JP4022041B2 - ラジカルスカベンジャーとして酸素を使用することにより高純度の2−フルオロ−1,3−ジカルボニル化合物を製造する直接弗素化方法 - Google Patents
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Description
【発明の背景】
本発明はβ−ジカルボニルを弗素化して対応するα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成する方法に関する。
【0002】
従来、式
【化2】
(式中、R1はH、アルキルまたはアルコキシであり、R2はH、アルキルまたはペルフルオロアルキルであり、R3はH、Cl、Br、Iまたはアルキルである)を有するβ−ジケトンおよびβ−ケトエステルのようなβ−ジカルボニルは、酸性の溶媒中でまたは、酸性のまたは弱塩基性の極性添加剤を含有する極性の溶媒中で弗素によって直接弗素化されてきた。例えば、米国特許第5,569,778号(Umemotoら)およびWO95/14646(Chambersら)参照。この技術は、選んだ溶媒条件下でエノール型に安定化されているジケトンおよびケトエステルについてほどよく選択的であることが明らかになっている。しかしながら、基質の装填率がわずか5〜10重量%であってさえ、所望の一弗素化生成物はラジカル弗素化不純物(「ラジカル弗素化不純物」という用語は上記の式のR1および/またはR2での弗素化から得られる生成物をさす)をまだ10〜15%含む。
【0003】
EP 0891962(Nukuiら)には、溶媒をなんら用いずに、トリフルオロメタンスルホン酸(つまりトリフリック酸)、メタンスルホン酸、弗化水素酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、三弗化ホウ素およびスルホン化ポリマーからなる群から選択される少なくとも1つの酸の存在下でジカルボニル化合物と弗素ガスとを反応させることからなる弗素化ジカルボニル化合物を製造する方法が開示されている。Nukuiらは実施例1で、2,2−二弗素化不純物を含む弗素化不純物を16%しか生成しないように溶媒の不存在下でトリフリック酸を添加剤としてメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化できることを開示している。2.5当量の弗素を添加するときだけ収率が高いことが報告された。
【0004】
ペルフルオロアルキル基を含むケトエステルは非極性溶媒中でのみ効率的に弗素化される。この条件下ではラジカル弗素化が30%認められる。ジカルボニル基質のすべてについて、弗素化不純物を分離することはしばしば困難であり、多くの不純物が後続する化学的工程へと繰り越される。
【0005】
蟻酸、トリフルオロ酢酸および/またはトリフリック酸での直接弗素化で別な問題は弗素の使用が非効率的であることであった。これらの酸添加剤によって大きな転化率を得るには化学量論的な量の1.6〜4倍の弗素が必要になっている。
従って、上記した技術的欠陥のない方法でβ−ジカルボニル化合物を直接弗素化するのが好ましい。
ここに引用したすべての文献は参照によって全体が本記載に加入されている。
【0006】
【発明の概要】
本発明は、β−ジカルボニル化合物を弗素で直接的に弗素化してα−弗素化−β−ジカルボニル化合物を生成することからなり、この直接弗素化が反応性媒体中で実施されるα−弗素化−β−ジカルボニル化合物の製造方法からなる。反応性媒体は弗素と酸添加剤との副反応を防止する酸素のようなラジカルスカベンジャーからなるのが好ましい。
【0007】
【発明の詳述】
本発明の態様は次の反応スキーム
【化3】
(式中、R1はH、アルキルまたはアルコキシであり、R2はH、アルキルまたはペルフルオロアルキルであり、R3はH、Cl、Br、Iまたはアルキルである)によって表されるように、β−ジカルボニル化合物を直接的に弗素化するためのラジカルスカベンジャーとして希薄な酸素を使用する方法からなる。本発明方法の生成物(例えば、2−フルオロ−1,3−ジカルボニル)は薬品工業で使用される弗素化複素環状化合物への重要な前駆体である。
【0008】
慣用の直接複素化方法は、典型的に純度が75〜85%にすぎず、分離が困難なラジカル弗素化副生物で汚染されている弗素化カルボニル生成物を与える。弗素流中で酸素を使用すると、単離物の全般的収率を僅かに低下させる可能性があるが、水で洗浄した後、純度が90〜96%であり、また酸素が使用されない場合より5〜20%低い水準のラジカル弗素化不純物を含有する生成物が得られる。弗素流中に酸素を使用すると、弗素と直接弗素化に使用される酸添加剤(例えば、蟻酸、トリフルオロ酢酸、および/またはトリフリック酸)との副反応を防止し、従って、高い基質の転化率を得るのに必要な弗素がより少ない。
【0009】
本方法の態様では、F2/N2混合物が空気で希釈されて希薄なF2/O2/N2混合物が得られ、これが酸性溶媒中の基質の溶液(ケトエステルでは、R2はRfであり、溶媒はCFCl3である)中に吹き込まれる。ガス混合物は、約1〜約50%のF2、約0.1〜約50%のO2、そして約0〜約99%のN2、好ましくは約5〜約25%のF2、約1〜約25%のO2、そして約50〜約95%のN2、より好ましくは約10〜約20%のF2、約10〜約20%のO2、そして約60〜約80%のN2からなるのが好適である。高い転化率では、5%より少ないラジカル弗素化副生物が認められる。
【0010】
驚くべきことに、弗素化に際して酸素が添加される場合、ケトエステル(R2はRfである)は溶媒なしで選択的に弗素化されることができる。酸素不存在下でニートで弗素化される場合、この化合物は炭化し、所望の生成物は少量しか得られない。従って本方法は、反応装填率が著しく高いと際立って高い生成物純度が得られるという利点を提供する。
本発明は以下の実施例を参照してより詳細に例示されるが、本発明がこれに限定されるものではないと理解すべきである。
【0011】
【実施例】
実施例 1
メチル−3−オキソペンタノエートを以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することによりニートなHF中で弗素化した。
300mlのParr反応器に55.1g(424ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−35℃まで外部的に冷却し、無水のHF 150mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率27重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.04当量(442ミリモル)のF2を毎分800ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、100mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度92%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート81重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で5%であった。
【0012】
実施例 2
以下の手順に従って、20%F2/20%O2/60%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
2リットルのParr反応器に325g(2.50ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 1.150リットルを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率22重量%に相当する。20%F2/20%O2/60%N2流として約1.1当量(2.75モル)のF2を毎分800ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、500mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度94%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート90重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で4%であった。
【0013】
実施例 3
以下の手順に従って、10%F2/40%O2/50%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
300mlのParr反応器に54.3g(418ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−35℃まで外部的に冷却し、無水のHF 155mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率26重量%に相当する。10%F2/40%O2/50%N2流として約1.07当量(449ミリモル)のF2を毎分800ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、100mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度93%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート78重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で5%であった。
【0014】
実施例 4
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
300mlのParr反応器に59.5g(458ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−35℃まで外部的に冷却し、無水のHF 155mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率28重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.06当量(484ミリモル)のF2を毎分800ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、100mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率99%が示された。単離物の収率は、純度81%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート91重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で15%であった。
【0015】
実施例 5
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
60mlのParr反応器に5.17g(39.8ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−35℃まで外部的に冷却し、無水のHF 20mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.11当量(484ミリモル)のF2を毎分200ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、100mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率96%が示された。単離物の収率は、純度86%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート87重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で9.4%であった。
【0016】
実施例 6
以下の手順に従って、10%F2/1%O2/89%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
60mlのFEP反応器に4.64g(35.6ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 20mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率19重量%に相当する。10%F2/1%O2/89%N2流として約1.13当量(40.2ミリモル)のF2を毎分200ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度95%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート80重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で3%であった。
【0017】
実施例 7
以下の手順に従って、10%F2/0.1%O2/89.9%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
60mlのFEP反応器に4.08g(31.4ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF20mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率17重量%に相当する。10%F2/0.1%O2/89.9%N2流として約1.13当量(40.2ミリモル)のF2を毎分200ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度95%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート80重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で3%であった。
【0018】
実施例 8
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に25.6g(197ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 42mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率38重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.10当量(217ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率100%が示された。単離物の収率は、純度85%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート80重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で11%であった。
【0019】
実施例 9
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、ニートなHF中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に15.3g(118ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートを装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF23mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率40重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.02当量(120ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に−45℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率96%が示された。単離物の収率は、純度90%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート87重量%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で6%であった。
【0020】
実施例 10
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、トリフルオロ酢酸(TFA)中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に5.2g(40ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートと29gのTFAを装入した。これは基質装填率18重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.2当量(48ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に−15℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてTFA溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率95%が示された。単離された生成物は、純度84%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で7%であった。
【0021】
実施例 11
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、TFA中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に5.2g(40ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートと26gのTFAを装入した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.5当量(60ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に−20℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてTFA溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率85%が示された。単離された生成物は、純度60%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で12%であった。
【0022】
実施例 12
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、蟻酸中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に7.2g(55ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートと26gの蟻酸を装入した。これは基質装填率22重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.06当量(59ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に5℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率98%が示された。単離された生成物は、純度88%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート75%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で7%であった。
【0023】
実施例 13
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、蟻酸中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
100mlのFEP反応器に7.0g(54ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートと25gの蟻酸を装入した。これは基質装填率22重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.04当量(56ミリモル)のF2を毎分300ml反応器に5℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率69%が示された。単離された生成物は、純度55%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエート77%であった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で8%であった。
【0024】
実施例 14
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、トリフリック酸中でメチル−3−オキソペンタノエートを弗素化した。
60mlのFEP反応器に8.27g(63.6ミリモル)のメチル−3−オキソペンタノエートと1.08gのトリフリック酸を装入した。これは基質装填率88重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.21当量(77ミリモル)のF2を毎分100ml反応器に0℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてトリフリック酸溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率86%が示された。単離された生成物は、純度72%のメチル−2−フルオロ−3−オキソペンタノエートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で13%であった。
【0025】
実施例 15
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、HF中でエチルアセトアセテートを弗素化した。
100mlのFEP反応器にエチルアセトアセテート(80ミリモル)を装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 40mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.1当量のF2を毎分300ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率96%が示された。単離された生成物は、純度91%のエチル−2−フルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で4%であった。
【0026】
実施例 16
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、HF中でエチルアセトアセテートを弗素化した。
60mlのFEP反応器にエチルアセトアセテート(40ミリモル)を装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 20mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.1当量のF2を毎分300ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率90%が示された。単離された生成物は、純度73%のエチル−2−フルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で16%であった。
【0027】
実施例 17
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、HF中で2,4−ペンタンジオンを弗素化した。
60mlのFEP反応器に2,4−ペンタンジオン(25ミリモル)を装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 15mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.1当量のF2を毎分300ml反応器に−65℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率98%が示された。単離された生成物は、純度95%の3−フルオロ−2.4−ペンタンジオンであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で3%であった。
【0028】
実施例 18
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、HF中で2,4−ペンタンジオンを弗素化した。
60mlのFEP反応器に2,4−ペンタンジオン(25ミリモル)を装入した。反応器を約−50℃まで外部的に冷却し、無水のHF 15mlを静的な真空下で凝縮した。これは基質装填率20重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.1当量のF2を毎分300ml反応器に−65℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてHF溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率96%が示された。単離された生成物は、純度93%の3−フルオロ−2,4−ペンタンジオンであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で3%であった。
【0029】
実施例 19
以下の手順に従って、10%F2/10%O2/80%N2を使用することにより、CFCl3中でエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。
60mlのFEP反応器にエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート(20ミリモル)と15gのCFCl3を装入した。これは基質装填率15重量%に相当する。10%F2/10%O2/80%N2流として約1.0当量のF2を毎分300ml反応器に−25℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてCFCl3溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率85%が示された。単離された生成物は、純度80%のエチル−2,4,4,4−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で3%であった。
【0030】
実施例 20
以下の比較例に従って、10%F2/90%N2を使用することにより、CFCl3中でエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。
60mlのFEP反応器にエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート(20ミリモル)と15gのCFCl3を装入した。これは基質装填率15重量%に相当する。10%F2/90%N2流として約1.0当量のF2を毎分300ml反応器に−25℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。F2の添加後、ソーダ石灰洗浄器を通じてCFCl3溶媒を排出した。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率80%が示された。単離された生成物は、純度45%のエチル−2,4,4,4−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で30%であった。
【0031】
実施例 21
以下の手順に従って、2%F2/18%O2/80%N2を使用することにより、エチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。
60mlのFEP反応器にエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート(20ミリモル)を装入した。2%F2/18%O2/80%N2流として約1.0当量のF2を毎分300ml反応器に−30℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率75%が示された。単離された生成物は、純度65%のエチル−2,4,4,4−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で5%であった。
【0032】
実施例 22
以下の比較例に従って、2%F2/98%N2を使用することにより、エチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテートを弗素化した。
60mlのFEP反応器にエチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート(20ミリモル)を装入した。2%F2/98%N2流として約1.0当量のF2を毎分300ml反応器に−40℃で吹き込み、流出物をソーダ石灰洗浄器に通過させた。次に反応器を開放し、30mlのH2Oを添加した。次いで混合物をNaHCO3で中和した。生成物をエーテルで抽出した。
1HNMRおよび19FNMRによって生成物を分析すると転化率80%が示された。単離された生成物は、純度5%未満のエチル−2,4,4,4−テトラフルオロアセトアセテートであった。単離された生成物のラジカル弗素化不純物は全体で80%であった。
【0033】
以上の実施例の結果を、Nukuiらの実施例とともに以下の表に要約した。
【表1】
【0034】
本発明を詳細に、またその特定の実施例を引用して説明してきたが、本発明の趣意および範囲から逸脱することなく本発明でいろいろな変更および修正がなされうることは当業者にとって明らかである。
Claims (12)
- β−ジカルボニル化合物1当量あたり弗素を2.5当量未満添加する請求項1記載の方法。
- β−ジカルボニル化合物1当量あたり弗素を1.6当量未満添加する請求項1記載の方法。
- β−ジカルボニル化合物1当量あたり弗素を1.3当量未満添加する請求項1記載の方法。
- 15%未満の弗素化不純物をさらに生成する請求項1記載の方法。
- 10%未満の弗素化不純物をさらに生成する請求項1記載の方法。
- 5%未満のラジカル弗素化不純物をさらに生成する請求項1記載の方法。
- α−弗素化−β−ジカルボニル化合物の純度が少なくとも90%である請求項1記載の方法。
- α−弗素化−β−ジカルボニル化合物の純度が90〜96%である請求項1の方法。
- ガス混合物が、10%のF2、10%のO2および80%のN2からなる請求項1の方法。
- β−ジカルボニル化合物が、Rf基を含むケトエステルであり、溶媒または酸添加剤なしで実施される請求項1の方法。
- β−ジカルボニル化合物がメチル−3−オキソペンタノエートではない請求項1記載の方法。
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