JP3933371B2 - 高選択性cmpを用いた集積回路装置のトレンチ素子分離方法 - Google Patents
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- 238000002955 isolation Methods 0.000 title claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 65
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 36
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 22
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 18
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 61
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 57
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 35
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 35
- DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Ce+3].[Ce+3] DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 5
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000293849 Cordylanthus Species 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009279 wet oxidation reaction Methods 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/31051—Planarisation of the insulating layers
- H01L21/31053—Planarisation of the insulating layers involving a dielectric removal step
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
- H01L21/762—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers
- H01L21/76224—Dielectric regions, e.g. EPIC dielectric isolation, LOCOS; Trench refilling techniques, SOI technology, use of channel stoppers using trench refilling with dielectric materials
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Element Separation (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Weting (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は集積回路装置のトレンチ素子分離方法に係り、特に酸化セリウムを研磨剤として用いてその製造工程が簡単なトレンチ素子分離方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路装置の製造に広く用いられる選択的酸化による素子分離方法(LOCal Oxidation of Silicon; 以下、“LOCOS”と称する)は、工程が簡単だという利点がある。しかし、256MB DRAM級以上の高集積化された半導体装置において前記LOCOS工程は、素子分離の幅が縮まるにつれて酸化時伴われるバーズビーク(Bird's Beak)によるパンチスルーや、フィールド酸化膜の厚さが縮まるなどの問題点によってその限界に至っている。
【0003】
前記LOCOS法の問題点を改善するための方法の一つとして、浅いトレンチ分離(Shallow Trench Isolation; 以下、“STI”と称する)法が提案された。
【0004】
図1は、従来の一般的なSTI工程段階を示すフローチャートである。
図1を参照すれば、半導体基板上にパッド酸化膜とシリコン窒化膜を形成し(段階10及び段階12)、シリコン窒化膜上にトレンチが形成される部分を露出させるためのフォトレジストパターンを形成した後(段階14)、これをマスクとして使用してシリコン窒化膜とパッド酸化膜をパタニング(段階16)する。そして、フォトレジストパターンを除去した後(段階18)、パタニングされたシリコン窒化膜とパッド酸化膜をマスクとして使用して前記半導体基板を蝕刻することによってトレンチを形成し(段階20)、化学気相蒸着法で形成された酸化膜(以下、“CVD酸化膜”と称する)でトレンチを埋立てた後(段階22)、化学-機械的研磨(Chemical-Mechanical Polishing: 以下、“CMP”と称する)して素子分離膜を形成し(段階24)、シリコン窒化膜パターンを除去する(段階26)。
【0005】
このように進行されるSTI法は、素子分離膜の形成において前記LOCOS法とは違って熱酸化工程によらないので、熱酸化工程により誘発される前記LOCOS法の短所をある程度減らすことができ、高集積化に適した素子分離膜の形成が可能である。
【0006】
しかし、前記一般的なSTI法によれば、LOCOS系列の酸化方法に比べて製造工程が複雑で製造コストが増える問題点がある。そして、厚いシリコン窒化膜がトレンチの両側に形成されているため、CVD酸化膜で前記トレンチを埋立てる時トレンチのアスペクト比が非常に大きい問題点がある。公知のように、アスペクト比の増加はCVD酸化膜のステップカバレージ不良を誘発し、これによりトレンチ内にボイドが発生する恐れがある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が達成しようとする技術的な課題は、その製造過程が簡単でありながらもトレンチ埋立てが容易なトレンチ素子分離方法を提供することである。
【0008】
本発明が達成しようとする他の技術的な課題は、シリコン基板表面に発生できるスクラッチのような欠陥を縮められるトレンチ素子分離方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記技術的な課題を達成するための本発明のトレンチ素子分離方法によれば、集積回路装置のトレンチ素子分離方法において、ベア基板の一面にフォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンを蝕刻マスクとして使用し前記基板を所定深度蝕刻してトレンチを形成する段階と、前記フォトレジストパターンを除去する段階と、前記トレンチ内に絶縁層を形成する段階と、絶縁層が形成された前記結果物に対して酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーを使用して前記基板が露出されるまで化学機械的研磨工程を遂行する段階とを具備する。
【0010】
望ましくは、前記スラリーは強陰イオン性界面活性剤をさらに含み、その水素イオン指数pHが約7程度で、前記スラリーは前記基板と前記絶縁層との間に少なくとも1:10以上のCMP選択比を有する。
【0011】
前記技術的な課題及び他の課題を達成するための本発明のトレンチ素子分離方法の他の態様によれば、集積回路装置のトレンチ素子分離方法において、基板の一面を蝕刻してトレンチを形成する段階と、前記トレンチが形成された結果物の全面に窒化物ライナーを形成する段階と、前記窒化物ライナー上に絶縁層を形成する段階と、前記窒化物ライナーが露出されるまで前記絶縁層に対する化学機械的研磨工程を遂行する段階とを具備する。
【0012】
望ましくは、前記化学機械的研磨工程は、酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーを使用して遂行し、強陰イオン性界面活性剤をさらに含むことができ、その水素イオン指数pHが約7程度で、前記窒化物ライナーと前記絶縁層との間に少なくとも1:20以上のCMP選択比を有する。
【0013】
前記技術的な課題及び他の課題を達成するための本発明のトレンチ素子分離方法のさらに他の態様によれば、集積回路装置のトレンチ素子分離方法において、基板上に窒化膜を形成する段階と、前記窒化膜上にフォトレジストマスクパターンを形成する段階と、前記フォトレジストマスクパターンを蝕刻マスクとして使用して前記窒化膜及び基板を蝕刻して窒化膜パターン及び基板内にトレンチを形成する段階と、前記フォトレジストパターンを除去する段階と、トレンチが形成された結果物の全面に窒化物ライナーを形成する段階と、窒化物ライナー上に絶縁層を形成する段階と、前記窒化物ライナーが露出されるまで前記結果物に対する化学機械的研磨工程を遂行する段階とを具備する。
【0014】
本発明に係るトレンチ素子分離方法によれば、フォトレジストパターンをマスクとして使用してトレンチが形成され、CMP研磨剤として酸化セリウムが使われる。このようにフォトレジスト層だけをマスクとして使用するため、従来のSTI方法に比べて製造工程が非常に簡単になり、トレンチを埋立てる時アスペクト比を増やさない。さらに、CMP時、シリコン基板と酸化膜の研磨選択比が大きい酸化セリウム系列の研磨剤を使用するため、別のCMPストッパを形成しなくてもCMP量が一定に維持される。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施形態を説明することによって本発明を詳細に説明する。しかし、本発明は以下で開示される実施形態に限られず相異なる多様な形態で具現でき、ただ本実施形態は本発明の開示を完全にすると同時に、通常の知識を有する者に発明の範ちゅうを完全に知らせるために提供されるものである。そして、以下で開示される実施形態で記述される工程段階の以外にも、素子の特性を向上させるための多様な段階が追加されることができる。
【0016】
<第1実施形態>
図2は、本発明の第1実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートで、図3(A)乃至図3(C)は、前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。
【0017】
まず図2を参照すれば、ベアシリコン基板の一面にフォトレジストパターンを形成し(段階50)、前記半導体基板内にトレンチを形成する(段階60)。次に前記フォトレジストパターンを除去し(段階70)、トレンチを絶縁物質で埋立てた後(段階80)、酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーを使用してCMPする(段階90)。
【0018】
本実施形態のトレンチ素子分離工程は、単にフォトレジストパターンをマスクとして用いるため、半導体素子製造工程が単純化されることはもちろんトレンチを埋立てる時アスペクト比が減少する。また、絶縁物質、特に酸化物と他の物質とのCMP選択比に優れた酸化セリウム系列の研磨剤が使われるため、均一な厚さの素子分離膜を得ることができる。
【0019】
図3(A)は、段階50及び段階60の過程を示す断面図である。
具体的に半導体基板、例えば、ベアシリコン基板100の一面に蝕刻マスクとして使われるフォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形成し、前記基板100の一部、望ましくは素子分離領域を露出させるようにパタニングしてフォトレジストパターン110を形成する。次に、前記フォトレジストパターン110を蝕刻マスクとして使用し、前記基板100を所定深度蝕刻することによって前記基板100内にトレンチTを形成する。
【0020】
前記トレンチTは、例えば塩素Cl2と臭化水素HBrを蝕刻ガスとして使用する異方性蝕刻により形成されることができ、隣り合って形成される半導体素子を電気的に絶縁させるのに適した深度、例えば約0.25μm程度の深度で形成することが望ましい。そして、このような深度のトレンチTを形成するための前記フォトレジストパターン110は、例えば0.7μmの厚さで形成することが望ましい。
【0021】
図3(B)は、段階70及び段階80の過程を示す断面図である。
具体的に、シリコン基板100上に形成された前記フォトレジストパターン110をフォトレジストアッシングのような通常の方法で除去した後、前記トレンチTを埋立てる絶縁層130を形成する。
【0022】
前記絶縁層130としては酸化膜、例えばTEOS(Tetra-Ethyle Ortho Silicate Glass)を基本としたUSG(Undoped Silicate Glass)膜や、高密度プラズマ(high density plazma)CVD法を用いて形成された酸化膜、または高温で形成されたUSG膜が使われうる。
【0023】
そして、前記絶縁層130の形成前や前記絶縁層130の形成後素子分離膜の特性を向上させ工程の便宜を図るためにいくつかの工程が追加されうる。
【0024】
例えば、絶縁層130の形成前前記トレンチTの内壁に約30オングストローム〜500オングストローム厚さの薄い熱酸化膜120を形成する工程が追加されうる。ここで前記熱酸化膜120は、トレンチ形成のための異方性蝕刻で発生する基板51の欠陥を除去し、シリコン表面を安定した結合(Si-O2結合)状態で維持してトレンチ表面を通した漏れ電流を防止し、トレンチ底面コーナー部を丸めてストレス集中を防止する役割をする。
【0025】
また、前記絶縁層130の形成後には、前記絶縁層130の密度を強化させる熱処理工程が追加されうる。前記熱処理工程は、700°C〜1200°Cの温度と、湿式酸化、乾式酸化または窒素N2及びアルゴンArのような不活性ガス雰囲気下で数分〜数時間、例えば約1時間程度進行されうる。
【0026】
図3(C)は、段階90の過程を示す断面図である。
具体的に、絶縁層130が形成された前記結果物に対して前記シリコン基板100の表面が露出されるまでCMP工程を遂行して素子分離膜150を形成する。そして、前記CMP工程時酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーを使用する。
【0027】
望ましくは、前記スラリーは酸化セリウム系列の研磨剤以外に、強陰イオン性界面活性剤をさらに含む。そして、前記スラリーは絶縁層130、即ち、酸化膜のゼータ電位が陰の値を有し、前記シリコン基板100のゼータ電位が陽の値を有するようにその水素イオン指数(以下、pH)が調節されることが望ましい。
【0028】
これは陽のゼータ電位を有するシリコン基板100の表面にのみ陰イオン性の界面活性剤が接着されるようにして、前記酸化セリウム系列の活性剤がシリコン基板100と反応することを抑制するためである。言い換えれば、陰のゼータ電位を有する酸化膜130の表面には界面活性剤が接着されないため、前記酸化セリウム系列の研磨剤が前記酸化膜と反応しこれにより酸化膜が除去される。
【0029】
図4は、酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーにより酸化膜が選択的にCMPされることを示す模式図である。図4を参照すれば、陽に帯電されたシリコン基板やシリコン窒化膜表面は陰イオン性界面活性剤でパッシべーションされる反面、酸化膜の表面は酸化セリウム研磨剤により研磨されることが分かる。
【0030】
図3(C)に戻って、本発明者の実験によれば、スラリーのpHが約7程度で維持されれば、シリコン基板と酸化膜のCMP選択比は1:10程度になることと確認された。従来一般的に使われたシリカ系列の研磨剤は、pH値が約11程度で維持される場合CMPストッパとして用いられるシリコン窒化膜と酸化膜とのCMP選択比が約1:4程度であることと知られている。従って、本発明の酸化セリウムスラリーを使用すれば半導体基板100自体が十分にCMPストッパとして使われることができ、CMP量が一定に維持されるため均一な厚さの素子分離膜を得ることができる。このような効果は、CMPスラリーとして従来のシリカ系列の研磨剤を本発明の工程に適用する場合を仮定し、この場合発生する問題点を調べることによりより明確に説明されうる。
【0031】
例えば、シリカ系列のCMPスラリーを使用する場合には、シリコン基板と酸化膜のCMP選択比が小さいためシリコン基板をストッパとして利用し難い。代りに、時間を基準としてCMPを遂行すべきであるが、この場合にはCMP量が一定でなくて最終トレンチ深度が不均一になる問題が発生できる。特にこのようなCMP量の不均一は、トレンチ側壁が傾いて形成される時活性領域の大きさを変える原因になる。即ち、その底面にいくほど狭く形成されるトレンチの特性を考慮すれば、CMP量が多い場合素子分離領域は小さくなり、反対に活性領域は大きくなる。これは形成されるMOSトランジスタの幅を不均一にする原因になり、トランジスタのスレショルド電圧変動や電流変動などの問題を起こす恐れがある。
【0032】
しかし、本発明の酸化セリウム研磨剤を用いれば半導体基板100自体が十分にCMPストッパとして使われうるので、言及された問題点が予防される。
【0033】
また、前記シリカ系列の研磨剤はpH値の変化に非常に敏感で、pH値が減る場合酸化膜の除去比が急に落ちることと知られている。しかし、前記酸化セリウム系列の研磨剤はpH値の変化にあまり敏感ではなくpH値が変化しても酸化膜の除去比はあまり変わらないことと確認された。従って、半導体素子製造工程に有利に適用できる。
【0034】
一方、前記素子分離膜150の形成後、工程の便宜を図り素子分離膜の電気的特性を向上させるためのいくつかの工程が追加されうる。
【0035】
例えば、示されなかったが、前記基板100と前記素子分離膜150との間に整列装置により認識される程度の段差を形成することによって、整列キー形成工程を削除できる。これは素子分離膜150を選択的に蝕刻したり、あるいはシリコン基板100だけを選択的に蝕刻することにより達成できる。前記段差は約100オングストローム乃至1000オングストローム程度であることが望ましい。そして、シリコン基板100を蝕刻する場合にはCMP工程で発生する基板の欠陥が除去される付随的な効果も得られる。
【0036】
また、前記素子分離膜150の形成後または前記段差の形成後犠牲酸化工程をさらに遂行することもできる。前記犠牲酸化膜は50オングストローム〜200オングストロームの厚さで成長させ、犠牲酸化膜が形成された結果物の全面に不純物イオン注入、例えばウェル、チャンネル阻止、またはスレショルド電圧調節用イオン注入をした後、BOE(Buffered Oxide Etchant)やフッ酸HFのような酸化膜エッチング液を使用して前記犠牲酸化膜を除去する。このような犠牲酸化工程は、CMP工程により発生できる基板表面の欠陥や損傷を回復させる役割をする。
【0037】
前述したように本実施形態によれば、フォトレジストパターンをマスクとして使用してトレンチが形成されるので、従来のSTI方法に比べて製造工程が非常に簡単でトレンチのアスペクト比が縮まる。さらに、CMP時シリコン基板と酸化膜のCMP選択比が大きい酸化セリウム系列の活性剤が使われるため、別のCMPストッパを形成しなくてもCMP量が一定に維持されて均一な厚さの素子分離膜が得られる。
【0038】
<第2実施形態>
図5は、本発明の第2実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートで、図6(A)乃至図6(C)は前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。前記第2実施形態は、絶縁層130の形成前CMPストッパとして薄い窒化物ライナーを形成することを除いては前記第1実施形態と同一に進行され、窒化物ライナーを形成する工程以外の工程に対する技術は本明細書では省略される。図6(A)乃至図6(C)において、前記図3(A)乃至図3(C)と同じ参照符号は同一部材を示す。
【0039】
図5を参照すれば、フォトレジストパターンを除去する段階(段階50、段階60、段階70)までは前記第1実施形態と同一に進行し、窒化物ライナーを形成した後(段階75)、トレンチを絶縁物質で埋立てる(段階80)。次に、酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーを使用してCMPし(段階90)、シリコン基板上に形成された窒化物ライナーを除去する(段階95)。
【0040】
本実施形態のトレンチ素子分離工程によれば、CMPストッパとして窒化物ライナーが形成されるため、第1実施形態の場合よりさらに均一な厚さの素子分離膜を得ることができ、CMP時シリコン基板の欠陥が予防される。
【0041】
図6(A)は、段階50乃至段階80の過程を示す断面図である。
具体的に、フォトレジストパターン(図3(A)の110)を除去する段階まで前記第1実施形態と同一に進行した後、トレンチTが形成された結果物の全面に窒化物ライナー125を薄く形成し、窒化物ライナー125が形成された前記トレンチTを埋立てる絶縁層130を形成する。
【0042】
前記窒化物ライナー125は、後続する酸化工程時トレンチTの側壁の酸化を遮断すると同時にCMP工程ではストッパとして使われる。前記窒化物ライナー125は前記の役割を遂行するが、シリコン基板100に誘発されるストレスを最小化し、後続除去工程での蝕刻時間を考慮してその厚さを調節することが望ましい。本実施形態では約50オングストローム〜300オングストローム(5nm〜30nm)程度の厚さ、望ましくは約100オングストローム(10nm)程度の厚さで形成する。これは前記窒化物ライナー125が後続する酸化工程時トレンチTの側壁の酸化を遮断すると同時にCMP工程ではストッパとして使われるため、窒化物ライナー125の厚さが5nm以下で形成される場合トレンチ内の窒化物が拡散障壁として機能できず、窒化物ライナー125の厚さを30nm以上で形成する場合後続するトレンチ内の絶縁層130を埋立てる時ギャップフィル能力が落ちるからである。
【0043】
そして、前記窒化物ライナー125の形成前や前記絶縁層130の形成後、前記第1実施形態と同じように素子分離膜の特性を向上させ工程の便宜を図るためのいくつかの工程が追加されうる。
【0044】
例えば、窒化物ライナー125の形成前前記トレンチTの内壁に約30〜500オングストローム厚さの薄い熱酸化膜120を形成する工程が追加されることができ、前記絶縁層130の形成後には、前記絶縁層130の密度を強化させる熱処理工程が追加されうる。
【0045】
図6(B)は、段階90の過程を示す断面図である。
具体的に、絶縁層(図6(A)の130)が形成された前記結果物に対して前記窒化物ライナー125の表面が露出されるまでCMP工程を遂行して素子分離膜150を形成する。
【0046】
前記CMP工程は、酸化セリウム系列の研磨剤と強陰イオン性界面活性剤を含むスラリーを使用できる。そして、前記スラリーのpHは、前記第1実施形態と同じように約7程度で維持されることが望ましく、この場合酸化膜130のゼータ電位は陰の値を有し、前記窒化物ライナー125のゼータ電位は陽の値を有する。従って、シリコン基板表面にだけ陰イオン性の界面活性剤が接着されて前記酸化セリウム系列の活性剤が窒化物ライナー125と反応することが抑えられる。反面、酸化膜130の表面には界面活性剤が接着されなくて前記酸化セリウム系列の活性剤が酸化膜と反応し、これにより酸化膜が除去される。窒化膜と酸化膜の選択的CMP過程は図4によってより容易に理解されうる。
【0047】
一方、本発明者の実験によれば、スラリーのpHが約7程度で維持される場合、窒化物ライナー125と絶縁層130、即ち、酸化膜とのCMP選択比が少なくとも1:20以上になることと確認された。これは第1実施形態でのシリコン基板と酸化膜の選択比の少なくとも1:10に比べて2倍以上のことであって、薄い窒化物ライナーを形成する第2実施形態によれば、第1実施形態に比べてCMP量をより一定に維持できる。
【0048】
図6(C)は、段階95の過程を示す断面図である。
具体的に、前記シリコン基板100上に形成されている窒化物ライナー125を除去する。そして、前記第1実施形態のような犠牲酸化工程をさらに遂行する。これにより図6(C)に示したように、窒化物ライナー125'と熱酸化膜120はトランチ内に限定される。
【0049】
前記基板上に形成されている前記窒化物ライナー125は、前記窒化物ライナー125だけを選択的に蝕刻できるエッチング液、例えば燐酸のような窒化物エッチング液を用いた湿式蝕刻で除去したり、プラズマを用いた乾式蝕刻で除去できる。本実施形態においては、約165°C程度の温度の燐酸を用いた約5分程の湿式蝕刻で除去することが望ましい。
【0050】
そして、前記第1実施形態と同じように、前記素子分離膜150の形成後工程の便宜を図り素子分離膜の電気的特性を向上させるために、基板100と素子分離膜150との間に整列装置により認識される程度の段差を形成する工程や、前記素子分離膜150の形成後または前記段差の形成後犠牲酸化工程をさらに遂行することもできる。
【0051】
本実施形態によれば、フォトレジストパターンをマスクとして使用してトレンチが形成されるので、従来のSTI方法に比べては製造工程が簡単でトレンチのアスペクト比が縮まる。また、酸化セリウム系列の研磨剤使用と共にCMPストッパとして窒化物ライナーが形成されるため、第1実施形態の場合よりさらに均一な厚さの素子分離膜を得ることができ、シリコン基板をCMPストッパとして使用することによってシリコン基板表面にスクラッチのような欠陥が発生する恐れがない。
【0052】
<第3実施形態>
図7は、本発明の第3実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートで、図8(A)乃至図8(D)は、前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。前記第3実施形態はフォトレジストパターンの形成前、窒化膜を形成することを除いては前記第2実施形態と同一に進行される。図8(A)乃至図8(C)において、前記図6(A)乃至図6(C)と同じ参照符号は同一部材を示す。
【0053】
図7を参照すれば、シリコン基板上に窒化膜を形成した後(段階45)、その上にフォトレジストパターンを形成し(段階50)、前記フォトレジストパターンをマスクとして使用して前記窒化膜をパタニングすると同時に前記シリコン基板内にトレンチを形成する(段階55)。次に、フォトレジストパターンを除去する段階からCMPする段階(段階70、段階75、段階80、段階90)までは前記第2実施形態と同一に進行し、シリコン基板上に形成された窒化膜と窒化物ライナーを除去する(段階97)。
【0054】
本実施形態のトレンチ素子分離工程によれば、第1実施形態または第2実施形態に比べて製造工程数が増えるが、CMPストッパとして窒化物ライナー及び窒化膜が形成されるため、第2実施形態の場合よりさらに均一な厚さの素子分離膜形成が可能である。
【0055】
図8(A)は、段階45乃至段階55の過程を示す断面図である。
具体的に、シリコン基板100上に窒化膜、例えばオキシナイトライド膜105を形成した後その上にフォトレジスト層を塗布する。次に、素子分離領域を限定するフォトレジストパターン110を形成し、前記フォトレジストパターンを蝕刻マスクとして使用して前記窒化膜をパタニングすると同時に、前記基板100を所定深度蝕刻してトレンチTを形成する。
【0056】
前記オキシナイトライド膜105は、トレンチ蝕刻をより容易にし後続するCMP工程でストッパとして使われる。前記オキシナイトライド膜105は100オングストローム〜1500オングストローム程度の厚さで形成し、望ましくは500オングストローム程度の厚さで形成する。
【0057】
図8(B)は段階70乃至段階80の過程を示す断面図である。
具体的に、前記フォトレジストパターン110を除去し、窒化物ライナー125を薄く形成した後、前記トレンチTを埋立てる絶縁層130を形成する段階まで前記第2実施形態と同一に進行する。
【0058】
そして、前記第2実施形態のように、窒化物ライナー125の形成前前記トレンチTの内壁に薄い熱酸化膜120を形成したり、前記絶縁層130の形成後前記絶縁層130の密度を強化させるための熱処理工程をさらに進行することもできる。この時、前記熱酸化膜120はトレンチ内壁にだけ限られて形成される。
【0059】
図8(C)は段階90の過程を示す断面図である。
具体的に、絶縁層(図8(B)の130)が形成された前記結果物に対して前記窒化物ライナー125の表面が露出されるまでCMP工程を遂行してトレンチ内に限られる絶縁層130'を形成する。この時、研磨剤としては第1実施形態及び第2実施形態と同じように酸化セリウム系列の研磨剤を使用する。
【0060】
図8(D)は段階97の過程を示す断面図である。
具体的に、前記シリコン基板100上に積層されている窒化物ライナー及びオキシナイトライド膜(図8(C)の125及び105)を除去する。これにより図8(D)に示したように窒化物ライナー125'はトレンチ内に限られる。
【0061】
前記基板上に積層されている前記窒化物ライナー及びオキシナイトライド膜(125及び105)は、燐酸のようなエッチング液を使用した湿式蝕刻を通じて除去されうる。前記オキシナイトライド膜105は前記窒化物ライナー125と同じように燐酸での蝕刻率が大きいため、前記窒化物ライナー除去時共に除去される。
【0062】
そして、前記第1実施形態及び第2実施形態と同じように、前記素子分離膜150の形成後工程の便宜を図り素子分離膜の電気的特性を向上させるために、基板100と素子分離膜150との間に整列装置により認識される程度の段差を形成する工程や、前記素子分離膜150の形成後または前記段差の形成後犠牲酸化工程をさらに遂行する場合もある。
【0063】
本実施形態によれば、酸化セリウム系列の研磨剤使用と共にCMPストッパとして窒化物ライナーとオキシナイトライド膜が形成されるため、第2実施形態の場合よりさらに均一な厚さの素子分離膜を得ることができ、シリコン基板をCMPストッパとして使用することによってシリコン基板表面にスクラッチのような欠陥が発生しない。
【0064】
【発明の効果】
前述したように本発明によれば、フォトレジストパターンをマスクとして使用してトレンチが形成されるので、従来のSTI方法に比べて製造工程が非常に簡単でトレンチを埋立てる時アスペクト比が縮まる利点がある。さらに、CMP時シリコン基板と酸化膜のCMP選択比が大きい酸化セリウム系列の活性剤が使われるため、CMP量が一定に維持されて均一な厚さの素子分離膜が得られる。そして、第2実施形態と同じように酸化セリウム系列の研磨剤使用と共に窒化物ライナーを形成する場合には、シリコン基板をCMPストッパとして使用することによってシリコン基板表面にスクラッチのような欠陥が発生する恐れがない。
【0065】
本発明は図面に示した一実施形態を参照して説明されたが、これは例示的なことに過ぎず、本技術分野の通常の知識を有する者であればこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であることを理解するはずである。従って、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想により決まるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の一般的なSTI工程段階を示すフローチャートである。
【図2】 本発明の第1実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートである。
【図3】 (A)乃至(C)は、前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。
【図4】 酸化セリウム系列の研磨剤を含むスラリーにより酸化膜が選択的にCMPされることを示す模式図である。
【図5】 本発明の第2実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートである。
【図6】 (A)乃至(C)は、前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。
【図7】 本発明の第3実施形態に係るトレンチ素子分離工程段階を順番に示す工程フローチャートである。
【図8】 (A)乃至(D)は、前記工程順序に従って製造される半導体素子の断面図である。
【符号の説明】
100 基板
110 フォトレジストパターン
T トレンチ
Claims (4)
- 集積回路装置のトレンチ素子分離方法において、
基板の一面にフォトレジストパターンを形成する段階と、
前記フォトレジストパターンを蝕刻マスクとして使用し前記基板を所定深度蝕刻してトレンチを形成する段階と、
前記フォトレジストパターンを除去する段階と、
前記トレンチ内に絶縁層を形成する段階と、
絶縁層が形成された結果物に対して酸化セリウムの研磨剤を含むスラリーを使用して前記基板が露出されるまで化学機械的研磨工程を遂行する段階とを具備し、前記スラリーは陰イオン性界面活性剤をさらに含み、且つ前記スラリーは中性であることを特徴とするトレンチ素子分離方法。 - 前記スラリーは前記基板と前記絶縁層との間に少なくとも1:10以上のCMP選択比を有することを特徴とする請求項1に記載のトレンチ素子分離方法。
- 前記絶縁層を形成する段階前に、前記トレンチ内壁に熱酸化膜を形成する段階をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載のトレンチ素子分離方法。
- 前記絶縁層を形成する段階後に、前記絶縁層の密度を強化させるように前記絶縁層を熱処理する段階をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載のトレンチ素子分離方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR19990016974 | 1999-05-12 | ||
KR199916974 | 1999-05-12 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006150233A Division JP4593521B2 (ja) | 1999-05-12 | 2006-05-30 | 高選択性cmpを用いた集積回路装置のトレンチ素子分離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001007195A JP2001007195A (ja) | 2001-01-12 |
JP3933371B2 true JP3933371B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=37093780
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000140757A Expired - Lifetime JP3933371B2 (ja) | 1999-05-12 | 2000-05-12 | 高選択性cmpを用いた集積回路装置のトレンチ素子分離方法 |
JP2006150233A Expired - Fee Related JP4593521B2 (ja) | 1999-05-12 | 2006-05-30 | 高選択性cmpを用いた集積回路装置のトレンチ素子分離方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006150233A Expired - Fee Related JP4593521B2 (ja) | 1999-05-12 | 2006-05-30 | 高選択性cmpを用いた集積回路装置のトレンチ素子分離方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6537914B1 (ja) |
JP (2) | JP3933371B2 (ja) |
KR (1) | KR100366619B1 (ja) |
TW (1) | TW471056B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100670746B1 (ko) * | 2000-06-30 | 2007-01-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의 소자분리막 형성 방법 |
KR20030002594A (ko) * | 2001-06-29 | 2003-01-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의 소자분리절연막 형성방법 |
JP5121102B2 (ja) * | 2001-07-11 | 2013-01-16 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
KR100447975B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2004-09-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 씨엠피용 슬러리, 그 제조방법 및 이를 이용한 씨엠피 처리방법 |
KR20030056388A (ko) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 소자분리막 형성방법 |
TW589703B (en) * | 2003-03-28 | 2004-06-01 | Nanya Technology Corp | Method of reducing the trench aspect ratio |
KR100570122B1 (ko) | 2003-05-12 | 2006-04-11 | 학교법인 한양학원 | 나노토포그라피 효과를 보상할 수 있는 화학기계적 연마용슬러리 조성물 및 이를 이용한 반도체소자의 표면 평탄화방법 |
KR100499642B1 (ko) * | 2003-09-05 | 2005-07-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 소자 분리막 제조 방법 |
KR100671661B1 (ko) * | 2004-05-11 | 2007-01-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 소자 분리막 형성 방법 |
TWI323741B (en) * | 2004-12-16 | 2010-04-21 | K C Tech Co Ltd | Abrasive particles, polishing slurry, and producing method thereof |
KR100632654B1 (ko) * | 2004-12-28 | 2006-10-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래시 메모리 소자의 제조 방법 |
KR100641348B1 (ko) | 2005-06-03 | 2006-11-03 | 주식회사 케이씨텍 | Cmp용 슬러리와 이의 제조 방법 및 기판의 연마 방법 |
KR100800868B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-02-04 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 소자의 제조 방법 |
JP5072091B2 (ja) * | 2006-12-08 | 2012-11-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP5444596B2 (ja) | 2007-08-31 | 2014-03-19 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
TWI714423B (zh) * | 2020-01-08 | 2020-12-21 | 華邦電子股份有限公司 | 半導體結構及其製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59193044A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体基板の製造方法 |
US4741799A (en) | 1985-05-06 | 1988-05-03 | International Business Machines Corporation | Anisotropic silicon etching in fluorinated plasma |
US5290396A (en) | 1991-06-06 | 1994-03-01 | Lsi Logic Corporation | Trench planarization techniques |
US5248625A (en) | 1991-06-06 | 1993-09-28 | Lsi Logic Corporation | Techniques for forming isolation structures |
US5292689A (en) | 1992-09-04 | 1994-03-08 | International Business Machines Corporation | Method for planarizing semiconductor structure using subminimum features |
US5275965A (en) | 1992-11-25 | 1994-01-04 | Micron Semiconductor, Inc. | Trench isolation using gated sidewalls |
US5387540A (en) * | 1993-09-30 | 1995-02-07 | Motorola Inc. | Method of forming trench isolation structure in an integrated circuit |
US5447884A (en) * | 1994-06-29 | 1995-09-05 | International Business Machines Corporation | Shallow trench isolation with thin nitride liner |
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KR0170900B1 (ko) * | 1995-12-15 | 1999-03-30 | 김주용 | 반도체 소자의 평탄화 방법 |
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KR100238244B1 (ko) | 1996-12-17 | 2000-01-15 | 윤종용 | 트랜치 소자분리방법 |
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KR20000009809A (ko) * | 1998-07-28 | 2000-02-15 | 윤종용 | 트렌치 격리의 제조 방법 |
JP2000160136A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及び基板の研磨法 |
JP2000160137A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及び基板の研磨法 |
-
2000
- 2000-04-11 KR KR10-2000-0018901A patent/KR100366619B1/ko active IP Right Grant
- 2000-05-12 TW TW089109147A patent/TW471056B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-05-12 US US09/570,225 patent/US6537914B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-12 JP JP2000140757A patent/JP3933371B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-05-30 JP JP2006150233A patent/JP4593521B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4593521B2 (ja) | 2010-12-08 |
TW471056B (en) | 2002-01-01 |
KR20000077020A (ko) | 2000-12-26 |
JP2006253717A (ja) | 2006-09-21 |
US6537914B1 (en) | 2003-03-25 |
JP2001007195A (ja) | 2001-01-12 |
KR100366619B1 (ko) | 2003-01-09 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060530 |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330 Year of fee payment: 5 |
|
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|
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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