JP3982673B2 - 真空排気装置の運転方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は真空排気装置の運転方法に関するものであり、更に詳しくは、主ポンプと排気ラインの逆止弁、および逆止弁に並列に取り付けられた補助ポンプからなる省エネ型真空排気装置を用いてスロー排気を行う方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の製造工程において、真空チャンバーの排気に油回転真空ポンプを使用すると、
▲1▼ 使用されているガスの中には油と反応性の大きいガスがあり、反応生成物が
ポンプの回転不良を生じたり、油を劣化させたりする。
▲2▼ 油の蒸気が拡散、逆流して真空チャンバー内を汚染する。
▲3▼ 使用済みの油に砒素化合物、燐化合物等の毒性物質の含まれることが多く、産業廃棄物としての管理、処理に多くの工数と費用を要する。
などの問題があることから、油を使用しないドライ真空ポンプが広く採用されるようになっている。
【0003】
図2は、従来、半導体装置を製造する真空チャンバーに接続される真空排気装置2を示す代表的な配管図である。図2を参照して、真空チャンバー20と排気速度1000L/minのドライ真空ポンプ21とを繋ぐ排気管22に口径の大きいメインバルブ23を配し、メインバルブ23と並列に口径の小さいバイパスバルブ24を取り付け、真空チャンバー20の真空度を計測するための圧力計29を排気管22に取り付けたものである。そして、ドライ真空ポンプ21の吐出側の排気ライン25には呼称40A(口径40mm≒1.5インチ)のパイプが使用されている。この配管は、真空チャンバー20をドライ真空ポンプ21が有する大きい排気速度で一気に排気する場合に要する口径である。
【0004】
一般に半導体製造装置では真空チャンバー20内に存在する微粒子が舞い上がって真空チャンバー20内に装填されている半導体ウェーハ等に付着し不良品が生ずることがあるので、真空チャンバー20を大気圧から真空排気する場合には、メインバルブ23、バイパスバルブ24を閉じた状態でドライ真空ポンプ21を起動し、バイパスバルブ24を開くことによってスロー排気して、真空チャンバー20が所定の真空度に達したことを確認するか、または所定の排気時間が経過したことを確認した後、メインバルブ23を開く起動方法が採用されている。
【0005】
一方、ドライ真空ポンプは油回転真空ポンプと比較して消費電力が大であり、環境保護の観点からエネルギー消費を抑える必要があること、また半導体装置の製造コストの低減が要請されていることから、ドライ真空ポンプの消費電力を抑制することが望まれているが、これに対処するものとして、特開平6−129384号公報には、図3に示すように、真空チャンバー30に接続されたドライ真空ポンプ31の排気ライン35にバネの付勢によって閉となる制御弁32を設けると共に、制御弁32と並列に排気量の小さい補助ポンプ33を設け、真空チャンバー30の真空度に応じて、ドライ真空ポンプ31と補助ポンプ33とによって、または補助ポンプ33のみによって排気する真空排気装置3が開示されている。なお図3においては、ドライ真空ポンプ31は直動式ポンプとして示されており、そのシリンダー36内には図において左右に往復動するピストン37が設けられ、排気ライン35は吸着塔38を介して工場配管39に接続されている。
【0006】
この真空排気装置3の起動は次のようにして行われる。図3は排気開始の直後の状態を示し、制御弁32は開いている。すなわち、ドライ真空ポンプ31と補助ポンプ33が起動され、ドライ真空ポンプ31の吸入圧が大気圧と同じオーダーにあって排気ガス量が大であり、同時に駆動される補助ポンプ33によってもドライ真空ポンプ31の吐出部が大気圧以下にならない間は、排気ガスがバネの付勢に抗して制御弁32を開き、密度の十分に高いガスがドライ真空ポンプ31の排気ライン35と補助ポンプ33のラインとによって排気される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
図2に示す真空排気装置2を用いて真空チャンバー20のスロー排気を行う場合には、バイパスバルブ24の設置のほか、真空チャンバー20の圧力に応じてメインバルブ23を開とする制御装置を必要とする。また、排気ライン25は大気圧からの排気を行うために、排気速度1000L/minのドライ真空ポンプ21については呼称40A(≒口径1.5インチ)のパイプが使用されるが、40Aのパイプは配管の施工に際し曲げ加工ができず、ラインを曲げる箇所ではパイプを溶接する配管工事が行われる。そして、溶接箇所にはリークテストも必要であるから、全体として配管の施工費は高くなる。
【0008】
そのほかのスロー排気を行う方法として、メインバルブ23、バイパスバルブ24に換えて、弁体の開度の制御が可能なバタフライ弁を設け、排気の初期には開度を小とし、真空チャンバー20の真空度の向上に応じて開度を大とする方法もあるが、この場合もバタフライ弁自体および弁体の開度制御装置が高額でありコストを上昇させる。また、図3に示した特開平6−129384号公報の真空排気装置において、排気開始時にドライ真空ポンプ31と補助ポンプ33とによって排気する起動方法も、真空チャンバー30内に微粒子が存在する場合には、微粒子が舞い上がって半導体ウェーハ等の汚染を招き易い。
【0009】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、スロー排気のための機器装置を設けることなくスロー排気を行い得る真空排気装置の運転方法を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、特許請求の範囲に記載された構成によって解決されるが、その解決手段を説明すれば次の如くである。
【0011】
請求項1に記載された運転方法は、真空容器に接続された容積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとし、この主ポンプの吐出側に接続され前記主ポンプから大気側へのガスの流れのみを許容する逆止弁と、前記主ポンプの吐出側に前記逆止弁に対して並列的に配置され、前記主ポンプよりも排気容量の小さい補助ポンプとを備えた真空排気装置によって前記真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際し、前記補助ポンプを最初に起動させ、前記真空容器が所定の真空度に達した後に前記主ポンプを起動させ、定常状態に入った後も前記主ポンプと前記補助ポンプを常時運転させることを特徴とする真空容器のスロー排気方法である。この方法によれば、まず補助ポンプのみを起動し主ポンプは起動しないので、例えば真空容器内に微粒子が存在している場合であっても微粒子は舞い上がらず、従って真空容器内の基板類に微粒子が付着して汚染するようなことはない。
【0012】
また、請求項2に記載された運転方法は、真空容器に接続された容積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとし、この主ポンプの吐出側に接続され前記主ポンプから大気側へのガスの流れのみを許容する逆止弁と、前記主ポンプの吐出側に前記逆止弁に対して並列的に配置され、前記主ポンプよりも排気容量の小さい補助ポンプとを備えた真空排気装置によって前記真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際し、前記補助ポンプを最初に起動させ、前記真空容器が所定の真空度に達する前に前記主ポンプを排気量の小さい低速回転で起動し、前記真空容器の真空度に応じて回転数を漸次増大させ、定常状態に入った後も前記主ポンプと前記補助ポンプを常時運転させることを特徴とする真空容器のスロー排気方法である。この方法によれば、請求項1の作用に加え、補助ポンプの負荷にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプが定格運転に入るまでの時間を短縮することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の真空排気装置の運転方法は、上述したように、主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量の小さい補助ポンプが取り付けられた真空排気装置によって真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際し、補助ポンプを最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に主ポンプを起動する方法である。なお、上記のような構成の真空排気装置は、真空容器が十分に排気されて排ガス量が少なくなる定常運転時には逆止弁が閉じて補助ポンプのみによる排気が行われるので消費電力を低下させるという省エネ特性を有している。
【0014】
本発明における真空排気装置の主ポンプとしては、容積移動型ドライ真空ポンプとして分類されるルーツ型ポンプ、クロー型ポンプ、スクリュー型ポンプの内の何れか1基、または2基以上を直列に配置した組み合せが使用される。例えば、2基または3基のルーツ型ポンプを直列に配置したものであってもよい。また、補助ポンプとしては、消費電力が小さく移送効率のよいもの、圧縮工程において排気ガスの体積が減少する構造のものが好適であり、具体的には回転翼型(ゲ−デ型)ポンプ、ピストン型ポンプ、ダイアフラム型(メンブラン型)ポンプ、スクロール型ポンプがある。そして、補助ポンプの排気速度(L/min)は期待する真空排気装置の能力に応じて主ポンプの排気速度の数%から20%程度までの範囲内で適宜選択される。
【0015】
また逆止弁には、平板状弁体を例えばその上端部で軸支して弁胴に取り付け、平板状弁体の一方の面側の圧力が高くなると平板状弁体が他方の面側へ扉の様にスイングして開となり、一方の面側の圧力が低くなると平板状弁体が例えば自重で元の位置へ戻ることによって弁を閉じて逆流を阻止する逆止弁や、バネによって弁座へ向かう方向に付勢された弁体を有し、弁体の片側の圧力が高くなるとバネの付勢に抗して弁が開となり、片側の圧力が低くなるとバネの付勢によって弁体が弁座に押圧されることにより弁を閉じて逆流を阻止する逆止弁もあるが、逆止弁を開とするに要する圧力が低いこと、圧力の脈動に追随して正確に開閉すること等において優れたものであることが好ましい。従って本発明においては、弁胴内で浮動し得る球形弁体を有し、主ポンプの吐出部の一定以上の圧力で浮上して弁を開とし、それ以下の圧力では自重によって下方の弁座に着座して弁を閉とする逆止弁が好適に使用される。
【0016】
そして、真空容器を大気圧またはその近傍から排気するべく真空排気装置を起動するに際しては、先ず補助ポンプのみを起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に、主ポンプを起動する。そして主ポンプを起動する時の真空度は104 Pa台程度の値に設定される。なお、補助ポンプを起動して得られる真空容器の真空度の計測は、起動されていない主ポンプの吸入側または吐出側の真空度の計測によって代替させることができる。
【0017】
【実施例】
次に、本発明の真空排気装置の運転方法について図面を参照し具体的に説明する。
【0018】
(実施例)
図1は真空チャンバー10に接続した真空排気装置1を概念的に示す配管図である。すなわち、真空排気装置1は、基板への成膜用の真空チャンバー10と主ポンプである排気速度1000L/minの多段型ルーツ真空ポンプ11を繋ぐ排気管12に口径の大きいメインバルブ13と真空度計測用の圧力計19を取り付け、多段型ルーツ真空ポンプ11の排気ライン15には逆止弁31を取り付けて、逆止弁31と並列に補助ポンプ14を配置したものである。補助ポンプ14には、排気速度が多段型ルーツ真空ポンプ11の10%である100L/minの回転翼型ドライポンプが使用されており、逆止弁31には、弁胴内で浮動し得る球形弁体を備え大気圧より約700Pa高い圧力で浮上して弁を開とし、それより低い圧力では自重によって下方の弁座に着座して弁を閉とするものが取り付けられている。そして、排気ライン15には、図2に示した従来の排気ライン25と同様、呼称40A(口径40mm≒1.5インチ)のパイプが使用されている。
【0019】
上記の真空排気装置1によって真空チャンバー10を大気圧から真空排気するに際しては、先ず補助ポンプ14を起動しメインバルブ13を開とすることによって排気を開始した。そして圧力計19によって真空チャンバー10の真空度が104 Paに達したことが確認された時点で主ポンプ11を起動しローター軸の回転数を3600rpmとして真空チャンバー10の真空度が1Paに達するまで排気した。このような起動方法を採用することにより、真空チャンバー10内における微粒子の舞い上がりを防ぐことができた。すなわち、大気圧からの排気に際し補助ポンプ14のみを起動することにより、従来のようにメインバルブ23と並列に口径の小さいバイパスバルブ24を設けなくともスロー排気が可能であった。また、真空度が1Paに達した後、続いて定常運転に入ったが、この時点では排気量が少なく逆止弁31が閉じて補助ポンプ14のみによる排気が行われることから、真空排気装置1の消費電力は低減され、騒音も抑制された。なお、図1の排気ライン15には呼称40Aのパイプを使用したが、補助ポンプ14による排気、それに続く主ポンプ11の排気においては排気量が少ないので、例えば呼称10A(口径10mm≒3/8 インチ)のパイプに置き換えることが可能であり、この口径のパイプは曲げ加工が可能であるから配管の施工費を低減させることができる。
【0020】
以上、本発明の真空排気装置の運転方法を実施例によって説明したが、勿論、本発明はこれに限られることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0021】
例えば本実施例においては、補助ポンプの排気によって真空チャンバーが所定の真空度に達した後の主ポンプの起動に際し、ローター軸を3600rpmで回転させたが、真空容器が所定の真空度に達する前に主ポンプをインバーター制御して回転数を排気量の小さい低回転数から真空容器の真空度に応じて漸次増大させるようにしてもよく、そのことによって主ポンプの起動時における急激な圧力変化を避け、補助ポンプの負荷にならないように主ポンプを起動することができる。
【0022】
また本実施例においては、半導体基板への成膜用の真空チャンバーの排気に本発明の真空排気装置の運転方法を適用する場合を例示したが、半導体基板を大気圧と真空系との間で搬入、搬出するためのロードロック室の排気にも同様に適用され得る。
また本実施例においては、半導体基板が装填された真空チャンバーを排気する場合を例示したが、勿論、液晶表示パネルやプラズマ表示パネル用のガラス基板が装填される真空チャンバーを排気する場合にも適用される。
【0023】
【発明の効果】
本発明の真空排気装置の運転方法は以上に説明したような形態で実施され、次に述べるような効果を奏する。
【0024】
請求項1の真空排気装置の運転方法によれば、主ポンプの排気ラインに逆止弁が取り付けられており、逆止弁と並列に主ポンプより排気容量の小さい補助ポンプが取付けられた真空排気装置によって真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際しての真空排気装置の運転方法において、補助ポンプを最初に起動し、真空容器が所定の真空度に達した後に主ポンプを起動するので、スロー排気のための機器装置を設けなくとも真空容器のスロー排気が可能であり、真空容器内に微粒子が存在するような場合にも微粒子は舞い上がらず真空容器内を汚染するようなことは発生しない。また、補助ポンプによるスロー排気の間、それに続く主ポンプの排気による定常運転の間は、排気量が少ないので主ポンプの排気ラインを曲げ加工の可能な口径の小さいパイプに変更することができ、排気ラインの施工費を低減することができる。
【0025】
請求項2の真空排気装置の運転方法によれば、真空容器が所定の真空度に達する前に主ポンプを排気量の小さい低い回転数で起動し、真空容器の真空度に応じて回転数を漸次増大させるので、補助ポンプの負荷にならないように主ポンプを起動でき、主ポンプが定格運転に入るまでの時間を短くし稼動率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】真空チャンバーをスロー排気することが可能な実施例の真空排気装置の配管図である。
【図2】真空チャンバーをスロー排気するための従来の真空排気装置の配管図である。
【図3】消費電力を低減し得る従来の真空排気装置を示す図である。
【符号の説明】
1 真空排気装置
10 真空チャンバー
11 主ポンプ
12 排気管
13 メインバルブ
14 補助ポンプ
15 排気ライン
19 圧力計
31 逆止弁
Claims (2)
- 真空容器に接続された容積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとし、この主ポンプの吐出側に接続され前記主ポンプから大気側へのガスの流れのみを許容する逆止弁と、前記主ポンプの吐出側に前記逆止弁に対して並列的に配置され、前記主ポンプよりも排気容量の小さい補助ポンプとを備えた真空排気装置によって前記真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際し、前記補助ポンプを最初に起動させ、前記真空容器が所定の真空度に達した後に前記主ポンプを起動させ、定常状態に入った後も前記主ポンプと前記補助ポンプを常時運転させることを特徴とする真空容器のスロー排気方法。
- 真空容器に接続された容積移動型ドライ真空ポンプを主ポンプとし、この主ポンプの吐出側に接続され前記主ポンプから大気側へのガスの流れのみを許容する逆止弁と、前記主ポンプの吐出側に前記逆止弁に対して並列的に配置され、前記主ポンプよりも排気容量の小さい補助ポンプとを備えた真空排気装置によって前記真空容器を大気圧またはその近傍から排気するに際し、前記補助ポンプを最初に起動させ、前記真空容器が所定の真空度に達する前に前記主ポンプを排気量の小さい低速回転で起動し、前記真空容器の真空度に応じて回転数を漸次増大させ、定常状態に入った後も前記主ポンプと前記補助ポンプを常時運転させることを特徴とする真空容器のスロー排気方法。
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