記ノズルヘッドを基板の搬送経路から外れた位置に移動させ、そこに設けられたコットンなどの高吸収体に上記ノズルヘッドのノズル面を摺接させることで、このノズル面に付着した溶液を拭き取るようにしていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、以上のような塗付装置では、ノズル面を拭き取るたびにノズルヘッドを基板の搬送経路から外れた位置にまで移動させる必要があり、タクトタイムの短縮の弊害となっていた。
【０００７】
この発明は、タクトタイムの延長を伴わないでノズル面に付着した溶液を簡単に拭き取ることができる塗布装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板の上面に溶液を噴射塗付するインクジェット方式の塗付装置において、
溶液を噴射する複数のノズルが穿設されたノズルヘッドと、
上面に上記基板を載置し上記ノズルヘッドの下方でこのノズルヘッドに対して往復駆動される搬送テーブルと、
この搬送テーブルに設けられ、搬送テーブルを往復駆動することで上記ノズルヘッドのノズル面に摺接し、このノズル面に付着した溶液を拭き取る拭き取り手段と
を具備し、
上記拭き取り手段は、溶液を吸収する吸収体からなる外周面を備えた円柱状の拭き取りロールを含み、上記拭き取りロールは、上記ノズルから上記基板に向けて溶液が噴射される前に非回転で上記ノズル面に摺接されるとともに、上記ノズルから上記基板に向けて溶液が噴射された後に回転しながら上記ノズル面に接触されることを特徴とする塗付装置にある。
【０００９】
本発明は、上記拭き取り手段は、上記搬送テーブルの移動方向先端部に設けられ、上記基板に溶液が噴射される前に上記ノズル面に付着した溶液を拭き取ることを特徴とする。
【００１０】
本発明は、上記拭き取り手段は、上記ノズル面を拭き取るごとに拭き取りに使用された拭き取り面を転移させ、次の拭き取りの際には新しい拭き取り面が使用されることを特徴とする。
【００１１】
本発明は、上記拭き取り手段は、
上記拭き取りロールと、
上記拭き取りロールを所定方向にだけ回転可能かつ弾性的に変位可能に支持する支持手段とを具備し、
上記拭き取りロールは、上記搬送テーブルを往復動させたときに、往動あるいは復動のどちらか一方では非回転で上記ノズルヘッドのノズル面に摺接し、他方では上記ノズル面との接触によって回転することを特徴とする。
【００１２】
本発明は、上記支持手段は、
一端が上記搬送テーブルの移動方向先端部の両側に回転可能に設けられ、他端には上記拭き取りロールが一方向クラッチを介して所定方向にだけ回転可能に設けられた一対の起伏リンクと、
上記一対の起伏リンク起立方向に付勢し上記拭き取りロールの外周面を上記ノズルヘッドのノズル面に接触させる弾性部材と、
からなることを特徴とすることを特徴とする。
【００１３】
本発明は、上記拭き取り手段は上記搬送テーブルの移動方向両端部にそれぞれ設けられていることを特徴とする。
【００１４】
本発明は、上記搬送テーブルには上記拭き取り手段が吸収した溶液を乾燥する乾燥手段が設けられていることを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば、ノズル面に付着した溶液を拭き取る拭き取り手段を搬送テーブルに設け、この搬送テーブルが往復駆動することで、上記拭き取り手段がノズルヘッドのノズル面に摺接するようにしたので、タクトタイムの延長を伴わずに上記ノズル面に付着した溶液を簡単に拭き取ることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【００１７】
図１と図２に示す塗布装置１はほぼ直方体状のベース２を有する。上記ベース２の下面の所定位置にはそれぞれ脚３が設けられており、上記ベース２を水平に支持している。上記ベース２の上面の幅方向両端部には長手方向に沿って取り付け板４がそれぞれ固着されている。各取り付け板４の上面の上記ベース２の幅方向内方の一端には長手方向に沿ってそれぞれガイド部材５が固着されている。
【００１８】
上記一対のガイド部材５の上面には、ほぼ矩形板状の搬送テーブル６がスライド部材７を介して長手方向にスライド可能に設けられている。この搬送テーブル６には図示しない駆動装置が設けられており、この駆動装置を作動することによって、上記搬送テーブル６を上記ガイド部材５に沿って往復駆動できるようになっている。
【００１９】
上記搬送テーブル６の上面には例えば静電チャックや吸引チャックなどの保持手段によってガラス基板や半導体ウエハなどの基板Ｗが着脱可能に保持される。つまり、基板Ｗは上記搬送テーブル６の上面に保持されることで上記ベース２の上面側を長手方向に沿って往復搬送されるようになっている。
【００２０】
図１に示すように、上記ベース２の上面の長手方向一端部は、基板Ｗが搬入及び搬出される搬入搬出部９をなし、他端部は往復駆動される搬送テーブル６がその移動方向を反転させる折り返し部１０をなしている。
【００２１】
つまり、上記搬入搬出部９から上記塗布装置１に搬入された基板Ｗは、上記搬送テーブル６の上面に保持されて図１に矢印Ａで示す方向に搬送され、上記折り返し部１０に到達すると、搬送方向を変えて図１に矢印Ｂで示す方向に上記搬入搬出部９まで搬送されるようになっている。
【００２２】
上記ベース２の長手方向中途部には、上記一対のガイド部材５を跨ぐ状態で、門型に形成された支持体１１が立設されている。この支持体１１の上部には角柱からなる取り付け部材１２が上記ベース２の幅方向に沿って水平に渡設されている。
【００２３】
この取り付け部材１２の一側面には長手方向のほぼ全長にわたって内部にピエゾ素子を有する複数、この実施の形態では８つのインクジェット方式のノズルヘッド１３が並設されている。これらノズルヘッド１３がなす長さ寸法は、基板Ｗの幅寸法とほぼ同等あるいはわずかに長く設定されており、搬送される基板Ｗの全体が上記複数のノズルヘッド１３の下方を通過するようになっている。
【００２４】
上記各ノズルヘッド１３の下面にはそれぞれ図示しない複数のノズルが基板Ｗの搬送方向に直交する方向に沿って穿設されており、上記ピエゾ素子を駆動することによって、搬送される基板Ｗの上面に、例えば配向膜、レジスト、カラーフィルタ、有機エレクトロルミネッセンスなどの機能性薄膜を形成する溶液を噴射できるようになっている。
【００２５】
図１と図３に示すように、往動時における上記搬送テーブル６の移動方向先端部、つまり上記搬送テーブル６の上記折り返し部１０側には、上記ノズルヘッド１３のノズル面１４に付着残留した溶液を往動時に拭き取る往路拭き取り手段１５ａが設けられている。
【００２６】
この往路拭き取り手段１５ａは、上記各スライド部材７の折り返し部１０側にそれぞれ設けられた一対の支持部１６を有しており、各支持部１６にはそれぞれ起伏リンク１７の一端が回転可能に設けられている。
【００２７】
上記一対の起伏リンク１７の他端には、高吸収体からなる往路拭き取りロール１９ａが、一方向クラッチ１８によって所定方向、この実施の形態では、図１に矢印Ｘで示す時計方向にだけ回転可能に設けられている。
【００２８】
上記起伏リンク１７は、弾性体としてのバネ２０によって図２と図３に矢印Ｑで示す起立方向に付勢されており、それによって、上記往路拭き取りロール１９ａは上記ノズルヘッド１３のノズル面１４に弾性的に接触する。
【００２９】
上記搬送テーブル６の上記支持部１６のほぼ直上には規制部材２１が突設されており、上記起伏リンク１７が上記バネ２０に付勢されて所定の角度以上に起立するのを規制している。それによって、上記往路拭き取りロール１９ａは、上端が上記ノズルヘッド１３のノズル面１４よりもわずかに上方になるように位置決めされている。
【００３０】
つまり、上記支持部１６、起伏リンク１７、一方向クラッチ１８、バネ２０、及び規制部材２１とで往路支持手段８０ａを構成し、この往路支持手段８０ａは、上記往路拭き取りロール１９ａを上記矢印Ｘ方向にだけ回転可能かつ上下方向に弾性的に変位可能に支持するようにしている。
【００３１】
復動時における上記搬送テーブル６の移動方向先端部、つまり上記搬送テーブル６の上記搬入搬出部９側には、上記ノズルヘッド１３のノズル面１４に付着残留した溶液を復動時に拭き取る復路拭き取り手段１５ｂが設けられている。
【００３２】
この復路拭き取り手段１５ｂと上記往路拭き取り手段１５ａとは鏡面対称、つまりその構成および動作が対称となっている。すなわち、上記復路拭き取り手段１５ｂは、上記往路支持手段８０ａと鏡面対称をなす復路支持手段８０ｂを有しており、この復路支持手段８０ｂによって上記往路拭き取りロール１９ａと同じ構成の復路拭き取りロール１９ｂを上記矢印Ｘ方向と反対方向、つまり図１に矢印Ｙで示す反時計方向にだけ回転可能かつ上下方向に弾性的に変位可能に支持している。
【００３３】
なお、上記搬送テーブル６が上記搬入搬出部９に位置するとき、上記往路拭き取り手段１５ａは上記ノズルヘッド１３の搬入搬出部９側に位置する。また、上記搬送テーブル６が上記折り返し部１０に位置するときに、上記復路拭き取り手段１５ｂは上記ノズルヘッド１３の折り返し部１０側に位置する。それによって、上記搬送テーブル６の往動時又は復動時には、上記各拭き取り手段１５ａ、１５ｂが共に上記ノズルヘッド１の下方を通過するようになっている。
【００３４】
上記搬送テーブル６は、上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂのほぼ直下に乾燥手段としてのヒータ２２を有している。これらヒータ２２は上記一対のスライド部材７に渡設されており、図示しない制御手段によって、上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂを加熱できるようになっている。
【００３５】
ところで、高吸収体からなる上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂは、吸収できる溶液の量に限界がある。つまり、上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂは所定量以上の溶液を吸収した状態では所望の吸収能力を発揮できない。しかし、上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂは、吸収した溶液を乾燥させることによって再び本来の吸収能力を発揮する。
【００３６】
したがって、上記各拭き取りロール１９ａ、１９ｂが吸収した溶液を上記各ヒータ２２によって加熱乾燥することで、溶液の拭き取りに使用された部分の吸収能力を再生させることができる。
【００３７】
次に上記構成の塗付装置１を使用する際の動作を説明する。上記塗布装置１によって基板Ｗに溶液を塗付する場合、図４に示すフローチャートに基づいて順次行われる。
【００３８】
塗付装置１の搬入搬出部９で待機する搬送テーブル６に基板Ｗが供給されたならば、この搬送テーブル６は基板Ｗを保持しながら図１に矢印Ａで示す方向に駆動され、第１のステップＳ_１に移行する。
【００３９】
第１のステップＳ_１では往路拭き取り手段１５ａによってノズルヘッド１３のノズル面１４に付着残留した溶液が拭き取られる。第１のステップＳ_１における往路拭き取り手段１５ａの動作を図５の（ａ）〜（ｄ）を参照しながら説明する。なお、同図中の矢印Ａは往動時における搬送テーブル６及び往路拭き取り手段１５ａの移動方向を示す。
【００４０】
上記搬送テーブル６が駆動され、図５（ａ）に示すように、上記往路拭き取り手段１５ａの往路拭き取りロール１９ａが上記ノズルヘッド１３に到達すると、この往路拭き取りロール１９ａは、図５（ｂ）に示すように、上記ノズルヘッド１３によって下側に押し下げられ、図５（ｃ）に示すように、上記ノズル面１４に上部の新しい拭き取り面８１ｓを弾性的に接触させながら矢印Ａ方向に移動する。
【００４１】
このとき、上記往路拭き取りロール１９ａは、上記一方向クラッチ１８の作用により、非回転で上記ノズル面１４に摺接するから、上記ノズル面１４に付着した溶液は上記新しい拭き取り面８１ｓで拭き取られることになる。
【００４２】
上記拭き取りロール１９ａは、上記ノズルヘッド１３の下方を通過すると、図５（ｄ）に示すように、上記バネ２０の復元力によって再び所定の高さまで上昇する。なお、図５に示すように、上記新しい拭き取り面８１ｓは、第１のステップＳ_１でノズル面１４に付着残留した溶液を拭き取ることで、溶液の吸収能力が低下し、使用済み拭き取り面８１ｔとなる。
【００４３】
第２のステップＳ_２では上記往路拭き取りロール１９ａに次いでノズルヘッド１３の下方に到達した基板Ｗに向けてノズルから溶液が噴射される。このとき、第１のステップＳ_１において上記ノズル面１４に付着残留した溶液は拭き取られているため、上記ノズルからは安定して溶液が噴射される。
【００４４】
すなわち、上記ノズル面１４に溶液が付着することによる弊害、たとえば上記ノズルへッド１３内のピエゾ素子を駆動させても、ノズルから溶液が吐出されない歯抜けや、たとえ吐出されても上記ノズル面１４に対して垂直に吐出されず、複数のノズルから吐出された溶液が１つにまとまって噴射されるミスディレクションなどを引き起こすことがない。
【００４５】
第３のステップＳ_３では基板Ｗに次いで上記ノズルヘッド１３の下方に到達した復路拭き取り手段１５ｂの復路拭き取りロール１９ｂを回転させる。第３のステップＳ_３における復路拭き取り手段１５ｂの動作を図６の（ｅ）〜（ｈ）を参照しながら説明する。なお、同図中の矢印Ａはこのときにおける搬送テーブル６及び復路拭き取り手段１５ｂの移動方向を示す。
【００４６】
上記搬送テーブル６が駆動され、図６（ｅ）に示すように、上記復路拭き取り手段１５ｂの復路拭き取りロール１９ｂは、上記ノズルヘッド１３に到達すると、図６（ｆ）に示すように、上記ノズルヘッド１３によって下方に押し下げられ、次いで図５（ｇ）に示すように、上記ノズル面１４との接触により矢印Ｙで示す方向に回転しながら矢印Ａ方向に移動する。
【００４７】
それによって、この復路拭き取りロール１９ｂは、図５（ｈ）に示すように、すでに使用された使用済み拭き取り面８２ｔを上記復路拭き取りロール１９ｂの上部から所定角度θ_２、この実施の形態では上記矢印Ｙ方向にほぼ９０度ずれた位置に転移させる。この位置で復路拭き取りロール１９ｂはノズルヘッド１３から外れ、バネ２０の復元力によって所定の高さまで上昇する。
【００４８】
このとき、上記復路拭き取りロール１９ｂは、上記ノズル面１４で転動しながら上記ノズル面１４に付着残留した溶液を粗拭き面８３で粗拭きするようになっている。
【００４９】
第３のステップＳ_３が終了すると、搬送テーブル６はそのまま矢印Ａ方向に駆動される。この搬送テーブル６が折り返し部１０に到達すると、その移動方向を図１に矢印Ｂで示す方向に反転し、第４のステップＳ_４に移行する。
【００５０】
第４のステップＳ_４では復路拭き取り手段１５ｂによって上記ノズルヘッド１４に付着残留した溶液が拭き取られる。第４のステップＳ_４における復路拭き取り手段１５ｂの動作を図７の（ｉ）〜（ｌ）を参照しながら説明する。なお同図中の矢印Ｂは復動時における搬送テーブル６及び復路拭き取り手段１５ｂの移動方向を示す。
【００５１】
上記搬送テーブル６が駆動され、図７（ｉ）に示すように、上記復路拭き取り手段１５ｂの復路拭き取りロール１９ｂが上記ノズルヘッド１３に到達すると、この復路拭き取りロール１９ｂは、図７（ｊ）に示すように、上記ノズルヘッド１３によって下側に押し下げられ、図７（ｋ）に示すように、上記ノズル面１４に第３のステップＳ_３で上記復路拭き取りロール１９ｂの上部に設定された新しい拭き取り面８２ｓを接触させながら矢印Ｂ方向に移動する。
【００５２】
このとき、上記復路拭き取りロール１９ｂは、上記一方向クラッチ１８の作用により、非回転で上記ノズル面１４に摺接するから、上記ノズル面１４に付着残留した溶液は上記新しい拭き取り面８２ｓによって拭き取られることになる。
【００５３】
上記復路拭き取りロール１９ｂは、上記ノズルヘッド１３の下方を通過すると、図７（ｌ）に示すように、上記バネ２０によって再び所定の高さまで上昇する。なお、図７に示すように、上記新しい拭き取り面８２ｓは、第４のステップＳ_４でノズル面１４に付着残留した溶液を拭き取ることで、溶液の吸収能力が低下し、使用済み拭き取り面８２ｔとなる。
【００５４】
第５のステップＳ_５では復路拭き取りロール１９ｂに次いで再び上記ノズルヘッド１３の下方に到達した基板Ｗに向けてノズルから溶液が噴射される。このとき、第４のステップＳ_４で上記ノズル面１４に付着した溶液が拭き取られているため、上記ノズルからは安定して溶液が噴射される。
【００５５】
第６のステップＳ_６では基板Ｗに次いで上記ノズルヘッド１３の下方に到達した往路拭き取り手段１５ａの往路拭き取りロール１９ａを回転させる。第６のステップＳ_６における往路拭き取り手段１５ａの動作を図８の（ｍ）〜（ｐ）を参照しながら説明する。なお、同図中の矢印Ｂは復動時における搬送テーブル６及び往路拭き取り手段１５ａの移動方向を示す。
【００５６】
上記搬送テーブル６が駆動され、図８（ｍ）に示すように、上記往路拭き取り手段１５ａの往路拭き取りロール１９ａが上記ノズルヘッド１３に到達すると、図８（ｎ）に示すように、この往路拭き取りロール１９ａは上記ノズルヘッド１３によって下方に押し下げられ、次いで図７（ｏ）に示すように、上記ノズル面１４との接触によって矢印Ｘで示す方向に回転しながら矢印Ｂ方向に移動する。
【００５７】
それによって、往路拭き取りロール１９ａは図７（ｐ）に示すように、すでに使用され使用済み拭き取り面８１ｔを上記往路拭き取りロール１９ａの上部から所定角度θ_１、この実施の形態ではほぼ９０度だけずれた位置に転移させる。この位置で、往路拭き取りロール１９ａはノズルヘッド１３から外れて、バネ２０の復元力によって所定の高さまで上昇する。
【００５８】
このとき、上記往路拭き取りロール１９ａは、上記ノズル面１４で転動しながら上記ノズル面１４に付着残留した溶液を粗拭き面８４で粗拭きするようになっている。
【００５９】
第６のステップＳ_６が終了すると、搬送テーブル６はそのまま矢印Ｂ方向に駆動される。この搬送テーブル６が上記搬入搬出部９に到達すると、上面に保持された基板Ｗは塗付装置１から搬出される。以上で上記塗布装置１による基板Ｗへの溶液の塗付処理は終了する。
【００６０】
なお、上記塗布装置１は枚葉方式であるので、搬送テーブル６が上記ベース２の上面を往復する間には１枚の基板Ｗしか処理できない。そのため、複数の基板Ｗに溶液を塗付する場合、塗付装置１に順次搬入される基板Ｗに対して、第１のステップＳ_１〜第２のステップＳ_６が繰り返して行われることになる。
【００６１】
ところで、上記第３のステップＳ_３において、上記復路拭き取りロール１９ｂの使用済み拭き取り面８２ｔは、上記矢印Ｙ方向にほぼ９０度だけ回転する。すなわち、上記復路拭き取りロール１９ｂが第３のステップＳ_３を２回経ることで、つまり、２枚の基板Ｗに溶液を塗付すると、上部の使用済み拭き取り面８２ｔは復路拭き取りロール１９ｂの下部に設定されることになる。
【００６２】
上記復路拭き取りロール１９ｂの使用済み拭き取り面８２ｔが下方へ転移すると、この使用済み拭き取り面８２ｔは復路拭き取りロール１９ｂのほぼ直下に設けられたヒータ２２によって加熱される。それによって、この使用済み拭き取り面８２ｔに吸収された溶液が乾燥し、上記使用済み拭き取り面８２ｔは、高い吸収能力を有する新しい拭き取り面８２ｓに再生される。
【００６３】
そして、この新しい拭き取り面８２ｓは、第３のステップＳ_３をさらに２回経ることで、つまり、２枚の基板Ｗに溶液を塗付すると、再び復路拭き取りロール１９ｂの上部に設定され、再び上記ノズル面１４に付着した溶液を拭き取ることになる。
【００６４】
そのため、第３のステップＳ_３では復路拭き取りロール１９ｂの上部に必ず新しい拭き取り面８２ｓが設定されることになる。そのため、第４のステップＳ_４において、ノズル面１４に付着残留した溶液を完全に拭き取ることができる。
【００６５】
また、第６のステップＳ_６についても上記第３のステップＳ_３と同様に、必ず往路拭き取りロール１９ａの上部には新しい拭き取り面８１ｓが設定される。そのため、第１のステップＳ_１においてノズル面１４に付着残留した溶液を完全に拭き取ることができる。
【００６６】
上記構成の塗付装置１によれば、往復駆動される搬送テーブル６の往動時、及び復動時における移動方向先端部にそれぞれ往路拭き取り手段１５ａ、及び復路拭き取り手段１５ｂを設けたため、この搬送テーブル６を駆動するだけで、上記ノズルヘッド１３のノズル面１４に付着残留した溶液を拭き取ることができる。その結果、基板Ｗに溶液を塗布する際のタクトタイムを短縮することができる。
【００６７】
さらに、ノズルから溶液を噴射する前に必ず上記ノズル面１４に付着残留した溶液を拭き取るようにしたから、上記ノズルからは常に安定した溶液の噴射がなされる。
【００６８】
なお、上記乾燥手段としては上記ヒータ２２に限定されるものではなく、例えば送風機から上記拭き取りロール１９ａ、１９ｂの下側部に向けて気体を吹き付けるようにしてもよい。その場合、吹き付ける気体を加熱すると、より高い乾燥効果が得られる。
【００６９】
また、上記ノズル面１４に付着残留した溶液を拭き取るために、上記各拭き取り手段１５ａ、１５ｂに代えて、上記搬送テーブル６の移動方向両端部に高吸収体からなるブロック状の拭き取り部材を設け、この拭き取り部材が上記ノズルヘッド１３の下方を通過するときに、上面がノズル面１４に摺接するようにしてもよい。こうすることで、上記一実施の形態に比べて構成を簡単にすることができる。
【００７０】
さらに、上記一実施の形態では、往復搬送される基板Ｗの上面に向けて搬送テーブル６の往動時及び復動時にそれぞれ溶液を噴射したが、上記往動時或いは復動時のいずれか一方でのみ溶液を噴射するようにしてもよい。この場合、ノズル面１４に付着した溶液を拭き取るための拭き取り手段は、溶液を噴射する前にノズル面１４を拭き取るよう上記搬送テーブル６の移動方向先端部に１つだけ設ければよい。
【００７１】
【発明の効果】
この発明によれば、ノズルヘッドを移動させずにこのノズルヘッドのノズル面に付着残留した溶液を拭き取るから、基板に溶液を塗付する際のタクトタイムを短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態を示す塗付装置の正面図。
【図２】図１のＺ−Ｚ線に沿う断面図。
【図３】往路拭き取り手段の拡大図。
【図４】第１のステップＳ_１〜第６のステップＳ_６を示すフローチャート。
【図５】第１のステップＳ_１における往路拭き取り手段の動作を示す動作図。
【図６】第３のステップＳ_３における復路拭き取り手段の動作を示す動作図。
【図７】第４のステップＳ_４における復路拭き取り手段の動作を示す動作図。
【図８】第６のステップＳ_６における往路拭き取り手段の動作を示す動作図。
【符号の説明】
１…塗布装置
２…ベース
６…搬送テーブル
７…スライド部材
９…搬入搬出部
１０…折り返し部
１３…ノズルヘッド
１４…ノズル面
１５ａ…往路拭き取り手段
１５ｂ…復路拭き取り手段
１６…支持部
１７…起伏リンク
１８…一方向クラッチ
１９ａ…往路拭き取りロール
１９ｂ…復路拭き取りロール
２０…バネ
２１…規制部材
２２…ヒータ
８０ａ…往路支持手段
８０ｂ…復路支持手段
８１ｓ、８２ｓ…新しい拭き取り面
８１ｔ、８２ｔ…使用済み拭き取り面
８３、８４…粗拭き面

Claims

基板の上面に溶液を噴射塗付するインクジェット方式の塗付装置において、
溶液を噴射する複数のノズルが穿設されたノズルヘッドと、
上面に上記基板を載置し上記ノズルヘッドの下方でこのノズルヘッドに対して往復駆動される搬送テーブルと、
この搬送テーブルに設けられ、搬送テーブルを往復駆動することで上記ノズルヘッドのノズル面に摺接し、このノズル面に付着した溶液を拭き取る拭き取り手段と
を具備し、
上記拭き取り手段は、溶液を吸収する吸収体からなる外周面を備えた円柱状の拭き取りロールを含み、上記拭き取りロールは、上記ノズルから上記基板に向けて溶液が噴射される前に非回転で上記ノズル面に摺接されるとともに、上記ノズルから上記基板に向けて溶液が噴射された後に回転しながら上記ノズル面に接触されることを特徴とする塗付装置。
上記拭き取り手段は、
上記拭き取りロールと、
上記拭き取りロールを所定方向にだけ回転可能かつ弾性的に変位可能に支持する支持手段とを具備し、
上記拭き取りロールは、上記搬送テーブルを往復動させたときに、往動あるいは復動のどちらか一方では非回転で上記ノズルヘッドのノズル面に摺接し、他方では上記ノズル面との接触によって回転することを特徴とする請求項１記載の塗付装置。
上記支持手段は、
一端が上記搬送テーブルの移動方向先端部の両側に回転可能に設けられ、他端には上記拭き取りロールが一方向クラッチを介して所定方向にだけ回転可能に設けられた一対の起伏リンクと、
上記一対の起伏リンクを起立方向に付勢し上記拭き取りロールの外周面を上記ノズルヘッドのノズル面に接触させる弾性部材と、
からなることを特徴とすることを特徴とする請求項２記載の塗付装置。
上記拭き取り手段は上記搬送テーブルの移動方向両端部にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１記載の塗付装置。
上記搬送テーブルには上記拭き取り手段が吸収した溶液を乾燥する乾燥手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の塗付装置。