JP3939088B2 - 磁性材料とこれを用いたコイル部品と磁性材料の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波領域で使用される磁性材料とその磁性材料を含有するコアを有するバルク型コイル部品または磁性体層内に前記磁性材料を有する積層型コイル部品と磁性材料の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、各種電子機器の小型化、軽量化に伴い、それらを構成する電子部品についても小型化、軽量化が進んでいる。コイル、トランス等のコイル部品も例外ではなく、小型化、軽量化が進み、一方で電子機器の高周波化も進んでいる。特に移動体通信機器においては10MHz以上の周波数帯でコイル等が使用されており、小型で高周波領域まで動作し、高いQ値を持つコイル等が望まれている。
【0003】
高周波用コイル部品としては、磁性体でなるコアにワイヤを巻き付けたバルク型と、磁性体層と内部導体層とを積層し焼結してなる積層型とがある。バルク型コイル部品は、磁性粉末にバインダーを加えて造粒した後に所定の形状に成形し、加工し、空気中で850℃から1300℃程度で焼成したコイル用コア(コアは焼成後に加工する場合もある)にAu、Ag、Cu、Fe、Pt、Sn、Ni、Pb、Al、Coまたはそれらの合金等からなるワイヤを巻いて作製する。
【0004】
積層型コイル部品は、導体が磁性体で覆われていることから、漏れ磁束がなく、クロストークが抑制され、高密度実装に適していること、大きなインダクタンスLを持ちつつ小型化が可能なこと、堅牢性が高いこと等を特徴としており、近年は多岐にわたる分野に使用されている。積層型コイル部品は、通常、磁性体層用ペーストと内部導体層用ペーストとを厚膜技術(印刷法やドクターブレード法等)により積層し、一体化した後、焼成し、得られた焼結体表面に外部電極用ペーストを印刷し、焼き付けることにより製造される。そして、内部導体材料はインダクタの直流抵抗、さらに製品のQ値にも影響を及ぼすことから、抵抗の低いAgが用いられる。ここで重要なことは、磁性体層に用いられる磁性材料は、前記のように内部導体と同時焼成されることから、少なくともAgの融点(約960℃)以下で焼結できることである。
【0005】
バルク型、積層型のいずれのコイルにおいても、フェライトによる磁性体層(コア)の比抵抗が高いことが要求される。バルク型においては、コアにワイヤにより巻線を施す際に、比抵抗が低ければボビン等の絶縁物が必要となり、コアの小型化の障害となり、さらにメッキによりコアに電極を形成する場合は比抵抗が低いとメッキの信頼性が劣化する。また、コアの比抵抗が低いとコアの素地までメッキされるおそれがあり、コイルとしての信頼性も著しく低下する。
【0006】
そこで、バルク型、積層型のコイル部品のうち、高周波領域で使用される磁性材料としてNi−Cu−Zn系のフェライトが一般に用いられる。その理由は、フェライトが立方晶の結晶構造であり、比抵抗が高く、適度の透磁率を有しており、空芯コイルや非磁性体をコイルのコアとして用いたコイルと同等のインダクタンスを得るのであれば、これらに比べて巻線数を減らすことができ、素子の小型化に有利であり、また、高周波領域まで高いQ値を得ることができるという特徴を有している。
【0007】
高周波領域でのQ特性を向上させることを目的として、特許第2893302号公報には、Ni、Cu、Co、Feの酸化物を主成分として含有するスピネル型フェライト焼結体に対し、NiO相を0〜60wt%(但し0を含まず)分散含有したものが開示されている。また、このような組成とすれば、高周波領域でのQ特性が良好となり、Qの最大値が高周波側にシフトし、コイル用コア材料のμ値については10MHzの値を用い、インダクタンス値が高くとれ、さらにその効果として、前記の手法により高周波帯域用磁芯材料として適用可能な酸化物磁性材料が安価に得られる旨の記載がある。
【0008】
また、前記公報中に記載の実施例には、前記フェライト材料を金型を使用して圧縮成形し、大気中で徐熱すると共に、炉内にて970℃で4時間保持してフェライト焼結体を得た旨の記載がある。
【0009】
さらに特公平6−80613号公報には、密度の高いNi−Zn系フェライト材料の提供を目的として、Ni−Zn系フェライト材料の主成分に対し、Bi2O3を、4〜20wt%の範囲で添加含有させ、低い焼成温度で高い焼結体密度およびQ値を持つ磁性材料を得た例が開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
コイル部品の品質を量る因子として品質係数:Q値が挙げられる。これはコイルのリアクタンス成分と交流抵抗成分の位相角をθ(deg)とすると、90(deg)−θ(deg)で表される損失角δ(deg)を用いて表される損失:tanδの逆数であり、Q=1/tanδで表される。
【0011】
スピネル型フェライトの透磁率と周波数にはスヌーク(snoek)の限界線(透磁率の低いフェライト程、高い周波数まで透磁率を維持する)が成り立ち、コイルの形状および巻線数とそのパターンを同等とした場合、透磁率の異なる材料をコイルに使用することにより、適用する周波数を変えることが可能となる。これは前記スヌークの限界線からも分かる通り、周波数が高周波になることにより透磁率が減少する。この透磁率の減少が生じる周波数は透磁率の大小により異なるが、一般的にはスヌークの周波数限界線に沿って透磁率が減少する。また、透磁率は複素成分を含めて表すと、実数成分μ’と虚数成分μ”に分けられる。
【0012】
透磁率の実数成分であるμ’は一定の周波数まで一定の値を保持し、その後周波数の増加と共に前述したスヌークの限界線に沿って減少する。また、虚数部分μ”は周波数の増加と共に増加し、μ’成分がフラット領域の値の約半分に減少する周波数付近で最大となり、その後周波数の増加と共に減少する。
【0013】
このような複素透磁率の実数部分μ’と虚数部分μ”はコイルのインダクタンスLと交流抵抗Rを用いると、下記の式で表される。
【0014】
μ’=le×L/(μ0×A0×n2)
μ”=le×(Reff−Rw)/(μ0×ω×A0×n2)
ここに、le:実測による試料の実効磁路長(m)
μ0:真空透磁率4×π×10−7(H/m)
A0:実測による試料の実効断面積(m2)
n:試料のコイル巻数
ω:角周波数(ラジアン/s)ω=2×π×f
ここに、π:円周率、f:測定周波数(Hz)
L:コイルのインダクタンス(H)
Reff:試料を含めたコイルの損失抵抗(Ω)
Rw:ワイヤの交流抵抗(Ω)
【0015】
このような複素透磁率の実数部分μ’と虚数部分μ”とを用いると、品質係数QはQ=μ’/μ”=1/tanδで表される。このように、コイル用コアにフェライトを用いる場合、使用するフェライト材料の複素透磁率のμ’成分はもとより、虚数成分であるμ”の大小がその特性を決める要因となる。スヌークの限界線から分かるように、所望の周波数領域で品質係数の高い(損失の少ない)コイルを得ようとすれば、適宜効果の高い透磁率の磁性材料を用いることが肝要である。
【0016】
しかしながら、100MHz以上の高周波領域の品質係数の高い(損失の少ない)コイルを得ようとすれば、透磁率およびその実数部分μ’が低く、さらに虚数部分μ”の増加を低く抑えた磁性材料を用いることが望ましい。
【0017】
前記した特許第2893302号公報においては、Q値の向上、高周波化は窺えるものの、コイルの性能を左右する高周波領域における透磁率の虚数成分であるμ”の記載がなく、実数部分であるμ’についても実効透磁率として10MHzの値が挙げられているにすぎない。コイルとして高周波領域の信頼性を量る上ではμ’/μ”で表されるQ値の他に、μ’もしくはμ”についても明確にし、制御を行うことが必要である。
【0018】
なお、特許第2893302号公報においては、スピネル型フェライト焼結体にNiO相を適宜分散含有させたものとしているが、このNiO相の存在が明確でない。なぜならば、スピネル相とNiO相の析出量の測定をX線回折線の強度比からの推定で行っているが、使用する回折ピークはスピネル相が(311)反射と(222)反射と(400)反射からであり、NiO相の測定に使用した回折ピークは(111)反射と(200)反射である。ところがNiO相の測定に使用した(111)反射は回折角2θ=56.5°であって、(200)反射は回折角2θ=66.3°であり、これらはそれぞれスピネル相の(222)反射の回折角2θ=56.6°と、(400)反射の回折角2θ=66.3°にそれぞれ等しい。このように、NiO相とスピネル相は回折ピークが重なるため、NiO析出を断定することには疑問があり、NiOがスピネル相に固溶しているとも考えられる。さらに前記公報には、「焼結体の結晶組織を観察したところ、結晶が局部的に著しく偏在しているような状態は認められず、NiO相に分散した状態になっていることが判明した」との記載があるように、NiOのスピネル相への固溶状態を示すものと考えられる。
【0019】
また、前記特許第2893302号公報では焼成温度が970℃で4時間保持であり、この温度ではAgあるいはAg−Pdとの同時焼成は困難である。
【0020】
さらに、前記特公平6−80613号公報に記載された製造法では、焼成温度が明確ではなく、Bi2O3を10wt%添加含有させた例では焼成温度が950℃のとき、密度が4.86位であって、密度が望ましい密度である5以上の場合は焼成温度が960℃以上となり、AgあるいはAg−Pdとの同時焼成が困難である。
【0021】
また、特公平6−80613号公報の製造法によると、Bi2O3の含有により100MHzにおいてQ値が向上した例が開示されているが、コイルの性能を左右するμ’およびμ”に関する記載はない。
【0022】
本発明は、上記問題点に鑑み、スピネル相以外の第2相を出現させると共に、この出現を明確にしてその量を調整することにより、高周波領域での複素透磁率の虚数成分μ”を制御し、これにより極めて良好なQ値が得られる磁性材料とこれを用いたコイル部品と磁性材料の製造方法を提供することを目的とする。また本発明は、Agあるいはその合金との同時焼成が可能となる焼成温度で、焼結体密度が高く、極めて良好なQ特性が得られる磁性材料と、これを用いたコイル部品、特に内部導体層にAgあるいはその合金を用いた積層型コイル部品と磁性材料の製造方法を提供することを目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段と作用、効果】
請求項1の磁性材料は、少なくともFe、Ni、Cu、Coの酸化物を主成分として含有するスピネル型フェライト焼結体であって、
前記主成分中のFe 2 O 3 の含有率が10.0〜40.0mol%、Fe 2 O 3 /NiOのmol比が1以下であり、
前記主成分である酸化物の同時焼成によって生成する(Cu0.2Ni0.8)酸化物相を、前記スピネル型フェライト焼結体に分散含有し、
かつ副成分として全体量に対する含有量が0から10wt%(但し、0は含まず)となるBi2O3を分散含有する
ことを特徴とする。
【0024】
このように、(Cu0.2Ni0.8)酸化物相をフェライト焼結体とは別に分散含有し、この量を調整することにより、高周波領域での複素透磁率の虚数成分μ”を制御することができ、これにより、高周波領域で極めて良好なQ値を持つ磁性体が得られる。また、Bi2O3を0〜10wt%含有することにより、積層型コイル部品において、焼結体密度が5g/cm3以上でAgとの同時焼成が可能な910℃以下の温度、あるいはAg−Pd等のAg合金と同時焼成が可能な950℃以下の温度での焼成により、高周波領域で極めて良好なQ特性の焼結体でなる磁性体を得ることができる。
【0025】
請求項2の磁性材料は、請求項1の磁性材料において、
主成分としてさらにZnを含有することを特徴とする。
【0026】
このように主成分としてZnを含有させることにより、初透磁率を高めることができる。
【0027】
請求項3のコイル部品は、バルク型コイル部品であって、請求項1または2の磁性材料からなるコアを有することを特徴とする
【0028】
このようなコアは、Fe2O3、NiO、CuO、ZnO、CoO等の主成分および副成分としてのBi 2 O 3 、さらに場合によってはP、Al、B、Mn、Ba、Sr、Pb、W、V等の酸化物を副成分として所定の比率となるように秤量し、ボールミル、サンドミル、振動ミル、湿式メディア攪拌型ミル等を用い、混合粉砕した後、湿式の場合は乾燥し、仮焼きし、ボールミル、サンドミル、振動ミル、湿式メディア攪拌型ミル等を用いて粉砕し、湿式の場合は乾燥を行う。そしてバルク型コアを得る。
【0029】
バルク型コイル部品のコアは、粉体にバインダーを加え、造粒した後に所定の形状に成形加工した後、空気中で850℃〜1300℃でコアとして焼成し、Au、Ag、Cu、Fe、Rt、Sn、Ni、Pb、Al、Coまたはこれらの合金等からなるワイヤを巻いて作製する。なお、前記コアの加工は焼成後に行ってもよい。
【0030】
請求項3のコイル部品は、前記磁性材料で作製されたコアを有するため、焼成温度がAgまたはAg−Pd等の合金の融点以下の低い焼成温度で、密度が5g/cm3以上の焼結体で構成することができる。また、高周波領域でのQ値も高温焼成のものと遜色のないものを提供できる。
【0031】
請求項4のコイル部品は、磁性体層と内部導体層を有する積層型コイル部品であって、前記磁性体層が請求項1または2の磁性材料からなることを特徴とする。
積層型コイル部品は、通常、磁性体層用ペーストと内部導体層用ペーストとを厚膜技術(印刷法やドクターブレード法等)により積層して一体化した後、焼成し、得られた焼結体表面に外部電極用ペーストを印刷し、焼き付けることにより製造される。請求項4の磁性体層用ぺーストは請求項1、2の磁性材料を用い、前記バルク型コイル部品のコアと同様に粉末を作製し、バインダーと溶剤と共に混合してペーストを作製する。内部導体層用ペーストは、通常、導電体粉末とバインダーと溶剤とを混合して作製する。
【0032】
請求項4の積層型コイル部品は、磁性体層に前記磁性材料を用いることにより、低温度で内部導体層と同時焼成が可能な高密度の積層型コイル部品を提供することができる。また、高周波領域におけるQについても、高温焼成のものと遜色の無いものを提供できる。
【0033】
請求項5の積層型コイル部品は、請求項4のコイル部品であって、前記内部導体層がAgまたはAg−Pdの合金を主成分とすることを特徴とする。
【0034】
積層型コイル部品の導電体粉末としては、製品の直流抵抗を低減させ、Q値を向上するという理由から、AgまたはAg−Pd等の合金が最適である。このAgまたはその合金を導電材に用いる場合、焼成条件や焼成雰囲気は磁性体や導電材の材質に応じて適宜決定すればよいが、焼成温度は導電材にAgを用いた場合は、好ましくは880〜910℃である。また、Ag−Pdの合金を用いた場合は、好ましくは910〜950℃である。焼成温度が低すぎると焼結不足となり、高すぎると、フェライト中に電極材料が拡散してチップの電磁気特性を著しく悪化させるからである。また、焼成時間は5分から2時間である。
【0035】
請求項5の積層型コイル部品においては、内部導体層にAgもしくはAg−Pdの合金を主成分とするので、内部導体層の抵抗を低いもので構成することができ、Qの高い積層型コイル部品を提供することができる。
【0036】
請求項6の磁性材料の製造方法は、少なくともFe、Ni、Cu、Coの酸化物を主成分とし、Bi2O3 を副成分とし、
前記主成分中のFe 2 O 3 の含有率を10.0〜40.0mol%、Fe 2 O 3 /NiOのmol比を1以下とし、副成分としてのBi 2 O 3 を全体量に対する含有量が0から10wt%(但し、0は含まず)となるように主成分と副成分の酸化物を混合して焼成することによって(Cu 0.2 Ni 0.8 )酸化物相を分散含有すると共にBi 2 O 3 を分散含有するスピネル型フェライト焼結体を得る
ことを特徴とする。
【0037】
【発明の実施の形態】
本発明の酸化物磁性材料は、Fe、Ni、Cu、Coを主成分とするものであり、さらに必要に応じてZnを加えて主成分とする。さらにこのフェライト焼結体に(Cu0.2Ni0.8)O相を有するものである。この(Cu0.2Ni0.8)O相の含有率は好ましくは0〜31wt%(但し0を含ます)である。また、この主成分に全体に対する含有量が0〜10wt%(但し0を含まず)となるBi2O3を副成分として含むものである。また、不純物として、P、Al、B、Mn、Ba、Sr、Pb、W、V、Mo等を含有してもよい。
【0038】
なお、主成分の組成は、所定値以上の透磁率、焼結体密度の特性を得る上で好ましくはFe2O3は5〜51mol%、NiOは10〜94.49mol%、CuOは0.5〜35mol%、ZnOは0〜35mol%(但し0を含む)、CoOは0.01〜5mol%である。
【0039】
ここで、Fe2O3は5mol%未満であると、焼結体密度に劣化が見られる。そして、Fe2O3は化学量論組成を超えた範囲から、空気中の焼成ではFe3O4の析出により、焼結体密度の劣化およびコアとしての比抵抗の劣化が始まる。この析出が顕著に見られるのは、51mol%を超える範囲である。
【0040】
また、NiOが10mol%未満であると、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出が見られず、Q特性が向上しない。NiOはFe2O3、CuO、ZnO、CoOの最低量がそれぞれ最低含有率となる場合の残り全部を占める含有率(94.49mol%)まで含有させることができる。ただし、本発明において、(Cu 0.2 Ni 0.8 )O相の析出を行なうためには、Fe 2 O 3 の含有率が10.0〜40.0mol%、Fe 2 O 3 /NiOのmol比が1以下であることが好ましい。
【0041】
また、CuOが0.5mol%未満であると、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出が見られず、35mol%を超えると、コアの比抵抗の劣化が見られる。
【0042】
初透磁率は、使用する周波数により適宜決定すればよいが、初透磁率を管理する上で最も大きな要因となるのがZnOである。所望の初透磁率が低い場合にはZnO量を0とし、これより高い初透磁率を得たい場合はZnO量を増加させることが必要となる。但し、ZnOの含有量が35mol%を超えるとキュリー点が下がり、実用上この値が限界である。
【0043】
透磁率の実数部分μ’および虚数部分μ”の制御を行う上で要因となるのがCoO量であるが、この量が増加することにより、除々にではあるが、初透磁率が低下し、高周波におけるQ特性が向上する。このCoOの添加の効果が現れるのは0.01mol%以上である。但しこのCoOの添加量が増加すると、透磁率の温度特性に劣化が見られ、5mol%を超えると、透磁率の温度に対する変化率が増加するので、実用上この値が限界である。
【0044】
また、副成分として用いるBi2O3については、含有量の増加により低温での焼結体密度が向上する。これは主成分として用いるCuOと同様であるが、低温で焼結体密度を向上させることを目的にCuO量を増加させることにより、初透磁率やQ値に劣化が見られた場合は、適宜Bi2O3量を調整することで、Q値を劣化させず低温での焼結体密度を向上させることが可能となる。但しBi2O3の含有量が10wt%を超えると仮焼において、粒成長が急激に進み、次工程での粉砕が困難となり、本焼成での緻密化に支障をきたす。Bi2O3の含有量は0〜10wt%(但し0を含まず)であり、より好ましくは0.3〜10wt%である。
【0045】
【実施例】
(試料)
表1の実施例1、2、3に示す組成となるように主成分として酸化鉄(α−Fe2O3)と酸化ニッケル(NiO)と酸化第2銅(CuO)と酸化亜鉛(ZnO)と四三酸化コバルト(Co3O4)と副成分としての酸化ビスマス(Bi 2 O 3 )とをボールミルにより5時間湿式混合した。次にこれらの原料混合粉末を大気中750〜900℃で2時間仮焼した後、ボールミルにて比表面積が4m2/gとなるように湿式粉砕し、成形用粉末を得た。
【0046】
これらの粉砕粉末にバインダーとして鹸化度が98.5、重合度2400のポリビニールアルコール(PVA124)の3wt%水溶液を10重量部加えて造粒し、後述の測定条件等に合わせて所定の形状に成形し、空気中で880、910、940、950、980、1030、1060、1090、1120℃で焼成してコアを作製した。
【0047】
また、比較例として、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出が見られないNi−Cu−Znフェライトを比較例1、2とし、本発明の実施例1、2、3と同様の製造条件により作製した磁性材料を用意し、コアを作製した。
【0048】
また、比較例3、4、5として、Fe2O3、NiO、CuO、ZnO、CoOの組成をそれぞれ実施例1、2、3と同じとし、いずれもBi2O3を含まないサンプルを用意した。また、別の比較例6として、Fe2O3、NiO、CuO、ZnO、CoOの組成を実施例2と同じとし、Bi2O3の含有量を15wt%としたものを用意した。
【0049】
なお、前記成形用粉末の比表面積の測定は、(株)島津製作所製流動式比表面積自動測定装置、フローソープ2300型でBET一点法により測定した。
【0050】
((Cu0.2Ni0.8)O相の同定)
前述のように、900℃に仮焼成して粉砕した成形用粉末について、表1に示した各サンプルの(Cu0.2Ni0.8)O相の有無の検出と析出量の測定をX線回折装置により行なった。
【0051】
(Cu0.2Ni0.8)O相の定量はX線回折線の強度比により行なった。X線回折装置は、日本電子(株)社製JDX−3530を用い、線源はCr−Kα線を使用した。測定条件は、ステップスキャン法、ステップ角度0.04°、計数時間20秒/ステップで行なった。
【0052】
ここで、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出を確認した根拠について説明する。X線回折の結果から、サンプル3〜9には、サンプル1、2(比較例1、2)には見られない回折角2θ=102°、144°に第2相の出現が見られた。さらに、スピネルのピークと同位置ではあるが、回折角2θ=56.5°、66.3°に強度の増加が見られた。これら4つのピークは、相と回折角2θとの関係を表すASTMカードNo.25−1049に示される(Cu0.2Ni0.8)O相のピークと重なることから、析出が確認された相を(Cu0.2Ni0.8)O相と同定した。
【0053】
また、前記カードによれば、回折角2θ=102°は(Cu0.2Ni0.8)O相における(220)反射、2θ=144°は(222)反射、2θ=56.5°は(111)反射、2θ=66.3°は(200)反射であることが確認された。
【0054】
さらにEPMAによる面分析から、NiとCuの元素分布は同位置に存在することが確認された。このことは、先に示したX線回折の結果と一致し、析出が確認された相を(Cu0.2Ni0.8)O相と断定した。
【0055】
【表1】
【0056】
また、サンプル1(比較例1)はCuOを含まないフェライトである。このサンプル1においては、(Cu0.2Ni0.8)Oとスピネルの重なり合うピークである回折角2θ=56.5°および2θ=66.3°のピークは増大するものの、スピネルのピークと重ならない2θ=102°の出現が無いことから、(Cu0.2Ni0.8)Oのような第2相の存在は認められない。
【0057】
すなわちサンプル1のように、CuOを含まず、化学量論的に余剰のNiOが析出されると考えられる組成において、Cr線源を用いても得られた回折角のピークはスピネル相と重なりあうものとしか見られなかった。
【0058】
サンプル2は、CuOを含むフェライトであるが、(Cu0.2Ni0.8)Oとスピネルの重なり合うピークである2θ=56.5°と2θ=66.3°のピークは増大するものの、スピネルのピークと重ならない2θ=102°のピークの出現が無いことから、(Cu0.2Ni0.8)Oのような第2相の存在は認められない。
【0059】
表2に(Cu0.2Ni0.8)O相の析出量の定量結果を示す。(Cu0.2Ni0.8)Oの析出量の算出については、同定した(Cu0.2Ni0.8)O相をASTMカードNo.25−1049に示される3強線と同じ回折ピークから、その強度比を用い、スピネル相との相対比率を算出した。
【0060】
(μ’、μ”、Q測定)
各サンプルの成型用粉末を用いて、外径30mm、内径18mm、高さ8mmのトロイダル型となるように成形し、空気中で1120℃で焼成し、ワイヤを3回巻きにすることにより実際にコイル部品を作製した。そして、インピーダンスアナライザ(ヒューレットパッカード社製4291A)により、磁界を0.4A/m印加し、周波数を1、2、3、5、7、10、20、30、50、70、100、150、200、280、330、430、500MHzとしてインダクタンスおよび交流抵抗、ワイヤの直流抵抗を測定し、前述した式からμ’、μ”を求めた。また、μ’をμ”で除算することにより、Q値を求めた。各サンプルについてのμ’、μ”、Q値の周波数による変化を、それぞれ図1、図2、図3に示す。
【0061】
(見かけ密度の測定)
表3に示す見かけ密度は、前記μ’、μ”の測定に用いた焼結体の寸法から堆積を求め、その質量を体積で除算して求めた。
【0062】
(評価−その1):μ‘、μ“について
図1(A)、(B)に示すように、サンプル1から8について、実数部分μ‘の挙動に大きな差は見られない。すなわち、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出の有無およびに関わらず、実数部分μ’の挙動に大きな差は見られない。一方、虚数部分μ”は、図2(A)、(B)から明らかなように、比較例3〜5、実施例1〜3の場合、すなわち(Cu0.2Ni0.8)O相の析出が有る場合、Bi2O3の有無に拘わらず、比較例1、2に比較し、周波数の増加に伴う虚数部分μ”の増加する周波数が高周波化している。
【0063】
【表2】
【0064】
(評価−その2):Q値について
さらに、Q値については、図3(A)、(B)に示すように、(Cu0.2Ni0.8)O相の析出が有る比較例3〜5および実施例1〜3の場合、比較例1、2に比較し、Bi2O3の有無に拘わらず、ピーク値の高周波化が窺え、その値も大きく向上していることが分かる。このように、(Cu0.2Ni0.8)O相からなる第2相の出現により虚数部分μ”の高周波化が可能であり、また、(Cu0.2Ni0.8)O相の量を調整することによって高周波領域での虚数部分μ”を制御することにより、極めて良好なQ値が得られる磁性材料とこれを用いたコイル部品が得られる。
【0065】
なお、CuはNiと同様にFeとの固溶状態を形成しやすいため、NiOに対するFe2O3のmol比Fe2O3/NiOを低減すること、好ましくは1以下にすることにより、(Cu0.2Ni0.8)Oの析出が実現し易くなる。表1、表2から、mol比Fe2O3/NiOは、各サンプル3の場合、40.0/48.9=0.818、サンプル4の場合、10.0/86.7=0.115、サンプル5の場合、22.9/67.7=0.338である。特にサンプル4、5のように、mol比Fe2O3/NiOが0.5以下になると、(Cu0.2Ni0.8)Oの析出がより出現しやすくなり、図3に示すように、Q値の高い周波数領域がより高周波化される。
【0066】
(評価−その3):焼成温度と焼結体密度について
焼結体の見かけ密度は、焼結体の焼結性の良し悪しを見るものである。見かけ密度が低いことにより、焼結体内部の空孔が多いものと判断することができ、このように見かけ密度の低いものは、素子化した場合において、高い湿温度下での使用により、この空孔が原因となり、ショート不良等の信頼性に影響を及ぼしたり、また物理的強度が脆弱となり、問題となる。このような問題が生じない見かけ密度は、一般にNi−Cu−Zn系フェライトの理論密度(5.3〜5.5g/cm3)の95%以上となる5.0g/cm3以上である。
【0067】
見かけ密度については、表3から明らかなように、サンプル7、8(実施例2、3)ではAgとの同時焼成に好適な910℃以下での焼成により、5g/cm3以上のものが得られる。また、サンプル6(実施例1)ではAg−Pdとの同時焼成に好適な950℃以下での焼成により、5g/cm3以上の見かけ密度が得られる。
【0068】
【表3】
【0069】
これに対し、サンプル1〜5(比較例1〜5)では910℃以下では勿論のこと、Ag−Pdの合金との同時焼成に好適な950℃以下の焼成においても5g/cm3の見かけ密度を得ることができない。すなわち、Bi2O3の添加により、低温焼成であっても焼結体密度を上げることができ、焼結性が向上し、AgやAg−Pd等のAg合金との同時焼成が可能なQ値の向上した製品が得られる。Bi2O3の添加量は、微量であっても効果があるが、表3から明らかなように、この添加量は0.3wt%以上であることがより好ましい。
【0070】
一方、Bi2O3の添加量が10wt%を超えると、仮焼において、粒成長が急激に進み、次工程での粉砕が困難で成形性が悪くなり、本焼成での緻密化に支障をきたす。表3ではBi2O3の添加量が15wt%である場合について、成形性が悪いことを示している。また、Bi2O3の添加量が増加すると、これが高価であることから、コストアップを招くという問題もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)、(B)は表1に示す実施例および比較例の磁性材料を用いて作製したコアの複素透磁率の実数部分μ’と周波数の関係を示す特性図である。
【図2】(A)、(B)は表1に示す実施例および比較例の磁性材料を用いて作製したコアの複素透磁率の虚数部分μ”と周波数の関係を示す特性図である。
【図3】(A)、(B)は表1に示す実施例および比較例の磁性材料を用いて作製したコアの複素透磁率の実数部分μ’と虚数部分μ”から算出されたQ値と周波数の関係を示す特性図である。
Claims (6)
- 少なくともFe、Ni、Cu、Coの酸化物を主成分として含有するスピネル型フェライト焼結体であって、
前記主成分中のFe 2 O 3 の含有率が10.0〜40.0mol%、Fe 2 O 3 /NiOのmol比が1以下であり、
前記主成分である酸化物の同時焼成によって生成する(Cu0.2Ni0.8)酸化物相を、前記スピネル型フェライト焼結体に分散含有し、
かつ副成分として全体量に対する含有量が0から10wt%(但し、0は含まず)となるBi2O3を分散含有する
ことを特徴とする磁性材料。 - 請求項1の磁性材料において、
主成分としてさらにZnを含有する
ことを特徴とする磁性材料。 - バルク型コイル部品であって、請求項1または2の磁性材料からなるコアを有する
ことを特徴とするコイル部品。 - 磁性体層と内部導体層を有する積層型コイル部品であって、前記磁性体層が請求項1または2の磁性材料からなる
ことを特徴とするコイル部品。 - 請求項4のコイル部品であって、前記内部導体層がAgまたはAg−Pdの合金を主成分とする
ことを特徴とするコイル部品。 - 少なくともFe、Ni、Cu、Coの酸化物を主成分とし、Bi2O3 を副成分とし、
前記主成分中のFe 2 O 3 の含有率を10.0〜40.0mol%、Fe 2 O 3 /NiOのmol比を1以下とし、副成分としてのBi 2 O 3 を全体量に対する含有量が0から10wt%(但し、0は含まず)となるように主成分と副成分の酸化物を混合して焼成することによって(Cu 0.2 Ni 0.8 )酸化物相を分散含有すると共にBi 2 O 3 を分散含有するスピネル型フェライト焼結体を得る
ことを特徴とする磁性材料の製造方法。
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