JP4034262B2 - リソグラフ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
− 放射の投影ビームを供給する放射システムであって、瞳孔面内における前記ビームの位置依存強度分布を画定する照明システムを備える放射システムと、
− パターン化手段を支持する支持構造であって、照明システムが前記瞳孔面内の位置依存強度分布に依存してパターン化手段における前記ビームの角度依存強度分布を画定するものである支持構造と、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。
− マスク。マスクの概念は、リソグラフではよく知られており、様々な混成マスクの種類はもちろんのこと、2進位相シフト、交番位相シフトおよび減衰位相シフトのようなマスクの種類を含む。そのようなマスクを放射ビーム内に配置することで、マスクのパターンに応じて、マスクに当たる放射の選択的な透過(透過マスクの場合)または反射(反射マスクの場合)が起こる。マスクの場合、支持構造は一般にマスク・テーブルであり、このマスク・テーブルによって、マスクを入射放射ビーム内の所望の位置に確実に保持することができるようになり、さらに、望むならば、マスクをビームに対して移動させることができるようになる。
− プログラム可能ミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリック・アドレス指定可能表面である。そのような装置の基本原理は、(例えば)反射表面のアドレス指定された領域は入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されない領域は入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、前記非回折光を反射ビームからフィルタ除去して、後に回折光だけを残すことができる。このようにして、マトリックス・アドレス指定可能表面のアドレス指定パターンに従って、ビームはパターン化されるようになる。プログラム可能ミラー・アレイの他の実施例では、小さなミラーのマトリックス配列が使用される。この小さなミラーの各々は、適切な局部電界を加えることで、または圧電作動手段を使用することで、軸の周りに個々に傾斜させることができる。再び、ミラーは、アドレス指定されたミラーとアドレス指定されないミラーが異なる方向に入射放射ビームを反射するように、マトリックス・アドレス指定可能である。このようにして、反射ビームは、マトリックス・アドレス指定可能ミラーのアドレス指定パターンに応じてパターン化される。必要なマトリックス・アドレス指定は、例えば、適切な電子的手段を使用して行うことができる。上記の両方の状況で、パターン化手段は1つまたは複数のプログラム可能ミラー・アレイを含むことができる。ここで言及したようなミラー・アレイについて、例えば、米国特許第5,296,891号および米国特許第5,523,193号、およびPCT特許出願WO98/38597およびWO98/33096からより多くの情報を収集することができる。これらの特許および特許出願は、参照によってここに援用される。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具体化することができ、それらは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
− プログラム可能液晶表示(LCD)パネル。そのようなデバイスの実施例は、米国特許第5,229,872号に与えられている。この特許は、参照によってここに援用される。上記のように、この場合の支持構造は、例えば、フレームまたはテーブルとして具体化することができ、それらは、必要に応じて、固定するか、可動にすることができる。
− 放射感応材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を供給するステップと、
− 放射システムを使用して放射の投影ビームを供給するステップであって、放射システムが瞳孔面内における投影ビームの強度分布の位置依存性を画定する照明システムを備え、この位置依存性が基板における投影ビームの強度分布の角度依存性を決定するものであるステップと、
− 放射感応材料の前記層の目標部分に前記パターン化された放射のビームを投影するステップとを備え、
− 前記投影ビームから副ビームを分離させるステップと、
− 前記副ビームを横切って強度分布を測定するステップと、
− 前記副ビームを横切って測定された強度分布に依存して、瞳孔面の強度分布を制御するステップとを特徴とする。
− この特別な場合には放射源LAも備える、放射の投影ビームPB(例えば、紫外放射)を供給するための放射システムEx、ILと、
− マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備えた第1の物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
− 基板W(例えば、レジスト被覆シリコン・ウェーハ)を保持するための基板ホルダを備えた第2の物体テーブル(基板テーブル)WTと、
− マスクMAの照射部分の像を基板Wの目標部分C(例えば、1つまたは複数のダイを含む)に形成するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、屈折式、反射式、カタディオプトリック式のレンズ)とを備える。
ここに示すように、この装置は透過型(例えば、透過マスクを有する)である。しかし、一般には、例えば、反射マスクを有する反射型であることができる。もしくは、この装置は、例えば上で言及したような型のプログラム可能ミラー・アレイのような別の種類のパターン化手段を使用することができる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは基本的に静止したままであり、全マスク像が一括して(すなわち、単一「フラッシュ」で)目標部分Cに投影される。次に、異なる目標部分CがビームPBで照射されるように、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向に移動される。
Ex、IL 放射システム
IL 照明システム(照明装置)
PL 投影システム
MA マスク(レチクル、パターン化手段)
MT 第1の物体テーブル(マスク・テーブル)
C 目標部分
PB 投影ビーム
W 基板(ウェーハ)
WT 第2の物体テーブル(基板テーブル)
11 制御ユニット
12 角度依存性成形ユニット
14 瞳孔面
16 内部反射ロッド
22 位置依存強度検出器
24 位置依存性制御ユニット
30 検出要素
32 半透明ミラー
181 ビーム・スプリッタ
182 ミラーの前面
183 蛍光シート
184 位置依存センサ(CCDカメラ)
Claims (15)
- 放射の投影ビームを供給する放射システムであって、
瞳孔面内における前記ビームの位置依存強度分布を画定する照明システムを備える放射システムと、
パターン化手段を支持する支持構造であって、前記照明システムが前記瞳孔面内の位置依存強度分布に依存して前記パターン化手段における前記ビームの角度依存強度分布を画定するものである支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分に前記パターン化されたビームを投影する投影システムと、
前記投影ビームの経路中に永久的に位置する、副ビームを分離させるビーム・スプリッタと、
前記瞳孔面に対応する位置依存強度分布について情報を検出するための、前記副ビームの経路中に検出要素を有する検出器と、
制御可能なパラメータを有し、且つ、ズーム・レンズ、アキシコン、及びマイクロ・ミラーアレイを含む光学要素と、
前記検出器に結合された入力および前記光学要素に結合された出力を有し、前記検出された情報に依存して前記パラメータを制御する制御器と、
を備え、
前記制御器が、前記瞳孔面における強度分布の所望の位置依存性を受け取るためのインタフェースを有し、
前記制御器が、前記所望の位置依存性に近づけるように前記パラメータを調整するように構成されている、
リソグラフ装置。 - 前記光学要素が、それぞれの個々に制御可能な方向にそれぞれ前記投影ビームの方向を変える要素のマトリックスを備え、
前記制御器が、前記瞳孔面の領域の所望の強度と測定された強度の違いに依存して、前記ビームの方向を変える前記要素のほんの一部を前記領域に適応させるように構成されている、
請求項1記載のリソグラフ装置。 - 前記制御器が、少なくとも基板の露光中に、前記測定された位置依存性に依存して前記パラメータを制御するように構成されている、
請求項1または2に記載のリソグラフ装置。 - 前記ビーム・スプリッタが、前記投影ビームの経路中の前記瞳孔面からずれたところに位置付けされ、
前記検出要素が、前記副ビーム全体にわたって強度分布を検出するように構成され、前記装置が、前記瞳孔面と前記検出要素の間の副経路に沿った放射の伝搬によって生じる前記瞳孔面での強度分布と前記検出要素での強度分布の違いをデコンボリューションするためのデコンボリューション・ユニットを備える、
請求項1〜3のいずれか一項に記載のリソグラフ装置。 - 前記ビーム・スプリッタが、前記投影ビームの一部を反射するミラー表面を備え、
前記ミラー表面が、前記投影ビームのさらに他の一部を前記副ビームとして透過し、
前記検出要素が、前記ミラー表面の裏面側で前記副ビームを実質的に遮る、
請求項1〜4のいずれか一項に記載のリソグラフ装置。 - 前記ビーム・スプリッタが、前記投影ビームの一部を反射するミラー表面を備え、
前記ミラー表面が、前記投影ビームのさらに他の一部を前記副ビームとして透過し、
前記検出要素が、前記ミラー表面の後で前記副ビームを遮り、1つまたは複数の補正光学要素が前記ミラー表面と前記検出要素の間に含まれる、
請求項1〜5のいずれか一項に記載のリソグラフ装置。 - 最初の瞳孔面と、前記ビームの強度分布の位置依存性を取り除く反射側壁を有する光伝導性ロッドであって、前記最初の瞳孔面と前記最初の瞳孔面の第1の像面の間の前記投影ビームの経路中に含まれる光伝導性ロッドと、前記最初の瞳孔面の像を前記瞳孔面の前記第1の像面に形成する1つまたは複数の光学要素とを備え、
前記ビーム・スプリッタが前記ビームの経路中の前記ロッドの後に位置付けされている、
請求項1〜6のいずれか一項に記載のリソグラフ装置。 - 前記ビーム・スプリッタが、前記最初の瞳孔面の前の前記ビームの経路中に位置付けされている、
請求項1〜7のいずれか一項に記載のリソグラフ装置。 - 放射感応材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を供給するステップと、
放射システムを使用して放射の投影ビームを供給するステップであって、前記放射システムが瞳孔面内における前記投影ビームの位置依存強度分布を画定する照明システムを備え、前記位置依存性が前記基板における前記投影ビームの強度分布の角度依存性を決定するものであるステップと、
パターン化手段を使用して前記投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
放射感応材料の前記層の目標部分に前記パターン化された放射のビームを投影するステップと、
前記投影ビームから副ビームを分離させるステップと、
前記副ビームを横切って強度分布を測定するステップと、
前記副ビームを横切って測定された前記強度分布に依存して、前記瞳孔面の強度分布を制御するステップと、
前記瞳孔面の強度分布の所望の位置依存性を受け取るステップと、
前記照明システムに備わるズーム・レンズ、アキシコン、及びマイクロ・ミラーアレイを含む光学要素のパラメータを、前記測定された位置依存性の制御下にある帰還ループで使用し、前記ビームの強度分布の位置依存性を前記所望の位置依存性に近づけるステップと、
を有するデバイス製造方法。 - 前記照明システムが、それぞれの個々に制御可能な方向にそれぞれ前記投影ビームの方向を変える要素のマトリックスを備え、
前記方法が、前記瞳孔面の領域の所望の強度と測定された強度の違いに依存して、前記ビームの方向を変える前記要素のほんの一部を前記領域に適応させることを含む、
請求項9に記載のデバイス製造方法。 - 前記制御器が、放射感応材料の前記層の露光中に、前記測定された位置依存性に依存して前記パラメータを制御するように構成されている、
請求項9または10に記載のデバイス製造方法。 - 前記副ビームが、前記投影ビームの経路中の前記瞳孔面からずれた位置で前記投影ビームから分離され、
測定することが、前記副ビームを横切る面の強度分布を測定すること、および前記瞳孔面と前記検出要素の間の副経路に沿った放射の伝搬によって生じる前記瞳孔面の強度分布と前記面の強度分布の間の違いをデコンボリューションすることを含む、
請求項9〜11のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記分離するステップが、前記投影ビームの一部が反射され、かつ前記副ビームを形成する前記投影ビームの他の一部が透過される部分的に透明なミラー表面を使用して行われ、前記副ビームが、前記強度分布の検出のために前記ミラー表面の裏面で実質的に遮られる、
請求項9〜12のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記投影ビームの強度分布を均一化することを備え、
前記副ビームが均一化後に分離される、
請求項9〜13のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記瞳孔面の前記位置依存性を調整すると同時に、前記基板における前記投影ビームの強度分布の位置依存性を調整することを含む、
請求項9〜14のいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
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