JP4030059B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
上記実施形態では、センサ50でスリット状吐出口31部の高さを連続して検出する場合について説明したが、センサ50でスリット状吐出口31部の高さを連続して検出する代わりに、断続的に検出してもよい。この場合、少なくともスリット状吐出口31部の両端部と中央部付近の3箇所を検出する方がよく、許容できる限り検出点を増やす方がよい。また、断続的に検出する場合は、塗布する膜厚に応じて検出点の数を自動的に変える構成としてもよい。塗布する膜厚が厚い程膜厚の許容誤差は大きくなるので、膜厚が大きくなるほど検出点数を減らすことが可能である。例えば、予め膜厚の範囲に応じて検出点数をCPU60に記憶させておき、塗布する膜厚の設定に基づいて、CPU60からの制御信号をセンサ50に伝達して、膜厚に応じた検出点数で自動的に検出するようにしてもよい。これにより、膜厚に応じた必要最小限の高さを検出することができるので、レジスト供給ノズル30と基板Gとの隙間調整を効率よく行うことができる。
22 基板保持台
23 移動機構
30 レジスト供給ノズル(処理液供給手段)
31 スリット状吐出口
40 保持体
44 取付ブロック
47 取付ボルト
50 光センサ(高さ検出手段)
54 センサ移動機構
60 CPU(制御手段)
70 モニタ(表示手段)
Claims (9)
- 被処理基板を保持する基板保持台と、
上記被処理基板の幅方向に延びるスリット状吐出口を有する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段を着脱及び調整可能に保持する保持体と、
上記基板保持台と保持体とを相対的に移動する移動機構と、
上記処理液供給手段のスリット状吐出口部の高さを検出する高さ検出手段と、
上記高さ検出手段を上記スリット状吐出口の一端から他端に沿って移動する高さ検出手段用移動機構と、を具備してなり、
上記高さ検出手段を、上記処理液供給手段のスリット状吐出口部と対向する位置を走査しつつスリット状吐出口部の高さを検出するセンサによって形成し、
上記高さ検出手段の走査を、上記被処理基板に上記処理液供給手段から処理液を供給する前に行う、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
上記高さ検出手段が、処理液供給手段のスリット状吐出口部の高さを連続して検出するセンサである、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
上記高さ検出手段が、処理液供給手段のスリット状吐出口部の少なくとも両端部と中央部付近を含む3箇所以上の高さを断続的に検出するセンサである、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置において、
上記高さ検出手段によって検出された検出データと予め記憶された高さ誤差許容データとを比較処理する制御手段と、この制御手段からの制御信号を表示する表示手段とを更に具備する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
上記制御手段は、予め被処理基板に形成される処理液の膜厚に応じた検出点数を記憶し、処理する膜厚の設定に基づいて、高さ検出手段が膜厚に対応した検出点数を検出するように制御可能に形成されている、ことを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を保持する基板保持台と、
上記被処理基板の幅方向に延びるスリット状吐出口を有する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段の進行方向の前方側に装着され、下端部が上記被処理基板の表面の***部に衝突した際に揺動することにより***部を検知するスキャンバーと、
上記処理液供給手段と上記スキャンバーを一体的に上記基板保持台に対して相対的に移動する移動機構と、
上記処理液供給手段のスリット状吐出口部の高さ及び上記スキャンバーの高さを検出する高さ検出手段と、
上記高さ検出手段を上記スリット状吐出口及びスキャンバーの一端から他端に沿って移動する高さ検出手段用移動機構と、を具備してなり、
上記高さ検出手段を、上記処理液供給手段のスリット状吐出口部と対向する位置及び上記スキャンバーの下端部と対向する位置を走査しつつスリット状吐出口部の高さ及びスキャンバーの高さを検出するセンサによって形成し、
上記高さ検出手段の走査を、上記被処理基板に上記処理液供給手段から処理液を供給する前に行う、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6記載の基板処理装置において、
上記センサの往動時に上記スキャンバーの高さを検出し、上記センサの復動時に上記スリット状吐出口部をセンサの上方に位置させスリット状吐出口部の高さを検出する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を保持する基板保持台と、
上記被処理基板の幅方向に延びるスリット状吐出口を有する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段を着脱及び調整可能に保持する保持体と、
上記基板保持台と保持体とを相対的に移動する移動機構と、
上記処理液供給手段のスリット状吐出口部の一端から他端までの高さを連続的又は断続的に検出する高さ検出手段と、
上記高さ検出手段を上記スリット状吐出口の一端から他端に沿って移動する高さ検出手段用移動機構と、
上記高さ検出手段の検出結果に応じて上記処理液供給手段の取付状態を表示する表示手段と、を具備してなり、
上記高さ検出手段を、上記処理液供給手段のスリット状吐出口部と対向する位置を走査しつつスリット状吐出口部の高さを検出するセンサによって形成し、
上記高さ検出手段の走査を、上記被処理基板に上記処理液供給手段から処理液を供給する前に行い、
上記高さ検出手段の検出結果が誤差許容範囲外で、かつ上記スリット状供給口の一端から他端まで直線的に増加又は減少している場合、上記処理液供給手段の取付の調整を促すように上記表示手段に表示し、
上記高さ検出手段の検出結果が誤差許容範囲外で、かつ上記スリット状供給口の一端から他端までの分布にばらつきがある場合、上記処理液供給手段の交換を促すように上記表示手段に表示する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 被処理基板を保持する基板保持台と、
上記被処理基板の幅方向に延びるスリット状吐出口を有する処理液供給手段と、
上記処理液供給手段の進行方向の前方側に装着され、下端部が上記被処理基板の表面の***部に衝突した際に揺動することにより***部を検知するスキャンバーと、
上記処理液供給手段と上記スキャンバーを一体的に上記基板保持台に対して相対的に移動する移動機構と、
上記処理液供給手段のスリット状吐出口部の高さを検出する高さ検出手段と、
上記高さ検出手段を上記スリット状吐出口の一端から他端に沿って移動する高さ検出手段用移動機構と、
上記スキャンバーの高さを検出する高さ検出手段と、
上記スキャンバー用高さ検出手段を上記スキャンバーの一端から他端に沿って移動するスキャンバーの高さ検出手段用移動機構と、を具備してなり、
上記スリット状吐出口部の高さ検出手段を、上記処理液供給手段のスリット状吐出口部と対向する位置を走査しつつスリット状吐出口部の高さを検出するセンサによって形成し、
上記スリット状吐出口部の高さ検出手段の走査を、上記被処理基板に上記処理液供給手段から処理液を供給する前に行い、
上記スキャンバーの高さ検出手段を、上記スキャンバーの下端部と対向する位置を走査しつつスキャンバーの高さを検出するセンサによって形成してなる、ことを特徴とする基板処理装置。
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