JP3928596B2 - 樹脂組成物 - Google Patents

樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP3928596B2
JP3928596B2 JP2003195483A JP2003195483A JP3928596B2 JP 3928596 B2 JP3928596 B2 JP 3928596B2 JP 2003195483 A JP2003195483 A JP 2003195483A JP 2003195483 A JP2003195483 A JP 2003195483A JP 3928596 B2 JP3928596 B2 JP 3928596B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
photocatalyst
key top
photocatalytic apatite
antibacterial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003195483A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005029671A (ja
Inventor
正人 若村
徳康 安曽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2003195483A priority Critical patent/JP3928596B2/ja
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to PCT/JP2004/009821 priority patent/WO2005005547A1/ja
Priority to CNB2004800199240A priority patent/CN100462405C/zh
Priority to KR1020067000307A priority patent/KR100799812B1/ko
Priority to KR1020077010568A priority patent/KR101012556B1/ko
Priority to CN2009100020080A priority patent/CN101475752B/zh
Publication of JP2005029671A publication Critical patent/JP2005029671A/ja
Priority to US11/325,491 priority patent/US7750064B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3928596B2 publication Critical patent/JP3928596B2/ja
Priority to US12/783,238 priority patent/US8354049B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/14Phosphorus; Compounds thereof
    • B01J27/16Phosphorus; Compounds thereof containing oxygen, i.e. acids, anhydrides and their derivates with N, S, B or halogens without carriers or on carriers based on C, Si, Al or Zr; also salts of Si, Al and Zr
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/32Phosphorus-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/02Ingredients treated with inorganic substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39Photocatalytic properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は抗菌剤を含有する樹脂に係り、詳細には光触媒アパタイトを含有する樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】
携帯情報機器や携帯電話等の携帯機器は人手に触れ手脂やタバコタール等を介して埃などが付着する。これら手脂、タバコタール、埃は雑菌を繁殖する。このために携帯機器の外観、清潔感が損われる。一方、抗菌に対する関心が高まっている。このため携帯情報機器、携帯電話等の筐体や操作キー等は抗菌対策を強く要求されるようになった。一般的に、これら抗菌剤として酸化チタン(TiO2 )が使用される。例えば、樹脂中に酸化チタンを混合したコーティング用樹脂を作成し、このコーティング樹脂を筐体樹脂上に保護膜を介して筐体上に積層している。またキーは表面に酸化チタンを含くむコーティング用樹脂で被膜している。上記のように酸化チタンを使用したキーは特許文献1、2が有る。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−102238号公報
【0004】
【特許文献2】
特開平11−195345号公報
また酸化チタンをマイクロカプセル化して樹脂に混入したコーティング用樹脂がある。このようなコーティング用樹脂をキーに使用したものは特許文献3に記載されている。
【0005】
【特許文献3】
特開平9−190254号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献1〜3では、いずれも抗菌のために樹脂成形品にコーティング層を形成する必要が有るために製造工数が増え費用が増加する。更に上記特許文献1〜3では抗菌剤を含有するコーティング膜がキーを打鍵される都度、膜が少しずつ削り取られ、やがて膜が無くなり抗菌作用が無くなる。
【0007】
これらの対策として、樹脂に抗菌剤を直接混合することが考えられる。しかしこの方法は抗菌剤である酸化チタンが素地である樹脂を劣化させる。換言すると酸化チタンが樹脂表面を次第に粉状にして風化させる所謂チョーキングを起こす。近年、酸化チタンに代えて抗菌剤として研究されている光触媒アパタイトも酸化チタンと同様にチョーキングを起こすと考えられており、このために下記の特許文献4に記載されているように、光触媒アパタイトを抗菌剤として使用する場合にも、コーティング用樹脂を作り、樹脂成形品の表面に抗菌用コーティング層を形成していた。
【0008】
【特許文献4】
特願2002−146110号
しかし発明者は、光触媒アパタイトは樹脂を風化させる所謂チョーキングを起こさないことを発見した。
【0009】
本発明の目的は抗菌用樹脂の製造が簡単で製造工数を抑制し、製造費用を安価にすることができ、抗菌用樹脂表面が削り取られても抗菌作用を減少することが無く、更に抗菌剤によるチョーキングを起こさない樹脂を提供する。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は光触媒材料を含有した樹脂組成物であって、前記光触媒材料としてカルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部をTiで置換した化学構造を有する光触媒が樹脂材料に直接混練されて成る樹脂組成物を特徴とする。
この光触媒は樹脂を風化させる所謂チョーキングを起こさない。このために前記光触媒を樹脂に直接混練して成形品全体を構成することができる。従って樹脂表面が削り取られても抗菌作用が減少することが無い。この光触媒を含有する樹脂成形品の製造は簡単であり製造工数を減少でき費用を安価にできる。また本発明で使用するカルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部がTiで置換された化学構造を有する光触媒は酸化チタンと比較して菌、バクテリア、埃等を分解する力、換言すると抗菌力が強い。
【0011】
本発明で用いられるカルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部をTiで置換した化学構造を有する光触媒は、光触媒機能を有するTi酸化物と、アパタイトとを原子レベルで結合したものである。そのような光触媒自体は特開2000−327315号 特許公開公報に開示されており、図3にTi−CaHAPから成る光触媒の表面化学構造を示す。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例について説明する。
下記に樹脂と光触媒アパタイトとを含有する樹脂の製造方法を説明する。
<実施例>
(1)最初に光触媒アパタイト(太平化学株製 製品名PCAP-100)と樹脂、具体的にはポリプロピレン( 日本ポリオレフィン株製) とを準備する。
光触媒アパタイトは平均粒径が20( μm)、10( μm)と5( μm)の3種類が用意された。樹脂は上記ポリプロピレン以外にポリエチレン、ナイロン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネイト等を使用できる。
(2)次に準備された光触媒アパタイトとポリプロピレンとを混練する。混練機(テクノベル株製 製品名KZW-15)を使用し混練する。混練条件は190度C、5〜30分間である。上記条件にて光触媒アパタイトとポリプロピレンとを均一に混合した。この後に混練物を冷却した後、ペッレト状(直径2mmΦ×長さ3mm)に裁断した。上記方法にて4種類の試料1、2、5、6を作製した。これら以外として試料3は抗菌剤を添加していない。試料4は酸化チタンを添加したものである。これら各試料の詳細は表1に表記されている。
【0013】
【表1】
Figure 0003928596
【0014】
試料1はポリプロピレン樹脂に光触媒として粒径20( μm)の光触媒アパタイト(Ti-CaHAP)を10(wt%) 添加したものである。
【0015】
試料2はポリプロピレン樹脂に光触媒として粒径10( μm)の光触媒アパタイト(Ti-CaHAP)を3(wt%) 添加したものである。
【0016】
試料3はポリプロピレン樹脂に光触媒を添加していない。
【0017】
試料4はポリプロピレン樹脂に粒径0.007( μm)の酸化チタンを10(wt%) 添加したものである。
【0018】
試料5はポリプロピレン樹脂に光触媒として粒径20( μm)の光触媒アパタイト(Ti-CaHAP)を2(wt%) 添加したものである。
【0019】
試料6はポリプロピレン樹脂に光触媒として粒径5( μm)の光触媒アパタイト(Ti-CaHAP)を10(wt%) 添加したものである。
(3)続いて、このペッレトを射出成形機(住友機械株製 製品名SG-50 )を使用して6種類の試料を下記の形状に整形した。射出成形条件はシリンダ温度190度C、金型温度250度Cである。各試料の形状は(幅12mm×横長さ70mm×厚み3mm)である。
<光触媒活性力の評価試験>
評価試験方法は密閉容器(500cc) 内に上記試料1を載置し、この容器内にアルデヒドガス(CH3CHO)を12ml入れて暗所に1時間放置した。その後に紫外線照射器(林時計工業株製 製品名ルミナエース LA150-TX )を使用し、1mW の紫外線を連続照射した。紫外線を照射した事によってアルデヒド(CH3CHO)が光触媒によって二酸化炭素と水分とに分解される。この分解された二酸化炭素の量を1時間間隔にクロマトグラフィ(GL サイエンス株製 製品名GC-390B)を使用して計測した。従って計測した二酸化炭素の量が多い程に光触媒の活性力が高いことになる。続いて上記評価方法にて残りの試料2〜6の評価を行なった。この結果を表2に表記している。
【0020】
【表2】
Figure 0003928596
【0021】
分解能力の判断基準として、単位時間当り0.1(ppm /時間)以上を適当とした。これは例えば筐体、キートップ等に付着する手脂、タバコタール、埃等を1晩つまり翌日までに分解するのに適当な値である。表2を参照すると試料1、試料2と試料4とが筐体、キートップ等に適当な樹脂であることが判明する。
【0022】
次に上記試料1〜6についてチョーキングの評価試験を行なった。
<チョーキングの評価試験>
チョーキングの評価試験方法は風化による重量の減少割合から評価した。具体的には試料1〜6を暗所に載置して紫外線照射器(林時計工業株製 製品名ルミナエース LA150-TX )を使用し、10mWの紫外線を連続照射した。このときの重量変化を100時間間隔に計測した。この結果を表3に示している。
【0023】
【表3】
Figure 0003928596
【0024】
評価として製品の重量変化が約99.5%を限度として評価した。従って試料1、2、3、5、6が適当である。このうち試料3は光触媒の樹脂を含まないため重量減少量が無い。
【0025】
上記2つの評価結果から光触媒の活性力が高く、同時にチョーキングが無い試料1、試料2が光触媒アパタイト含有樹脂筐体、光触媒アパタイト含有樹脂キー等に適当である。このような光触媒アパタイト含有樹脂は電子機器筐体、携帯機器筐体の他に、人手に触れる入力装置例えばマウス、入力ペン、キーボード等に適用できる。
【0026】
続いて光触媒アパタイト含有樹脂を使用したキートップについて説明する。
【0027】
図1は本実施形態に係るキートップの構成を表し、図2は図2のA−A断面図である。1はキースイッチ、2はキートップ、3はキートップ部材、4は文字、記号、図柄等の表記体、5はキートップ部材の凹状部、6は抗菌剤混合物である。
【0028】
各キースイッチ1には独自の、例えば文字、数字、記号、図柄等が意味付けされている。このキースイッチ1を押下すると接点(図示しない)にて検出されて、その意味の信号を外部に通知する。これら文字、数字、記号、図柄等の表記はキートップ2に表示されている。詳細には、このキートップ2は大略キートップ部材と表記体とから構成されている。このキートップ部材は頂上部、側面部に文字、数字、記号、図柄等が溝状に凹状部5として形成されている。そしてこの凹状部5内に表記体4が設けられる。図1の表記体4は例えば数字の1である。このキートップ部材は樹脂であり、具体的にはABS樹脂である。そして表記体4の材料は抗菌剤となるカルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部をTiで置換された化学構造を有する光触媒と樹脂とからなる抗菌剤混合物6である。
【0029】
続けてキートップの製造方法を説明する。
最初に射出成形機(住友重機械工業株の商品名サイキャップ)を使用して表記体4を成形した。この射出成形機は大略供給部、部材混合部、部材加熱部、射出部とから構成されている。この供給部に上記光触媒アパタイト(太平化学株製 商品名光触媒アパタイトPCAP-100)の平均粒径は20μm とABS樹脂(UMG株式製 商品名VD−200)と、黒色顔料(クラリアントジャパン株式製の商品名Sanodal Deep Black MLW)とを供給した。黒色顔料は表記体の色付けであり、キートップ部材2の色と識別を容易にする。そして部材混合部でABS樹脂 85 重量% 、光触媒アパタイト10重量% と黒色顔料 5重量% とを均一に混合した。次に部材加熱部で加熱溶融する。続いて溶融した抗菌剤混合物6が射出部から金型に射出される。この金型のキャビティ部はあらかじめ所望する表記体4と同じ形状に形成されている。従って光触媒アパタイト含有樹脂が表記体4として形成される。
【0030】
次に表記体4を成形した要領でキートップ部材2が成形される。キートップ部材2が形成されたキャビティ部を有する金型を用意する。そしてこの金型に同じ製法で材料、具体的にはABS樹脂 80 重量% 、光触媒アパタイト20重量% とから成る抗菌剤混合物6が射出部から金型に射出される。従って光触媒アパタイト含有樹脂製のキートップ部材2が形成される。上述した表記体4をキートップ部材2の凹状部5に嵌合する。
【0031】
上記実施例ではキートップ部材2と表記体4との両方に光触媒アパタイト含有樹脂を使用した。しかしキートップ部材2と表記体4との少なくとも1つに光触媒アパタイト含有樹脂を設ければ抗菌効果を得ることができる。
<第2の実施例>
上記第1の実施例は表記体4とキートップ部材2とを嵌合する方法である。しかしキートップ部材の凹状部にペースト状の光触媒アパタイト含有樹脂を充填し、加熱乾燥固化しても良い。
【0032】
【発明の効果】
本発明の光触媒アパタイト含有樹脂は該樹脂の製造が簡単で製造工数を抑制し、製造費用を安価にすることができ、樹脂表面が削り取られても抗菌作用を減少することが無く、更に抗菌剤によるチョーキングを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本実施形態に係るキートップの構成図、
【図2】 図1のA−A断面図、
【図3】 Ti−CaHAPの表面化学構造図である。
【符号の説明】
1 キースイッチ、
2 キートップ、
3 キートップ部材、
4 表記体、
5 凹状部、
6 抗菌剤混合物、

Claims (3)

  1. 光触媒材料を含有した樹脂組成物であって、
    前記光触媒材料としてカルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部をTiで置換した化学構造を有する光触媒が樹脂材料に直接混練されて成ることを特徴とする樹脂組成物。
  2. 前記カルシウムハイドロキシアパタイトのCaの一部をTiで置換した化学構造を有する光触媒の含有率は3 wt% 〜10 wt% である請求項1記載の樹脂組成物。
  3. 前記光触媒の平均粒径は10〜20μ m である請求項1または2に記載の樹脂組成物。
JP2003195483A 2003-07-11 2003-07-11 樹脂組成物 Expired - Lifetime JP3928596B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003195483A JP3928596B2 (ja) 2003-07-11 2003-07-11 樹脂組成物
CNB2004800199240A CN100462405C (zh) 2003-07-11 2004-07-09 含光催化剂磷灰石的树脂
KR1020067000307A KR100799812B1 (ko) 2003-07-11 2004-07-09 광 촉매 인회석 함유 수지
KR1020077010568A KR101012556B1 (ko) 2003-07-11 2004-07-09 광 촉매 인회석 함유 수지의 제조 방법
PCT/JP2004/009821 WO2005005547A1 (ja) 2003-07-11 2004-07-09 光触媒アパタイト含有樹脂
CN2009100020080A CN101475752B (zh) 2003-07-11 2004-07-09 含光催化剂磷灰石的树脂
US11/325,491 US7750064B2 (en) 2003-07-11 2006-01-05 Photocatalytic apatite-containing resin
US12/783,238 US8354049B2 (en) 2003-07-11 2010-05-19 Photocatalytic apatite-containing resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003195483A JP3928596B2 (ja) 2003-07-11 2003-07-11 樹脂組成物

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007010110A Division JP4552944B2 (ja) 2007-01-19 2007-01-19 樹脂成形品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005029671A JP2005029671A (ja) 2005-02-03
JP3928596B2 true JP3928596B2 (ja) 2007-06-13

Family

ID=34055755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003195483A Expired - Lifetime JP3928596B2 (ja) 2003-07-11 2003-07-11 樹脂組成物

Country Status (5)

Country Link
US (2) US7750064B2 (ja)
JP (1) JP3928596B2 (ja)
KR (2) KR100799812B1 (ja)
CN (2) CN101475752B (ja)
WO (1) WO2005005547A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007254749A (ja) * 2007-04-13 2007-10-04 Fujitsu Ltd 光触媒アパタイト含有樹脂及びその製造方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4295231B2 (ja) 2005-03-01 2009-07-15 富士通株式会社 広帯域光吸収性光触媒及びその製造方法、並びに、広帯域光吸収性光触媒含有組成物及び成形体
JP4791283B2 (ja) * 2006-08-01 2011-10-12 富士通株式会社 光触媒複合材料及びその製造方法
JP2009046458A (ja) * 2007-08-23 2009-03-05 Shoichi Nakamura 化粧品
US8871826B2 (en) * 2010-01-06 2014-10-28 Graphicpak Corporation Hybrid polymer compositions with enhanced bio-degradability
WO2011159318A1 (en) * 2010-06-18 2011-12-22 Empire Technology Development Llc Sensor including a photocatalyst
JP2015174045A (ja) * 2014-03-17 2015-10-05 三福工業株式会社 ペレット
KR102235612B1 (ko) 2015-01-29 2021-04-02 삼성전자주식회사 일-함수 금속을 갖는 반도체 소자 및 그 형성 방법
WO2020003464A1 (ja) 2018-06-28 2020-01-02 富士通株式会社 光触媒、ガスセンサデバイス、ガスセンサ及び測定方法
KR102354109B1 (ko) * 2020-11-06 2022-01-24 김승권 코어-쉘 구조의 아파타이트-이산화티타늄 광촉매를 이용한 플라스틱 성형물
KR102302532B1 (ko) * 2021-02-05 2021-09-16 솔로몬산업 주식회사 광촉매 복합체를 포함하는 방음벽 및 그의 제조방법

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09102238A (ja) 1995-10-06 1997-04-15 Noritake Co Ltd 抗菌性セラミックボタン
JPH09190254A (ja) 1996-01-11 1997-07-22 Fujitsu Ltd 電子機器
JPH1157603A (ja) * 1997-08-27 1999-03-02 Lintec Corp ハードコートシート
EP0942045B1 (en) * 1997-09-25 2006-05-17 Toray Industries, Inc. Polyester film comprising specific hydroxyapatite particles
JPH11195345A (ja) 1997-11-07 1999-07-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 押 釦
WO1999033566A1 (fr) * 1997-12-25 1999-07-08 Japan As Represented By Director General Of The Agency Of Industrial Science And Technology Poudre photocatalysante pour la purification de l'environnement, composition polymere contenant ladite poudre et article moule la comprenant, et leurs procedes de production
US5981425A (en) * 1998-04-14 1999-11-09 Agency Of Industrial Science & Tech. Photocatalyst-containing coating composition
JP2000017096A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Achilles Corp 光触媒機能を有する熱可塑性樹脂発泡シート
JP2000119957A (ja) * 1998-10-15 2000-04-25 Komatsu Seiren Co Ltd 消臭、抗菌および防汚機能を有する繊維布帛およびその製造方法
JP2000126611A (ja) * 1998-10-20 2000-05-09 Rado Kikaku:Kk 光触媒組成物及びその製造方法
JP2000271488A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Maruo Calcium Co Ltd 光触媒性ウィスカー及び光触媒性組成物
JP3678606B2 (ja) * 1999-05-21 2005-08-03 富士通株式会社 金属修飾アパタイト及びその製造方法
US6683023B2 (en) * 2000-04-21 2004-01-27 Showa Denko K.K. Photocatalytic powder and polymer composition
US6825155B2 (en) * 2000-05-31 2004-11-30 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Composition for deodorization and decontamination of dental product
JP2002047418A (ja) 2000-08-02 2002-02-12 Sekisui Chem Co Ltd 室温硬化性組成物
US7060643B2 (en) * 2000-12-28 2006-06-13 Showa Denko Kabushiki Kaisha Photo-functional powder and applications thereof
JP2003039873A (ja) * 2001-07-30 2003-02-13 Sailor Pen Co Ltd:The 筆記具の外装部品
WO2003033596A1 (fr) * 2001-10-17 2003-04-24 Kabushiki Kaisha Sangi Particules composites antibacteriennes et composition de resine antibacterienne
US7414009B2 (en) * 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7378371B2 (en) * 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
JP2004002176A (ja) * 2002-04-16 2004-01-08 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光触媒担持ガラス繊維布、その製造方法およびそれを用いたエアフィルター装置
JP3806061B2 (ja) 2002-05-21 2006-08-09 富士通株式会社 金属修飾アパタイト含有膜の形成方法、これに用いられるコーティング液、および金属修飾アパタイト含有膜で被覆された部位を有する電子機器
US7414029B2 (en) * 2002-05-23 2008-08-19 Theratechnologies, Inc. Antagonistic peptides of prostaglandin E2 receptor subtype EP4
AU2002306240A1 (en) * 2002-06-04 2003-12-19 Fujitsu Limited Antibacterial and anti-staining paint for building materia l and building material coated therewith
JP2004026967A (ja) 2002-06-25 2004-01-29 Suzuki Motor Corp 防汚性樹脂及びその製造方法
JP2004041313A (ja) * 2002-07-09 2004-02-12 Pentax Corp リン酸カルシウムブロックを含むリン酸カルシウム−合成樹脂複合体及びその製造方法
CN1190135C (zh) * 2002-09-12 2005-02-23 中国科学院广州地球化学研究所 高白度缓释型无机纳米抗菌剂的制备方法
CN1185936C (zh) * 2002-09-12 2005-01-26 中国科学院广州地球化学研究所 高长径比针状无机纳米抗菌剂的制备方法
JP2004135924A (ja) * 2002-10-18 2004-05-13 Kaoru Shimizu ゲーム用具
WO2004045660A1 (ja) * 2002-11-15 2004-06-03 Fujitsu Limited 空気浄化装置
EP1429307B1 (en) * 2002-12-10 2005-06-22 Askk Co.,Ltd. Rotating braille display device
JP2004262941A (ja) * 2003-02-13 2004-09-24 Asahi Kasei Chemicals Corp 防臭・抗菌・防カビ被覆用組成物
JP3649241B1 (ja) * 2003-03-04 2005-05-18 ダイキン工業株式会社 空気清浄部材および空気調和装置
US7585903B2 (en) * 2003-03-05 2009-09-08 Nbc Inc. Photocatalytic material
JP4295231B2 (ja) * 2005-03-01 2009-07-15 富士通株式会社 広帯域光吸収性光触媒及びその製造方法、並びに、広帯域光吸収性光触媒含有組成物及び成形体
JP4800813B2 (ja) * 2006-03-29 2011-10-26 富士通株式会社 光触媒アパタイト組成物及びその製造方法ならびに物品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007254749A (ja) * 2007-04-13 2007-10-04 Fujitsu Ltd 光触媒アパタイト含有樹脂及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8354049B2 (en) 2013-01-15
CN101475752A (zh) 2009-07-08
US20100227980A1 (en) 2010-09-09
US20060111460A1 (en) 2006-05-25
JP2005029671A (ja) 2005-02-03
CN101475752B (zh) 2013-08-07
KR20060031847A (ko) 2006-04-13
CN1823137A (zh) 2006-08-23
WO2005005547A1 (ja) 2005-01-20
KR100799812B1 (ko) 2008-01-31
US7750064B2 (en) 2010-07-06
KR101012556B1 (ko) 2011-02-07
KR20070064665A (ko) 2007-06-21
CN100462405C (zh) 2009-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7750064B2 (en) Photocatalytic apatite-containing resin
SG151313A1 (en) Highly transparent laser-markable and laser-weldable plastic materials
AU2003302767A1 (en) Nano-sized particles such as nano-clays can be mixed with polymers through either melt compounding or in-situ polymerization
DE502007001036D1 (de) Verfahren zur herstellung von formteilen aus korkpartikeln
JP4737129B2 (ja) 光触媒アパタイト含有樹脂及びその製造方法
JP4552944B2 (ja) 樹脂成形品
US20050052410A1 (en) Antimicrobial personal computer aggregation
CN101992875A (zh) 抗菌塑料瓶
CN201370132Y (zh) 一种橡胶手套
JP2000017096A (ja) 光触媒機能を有する熱可塑性樹脂発泡シート
CN112088900A (zh) 一种石墨烯基复合抗菌抗病毒粉末及其制备方法
KR20070025416A (ko) 친 건강 기능 휴대폰 케이스
JP3105425U (ja) 飲料用容器
KR200321716Y1 (ko) 전화기 케이스
EP3475354A1 (en) A plastic article and a method for manufacturing therof
Ariga Composite Nanoarchitectonics Towards Method for Everything in Materials Science
JP3513521B2 (ja) 携帯型端末
KR20230131363A (ko) 항균 마스터 배치 및 이를 포함하는 항균 필름
JP2020117657A (ja) 機能性成形品及び機能性カード
KR20020063468A (ko) 항균성 장난감블럭의 제조방법
JP2004115567A (ja) ゲルマニウム含有導電性ゴム
JPH09251751A (ja) ディスクカセットと成形方法
JP2002194111A (ja) 光触媒シート
Mârţu et al. Periosteoplasty--a new technique for recession coverage.
TW201302501A (zh) 具抑菌效果之筆具及其製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060518

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070119

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3928596

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100316

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110316

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120316

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130316

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140316

Year of fee payment: 7

EXPY Cancellation because of completion of term