JP4042103B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、アナログあるいはデジタル記録のビデオテープ、またはデータ用テープ等の磁気記録媒体に係り、特に、短波長記録領域における高い再生出力及び高いC/N(キャリア/ノイズ)が得られる磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ビデオテープ、データ用テープ等の磁気記録媒体は、記録再生装置の高記録密度化に伴い、短波長記録再生特性に優れた記録媒体が要望されている。例えば、デジタルビデオテープ(以下、DVCテープ)においては記録密度の向上を目的として、強磁性金属薄膜を採用した蒸着テープが実用化されている。
【0003】
この強磁性金属薄膜の蒸着テープは、真空蒸着法により作製され、優れた短波長記録再生特性を有する。蒸着テープにおける磁性層としては、Co、Co−Ni、Co−O、Co−Ni−O等が検討されている。例えば市販のHi8方式VTR用蒸着テープは、高分子基体上にCo−Ni−O磁性層が形成されたものである。また、市販のデジタルビデオ記録用のDVCテープは、Co−O磁性層が形成された蒸着テープである。図6(A)に示すように、これらの蒸着テープにおける磁性層30は、結晶粒からなるコラム30cより形成されており、このコラム30cは高分子基体1の法線方向に対して傾斜している。このような磁性層の形成方法は斜方蒸着法と言われている。
【0004】
ここで、斜方蒸着法を用いて蒸着テープを製造するための一般的な製造装置を図11に示し、図11を参照しながら従来の磁気記録媒体の製造方法について説明する。高分子基体1は供給側ロール3から矢印aの方向へ引き出され、円筒状冷却キャンロール4に沿って走行し、矢印bの方向へ向かって巻取側ロール5に巻き取られる。このとき結晶粒となり磁性層を形成する蒸発物質12(例えばCo)は、坩堝11に充填され電子ビーム13で加温されることにより蒸発する。
【0005】
蒸発した蒸発物質12の原子(以下、蒸発原子)は、基体1とほぼ対向した位置に配置されたCoの融点以上に加熱された薄板(反射板)16により反射されて、キャンロール4上を走行する基体1上に蒸着される。反射された蒸発原子により基体1上に斜め磁気異方性を有する磁性層が形成された後、連続的に、坩堝11から飛来してきた蒸発原子が基体1に直接蒸着して磁性層が形成される。このように矢印aからbの方向に走行する基体1上に、反射板16と防着板8との間の開口部で蒸着が行われる。蒸着の終了点は防着板8の開口部側の端部8a付近である。このとき端部8aに近接して設けられた酸素供給口10より酸素ガスを導入することによって、蒸発物質12の酸化物層を形成することができる。
【0006】
蒸着テープの記録再生特性を向上させる方法としては、不連続の多層蒸着層を設けたり、磁性層中の酸素濃度をコントロールすること等が提案されている。
【0007】
例えば、特開平8−315346号公報(特許文献1)には、図6(B)に示すように、磁性層として2回の蒸着により互いに不連続の第1の磁性層31と第2の磁性層32を形成した多層蒸着テープが記載されている。特開平10−324965号公報(特許文献2)には、結晶粒が連続した磁性層を有する記録媒体として、磁性層を構成するコラムが高分子基体側で部分円弧状に配向し、その後、直柱状に配向した蒸着テープが記載されている。
【0008】
特開2001−143235号公報(特許文献3)には、複数のコラムからなる柱状結晶構造を有する磁性層を備えた磁気記録媒体が記載されている。各コラムは3つの部分に分けられ、各々の酸素濃度や磁束密度あるいは傾斜が規定されている。
【0009】
【特許文献1】
特開平8−315346号公報
【特許文献2】
特開平10−324965号公報
【特許文献3】
特開2001−143235号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
前述した従来の技術による磁気記録媒体では、高保磁力を有さず、短波長記録領域での高い再生出力及び高いC/Nが得られないという問題点がある。また、特許文献1記載のような多層蒸着テープでは、2回の蒸着工程を必要とするため生産性が悪いという問題点がある。
【0011】
本発明は、以上の問題点に鑑みなされたもので、高保磁力を有し、短波長記録領域において高い再生出力及び高いC/Nが得られる、単層の磁性層からなる磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した従来の技術の課題を解決するため、以下の(a)〜(c)の磁気記録媒体を提供するものである。
(a)基体(1)上に強磁性金属と酸素とを含む単層の磁性層(2)を形成した磁気記録媒体において、前記磁性層を構成する強磁性金属の結晶粒からなるコラム(2c)が前記基体上で成長を開始する際の前記基体の法線方向に対する傾斜角度が0°以上30°以下であり、前記磁性層の表面で成長を終了する際の前記基体の法線方向に対する傾斜角度が20°以上50°以下であり、前記磁性層を厚さ方向に均等に3分割し、前記基体側から前記磁性層の表面側に向かってそれぞれ第1、第2、第3の領域としたとき、前記第1の領域の酸素濃度の最大値Max1と、前記第2の領域の酸素濃度の最小値Min2と、前記第3の領域の酸素濃度の最大値Max3はそれぞれ、22≦Max1≦39[at%]、18≦Min2≦33[at%]、22≦Max3≦39[at%]であり、前記最大値Max3は前記最小値Min2の1.4倍以下であり、前記最大値Max1と最小値Min2と最大値Max3とは、Min2≦Max3<Max1又はMin2<Max3≦Max1の関係を有することを特徴とする磁気記録媒体。
(b)前記最大値Max1は前記最小値Min2の1.1倍以上であることを特徴とする(a)記載の磁気記録媒体。
(c)前記コラム(2c)が前記基体(1)上で成長を開始して前記コラムの前記基体の法線方向に対する傾斜角度が30°を超えるまでの厚さが3nm以上14nm以下であることを特徴とする(a)又は(b)記載の磁気記録媒体。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態である磁気記録媒体について、添付図面を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態である磁気記録媒体を模式的に拡大して示す断面図、図2及び図3は、本発明の一実施形態である磁気記録媒体をX線光電子分光分析装置(ESCA)を用いてスパッタエッチングにて元素分析した結果を示す特性図である。図4及び図5は本発明の一実施形態である磁気記録媒体を製造するための磁気記録媒体製造装置の一例を示す概略構成図である。
【0014】
図1(A)において非磁性の高分子基体1(プラスチック基体1)(以下、基体1と略記することがある)上には、強磁性金属材料を真空蒸着させた強磁性金属薄膜からなる磁性層2が形成されている。磁性層2は、後述のように、1回の蒸着工程によって形成されたものである。基体1はその材料として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、アラミドフィルム等が用いられる。真空蒸着法により形成される磁性層2の材料として使用される強磁性金属は、本実施形態では非酸化のコバルトであるCoと、酸化コバルトCo−Oを含んでいる。なお、図1では便宜上、磁性層2の膜厚を基体1の厚さより大きく示しているが、実際には、磁性層2の膜厚のほうが薄いことは当然である。
【0015】
磁性層2は複数のコラム2cから成る柱状結晶構造を有している。コラムとは柱状結晶構造を構成する単位を意味し、本実施形態においては、Coの結晶粒をCo−Oの結晶粒が取り囲むようにして更なる結晶を構成し、成長したものである。
【0016】
本実施形態においては、磁性層2を厚さ方向に均等に3分割し、基体1側から表面側に向かって領域21〜23としたとき、後述するように、それぞれの領域の酸素濃度をどのようにすべきかについて検討した。このときそれぞれの領域を磁性層形成における初期領域21、中期領域22及び後期領域23として検討を行った。
【0017】
また、図1(B)に示すように、基体1に接する結晶粒からなるコラム2cが成長を開始する際の、基体1の法線方向に対する傾斜角度θiや、その成長が終了する磁性層表面での、コラム2cの基体1の法線方向に対する傾斜角度θeをどのようにすべきかについても検討した。
【0018】
本発明者の実験では、基体1上に、基体1に接する結晶粒からなるコラム2cが成長を開始する際の、基体1の法線方向に対する傾斜角度θiが0°以上30°以下であり、その後連続的に成長したコラム2cの、基体1の法線方向に対する傾斜角度θが30°を超えるまでの厚みδが3nm以上14nm以下であり、その成長が終了する磁性層表面での、コラム2cの基体1の法線方向に対する傾斜角度θeが20°以上50°以下である磁性層が形成されていれば、短波長記録領域において高い再生出力が得られる効果が大きいことが分かった。
【0019】
成長を開始する際のコラム2cの傾斜角度θiが30°を超えると、そこから連続して成長する結晶粒の大きさが大きくなり、結果としてコラムの密度が粗になり出力が取りにくくなると同時にノイズが大きくなりC/Nが向上しない。
成長したコラムの、基体1の法線方向に対する傾斜角度θが30°を超えるまでの厚みδについては、3nm未満であると基体1に直接斜めに結晶粒が成長する成分が多くなり、上記した効果が期待できない。また一方でδが14nmを超えると、垂直方向の磁気異方性成分が多くなりすぎる。従って本実施形態のような長手記録方式の磁気記録媒体においては、長波長記録領域である低周波数記録において有効に磁化されず、低域での出力低下とC/Nの低下を招く。
【0020】
更に、成長が終了する磁性層表面でのコラム2cの、基体1の法線方向に対する傾斜角度θeが20°未満であると、保磁力は低くなり、短波長記録領域である表層部分が有効に磁化されず再生出力の低下を招く。また、50°を超えると蒸着効率が極端に悪くなり、生産性が劣る。蒸着効率を上げるため、即ち、生産性を上げるために電子ビームのパワーを上げて蒸発量を多くしていくと、結晶粒が大きくなりC/Nの劣化を招く。
【0021】
ところで、図1では図示していないが、磁性層2上にエチレンとアルゴンの混合ガスを用いてプラズマCVD法によりダイヤモンドライク炭素膜を保護膜として形成し、更にこの保護膜上にフッ素化合物を含む潤滑剤層を形成することが好ましい。また、磁性層2を形成していない基体1の裏面側(下側)に、VTR走行系のガイドポール等との走行性を改善する目的で、バックコート層を設けることが好ましい。
【0022】
図2及び図3は、磁気記録媒体をX線光電子分光分析装置(ESCA)を用いて、スパッタエッチングにて保護層を含めた表面から深さ方向へ元素分析した結果を示している。ここで領域21〜23の酸素濃度について説明する。図2及び図3において、図の左側が磁気記録媒体の磁性層2の表面側で保護層として設けたダイヤモンドライク炭素膜を、図の中央部分が磁性層2を、そして図の右側が基体1を分析した結果を示す。図1の領域21〜23は図2及び図3に示す範囲となる。領域21の酸素濃度の最大値をMax1として、領域22の酸素濃度の最小値をMin2、領域23の酸素濃度の最大値をMax3としてこれらを比較する。なお、酸素濃度とは,磁性層2内部の金属原子に対する酸素量、即ち、本実施形態では、CoとCo−O全体に対するOの割合(原子%)を意味する。
【0023】
図2は、Max1が最も大きく、Min2が最も小さく、Max3はその中間である本発明一実施形態の磁気記録媒体である(Min2<Max3<Max1)。図3は、Max1が最も大きく、Min2とMax3がほぼ同じである他の実施形態の磁気記録媒体である(Min2=Max3<Max1)。なお、Max1とMax3が同じ(Min2<Max3=Max1)であってもよい。
図2のMax1、Max3や図3のMax1は局所的なピークを呈している。このようなピークは、磁性層2を蒸着する際に酸素過多とすることにより得られる。この酸素過多であるピーク部分は、磁性が弱い。
【0024】
本発明は基体1上に強磁性金属と酸素とを含む単層の磁性層2を形成した磁気記録媒体において、磁性層2を厚さ方向に均等に3分割し、基体1側から磁性層の表面側に向かってそれぞれ第1、第2、第3の領域としたとき、第1の領域の酸素濃度の最大値Max1と、第2の領域の酸素濃度の最小値Min2と、第3の領域の酸素濃度の最大値Max3とが、
Min2<Max1かつMin2≦Max3≦Max1
となる関係とすることで、高保磁力を有し、短波長記録領域において高い再生出力及び高いC/Nを示す磁気記録媒体を得ている。
【0025】
続いて図4及び図5を用いて、上述した構成を有する本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
本発明の一実施形態である磁気記録媒体を構成する磁性層2は、真空蒸着槽内(図示せず)に酸素を導入しながらの電子ビーム蒸着法による1回の蒸着工程で、基体1上に形成されるものである。
【0026】
図4で、高分子基体1は供給側ロール3から矢印aの方向へ引き出され、円筒状冷却キャンロール4に沿って走行し、矢印bの方向に向かって巻取側ロール5に巻き取られる。このとき、結晶粒となり磁性層2を形成する蒸発物質12(Co)は、坩堝11に充填され、電子ビーム13で加温されることにより蒸発し、防着板6と防着板8の間の開口部において、キャンロール4上を走行する基体1上に蒸着される。磁性層2を形成するコラム2cは連続的に成長する。即ち、領域21〜23は連続的に形成される。またこのとき、防着板6、8それぞれの開口部側の端部6a、8aに近接して設けられた酸素供給口9、10より酸素ガスを導入することによって、蒸発物質12の酸化物層を形成することができる。
【0027】
磁性層2の初期、中期及び後期領域21〜23それぞれの酸素濃度は、酸素供給口9、10からの酸素供給量、酸素供給装置の構造あるいはCoの蒸発速度等によって制御できる。
また、θ1、θ2は蒸発物質12の基体1への入射角(蒸発物質12の基体1への入射方向と基体法線のなす角)を示す。コラム2cの成長開始部分の基体1の法線方向に対する傾斜角度θi及び成長終了部分の基体1の法線方向に対する傾斜角度θeは、それぞれθ1、θ2並びに酸素供給口9、10からの酸素供給量、酸素供給装置の構造あるいは端部6a、8a近傍のCo濃度によって制御できる。
【0028】
次に、図5は酸素ボックス14を有する磁気記録媒体製造装置を示している。なお、図5において、図4と同一部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
酸素ボックス14への酸素供給は、マスフロー計によりコントロールされた配管にて行われる。また、酸素の出口には、基体1の幅方向に均一なスリット14s(幅2〜10mm)を設けた。このスリット14sから出た酸素は、結晶粒の成長開始部分に飛散してくるコバルト蒸気流を乱す。これにより基体1上に成長を開始するコラム2cの、基体1の法線方向に対する傾斜角度θiを30度以下にすることができる。
【0029】
図7〜図10は、従来の磁気記録媒体の元素分析結果である。理解を容易にするため図1の領域21〜23に相当する範囲を図7〜図10でも示す。
【0030】
図7は、どの領域の酸素濃度も同じ(Max1=Min2=Max3)磁気記録媒体である。図8は、後期領域23の酸素濃度Max3が最も大きく、Max1とMin2がほぼ等しい(Min2=Max1<Max3)磁気記録媒体である。図9も、後期領域23の酸素濃度Max3が最も大きい(Min2<Max1<Max3)磁気記録媒体である。図10は、2層蒸着により形成した磁気記録媒体で、後期領域23の酸素濃度Max3が初期領域21の酸素濃度Max1より大きい(Min2<Max1<Max3)磁気記録媒体を示している。
これらの従来例では、後述のように、磁気記録媒体は高保磁力を有さず、短波長記録領域における高い再生出力及び高いC/Nを得ることもできない。
【0031】
以下、本発明の一実施形態である磁気記録媒体の実施例1〜実施例9と、比較例1〜比較例9について順次説明する。
【0032】
(実施例1)
真空中において図4に示すようにして高分子基体上に強磁性金属薄膜を形成した。本実施例では高分子基体1として、粒状突起とミミズ状突起を有する厚み6.4μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、磁性金属として純コバルト(Co)を使用した。供給側ロール3に巻回された基体1をキャンロール4に沿って150m/minで矢印a方向に走行させ、坩堝11に、蒸発物質12としてCoを充填し、電子ビーム13で溶解、蒸発させたところに、酸素供給口9、10より酸素を導入しながら真空蒸着を行った。この時、θ1を90度、θ2を40度に設定し、酸素供給口9からは50sccm(standard cm3/min)の酸素を、酸素供給口10からは2200sccmの酸素を導入して膜厚約0.18μmの蒸着テープを得た。蒸着テープの厚みは電子ビーム13の出力を制御することにより調整した。その後、保護膜、潤滑剤層及びバックコート層を形成した。最後に、通常のスリッタを用いて1/4インチ幅に裁断して、本発明の磁気記録媒体を作製した。
この磁気記録媒体の酸素濃度分析結果は図2で説明した通りである。
【0033】
(実施例2)
実施例1において、θ1を80度、θ2を55度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を1800sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。この磁気記録媒体の酸素濃度分析結果は図3で説明した通りである。
【0034】
(実施例3)
実施例1において、θ1を80度、θ2を55度に設定して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0035】
(実施例4)
実施例1において、θ1を90度のままとし、θ2を30度に設定して、酸素供給口9からの酸素量を80sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0036】
(実施例5)
実施例1において、酸素供給口9からは30sccmの酸素を、酸素供給口10からは2500sccmの酸素を導入して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0037】
(実施例6)
実施例1において、酸素供給口10からの酸素量を2000sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0038】
(実施例7)
実施例1において、θ1を90度のままとし、θ2を35度に設定して、酸素供給口10から2000sccmの酸素を導入し、酸素供給口9からの酸素を止めて、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0039】
(実施例8)
真空中において図5に示すようにして高分子基体1上に強磁性金属薄膜を形成した。本実施例では高分子基体1として粒状突起とミミズ状突起を有する厚み6.4μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、磁性金属としてCoを使用した。供給側ロール3に巻回された基体1をキャンロール4に沿って150m/minで矢印a方向に走行させ、坩堝11に、蒸発物質12としてCoを充填し真空蒸着を行った。この時、θ1を90度、θ2を35度に設定し、酸素供給口10から2200sccmの酸素を、酸素ボックス14へは50sccmの酸素を導入して膜厚約0.18μmの蒸着テープを得た。
【0040】
(実施例9)
実施例8において、酸素ボックス14への酸素導入量を80sccmへ変更して、その他は実施例8と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0041】
(比較例1)
実施例1において、θ1を60度に設定し、θ2を40度のままとして、酸素供給口10から2100sccmの酸素を導入し、酸素供給口9からの酸素を止めて、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。この磁気記録媒体の酸素濃度分析結果は図7で説明した通りである。
【0042】
(比較例2)
実施例1において、酸素供給口10からの酸素量を3000sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0043】
(比較例3)
実施例1において、θ1を80度、θ2を55度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を2000sccmに変更し、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。この磁気記録媒体の酸素濃度分析結果は図9で説明した通りである。
【0044】
(比較例4)
実施例1において、θ1を90度のままとし、θ2を45度に設定して、酸素供給口9からの酸素量を100sccmに、酸素供給口10からの酸素量を2000sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0045】
(比較例5)
実施例1において、θ1を90度のままとし、θ2を30度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を2000sccmに変更して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0046】
(比較例6)
実施例1において、θ1を90度のままとし、θ2を60度に設定して、その他は実施例1と全く同じようにして、蒸着テープを得た。
【0047】
(比較例7)
実施例1において、θ1を50度、θ2を30度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を1700sccmに変更し、酸素供給口9からの酸素を止めて、膜厚が0.15μmになるようにして、その他は実施例1と同様の条件で、第1の磁性層31を形成した。その後電子ビームを止めて図示せぬシャッターを閉じ、巻取側ロール5に巻き取った基体1が蒸着されないように、走行方向と逆方向へ走らせ供給ロール3に巻き戻した。続いてθ1を90度、θ2を55度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を300sccmに変更し、酸素供給口9からの酸素を止めて、膜厚が0.03μmになるようにして、その他は実施例1と同様の条件で第2の磁性層32を形成し、蒸着テープを得た。この磁気記録媒体を模式的に拡大して示した断面図は図6(B)である。酸素濃度分析結果は図10で説明した通りである。
【0048】
(比較例8)
実施例1において、θ1を20度、θ2を−20度に設定し、酸素供給口10からの酸素量を300sccmに変更し、酸素供給口9からの酸素を止めて、膜厚が0.01μmになるようにして、その他は実施例1と同様の条件で、第1の磁性層31を形成した。その後電子ビームを止めて図示せぬシャッターを閉じ、巻取側ロール5に巻き取った基体1が蒸着されないように、走行方向と逆方向へ走行させ供給ロール3に巻き戻した。続いて今度はθ1を90度、θ2は60度に設定して、酸素供給口10からの酸素量を2000sccmに変更し、酸素供給口9からの酸素を止めて、膜厚が0.17μmになるようにして、その他は実施例1と同様の条件で、第2の磁性層32を形成した蒸着テープを得た。
【0049】
(比較例9)
実施例1において、防着板6と防着板7及び酸素供給口9を取り除き、防着板15と薄板(反射板)16を図11の様に、キャンロール4上を走行する基体1とほぼ対向した位置に配置した。このとき薄板16はCoの融点以上に加熱されている。薄板16によって反射されたCo原子により斜め磁気異方性を有する磁性層2が形成されたのち、蒸発源から直接Co原子が飛来して磁性層2が形成されるようにして、酸素供給口10からは2200sccmの酸素を導入し、その他は実施例1と同様の条件で蒸着テープを得た。この磁気記録媒体の酸素濃度分析結果は図8で説明した通りである。
【0050】
前述した実施例1〜実施例9と、比較例1〜比較例9により得た各蒸着テープの作製条件を整理し、表1に示す。
【0051】
【表1】
【0052】
以上のように作製した磁気記録媒体磁性層の、結晶粒からなるコラムの成長開始角度θi並びに表面での成長終了角度θe、θが30度を超えるまでの厚みδを、透過型電子顕微鏡による断面TEM(Transmission Electron Microscope)写真にて測定した。また、VSM(振動型磁力計)を用いて静磁気特性を測定した。更に、市販のデジタルビデオカメラ(本出願人製、型番GR-DV1)を用いて、短波長記録領域(21MHz)における再生出力とC/Nを測定した。これらの電気特性は、本出願人基準テープを0[dB]として、相対値で示した。
【0053】
ESCAによる磁気記録媒体の全深さ方向の元素分析は、製品名「AXIS−HS」(KRATOS社製)を用いて、X線出力12kV、10mAでの元素分析と、アルゴンガスによるスパッタエッチングとを繰り返すことで行った。
この時、磁気記録媒体磁性層内部の金属原子に対する酸素量[原子%(at%)](酸素濃度)について評価を行った。
評価方法は、初期領域21の最大酸素濃度Max1、中期領域22の最小酸素濃度Min2及び後期領域23の最大酸素濃度Max3について測定し、その比率Max1/Min2とMax3/Min2を求めたものである。
以上の結果を、表2に示す。なお、表2において厚みδが無しとは、磁性層が2層であり結晶粒が連続していないことを意味する。
【0054】
【表2】
【0055】
表2から明らかなように、本実施形態の磁気記録媒体(実施例1〜9)においては、基体1上に形成された磁性層2は、それぞれ酸素を含む初期領域21、中期領域22及び後期領域23に均等に3分割した際、初期領域21の最大酸素濃度Max1が最も大きく、中期領域22の最小酸素濃度Min2はMax1よりも小さく(Min2<Max1)かつ、後期領域23の最大酸素濃度Max3はMin2以上Max1以下(Min2≦Max3≦Max1)である構成になっている。そして表2の再生出力及びC/Nの欄から明らかなように、従来の磁気記録媒体と比較して、高い再生出力及び高いC/Nが得られた。
【0056】
磁性層の保磁力は中期領域の酸素濃度に依存しやすい。本発明ではこの中期領域の酸素濃度が最適となるように酸素導入量を制御して、本発明の実施形態の磁気記録媒体を得ている。本発明では、Max1、Min2、Max3の関係を上述のようにすることにより、中期領域の酸素濃度を適切範囲内で高めることができた。このことにより、スペーシングロスによる再生出力の低下が問題とならない程度の高い再生出力を得ることができた。
【0057】
以上より、本実施形態では磁性層の酸素濃度が、Min2<Max1かつMin2≦Max3≦Max1である構成を有することに加えて、表2に示すように、中期領域22の酸素濃度としては18%以上33%以下が好ましい。
また、中期領域22と後期領域23の酸素濃度の比率に着目すると、Max3/Min2は常に1.4以下であり、更に、初期領域21と中期領域22の酸素濃度の比率Max1/Min2が1.1以上であれば、ノイズが減少しC/Nの向上が図られているため、高い再生出力及び高いC/Nが得られる。
【0058】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の磁気記録媒体によれば、従来の磁気記録媒体に比べて、高保磁力を有しかつ、短波長記録領域での高い再生出力及び高いC/Nを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体を模式的に拡大して示す断面図である。
【図2】本発明の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図3】本発明の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図4】本発明の磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置の概略構成図である。
【図5】本発明の磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置の概略構成図である。
【図6】従来の磁気記録媒体を模式的に拡大して示す断面図である。
【図7】従来の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図8】従来の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図9】従来の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図10】従来の磁気記録媒体を元素分析した結果を示す特性図である。
【図11】従来の磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1 高分子基体
2 磁性層
21 初期領域
22 中期領域
23 後期領域
2c コラム
3 供給側ロール
4 円筒状冷却キャンロール
5 巻取側ロール
6、7、8 防着板
9、10 酸素供給口
11 坩堝
12 蒸発物質
13 電子ビーム
14 酸素ボックス
Claims (3)
- 基体上に強磁性金属と酸素とを含む単層の磁性層を形成した磁気記録媒体において、
前記磁性層を構成する強磁性金属の結晶粒からなるコラムが前記基体上で成長を開始する際の前記基体の法線方向に対する傾斜角度が0°以上30°以下であり、前記磁性層の表面で成長を終了する際の前記基体の法線方向に対する傾斜角度が20°以上50°以下であり、
前記磁性層を厚さ方向に均等に3分割し、前記基体側から前記磁性層の表面側に向かってそれぞれ第1、第2、第3の領域としたとき、前記第1の領域の酸素濃度の最大値Max1と、前記第2の領域の酸素濃度の最小値Min2と、前記第3の領域の酸素濃度の最大値Max3はそれぞれ、
22≦Max1≦39[at%]
18≦Min2≦33[at%]
22≦Max3≦39[at%]
であり、前記最大値Max3は前記最小値Min2の1.4倍以下であり、
前記最大値Max1と最小値Min2と最大値Max3とは、Min2≦Max3<Max1又はMin2<Max3≦Max1の関係を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記最大値Max1は前記最小値Min2の1.1倍以上であることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
- 前記コラムが前記基体上で成長を開始して前記コラムの前記基体の法線方向に対する傾斜角度が30°を超えるまでの厚さが3nm以上14nm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気記録媒体。
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