JP3959095B2 - プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、かかる耐候性や耐光性に優れたプラスチックレンズを製造することができるプラスチックレンズの製造方法を提供することを目的とする。
内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって反射防止膜の屈折率を低下させることができるため、ハードコート層との屈折率差を大きくして反射防止効果を高めることができる。
(C)多官能性エポキシ化合物
を含有することを特徴とするプラスチックレンズを提供する。
この有機ケイ素化合物を配合することにより、ハードコート層に更なる耐久性、特に耐擦傷性の向上を付与することができる。
このジシラン化合物を配合することにより、コーティング用組成物からハードコート層を形成する際の硬化速度を向上させることができる。
これにより、前記有機薄膜で構成される反射防止膜がハードコート層によって変質されるおそれが無く、耐候性と耐光性に優れたプラスチックレンズを製造することができる。
上記式中、Rは芳香環を除く有機残基を表す。この有機残基としては、直鎖状若しくは分岐状の脂肪族、脂環族、複素環、又は鎖中に硫黄原子を有する直鎖状若しくは分岐状の脂肪族、脂環族若しくは複素環から選ばれる一種以上を挙げることができる。また、式中tは1以上の整数であり、メルカプトメチルチオ基は一分子内に1個以上、好ましくは2個以上有することが必要である。また、メルカプトメチルチオ基以外のメルカプト基を有していてもよい。
また、重合性組成物には、重合触媒以外に、必要に応じて光安定剤、酸化防止剤等を混合することができる。
(A)平均粒径1〜200nmのルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子、
(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物、
(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)
を含有するコ−ティング用組成物から形成された塗膜である。
(A)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物を含む平均粒径1〜200nmの無機酸化物微粒子、
(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)、
を含有するコ−ティング用組成物から形成された塗膜である。
(A)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び/又は酸化アルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆したものを含む平均粒径1〜200nmの無機酸化物微粒子、
(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)
を含有するコ−ティング用組成物から形成された塗膜とすることが好ましい。
(b)前記被覆層が酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物で形成される場合、該被覆層に含まれる酸化ケイ素と酸化アルミニウムの量は、酸化ケイ素をSiO2に換算し、酸化アルミニウムをAl2O3に換算したとき、SiO2/Al2O3の重量比が60/40〜99/1、好ましくは68/32〜95/5の範囲にあることが望ましい。ここで、Al2O3の量が上記範囲より多くなると、フリーラジカルをトラップすることのできるAl原子は増加するが、緻密な被覆層ができないため、前記核粒子で生成したフリーラジカルが前記無機酸化物微粒子の表面に出てきて、有機物の酸化を招くことになり、またAl2O3の量が上記範囲より少なくなると、緻密な被覆層はでき易くなるが、フリーラジカルをトラップするためのAl原子が少ないため、前記核粒子で生成したフリーラジカルが前記無機酸化物微粒子の表面に出てきて、有機物の酸化を招くことになる。
(c)前記被覆層が酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び酸化アルミニウムの複合酸化物で形成される場合、該被覆層に含まれる酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び酸化アルミニウムの量は、酸化ケイ素をSiO2に換算し、酸化ジルコニウムをZrO2に換算し、酸化アルミニウムをAl2O3に換算したとき、SiO2/(ZrO2+Al2O3)の重量比が98/2〜6/4、好ましくは95/5〜7/3の範囲にあることが望ましい。ここで、ZrO2とAl2O3の合計量が上記範囲より多くなると、フリーラジカルをトラップすることのできるZr原子とAl原子の合計量は増加するが、緻密な被覆層ができないため、前記核粒子で生成したフリーラジカルが前記無機酸化物微粒子の表面に出てきて、有機物の酸化を招くことになり、またZrO2とAl2O3の合計量が上記範囲より少なくなると、緻密な被覆層はでき易くなるが、フリーラジカルをトラップするためのZr原子とAl原子の合計量が少ないため、前記核粒子で生成したフリーラジカルが前記無機酸化物微粒子の表面に出てきて、有機物の酸化を招くことになる。
また、前記被覆層の厚さは、上記の観点より、0.02〜2.27nm、好ましくは0.16〜1.14nmの範囲にあることが望ましい。
これら有機ケイ素化合物とアミン化合物の添加量は無機酸化物微粒子の重量に対して1〜15%程度の範囲内で加えることが好ましい。
この(B)成分の有機ケイ素化合物は2種以上混合して用いてもよい。また、この(B)成分の有機ケイ素化合物は、加水分解をおこなってから用いた方がより有効である。
多官能性エポキシ化合物は、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性を向上させると共に、ハードコート層の耐水性を向上させることができる上、ハードコート層に柔軟性を付与することができる。無機蒸着膜で構成される反射防止膜はハードコート層に対する保護膜として機能するが、有機薄膜で構成される反射防止膜は極めて薄いために、ハードコート層に耐水性が必要となる。また、有機薄膜から構成される反射防止膜は、コーティング液を塗布した後、焼成による硬化されるが、その焼成の際に、ハードコート層は自身の焼成と合わせて2度焼成されるため、ハードコート層にクラックが発生する場合がある。更に、熱サイクルや紫外線に晒されたりしたときにもハードコート層にクラックが発生する場合がある。多官能性エポキシ化合物は、ハードコート層に柔軟性を付与することによって、このようなクラックの発生を抑制し、歩留まりの向上、耐候性を向上させることができると考えられる。
この一般式中、R2は炭素数1〜3の炭化水素基であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、1−メチルビニル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、メチル基、エチル基、プロピル基、ビニル基等が挙げられる。また、X2は加水分解可能な官能基であり、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、もしくは、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、もしくはアシルオキシ基等が挙げられる。式中、nは0又は1を表す。
このシラン化合物の具体例としては、テトラアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン、アリルトリアルコキシシラン等が挙げられる。
(E)一般式:X3 3−m−Si(R3 m)−Y−Si(R4 m)−X4 3−m
で表されるジシラン化合物を配合することが好ましい。
この一般式中、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜6の炭化水素基であるが、その具体例としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等があげられる。また、X3及びX4は加水分解性基であり、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、もしくはクロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、もしくはアシルオキシ基等があげられる。式中、mは0又は1を表す。また、Yはカ−ボネ−ト基またはエポキシ基を有する有機基であり、その具体例としては、下記のものを例示することができる。
(F)一般式:R5 rR6 qSiX5 4−q―rで表される有機ケイ素化合物、
(式中、R5は重合可能な反応基を有する有機基、R6は炭素数1〜6の炭化水素基、X5は加水分解基であり、qは0又は1、rは0又は1である。)
(G)平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子。
(1)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、プラスチックレンズ基材上に少なくとも下記(A)成分及び(B)成分を含有するコ−ティング用組成物からハードコート層を形成するハードコート層形成工程と、
(A)平均粒径1〜200nmのルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子、
(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が3以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)、
前記ハードコート層上に前記ハードコート層の屈折率よりも0.10以上低い屈折率を有し、かつ50nm〜150nmの膜厚の有機薄膜を形成する反射防止膜形成工程とを有するものである。
(2)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、プラスチックレンズ基材上に少なくとも下記(A)成分及び(B)成分を含有するコ−ティング用組成物からハードコート層を形成するハードコート層形成工程と、
(A)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物を含む平均粒径1〜200nmの無機酸化物微粒子、
(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が3以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)、
前記ハードコート層上に前記ハードコート層の屈折率よりも0.10以上低い屈折率を有し、かつ50nm〜150nmの膜厚の有機薄膜を形成する反射防止膜形成工程とを有するものである。
(3)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、前記(2)に記載の無機酸化物微粒子として、(i)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、(ii)酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び/又は酸化アルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆したものを使用する。
(4)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、前記反射防止膜形成工程で形成される前記有機薄膜を、下記(F)成分及び(G)成分
(F)一般式:R5 rR6 qSiX5 4−q―rで表される有機ケイ素化合物(式中、R5は重合可能な反応基を有する有機基、R6は炭素数1〜6の炭化水素基、X5は加水分解性基であり、qは0又は1、rは0又は1である。)、
(G)平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子
を含有するコーティング組成物を用いて形成する。
(5)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、前記(4)に記載のシリカ系微粒子として、内部空洞を有するものを使用する。
(6)本発明に係るプラスチックレンズの製造方法は、前記(5)に記載のシリカ系微粒子として、20〜150nmの平均粒径を有し、屈折率が1.16〜1.39の範囲にあるものを使用する。
実施例1〜8,比較例1〜5
60℃、100RH%に設定された恒温恒湿槽(ダバイエスペック株式会社製:PR−1G)に7日間放置した後、表面状態に全く変化がないものを優、ごくわずかの変化が認められるものの実用上は問題がないものを良とした。
キセノンランプによるサンシャインウェザ−メ−タ−(スガ試験機株式会社製:WEL−SUN−HC)に80時間暴露した後、表面状態の変化の程度を目視により、次の段階に分けて評価した。
◎:変化が認められない。
○:白濁が発生
△:クラックが発生
×:ハガレが発生
レンズ生地と表面処理層(ハ−ドコ−ト層及び反射防止膜)の密着性の評価をした。JIS D−0202に準じてクロスカットテ−プ試験によって行った。即ち、ナイフを用い基材表面に1mm間隔に切れ目を入れ、1平方mmのマス目を100個形成する。次に、その上へセロファンテ−プ(ニチバン(株)製、商標名「セロテ−プ」)を強く押し付けた後、表面から90度方向へ急に引っ張り剥離した後、コ−ト被膜の残っているマス目を密着性指標として目視で観察した。
◎:コ−ト膜の残った面積が100%
○:コート膜の残った面積が95%以上〜100%未満
△:コ−ト膜の残った面積が50%以上〜95%未満
×:コ−ト膜の残った面積が50%未満
スチ−ルウ−ル(日本スチ−ルウ−ル(株)製 #0000番)を用いて、1kg荷重、10往復でレンズを擦り、傷の程度を目視の観察により10段階にランク付けする。
(1(悪)〜10(良))
◎: 10〜8
○: 7〜6
△: 5〜4
×: 3〜1
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル264部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径10nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(11RU−7/A8)」)1000部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン226部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液62部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト3部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−1と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル146部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径10nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(11RU−7/A8)」)1000部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン226部、テトラメトキシシラン101部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液120部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト2部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−2と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル178部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径10nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(11RU−7/A8)」)1000部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン170部、テトラメトキシシラン101部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液104部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト2.5部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−3と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル261部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径10nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(11RU−7/A8)」)1000部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン170部、ジシラン化合物(トクヤマ(株)製、商品名「NSK−100」)63部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液60部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト2.5部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−4と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル264部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(8RU−25/A17)」)1030部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン226部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液62部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト3部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−5と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル264部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化アルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径10nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120AL(11RU−7・A8)」)1000部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン226部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液62部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト3部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−6と略す。
プロピレングリコ−ルメチルエ−テル264部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120ZAL(8RU−25・A8)」)1030部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン226部、グリセロ−ルポリグリシジルエ−テル(ナガセ化成工業(株)製、商品名「デナコ−ルEX−313」)40部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液62部を攪拌しながら滴下し、さらに4時間攪拌後一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネ−ト3部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカ−(株)製、商品名「L−7001」)5部を添加し4時間攪拌後一昼夜熟成した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−7と略す。
ハ−ドコ−ト層用コ−ティング液(H−1)の調製において、無機酸化物微粒子のゾルを酸化チタンと酸化ケイ素からなるアナターゼ型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(U−25・A8)」)とした以外は、H−1と同様の方法で調製した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−8と略す。
ハ−ドコ−ト層用コ−ティング液(H−2)の調製において、無機酸化物微粒子のゾルを酸化チタンと酸化ケイ素からなるアナターゼ型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(U−25・A8)」)とした以外は、H−2と同様の方法で調製した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−9と略す。
ハ−ドコ−ト層用コ−ティング液(H−3)の調製において、無機酸化物微粒子のゾルを酸化チタンと酸化ケイ素からなるアナターゼ型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(U−25・A8)」)とした以外は、H−3と同様の方法で調製した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−10と略す。
ハ−ドコ−ト層用コ−ティング液(H−4)の調製において、無機酸化物微粒子のゾルを酸化チタンと酸化ケイ素からなるアナターゼ型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オプトレイク1120Z(U−25・A8)」)とした以外は、H−4と同様の方法で調製した。ここで得られたハ−ドコ−ト層用のコーティング液をH−11と略す。
プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下PGME)18.8g、γ−グリシドキシトリメトキシシラン8.1gを混合した後、0.1規定塩酸水溶液2.2gを撹拌しながら滴下し、5時間撹拌した。この液に、内部に空洞を有する平均粒径60nmのシリカ系微粒子(中空シリカ微粒子)をイソプロパノールに分散させた固形分濃度20wt%のシリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「スルーリア1420」)20.7gを加えて十分に混合した後、重合触媒としてAl(C5H7O2)3を0.04g、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)を0.015g添加して撹拌、溶解することにより、固形分濃度が20%のコーティング原液を得た。このコーティング液を希釈するために、300ppm濃度のシリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)入りPGME溶液を準備し、コーティング原液を35.3g、希釈用界面活性剤入りPGME溶液114.7gを混合して十分に撹拌し、固形分濃度が約4.7%の低屈折率層用のコーティング液を作製した。ここで得られた低屈折率層用のコーティング液をC−1と略す。
プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下PGME)18.8g、γ−グリシドキシトリメトキシシラン8.1gを混合した後、0.1規定塩酸水溶液2.2gを撹拌しながら滴下し、5時間撹拌した。この液に、内部に空洞を有しない平均粒径45nmのシリカ系微粒子をイソプロパノールに分散させた固形分濃度20wt%のシリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名「オスカル1435」)20.7gを加えて十分に混合した後、重合触媒としてAl(C5H7O2)3を0.04g、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)を0.015g添加して撹拌、溶解することにより、固形分濃度が20%のコーティング原液を得た。このコーティング液を希釈するために、300ppm濃度のシリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)入りPGME溶液を準備し、コーティング原液を35.3g、希釈用界面活性剤入りPGME溶液114.7gを混合して十分に撹拌し、固形分濃度が約4.7%の低屈折率層用のコーティング液を作製した。ここで得られた低屈折率層用のコーティング液をC−2と略す。
上記H−1を用いて、屈折率1.67のプラスチックレンズ(セイコ−エプソン(株)製、セイコ−ス−パ−ソブリン用レンズ生地 以下SSVと略す)に浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。
塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例1で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−2を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で120分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例2で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−3を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例3で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−4を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で20分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例4で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−5を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で120分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例5で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−6を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で120分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例6で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−7を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で120分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例7で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。
上記H−1を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で120分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−2液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.46であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この実施例8で得られたレンズは、耐湿性、耐候性、表面処理層の密着性、耐擦傷性いずれも満足できる水準であった。しかし、実施例1〜7で得られたレンズと較べると、反射率曲線のボトムで測定される反射率が高い傾向を示した。
上記H−8を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この比較例1で得られたレンズは、表面処理層の密着性、耐擦傷性、耐湿性については満足できる水準であったが、耐候性についてはやや不足していた。
上記H−9を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で20分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この比較例2で得られたレンズは、表面処理層の密着性、耐擦傷性、耐湿性については満足できる水準であったが、耐候性については不足していた。
上記H−10を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この比較例3で得られたレンズは、表面処理層の密着性、耐擦傷性、耐湿性については満足できる水準であったが、耐候性については不足していた。
上記H−11を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−1液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.37であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この比較例4で得られたレンズは、表面処理層の密着性、耐擦傷性、耐湿性については満足できる水準であったが、耐候性については不足していた。
上記H−8を用いて、SSVに浸積法(引き上げ速度35cm/min)にて塗布を行った。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で180分間焼成を行い、2.5μmのハ−ドコ−ト層を形成した。このようにして得られたレンズ基材に、上記C−2液を用いて、浸積法(引き上げ速度10cm/min)にて塗布を行った。塗布後、100℃で180分間焼成を行い、低屈折率層付きのレンズを得た。このときの膜厚は90nmであり、低屈折率層の屈折率は1.46であった。
こうして得られたレンズに、前記の耐湿性試験、耐候性試験、表面処理層の密着性試験、耐擦傷性試験を行った。この比較例5で得られたレンズは、耐候性が劣っており、しかも反射率曲線のボトムで測定される反射率が高い傾向を示した。
次に示す実施例9〜11、比較例6,7では、多官能性エポキシ化合物の配合量を変えて、多官能性エポキシ化合物配合量の効果の確認試験を行った。なお、得られたプラスチックレンズの評価は以下の方法で行った。
作製したレンズを、所定のメガネフレームに枠入れした後、メガネフレームごと40℃のオーブン中にいれて30分間加熱した。オーブンから取り出した後、室温で30分放置した後、レンズにクラックが発生していないか、暗箱で目視評価を行った。クラックが発生していない場合は、オーブンの温度を10℃づつ上げて再度30分間加熱し、同様の評価を行い、100℃まで試験を行った。濃いクラックが発生した時の温度をクラック発生温度とし、以下の様に評価した。
◎:非常に耐熱性が高い(クラック発生温度が100℃、または100℃でもクラックが発生しない。)
○:耐熱性が高い(クラック発生温度が80℃〜90℃)
×:耐熱性が低い(クラック発生温度が70℃以下)
レンズ生地と表面処理層(ハ−ドコ−ト層及び低屈折率層)の密着性を、サンシャインウェザ−(キセノンランプによるサンシャインウェザ−メ−タ−120時間)暴露と恒温恒湿(恒温恒湿槽60℃×99%雰囲気に7日間)放置したサンプルについて評価した。JISD−0202に準じてクロスカットテ−プ試験によって行った。即ち、ナイフを用い基材表面に1mm間隔に切れ目を入れ、1平方mmのマス目を100個形成させる。次に、その上へセロファンテ−プ(ニチバン(株)製、商標名「セロテ−プ」)を強く押し付けた後、表面から90度方向へ急に引っ張り剥離した後、コ−ト被膜の残っているマス目を密着性指標として目視で観察した。
◎:コ−ト膜の残った面積が100%
○:コ−ト膜の残った面積が95%以上〜100%未満
△:コ−ト膜の残った面積が50%以上〜95%未満
×:コ−ト膜の残った面積が50%未満
サンシャインウェザーメーター暴露120時間後のクラック発生状態を評価した。
スチ−ルウ−ル(日本スチ−ルウ−ル(株)製 #0000番)を用いて、1kg荷重、10往復でレンズを擦り、傷の程度を目視の観察により10段階にランク付けする。
(1(悪)〜10(良))
◎:10〜8
○: 7〜6
△: 5〜4
×: 3〜1
(1)ハ−ドコ−ト層の形成
プロピレングリコールメチルエーテル88部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク「1120Z(8RU−25・A17)」)750部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン106部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)25部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液30部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネート1.6部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)1.3部を添加してハ−ドコ−ト層用コ−ティング液を調製した。
このコーティング液をディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズに塗布した。塗布後80℃で30分間風乾した後、120℃で90分焼成を行い2.3μm厚のハードコート層を得た。
(2)反射防止膜の形成
次にこのレンズの凸凹面が横になるようカゴにセットし、真空度:90〜110×10−3Torr、電流:70±10mA、電圧:0.6±0.1KVで、60secプラズマ処理をおこなった。その後、上述した低屈折率層用コーティング液(C−1)をディッピング方式(引き上げ速度10cm毎分)で塗布した。塗布後80℃で30分間風乾した後、100℃で180分焼成を行い、約100nm厚の低屈折率膜を得た。さらにこのレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理した。
(1)ハ−ドコ−ト層の形成
プロピレングリコールメチルエーテル138部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク「1120Z(8RU−25・A17)」)688部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン106部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)38部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液30部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネート1.8部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)1.3部を添加してハ−ドコ−ト層用コ−ティング液を調製した。
このコーティング液を実施例9と同様にしてディッピング方式でレンズに塗布してハードコート層を形成した。
(2)反射防止膜の形成
次にこのレンズを実施例9と同様にプラズマ処理した後、上述した低屈折率層用コーティング液(C−1)をディッピング方式で塗布し、焼成した。さらにこのレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理した。
(1)ハ−ドコ−ト層の形成
プロピレングリコールメチルエーテル187部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク「1120Z(8RU−25・A17)」)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン106部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)50部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液30部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネート2.1部、過塩素酸マグネシウム0.7部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)1.3部を添加してハ−ドコ−ト層用コ−ティング液を調製した。
このコーティング液を実施例5と同様にしてディッピング方式でレンズに塗布してハードコート層を形成した。
(2)反射防止膜の形成
次にこのレンズを実施例9と同様にプラズマ処理した後、上述した低屈折率層用コーティング液(C−1)をディッピング方式で塗布し、焼成した。さらにこのレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理した。
(1)ハ−ドコ−ト層の形成
プロピレングリコールメチルエーテル197部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク「1120Z(8RU−25・A17)」)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン88部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)63部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液24部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネート2.2部、過塩素酸マグネシウム0.7部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)1.3部を添加した。
このコーティング液を実施例9と同様にしてディッピング方式でレンズに塗布してハードコート層を形成した。
(2)反射防止膜の形成
次にこのレンズを実施例9と同様にプラズマ処理した後、上述した低屈折率層用コーティング液(C−1)をディッピング方式で塗布し、焼成した。さらにこのレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理した。
(1)ハ−ドコ−ト層の形成
プロピレングリコールメチルエーテル152部、酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及びアルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆し、更にカップリング剤で表面修飾した平均粒径8nmの無機酸化物微粒子をメタノールに分散させた固形分濃度20wt%の複合酸化物ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク「1120Z(8RU−25・A17)」)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン170部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)5部を混合した。この混合液に0.1N塩酸水溶液47部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。一昼夜熟成させた後、Fe(III)アセチルアセトネート1.7部、過塩素酸マグネシウム0.5部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業(株)製、商品名「アンテージクリスタル」)1.3部を添加した。
このコーティング液を実施例9と同様にしてディッピング方式でレンズに塗布してハードコート層を形成した。
(2)反射防止膜の形成
次にこのレンズを実施例9と同様にプラズマ処理した後、上述した低屈折率層用コーティング液(C−1)をディッピング方式で塗布し、焼成した。さらにこのレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理した。
多官能性エポキシ化合物の配合量が少ないと、耐熱性や密着性が低下し、多すぎると硬度が低下する。
また、本発明のプラスチックレンズの製造方法は、このような高性能なプラスチックレンズを製造する用途に利用することができる。
Claims (13)
- プラスチックレンズ基材と、前記プラスチックレンズ基材上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層の上に形成された反射防止膜とを有するプラスチックレンズにおいて、 前記ハードコート層が、少なくとも下記(A)成分及び(B)成分(A)平均粒径1〜200nmのルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子、(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。)、を含有するコ−ティング用組成物から形成された塗膜であり、 前記反射防止膜が、下記(F)成分および(G)成分(F)一般式:R5 rR6 qSiX5 4−q―rで表される有機ケイ素化合物、(式中、R5は重合可能な反応基を有する有機基、R6は炭素数1〜6の炭化水素基、X5は加水分解性基であり、qは0又は1、rは0又は1である。)(G)平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子を含有するコーティング用組成物から形成された、前記ハードコート層の屈折率よりも0.10以上低い屈折率を有し、かつ50nm〜150nmの膜厚の有機薄膜であることを特徴とするプラスチックレンズ。
- 請求項1記載のプラスチックレンズにおいて、
前記無機酸化物微粒子は、酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する平均粒径1〜200nmの複合酸化物を含むことを特徴とするプラスチックレンズ。 - 請求項2に記載のプラスチックレンズにおいて、
前記無機酸化物微粒子は、(i)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、(ii)酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び/又は酸化アルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆したものを含むことを特徴とするプラスチックレンズ。 - 請求項1記載のプラスチックレンズにおいて、 前記シリカ系微粒子が、内部空洞を有することを特徴とするプラスチックレンズ。
- 請求項4記載のプラスチックレンズにおいて、
前記シリカ系微粒子が、20〜150nmの平均粒径を有し、屈折率が1.16〜1.39の範囲にあることを特徴とするプラスチックレンズ。 - 請求項1〜5いずれかに記載のプラスチックレンズにおいて、 前記ハードコート層を形成するコーティング用組成物が、更に、(C)成分(C)多官能性エポキシ化合物を含有することを特徴とするプラスチックレンズ。
- 請求項1〜6いずれかに記載のプラスチックレンズにおいて、 前記ハードコート層を形成するコーティング用組成物が、更に、(D)成分(D)一般式:R2 nSiX2 4−nで表される有機ケイ素化合物(式中、R2は炭素数1〜3の炭化水素基を表し、X2は加水分解性基を表し、nは0又は1を表す。)を含有することを特徴とするプラスチックレンズ。
- 請求項1〜7いずれかに記載のプラスチックレンズにおいて、 前記ハードコート層を形成するコーティング用組成物が、更に、(E)成分(E)一般式:X3 3−m−Si(R3 m)−Y−Si(R4 m)−X4 3−mで表されるジシラン化合物(式中、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜6の炭化水素基を表し、X3及びX4は加水分解性基を表し、Yはカ−ボネ−ト基又はエポキシ基を含有する有機基を表し、mは0又は1を表す。)を含有することを特徴とするプラスチックレンズ。
- プラスチックレンズ基材上に少なくとも下記(A)成分及び(B)成分を含有するコ−ティング用組成物からハードコート層を形成するハードコート層形成工程と、(A)平均粒径1〜200nmのルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有する無機酸化物微粒子、(B)一般式:R1SiX1 3で表される有機ケイ素化合物、(式中、R1は重合可能な反応基を有する炭素数が2以上の有機基を表し、X1は加水分解性基を表す。) 前記ハードコート層上に、下記(F)成分及び(G)成分を含有するコーティング組成物を用いて、
(F)一般式:R5 rR6 qSiX5 4−q―rで表される有機ケイ素化合物
(式中、R5は重合可能な反応基を有する有機基、R6は炭素数1〜6の炭化水素基、X5は加水分解性基であり、qは0又は1、rは0又は1である。)、
(G)平均粒径1〜150nmのシリカ系微粒子、
前記ハードコート層の屈折率よりも0.10以上低い屈折率を有し、かつ50nm〜150nmの膜厚の有機薄膜を形成する反射防止膜形成工程とを有することを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。 - 請求項9記載のプラスチックレンズの製造方法において、
前記無機酸化物微粒子は、酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する平均粒径1〜200nmの複合酸化物を含むことを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。 - 請求項10に記載のプラスチックレンズにおいて、
前記無機酸化物微粒子は、(i)酸化チタン及び酸化スズ、又は酸化チタン、酸化スズ及び酸化ケイ素からなるルチル型の結晶構造を有する複合酸化物の核粒子の表面を、(ii)酸化ケイ素と酸化ジルコニウム及び/又は酸化アルミニウムからなる複合酸化物の被覆層で被覆したものを含むことを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。 - 請求項9記載のプラスチックレンズの製造方法において、
前記シリカ系微粒子が、内部空洞を有することを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。 - 請求項12に記載のプラスチックレンズの製造方法において、
前記シリカ系微粒子が、20〜150nmの平均粒径を有し、屈折率が1.16〜1.39の範囲にあることを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。
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