JP3986492B2 - リソグラフィ装置並びにビームサイズおよび発散性を決めるための方法 - Google Patents
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Description
− 放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
− 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング
手段を支持するための支持構造体、
− 基板を保持するための基板テーブル、
− このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム
、
− 放射線ビームを通して指向する開口、
− 上記開口を通る放射線ビームの強度を測定するための検出器、および
− この放射線ビームの位置または指向方向を変えるための手段、含むリソグラフィ装
置におけるある方法の応用に関する。
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィでよく知られ、それは、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。そのようなマスクを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターンに従って、このマスクに入射する放射線の選択透過(透過性マスクの場合)または選択反射(反射性マスクの場合)を生ずる。マスクの場合、この支持構造体は、一般的にマスクテーブルであり、それがこのマスクを入射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、およびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせることを保証する。
ビームサイズおよび発散性を決めるための上記の手順は、この装置を非生産的状態に保つことに伴うコストは言うまでもなく、退屈で時間がかかることは明白である。
ビームサイズを二つの直交方向で決められるように、上記操向ミラーが二つの異なる方向に傾斜可能であるのが都合がよい。
放射線ビームを用意する工程、
開口を用意する工程、
上記開口を通る放射線ビームの強度を測定するための検出器を用意する工程、
上記開口に対する放射線ビームの位置を変える工程、
最大強度に対するこの開口を通る放射線ビームの強度をこの放射線ビームの相対運動の関数として測定する工程、および
実測強度からこの放射線ビームのビームサイズを相対運動の関数として計算する工程を含む方法が提供される。
好適実施例で、上記放射線ビームの(絶対)発散性を指向方向の関数として実測強度から計算してもよい。
図1は、この発明の特別の実施例によるリソグラフィ装置を概略的に描く。この装置は:
− 放射線(例えば、深紫外領域の光)の投影ビームPBを供給するための、放射線システムLA、Ex、2、IL;
− マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダを備え、且つこのマスクを部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め手段PMに結合された第1物体テーブル(マスクテーブル)MT;
− 基板W(例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ)を保持するための基板ホルダを備え、且つこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め手段PMに結合された第2物体テーブル(基板テーブル)WT;および
− マスクMAの被照射部分を基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(“レンズ”)PLを含む。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標部分C上に一度に(即ち、単一“フラッシュ”で)投影する。次に基板テーブルWTをxおよび/またはy方向に移動して異なる目標部分CをビームPBで照射できるようにする;並びに
2.走査モードでは、与えられた目標部分Cを単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルMTが与えられた方向(所謂“走査方向”、例えば、y方向)に速度vで動き得て、それで投影ビームPBがマスク像の上を走査させられ;同時に、基板テーブルWTがそれと共に同じまたは反対方向に速度V=Mvで動かされ、このMはレンズPLの倍率(典型的には、M=1/4または1/5)である。この様にして、比較的大きい目標部分Cを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
図5に、ビーム測定ユニットBMU8の詳細説明図を示す。ズーム・アキシコンAMの方向に伝搬する放射線ビーム3(DUVレーザビーム)から内部結合ミラー9によって1%を分離する。この分離したビーム10は、レンズ11を通り、反射ミラー12を介して第2半反射式ミラー13に達し、それがこのDUVレーザビーム10を両半分に分ける。ミラー13を通過する部分をレンズ14によって蛍光性ターゲット15(この例では:YAG:Ce)上に結像する。ミラー13が反射するこのビームの他の部分は、レンズ16によって第2蛍光性ターゲット17上に集束する。両光路の構成は、レンズ11と14の組合せがDUVレーザビームの像を蛍光性YAG:Ceターゲット15上に作り、一方レンズ11と16の組合せがDUVレーザビーム10を蛍光性ターゲット17上に集束するようになっている。従って、レンズ組合せ11および14は、ビームの位置を測定するために使い、一方レンズ組合せ11および16は、レーザビームの指向方向を測定するために使う。この深紫外光は、YAG:Ce結晶で吸収する。この結晶は、可視光を出し、それをレンズ20によって位置感応デバイス(PSD)18および19上に1:1で結像する。
2 指向ミラー
3 放射線ビーム
4 開口
5 プロセッサ
21 操向ミラー
22 第2操向ミラー
31 ビームサイズ
C 目標部分
ES 検出器
Ex ビーム拡大器
IL 照明システム
LA 放射線源
MA パターニング手段
MT 支持構造体
PB 投影ビーム
PL 投影システム
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (22)
- 放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、Ex、2、IL)、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体、
− 基板(W)を保持するための基板テーブル、
− パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するための投影システム、
− 放射線ビームを通して指向する開口、
− 上記開口を通る放射線ビームの強度を測定するための検出器、および
− 放射線ビーム(3)の位置を変えるための手段、含むリソグラフィ装置であって、
該リソグラフィ装置が、更に、前記放射線ビームと前記開口の相対運動によってこの開口を通る放射線ビームの強度を変えるために、放射線ビームの位置を変えるための前記手段に接続したプロセッサを含み、該プロセッサが更に前記検出器に接続してあり、プロセッサが実測した強度および相対運動から放射線ビームのビームサイズを計算するように構成され、
前記放射線ビームの位置を変えるための前記手段が前記開口から比較的大きい距離に位置し且つ前記プロセッサに接続してある傾斜可能な操向ミラーを含み、かつ前記プロセッサが前記反射された放射線ビームの相対運動を前記操向ミラーの受光傾斜角の関数としておよび前記操向ミラーおよび前記開口の間の所定のビーム投射長さの関数として計算するように構成してあることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記プロセッサは、前記放射線ビームの第1相対位置で第1相対強度をおよび放射線ビームの第2相対位置で第2相対強度を受けるように、かつ第1および第2相対位置および第1および第2相対強度の比として前記ビームサイズ(31)を計算するように構成してある請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2相対位置がこの放射線ビームの10%および90%相対強度に対応し、かつ上記ビームサイズを前記第1および第2相対位置の間の差から計算する請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記プロセッサは、前記放射線ビームが前記開口の第1側で少なくとも部分的にこの開口に重なる、放射線ビームの第3相対位置で第3相対強度を受け、および前記放射線ビームが前記開口の前記第1側と反対の第2側で少なくとも部分的に開口に重なる、放射線ビームの第4相対位置で第4相対強度を受けるように構成してあり、プロセッサは、更に、前記ビーム投射長さを、放射線ビームの前記第3および第4相対位置に対応する第3および第4傾斜角並びに前記開口(4)の前記対向する側間の所定の距離の関数として計算するように構成してある請求項1ないし請求項3の何れか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記操向ミラーが二つの異なる方向に傾斜可能である請求項1ないし請求項4の何れか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記開口が回折光学素子のフレームの縁によって出来ていることを特徴とする請求項1ないし請求項5の何れか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記放射線ビームのビームサイズを変えるための光学素子をさらに含み、前記放射線ビームを所望のビームサイズに調節するように、前記光学素子が前記プロセッサに接続してある請求項1ないし請求項6の何れか1項に記載されたリソグラフィ装置。
- 放射線の投影ビームを供給するための放射線システム、
所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体、
基板を保持するための基板テーブル、
パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するための投影システム、
放射線ビームの一部を焦点面に集束するように構成した集束素子、
前記集束素子の前記焦点面に配置した開口、
前記開口を通る放射線ビームの強度を検出するための検出器、および
放射線ビームの指向方向を変えるための手段、含むリソグラフィ装置に於いて、
該リソグラフィ装置が、放射線ビームの指向方向の変更によって前記開口を通る前記放射線ビームの強度を変えるために、放射線ビームの指向方向を変えるための前記手段に接続したプロセッサをさらに含み、プロセッサが更に前記検出器に接続してあり、プロセッサが実測した強度および指向方向から放射線ビームのビーム発散性を計算するように構成してあることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記放射線ビームの指向方向を変えるための前記手段が二つの異なる方向に傾斜可能な操向ミラーを含み、前記操向ミラーは、それを傾斜することによって放射線ビームの指向方向を実質的に変えるように、前記開口から比較的小さい距離に位置する請求項8に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記検出器がエネルギーセンサおよび位置検出器の一つを含む請求項8又は請求項9に記載されたリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置で放射線ビームのビームサイズを決める方法であって、
放射線ビーム(3)を用意する工程、
開口を用意する工程、
前記開口を通るこの放射線ビームの強度を測定するための検出器を用意する工程、
前記開口に対する放射線ビームの位置を変える工程、
最大強度に対する開口を通る放射線ビームの強度をこの放射線ビームの相対運動の関数として測定する工程、および
実測強度から放射線ビームのビームサイズを相対運動の関数として計算する工程、を含み、
前記開口から比較的大きい距離に傾斜可能な操向ミラーを用意する工程、
前記操向ミラーを傾斜することによって前記放射線ビームの位置を実質的に変えるように操向ミラーによって放射線ビームを反射する工程、および
前記反射した放射線ビームの相対運動を前記操向ミラーの傾斜角の関数としておよび前記操向ミラーと前記開口の間の所定のビーム投射長さの関数として計算する工程、をさらに含むビームサイズを決める方法。 - 前記ビームサイズを計算する工程が、
上記放射線ビームの第1相対位置で第1相対強度を決める工程、
放射線ビームの第2相対位置で第2相対強度を決める工程、および
ビームサイズを第1および第2相対位置並びに第1および第2相対強度の差の比として計算する工程を、含むことを特徴とする請求項11に記載された方法。 - 前記第1および第2相対位置が上記放射線ビーム(3)の10%および90%相対強度に対応する請求項12に記載された方法。
- 前記操向ミラーを二つの異なる方向に傾斜しおよび前記ビームサイズを二つの異なる方向で測定する請求項11から請求項13までの何れか1項に記載された方法。
- − 上記放射線ビーム(3)を所望のビームサイズに調節するように、上記放射線ビーム(3)のビームサイズ(31)を変える工程、をさらに含む請求項11から請求項14までの何れか1項に記載された方法。
- 前記放射線ビームが前記開口の第1側で少なくとも部分的に開口に重なる、前記操向ミラーの第3相対傾斜角に相当する、放射線ビームの第3相対位置で第3相対強度を測定する工程、
前記放射線ビームが前記開口の前記第1側と反対の第2側で少なくとも部分的に開口に重なる、前記操向ミラーの第4相対傾斜角に相当する、放射線ビームの第4相対位置で第4相対強度を測定する工程、および
前記ビーム投射長さを、前記第3および第4傾斜角並びに前記開口の前記対向する側間の所定の距離から計算する工程、をさらに含む請求項11から請求項15までの何れか1項に記載された方法。 - 前記放射線ビームの前記第3および第4相対位置が前記開口を通る50%相対強度に対応する請求項16に記載された方法。
- リソグラフィ装置で放射線ビームのビーム発散性を決める方法であって、
放射線ビームを用意する工程、
集束素子を用意する工程、
前記集束素子の焦点面に開口を用意する工程、
前記開口を通る放射線ビームの強度を測定するための検出器を用意する工程、
前記集束素子によって前記放射線ビームの一部を焦点面に集束する工程、
前記放射線ビームの指向方向を変える工程、
最大強度に対する開口を通る放射線ビームの強度をこの放射線ビームの指向方向の関数として測定する工程、および
実測強度から放射線ビームのビーム発散性を指向方向の関数として計算する工程、を含むビーム発散性を決める方法。 - 前記ビームの発散性を計算する工程が、
前記放射線ビームの第1指向方向で第1相対強度を決める工程、
放射線ビームの第2指向方向で第2相対強度を決める工程、かつ
− このビーム発散性を第1および第2指向方向並びに第1および第2相対強度の差の比として計算する工程、を含むことを特徴とする請求項18に記載された方法。 - 前記検出器がエネルギーセンサおよび位置検出器の一つを含む請求項18又は請求項19に記載された方法。
- 前記開口から比較的小さい距離に位置する操向ミラーで前記放射線ビームを反射することによりおよび放射線ビームの指向方向を実質的に変えるように前記操向ミラーを二つの異なる方向に傾斜することにより、放射線ビーム(3)の指向方向を変える請求項18から請求項20までの何れか1項に記載された方法。
- 前記放射線ビームの前記ビームサイズおよび前記ビーム投射長さは、第1操向ミラーを傾斜することによって測定し、および放射線ビームの前記ビーム発散性は、第2操向ミラーを傾斜することによって決定し、前記第1操向ミラーは、前記放射線ビームの光路で前記第2操向ミラーの前に設けて、前記第1ミラーが放射線ビームの相対位置を実質的に変え且つ前記第2ミラーが放射線ビームの指向方向を実質的に変えるようになっている請求項11から請求項21までの何れか1項に記載された方法。
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