JP3971686B2 - イオン付着質量分析方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はイオン付着質量分析方法に関し、特に、被測定ガスの濃度を正確な測定できる定量分析用のイオン付着質量分析方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
イオン付着質量分析方法(IAMS;Ion Attachment Mass Spectrometer )は、被測定ガスの分子を解離(フラグメント)させることなくイオン化し、当該分子イオンを質量分析領域に移動させてその質量分析を行う方法である。イオン付着質量分析方法を実施する装置については、従来、いくつかの特許文献1〜6あるいは非特許文献1〜5で提案されている。
【0003】
図6を参照して従来のイオン付着質量分析方法を実施する装置の一般的な基本構成を説明する。図6で、1は金属イオン発生領域、2は付着領域、3は質量分析領域である。付着領域2と質量分析領域3の間に差動排気領域4が設けられる。金属イオン発生領域1にはエミッタ11とリペラ12が配置されている。さらに、21は被測定ガスの導入機構、22は調整ガスの導入機構である。被測定ガスと調整ガスは付着領域2に導入される。付着領域2と差動排気領域4の間と差動排気領域4と真空分析領域3の間には、それぞれ、中央に孔23a,41aを有した隔壁23,41が設けられている。付着領域を形成する容器部分には真空ポンプ24と圧力計25が付設されている。質量分析領域を形成する容器部分には質量分析計31と、真空ポンプ32が設けられる。さらに差動排気領域4には専用の真空ポンプ42が付設されている。
【0004】
上記の従来のイオン付着質量分析装置において、金属イオン発生領域1、付着領域2、質量分析領域3、および差動排気領域4は、すべて大気圧以下の減圧雰囲気となっている。金属イオン発生領域1では、アルカリ金属の酸化物であるエミッタ11が加熱され、Li+などの正電荷の金属イオンが発生している。金属イオンはリペラ12の反発力などによって金属イオン発生領域1から付着領域2に輸送される。
【0005】
付着領域2には被測定ガスが導入されている。この付着領域2において、被測定ガスの分子の電荷の片寄りのある場所に金属イオンが緩やかに付着する。金属イオンが付着した分子は全体として正電荷を持つイオンとなって、付着イオンが生成される。付着が行われた時に余分となるエネルギ、すなわち余剰エネルギは非常に小さいため、解離は発生しない。
【0006】
しかし、分子から金属イオンを再び脱離しないように付着イオンを安定化させるために、雰囲気ガスとの衝突により余剰エネルギを取り除く必要がある。余剰エネルギを取り除く効率を最大とするために、従来の付着領域2の圧力は100Pa程度にしている。余剰エネルギを取り除くガスとしては被測定ガスそれ自体でも構わないが、通常は反応性の低いN2ガスなどが調整ガスとして別途に導入される。
【0007】
調整ガスには他に金属イオンを減速させるという重要な役目がある。金属イオンを効率よくエミッタ11から引き出して付着領域2へ輸送するためには、少なくとも10eV以上の並進エネルギ(飛行速度)が金属イオンに必要となる。一方、正常に付着が行われるためには、金属イオンの並進エネルギは1eV以下でなければならない。並進エネルギが高いと、金属イオンが分子と接触しても、付着せずにそのまま反射し脱離してしまう。そこで、高い並進エネルギによって引出し輸送した金属イオンを付着領域2にて雰囲気ガスと多数回衝突させて減速させる。この減速を十分に行うために、付着領域2の圧力は100Pa程度が必要となる。
【0008】
付着イオンは質量分析領域3に輸送され、Qポール型質量分析計などの電磁気力を利用した質量分析計31によって質量ごとに分別されて、その強度が計測される。質量分析計31は10-3Pa以下の圧力でしか動作できないので、付着領域2と質量分析領域3の間には圧力差を発生させる隔壁23,41が設けられている。
【0009】
図6は一般的な従来例を示したが、差動排気領域や真空ポンプの有無などで実際の従来例では図6の従来例とは部分的に異なっている。その他、各従来例では次のようは特徴的な違いがある。非特許文献1では、付着イオンを高速で変化する電界で断続(パルス)化して、ロックインアンプで信号を検出している。また微量の被測定ガスを含んだ調整ガスを付着領域に導入しその圧力は6Pa以下としている。この調整ガスには反応ガスを使用し一旦調整ガスと金属イオンを反応させ、この反応物から被測定ガスに金属イオンを転換させている。非特許文献2では、金属イオンとしてK+を使用し、圧力は2.4Pa以上としている。非特許文献5では、0.1Paの調整ガス(Heガス)と5×10-3Paの被測定ガスが付着領域に導入している。ただし、内部イオン化方式によるイオントラップ型質量分析計が用いられているため付着領域と質量分析領域は同一であって、金属イオンは高周波電界で振動する過程で被測定ガスに付着し、付着イオンは振動不安定となって検出器へ放出される。
【0010】
【特許文献1】
特開平6−11485号公報
【特許文献2】
特開2001−174437号公報
【特許文献3】
特開2001−351567号公報
【特許文献4】
特開2001−351568号公報
【特許文献5】
特開2002−124208号公報
【特許文献6】
特開2002−170518号公報
【非特許文献1】
ホッジ(Hodge),「アナリティカル・ケミストリ(Analytcal Chemistry)」,(米国),1976,vol.48,No.6,P.825
【非特許文献2】
ボムビック(Bombick),「アナリティカル・ケミストリ(Analytcal Chemistry)」,(米国),1984,vol.56,No.3,P.396
【非特許文献3】
藤井,「アナリティカル・ケミストリ(Analytcal Chemistry)」,(米国),1986,vol.61,No.9,P.1026
【非特許文献4】
藤井,「ケミカル・フィジクス・レターズ(Chemical Physics Letters)」,(米国),1992,vol.191,No.1.2,P.162
【非特許文献5】
藤井,「リャピド・コミュニケーション・イン・マス・スペクトロメトリ(Rapid Communication in Mass Spectrometry)」,(米国),2000,vol.14,P.1066
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
従来のイオン付着質量分析方法によれば、いずれも、被測定ガスの分子を解離させずにイオン化することができ、被測定ガスの成分同定(定性分析)に関しては高い精度で行うことができた。これは他のイオン化方式の分析方法を凌駕するものであって、科学技術や産業分野からイオン付着質量分析方法に大きな期待がかけられている。
【0012】
しかしながら、イオン付着質量分析方法によれば、成分の濃度測定(定量分析)に直接的に関連するものとして次のような問題がある。
【0013】
(1)信号の安定性および再現性が悪い。
(2)リニアリティー(線形性)が悪い。すなわち、被測定ガスの濃度と信号強度との間でが正しい比例関係が作られない。
(3)被測定ガスのみ、すなわち調整ガスを導入しない状態で被測定ガスの測定ができない。
【0014】
さらにイオン付着質量分析方法によれば、成分の濃度測定(定量分析)に間接的に関連するものとして次のような問題がある。
【0015】
(4)装置サイズが大きく、被測定ガスの装置内での変質が懸念される。
(5)複数の真空ポンプが必要で、被測定ガスの安定排気を確保しにくい。
(6)質量分析領域にエミッタからの光や蒸発物が侵入し、安定測定を阻害する。
【0016】
本発明の目的は、上記課題に鑑み、被測定ガスの濃度を正確に測定できる定量分析に適したイオン付着質量分析方法を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るイオン付着質量分析方法は、上記目的を達成するために、次の通り構成される。
【0018】
第1のイオン付着質量分析方法(請求項1に対応)は、金属イオン発生領域で発生させた正電荷の金属イオンを付着領域で被測定ガスの分子に付着させて付着イオンを生成し、その後、質量分析領域で付着イオンの質量分析を行う方法である。特徴的な点は、付着領域の圧力を付着領域での金属イオンと付着イオンの自由飛行を可能にする最大10Paまでの圧力範囲に含まれるように設定し、付着領域に金属イオンの移動を減速させる静電界を形成し、調整ガスを加えずに被測定ガスを付着領域に導入するようにされることである。
【0020】
のイオン付着質量分析方法(請求項に対応)は、上記の方法において、好ましくは、付着領域で移動する金属イオンは1eVを超えない並進エネルギを有する。
【0021】
のイオン付着質量分析方法(請求項に対応)は、上記の方法において、好ましくは、金属イオン発生領域と付着領域の間に隔壁を設け、金属イオン発生領域の圧力を付着領域の圧力よりも低くすることで特徴づけられる。
【0022】
のイオン付着質量分析方法(請求項に対応)は、上記の方法において、好ましくは、金属イオン付着領域と質量分析領域を真空環境として共通にすることで特徴づけられる。
【0023】
のイオン付着質量分析方法(請求項に対応)は、上記の方法において、好ましくは、着領域でのイオン移動路は曲線路として形成される。
【0024】
のイオン付着質量分析方法(請求項に対応)は、上記の方法において、好ましくは、金属イオン発生領域、付着領域、質量分析領域のすべてを共通の1台の真空ポンプで排気することで特徴づけられる。
【0025】
【作用】
まず前述した問題点の理由を説明する。(1)安定性・再現性および(2)リニアリティーの問題点は、付着領域の圧力が従来方法では100Paであることがその原因となっている。100Paの圧力であれば、Li+が雰囲気ガス分子と衝突せずに自由に飛行できる平均距離(平均自由行程)はわずか0.1mm程度である。つまり、Li+が10mm進む時、雰囲気ガスの分子とは100回も衝突することになる。この多数回の衝突が余剰エネルギの除去と減速に役立っているのであるが、一方、これによって金属イオンのスムーズな進行が妨げている。すなわち、金属イオンは雰囲気ガス分子との衝突により減速され、ジクザクに進むことになる。このような状態では金属イオンは電界の電気力線の沿った動きしかできないので、静電レンズによる金属イオンの制御は難しくなる。さらに低速状態ではイオン同士が接近している時間が長くなるので、互いの電気斥力によって金属イオンの散乱(空間電荷効果)が発生する。これらの問題は付着イオンについても同様である。
【0026】
上記のような状態では、信号強度は圧力・成分・ガスの流れなどにより大きく変動する。特に空間電荷は極めて不安定なもので、信号強度の安定性・再現性が大きく阻害される。またイオンの存在自体がこれらに影響することからリニアリティーが確保できなくなる。さらに、これらの影響は分子の質量にも依存するので、信号に不安定な質量依存性が乗ることになる。実際に、解離の問題はあるものの安定性・再現性やリニアリティーは優れている電子衝撃型イオン化法では、雰囲気圧力は10-3Pa以下となっている。
【0027】
(3)調整ガス、(4)装置サイズ、(5)ポンプ数量の問題点もこの100Paから波及している。被測定ガスの圧力が100Paより低い場合、原理的に調整ガスなしに被測定ガスのみを直接導入することはできない。100Paの付着領域と10-3Pa以下の質量分析領域を接続し、しかも隔壁の孔として付着イオンの輸送を大きく阻害しない程度の口径を確保するためには、大きな真空ポンプを複数用意する必要がある。必然的に装置も大きくなる。
【0028】
以上の理由を考慮し、本願発明では、イオン質量分析装置による定量分析に関係する諸問題を解決するため、付着領域の圧力を所定のレベルに低くする。すなわち、付着領域の圧力を金属イオン等の自由飛行を可能にする圧力範囲とし、例えば10Pa以下にする。付着領域の圧力を10Pa以下にすることにより、イオンは雰囲気ガスと衝突せずに進行し、空間電荷効果も発生しないので、自由飛行ができるようなる。静電レンズによる加速・減速・集束などの高精度な制御も可能となる。また圧力差が小さくなるので、真空ポンプの数も少なくできるようになる。被測定ガスの圧力が付着領域より高い限り、被測定ガスのみを測定できるようになる。
【0029】
他方、付着領域の圧力が下がると、余剰エネルギの除去と金属イオンの減速の効果が弱くなる。低減の割合は余剰エネルギに関してはほぼ圧力に比例する程度であるが、減速に関しては圧力の指数関数に比例して激減するので致命的な問題となる。
【0030】
そこで、付着領域に進行方向と逆向き力が発生するような静電界を形成して、金属イオンを電気力で減速させる。圧力が低くて金属イオンが自由飛行できる状態では、静電レンズによる制御が高精度に行えるので、必要な場所にて効率的に、しかも散乱を発生させずに金属イオン減速させて、その後加速・集束させる。イオンの移動について自由度が高められる。
【0031】
なお、非特許文献1では既に付着領域の圧力を6Pa以下とする内容が開示されているが、高速変化の電界を使った同期検波方式のため、質量依存性が影響した相対信号しか得られない。また反応性の調整ガスを使用しているため、被測定ガスによる反応・変質の可能性が高い。非特許文献2では2.4Paのデータもあるが、金属イオンとして直径・質量が大きなK+を使用しているので、十分な自由飛行はしていない。非特許文献5でも0.1Paとしているが、イオントラップ型質量分析計のため、高周波電界により同じく質量依存性が影響した相対信号となっており、また正常動作のために調整ガス(Heガス)も必須となっている。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の好適な実施形態を添付図面に基づいて説明する。
【0033】
実施形態で説明される構成、形状、大きさおよび配置関係については本発明が理解・実施できる程度に概略的に示したものにすぎず、また数値については例示にすぎない。従って本発明は、以下に説明される実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができる。
【0034】
図1は本発明の第1実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。図1において、図6で説明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付している。
【0035】
図1に示したイオン付着質量分析装置において、1は金属イオン発生領域、2は付着領域、3は質量分析領域である。金属イオン発生領域1にはエミッタ11が配置され、エミッタ11の後側にリペラ12、エミッタ11の前側に引出し電極13が配置されている。金属イオン発生領域1と付着領域2は真空環境が共通の空間となるように形成されている。付着領域2において、筒形状の静電レンズ26が配置されている。静電レンズ26の内側空間にイオン移動路が形成される。付着領域2に対して被測定ガス(試料ガス)の導入機構21が設けられる。導入機構21によって被測定ガスは付着領域2内の静電レンズ26の入口側の箇所に導入される。付着領域2には圧力計25が付設され、内部圧力が測定される。付着領域2と質量分析領域3の間には、中央に孔23aが形成された隔壁23が設けられる。質量分析領域3には質量分析計31が配置される。上記のイオン付着質量分析装置では、付着領域2の容器部分と質量分析領域3の容器部分のそれぞれに真空ポンプ24,32が設けられている。
【0036】
なお図1で、エミッタ11、リペラ12、引出し電極13、静電レンズ26のそれぞれに対して所要の電流あるいは電圧を与える電源系、あるいは制御系の図示は省略されている。
【0037】
金属イオン発生領域1には引出し電極13により、また付着領域2には静電レンズ26により、それぞれ静電界が形成されている。金属イオン発生領域1と付着領域2は真空的に共通となっている。導入機構21によって調整ガスを加えずに被測定ガスのみが付着領域2に導入され、そこでの圧力は1Pa程度となっている。金属イオンとしては例えばLi+が使用されている。Li+の1Paでの平均自由行程は10mm程度であり、金属イオン発生領域1と付着領域2の代表的寸法は数十mm程度なので、Li+は平均で数回衝突するのみとなり、十分な自由飛行を行っていると言える。
【0038】
上記のごとく金属イオン発生領域1と付着領域2ではイオンの移動に関して自由飛行が行われるので、金属イオンおよび付着イオンは静電界により確実に制御される。引出し電極13によりエミッタ11から効率良く引き出された金属イオンは、静電レンズ26により軸上付近に集束されつつ1eV以下まで減速される。並進エネルギが低くなった金属イオンは被測定ガスの分子に効率良く付着し、付着イオンが形成される。
【0039】
その後、付着イオンは再び加速・集束され、質量分析領域3に輸送される。質量分析領域3は10-3Paであるが、付着領域2の圧力が低いので、従来の作動排気領域はなく、付着イオンが通過する隔壁23の孔の口径も大きめとなっている。これらにより、付着イオンは質量分析領域3へ効率良く輸送される。
【0040】
上記の第1実施形態のイオン付着質量分析方法を従来例と比較すると、付着領域2の圧力が低いので、余剰エネルギの除去効率は低いが、イオンの集束・輸送効率などの点では勝っているので、感度の面では大差がない。加えて第1実施形態によるイオン付着質量分析方法では、自由飛行の寄与で信号の安定性・再現性、リニアリティーが大幅に改善される。また真空ポンプの数が減り、装置サイズが小さくなるので、被測定領域との距離を短くでき、あるいは直結とすることができ、サンプリングによる問題を低減できる。被測定ガスが1Pa以上の圧力さえあれば、調整ガスなしに被測定ガスのみを測定することができる。
【0041】
次に図2を参照して本発明の第2実施形態を説明する。図2は本発明の第2実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。図2において、図1で説明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。以下では第2実施形態の特徴的な構成が説明される。
【0042】
第2実施形態では、金属イオン発生領域1と付着領域2との間の隔壁14が設けられ、金属イオン発生領域1と付着領域2は異なる領域として形成され、隔壁14の中央の孔14aを通してつながっている。真空ポンプ15が金属イオン発生領域1の容器部分に付設される。その他の構成については、第1実施形態と同じである。
【0043】
第2実施形態では、金属イオン発生領域1と付着領域2の間に隔壁14が追加され、金属イオン発生領域1から真空排気を行う。エミッタ11の表面は電源系からの通電作用によって高温となっているので、被測定ガスとの反応により発生する金属イオンの量が変動し、定量分析にとって不具合が生じるおそれがある。そこで本実施形態では、1Paの圧力に設定される付着領域2に対して、金属イオン発生領域1の圧力を、隔壁14と真空ポンプ15の寄与によって10-3Paとする。これにより、反応性の高い被測定ガスであっても金属イオン量の変動を極めて少なくすることができる。
【0044】
なお金属イオンは隔壁14の孔14aを通過しなければならないが、引出し電極13の引出し効果で大きな損失とはならない。付着領域2を直接排気する真空ポンプがなく、被測定ガスは2つの隔壁14,23の孔14a,23aから排気されることになる。このことが測定目的から問題となる場合には、別の真空ポンプを付着領域2に設置することもできる。
【0045】
次に図3を参照して本発明の第3実施形態を説明する。図3は本発明の第3実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。図3において、図1および図2で説明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。以下では第3実施形態の特徴的な構成が説明される。
【0046】
第3実施形態では、2つの隔壁14,23を利用して付着領域2が孤立した室として形成され、かつ金属イオン発生領域1と質量分析領域3がつながり1つの共通の空間として形成される。金属イオン発生領域1と質量分析領域3の共通空間に対して上記真空ポンプ32が設けられる。その他の構成は、第1および第2の実施形態と同じである。
【0047】
上記のごとく、金属イオン発生領域1と質量分析領域3が真空的に共通となっており、真空ポンプ32が1台のみ設けられる構成となっている。この実施形態によれば、1Paの圧力の付着領域2に対して、金属イオン発生領域1と質量分析領域3の圧力が共に10-3Paになるように設定される。これにより金属イオン量の安定化と共に、ポンプの数量が減らすことができる。
【0048】
次に図4を参照して本発明の第4実施形態を説明する。図4は本発明の第4実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。第4実施形態は第3実施形態の変形例である。図4において、上記各実施形態で説明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。以下では、第4実施形態の特徴的な構成が説明される。
【0049】
第4実施形態の構成では、第3実施形態に比較して、金属イオン発生領域1と質量分析領域3が、付着領域2を形成する室部分を基準にして、直角方向の位置関係で配置され、付着領域2内に設けられる静電レンズ26が、90度曲がるように曲線的な形態で形成されている。静電レンズ26内のイオン移動路は90度曲がった曲線路として形成される。付着領域2の室を形成する隔壁14,23は直交する位置関係で配置されている。その他の構成については第3実施形態と同じである。
【0050】
イオン付着質量分析装置において高精度の測定を行う場合には、エミッタ11から放射される光や蒸発物が質量分析計31に入り込んで問題となる場合がある。そこで本実施形態の構成によれば、付着領域2において、金属イオン・付着イオンは曲線的形態を有する静電レンズ26の静電界によりカーブして正常な計測が行えるが、電荷のない光・蒸発物は直進するので、質量分析計に入り込むことを防止することが可能となる。なお自由飛行しているイオンは、適当な静電界によって容易にカーブさせることができる。
【0051】
次に図5を参照して本発明の第5実施形態を説明する。図5は本発明の第5実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。第5実施形態は第3実施形態の更なる変形例である。図5において、上記各実施形態で説明した要素と実質的に同一の要素には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。以下では、第5実施形態の特徴的な構成が説明される。
【0052】
第5実施形態の構成では、第3実施形態に比較して、金属イオン発生領域1と質量分析領域3が平行な位置関係にて配置され、その結果、隔壁14,23は共通の隔壁として形成され、付着領域2に配置される静電レンズ26は孔14aから孔23aへ180度曲がるように曲線的形態を有するように構成されている。静電レンズ26の内のイオン移動路は180度曲がった曲線路として形成される。その他の構成は、第3実施形態の構成と同じである。第5実施形態によれば、装置の小型化をより達成される。
【0053】
上記の各実施形態の構成は以下のように変更することが可能である。
【0054】
付着領域の圧力は平均自由行程が約10mmの1Paとしたが、金属イオンおよび付着イオンが自由飛行する条件であれば良い。厳密には、雰囲気ガスの並進エネルギは0.04eVであって、減速した金属イオンと比べても大きな差があるので、10回程度の衝突では実質的な自由飛行となる。また雰囲気ガスと衝突せずに飛行できる距離は分布を持っており、全数の1%は平均自由行程の約5倍となっている。そこで、付着領域の代表的寸法を50mmとやや大きめに見積もって、付着領域の圧力を平均自由行程が約1mmの10Paとしても1%のイオンが自由飛行することになる。従って実用的観点から2桁以内の感度低下の範囲として、本発明が適用できる圧力は最大10Paとみなすことができる。ちなみに、従来の装置の構成では付着領域の圧力を通常の100Paから10Paに低下させると、信号強度は1/100となることが知られている。
【0055】
金属イオンとしてLi+を使用したが、これに限定されず、K+、Na+、Rb+、Cs+、Al+、Ga+、In+などに適用できる。また質量分析計としてはQポール型質量分析計を使用したが、これに限定されず外部イオン化方式によるイオントラップ型質量分析計、磁場セクター型質量分析計、TOF(飛行時間)型質量分析計、ICR(イオンサイクロトロンレゾナンス)型質量分析計も使用することができる。
【0056】
被測定ガスとしては最初からガス状のもの以外に、本来は固体や液体であっても何らかの手段でガス状になっていれば良い。また本装置を他の成分分離装置、例えばガスクロマトグラフや液体クロマトグラフに接続して、ガスクロマトグラフ/質量分析装置(GC/MS)、液体クロマト/質量分析装置(LC/MS)とすることもできる。
【0057】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように本発明によれば、イオン付着質量分析方法で、付着領域の圧力を付着領域での金属イオンと付着イオンの自由飛行を可能にする圧力範囲に含まれるように設定し、付着領域に金属イオンの移動を減速させる静電界を形成し、被測定ガスのみを付着領域に導入するようにしたため、被測定ガスの濃度を正確に測定でき、定量分析を最適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【図2】本発明の第2実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【図3】本発明の第3実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【図4】本発明の第4実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【図5】本発明の第5実施形態に係るイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【図6】従来のイオン付着質量分析方法が実施される装置の内部構造を概略的に示す縦断面図である。
【符号の説明】
1 金属イオン発生領域
2 付着領域
3 質量分析領域
4 差動排気領域
11 エミッタ
12 リペラ
13 引出し電極
21 被測定ガスの導入機構
25 圧力計
26 静電レンズ
31 質量分析計

Claims (6)

  1. 金属イオン発生領域で発生させた正電荷の金属イオンを付着領域で被測定ガスの分子に付着させて付着イオンを生成し、その後、質量分析領域で前記付着イオンの質量分析を行う方法において、
    前記付着領域の圧力を前記付着領域での前記金属イオンと前記付着イオンの自由飛行を可能にする最大10Paまでの圧力範囲に含まれるように設定し、前記付着領域に前記金属イオンの移動を減速させる静電界を形成し、調整ガスを加えずに前記被測定ガスを前記付着領域に導入するようにしたことを特徴とするイオン付着質量分析方法。
  2. 前記付着領域で移動する前記金属イオンは1eVを超えない並進エネルギを有することを特徴とする請求項1記載のイオン付着質量分析方法。
  3. 前記金属イオン発生領域と前記付着領域の間に隔壁を設け、前記金属イオン発生領域の圧力を前記付着領域の圧力よりも低くすることを特徴とする請求項1または2記載のイオン付着質量分析方法。
  4. 前記金属イオン発生領域と前記質量分析領域を真空環境として共通にすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のイオン付着質量分析方法。
  5. 前記付着領域でのイオン移動路は曲線路として形成されることを特徴とする請求項4記載のイオン付着質量分析方法。
  6. 前記の金属イオン発生領域、付着領域、質量分析領域のすべてを共通の1台の真空ポンプで排気することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のイオン付着質量分析方法。
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