JP3922109B2

JP3922109B2 - Method for producing transparent conductive film roll

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Publication number: JP3922109B2
Application number: JP2002181972A
Authority: JP
Inventors: 寿幸大谷; 英生村上; 地加男森重
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 2001-10-17
Filing date: 2002-06-21
Publication date: 2007-05-30
Anticipated expiration: 2022-06-21
Also published as: JP2003197034A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラスチックフィルム上に透明導電膜を積層した透明導電性フィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロールを製造する方法に関する。詳しくは、透明性及び導電性が要求される、タッチパネル用透明電極やエレクトロルミネッセンスパネル用透明電極を製造するのに好適な、特に大型パネル用透明電極を製造するのに好適な、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な長尺の透明導電性フィルムロールの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
透明導電性フィルムとしては、プラスチックフィルムに導電性材料を積層したフィルムが一般的に使用されている。また、導電性材料としては、有機物、無機物のいずれもが使用できるが、導電性と透明性の両立の点から無機物が好適である。前記無機物としては、金、銀などの金属や、金属酸化物が透明性の観点より好適である。特に、金属酸化物の中でも、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛及びこれらの複合酸化物が好ましく、前記金属酸化物を蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法あるいはＣＶＤ法によりプラスチックフィルムに積層したフィルムが知られている。
【０００３】
この透明導電性フィルムは、フィルム巻取り式のイオンプレーティング装置またはスパッタリング装置で一般的に製造されている。これらの装置を用いて製造された透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断し、紙管またはプラスチックコア等に巻取り、フィルムロールの形態で流通するのが一般的である。このロール状に巻取った透明導電性フィルムをシート状に裁断した後、透明導電性フィルムの透明導電膜上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
アナログ方式のタッチパネルは、透明電極の表面抵抗の分布が均一であることを仮定して、入力位置を認識し文字や記号として表示される（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、８２頁）。したがって、これに用いられる透明導電性フィルムの表面抵抗の分布はどの位置においても極めて均一である必要がある。また、エレクトロルミネッセンスパネルの透明電極においても、パネル内で均一な発光強度を得るためには、均一な表面抵抗分布を有する透明電極を用いる必要がある。特に、大型のエレクトロルミネッセンスパネルであればあるほど、透明電極の表面抵抗の分布は一層均一であることが強く要求される。
【０００５】
透明電極の表面抵抗の分布を均一にするためには、巻取り式の成膜装置内に表面抵抗測定装置を設け、透明導電膜を形成しながらインラインで連続的に表面抵抗を測定し、表面抵抗の分布が一定になるよう導電性薄膜の成膜条件を制御する方法が採用できる。
【０００６】
例えば、この方式の一例として、２本の金属ロール間に透明導電膜をはさんで接触させ、このロール間の表面抵抗を測定する方法が挙げられる。しかしながら、この方式は透明導電性フィルムの長手方向における表面抵抗の分布を測定することができるが、幅方向の表面抵抗の分布を測定することは原理的に不可能である。また、長手方向の表面抵抗の分布に関しても、フィルムのテンションが均一でないと、金属ロールと透明導電膜との接触が不均一になり、表面抵抗に測定誤差を含むことになる。
【０００７】
また、透明導電性フィルムの幅方向における表面抵抗を測定するために、１本の絶縁ロール（シリコンゴムまたはポリフルオロテトラエチレン製）に３個以上の金属リングを巻きつけ、金属リング間の抵抗値を測定する方法もある。しかしながら、この方式は、絶縁物と金属リングとの境に微小な突起が形成され、このためにフィルム表面に傷が生じやすくなってしまう。
【０００８】
そこで、幅方向の表面抵抗の分布を連続的に測定することができ、かつ、フィルム表面に傷を発生させない表面抵抗測定器として、電磁誘導コイルと導電膜との結合インダクタンスを測定する方法（磁界を印加して発生する渦電流を測定する方法）が知られている（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、第８８頁）。しかしながら、この方法は、１０Ω／□程度以上の表面抵抗を有する導電膜を測定するためには、印加磁界の強度をかなり上げる必要があるために、磁束の広がりが大きくなり、インラインでの連続測定では製造プロセスでの基材のパスライン変動（基材面の法線方向の振動）により、センサー部と測定対象である導電膜との離隔距離が変動し、結合インダクタンスが一定とならず、結果として測定誤差が大きくなるという問題がある。
【０００９】
さらに、この方法は、渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのフェライトコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従ってインダクタンスが変化し、コイルに印加する高周波電圧を一定にしていたとしても、前記導電膜に流れる渦電流が変化して、結果として測定誤差が大きくなるという問題が発生する。
【００１０】
以上のように、一般的な表面抵抗測定計を巻取り装置内に設けても、測定誤差が大きいため、表面抵抗が均一な透明導電性フィルムロールを得ることは極めて困難である。
【００１１】
本発明は上記の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロールの製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明における透明導電性フィルムロールの製造方法に係る発明は、プラスチックフィルムロールからプラスチック基材フィルムを巻き出す工程、巻き出した基材フィルムの少なくとも片面に、巻き取り式成膜装置を用いて透明導電膜を形成させて透明導電性フィルムを製造する工程、得られた透明導電性フィルムをロール状に巻き取る工程、をこの順に含む、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍの透明導電性フィルムロールを製造する方法であって、前記巻き取り式成膜装置は、該装置内に非接触式表面抵抗測定装置を有しており、基材フィルム上に形成された透明導電膜の表面抵抗を、前記フィルムの幅方向の複数位置でインラインでフィルム長手方向に連続的に測定し、測定値をフィードバックすることによって、表面抵抗の分布が一定となるように、フィルムの成膜条件を調整することを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明で透明導電性フィルムロールの基材として用いるプラスチックフィルムとは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムである。
【００１４】
有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
【００１５】
これらの有機高分子のなかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これらの有機高分子は単独で使用する以外に、他の有機高分子の単量体を少量共重合したり、他の有機高分子を１種以上ブレンドしてもよい。
【００１６】
前記プラスチックフィルムは、パネルの視認性の点から、透明性に優れていることが必要である。したがって、プラスチックフィルム中には透明性を悪化させるような粒子や添加剤などを含有させないことが好ましい。しかしながら、プラスチックフィルム製造時やロールの巻出しや巻取り時のハンドリング性（滑り性、走行性、ブロッキング性、巻取り時の随伴空気の空気抜け性など）の点からは、フィルム表面に適度な表面凹凸を有することが好ましい。
【００１７】
このような相反する特性を満足させる方法として、基材フィルムをコーティング法または共押し出し法にて、厚みが０．０３〜１μｍと非常に薄い表面層を設けた積層構造とし、該表面層のみに粒子を含有させる方法が好ましい。これらの方法の中でも、コーティング法の場合、共押し出し法よりも表面層の厚みを薄くすることができ、かつプラスチックフィルムと導電層との密着性も良好にすることができるため好適である。
【００１８】
基材として積層プラスチックフィルムを用いる場合、表面層に含有させる粒子は１種類でも複数併用してもよく、透明性の点から、粒子の屈折率がプラスチックフィルムの構成樹脂及びコート層のバインダー樹脂と同じまたは近いものを用いることが好ましい。例えば、基材やコート層のバインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、バインダー樹脂中に平均粒子径が１０〜２００ｎｍのシリカ、ガラスフィラー、アルミナ−シリカ系などの複合酸化物、などを０．５〜５．０質量％含有させることが好ましい。
【００１９】
前記プラスチックフィルムの厚みは、１０μｍを越え、３００μｍ以下の範囲であることが好ましく、７０〜２６０μｍの範囲が特に好ましい。プラスチックフィルムの厚みが１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなる傾向があり、耐久性が不十分となりやすい。一方、厚みが３００μｍを越えると、巻取りフィルムロールの形態をとることが難しくなってしまう。
【００２０】
また、前記プラスチックフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
【００２１】
また、基材のプラスチックフィルムと透明導電膜との間に、透明導電膜の付着力を向上させるために、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層または無機薄膜層を設けても良い。
【００２２】
前記硬化型樹脂としては、加熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に制限はなく、シリコン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
【００２３】
前記無機薄膜層の構成材料としては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウムなどの単体あるいは２種類以上の複合酸化物であることが好ましい。
【００２４】
また、本発明で用いる透明導電膜としては、透明性及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物、銀及び銀合金、銅及び銅合金、金等が単層もしくは２層以上の積層構造したものが挙げられる。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物またはスズ−アンチモン複合酸化物が好適である。
【００２５】
さらに、これらの透明導電膜中に、表面抵抗や透明性を調整するために、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウム、などを少なくとも１種含有させてもよい。これらの無機酸化物の含有量は多くても主成分に対して合計量で１０質量％以下であることが好ましい。
【００２６】
透明導電膜の膜厚は４〜８００ｎｍの範囲が好ましく、特に好ましくは５〜５００ｎｍである。透明導電膜の膜厚が４ｎｍよりも薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示しにくい傾向がある。一方、８００ｎｍよりも厚い場合、透明性が低下しやすくなる。
【００２７】
本発明における透明導電膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。
【００２８】
例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基材に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても構わない。
【００２９】
透明導電性フィルムの透明導電膜表面での光の反射率を低減させ、光線透過率を向上させるために、透明導電膜の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を、透明導電膜とプラスチックフィルムの間に単層もしくは２層以上に積層することが好ましい。単層構造の場合、透明導電膜よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのが好ましい。また、２層以上の多層構造とする場合は、プラスチックフィルムと隣接する層は、プラスチックフィルムよりも大きな屈折率を有する材料を用い、透明導電膜の下の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。
【００３０】
このような低反射処理層を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されない。例えば、ＣａＦ₂、ＭｇＦ₂、ＮａＡｌＦ₄、ＳｉＯ₂、ＴｈＦ₄、ＺｒＯ₂、Ｎｄ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＣｅＯ₂、ＺｎＳ、Ｉｎ₂Ｏ₃、などの誘電体を用いるのが好ましい。
【００３１】
本発明の透明導電性フィルムロールは、下記式（１）で定義する透明導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下となる、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロールである。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
【００３２】
前記の材料及び方法により製造した透明導電性フィルムロールにおいて、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布を均一なものとするためには、例えば、透明導電層を積層する工程において、巻取り式成膜機に下記で詳述するインライン方式でかつ非接触式の表面抵抗測定装置を設けることが好ましい。
【００３３】
この非接触式表面抵抗測定装置の構成を、図１を用いて説明する。
非接触式表面抵抗測定装置は、基材１上の導電膜２に設定間隔を空けて対向させてその導電膜２に渦電流を流す渦電流発生部３Ａ、及び導電膜２に流れる渦電流を導電膜２とは離間した状態で検出する渦電流検出部３Ｂ（渦電流発生部３Ａとは一体になっている）とから成る複数（ｎ個）の渦電流センサー３を設けている。そして、該渦電流センサー３の温度を検出する温度センサー４Ａ（温度検出部に相当）、及び渦電流センサー３と導電膜２との離隔距離センサー４Ｂを前記渦電流センサー３と一体に設けた構成からなる。さらに、渦電流検出部３Ｂの検出結果と、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂの検出結果に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出するコンピューター７（算出手段に相当）を設けて構成されている。
【００３４】
渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔距離センサー４Ｂの各センサーは、センサー用アンプ６につながれている。このセンサー用アンプ６は、高周波発振器と渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段と、導電膜２とセンサー３との離隔距離に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段、温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段とを含む。高周波発振器は、高周波を印加して導電膜に流れる渦電流を検出する。
【００３５】
好ましくは、上記導電膜２とセンサー３との離隔距離を検出するセンサー４Ｂは、静電容量式、超音波式、レーザ式、光電式などの変位センサーである。導電膜の表面抵抗を算出する手段は、デジタル信号に基づいて導電膜の表面抵抗を算出する。
【００３６】
導電膜に渦電流を流す方法は、導電膜に設定間隔を空けて渦電流発生部ならびに渦電流検出部を対向させるものと、渦電流発生部と渦電流検出部の両者で導電膜を挟み込むものがある。例えば、渦電流発生部としてのフェライトコイルなどのコイルに高周波電圧を印加し、前記コイルを導電膜に近づけるか、前記コイルで導電膜を挟み込むことで、導電膜に高周波誘導結合による渦電流を流す。
【００３７】
この高周波電圧を一定にすると、導電膜に流れる渦電流と導電膜の表面抵抗が逆比例（反比例）する。したがって、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくと、その離隔距離（基準点）での表面抵抗を求めることができる。
【００３８】
渦電流は、原理的に導電膜とセンサーとの離隔距離が大きくなるにつれて、小さくなる傾向があるため、予め渦電流と離隔距離との関係について校正曲線（検量線）を作成しておく。具体的には、上記導電膜とセンサーとの離隔距離を検出する手段にて得られた離隔距離から基準点との差を出し、上記校正曲線から渦電流の補正値を計算する。この補正値は、導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも小さい場合は減算する方向に、逆に導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも大きくなる場合は加算する方向で計算する。こうして導電膜とセンサーとの離隔距離の任意点で、導電膜の表面抵抗を正確に算出することができる。上記導電膜の表面抵抗の算出はコンピューターの演算周期により、導電膜の製造プロセスにおいて連続的に行われる。
【００３９】
また、渦電流は、原理的に渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従って変化する。渦電流と透磁率の間には正の相関があるが、コイル材料の種類によって透磁率の温度特性は正負双方がある。すなわち、温度上昇に応じて透磁率が大きくなる正特性と、温度上昇に応じて透磁率が小さくなる負特性がある。
【００４０】
そこで、前記温度検出部の検出結果が前記基準温度から外れていると、選択したコイル材料の温度特性に応じて、算出手段が、前記基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部の検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、表面抵抗を算出する。
【００４１】
この場合、予め温度変動量と渦電流補正量との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことが重要である。このように予め作成した検量線を基に導電膜の表面抵抗を算出するため、渦電流発生部の温度が変動しても、導電膜の表面抵抗の測定値に誤差が生じにくくなる。
【００４２】
さらに、渦電流センサー、温度センサー及び離隔距離センサーとを一体化させた渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に複数個を固定して配置することで、プロセス幅が広くて幅方向の温度分布（温度ムラ）があったとしても、幅方向の表面抵抗を正確に測定することができる。また、上記と同様の作用効果を示す方法として、上記渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に１個設け、これらを積載して幅方向に走査させることができる駆動手段を設ける方法が挙げられる。
【００４３】
前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、及び離隔距離センサー４Ｂは、センサーアンプ６にセンサーケーブル５を介して接続してあり、導電膜の表面抵抗の測定結果を表示するＣＲＴ８と、測定結果を印字出力するプリンター９と、測定された表面抵抗が規定された範囲外になったことや異常をオペレータに報知する警報装置１０を設けてある。
【００４４】
前記センサーアンプ６には、高周波発信器と、渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換する第１Ａ／Ｄ変換器と、前記温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換する第２Ａ／Ｄ変換器とを設けてある。
【００４５】
前記コンピュータ７は、前記第１及び第２Ａ／Ｄ変換器によって得られたデジタル信号に基づいてデータ処理し、温度センサー４の検出結果が前記基準温度から外れていると、基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部３Ｂの検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出する。
【００４６】
また、導電膜２の製造プロセスにおいて、前記の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流表面抵抗計を導電膜２の幅方向に複数個配置して、あるいは前記渦電流表面抵抗計１個を適切な駆動手段に積載して導電膜２の幅方向に走査させながら、透明導電性フィルムロールの導電膜２における幅方向及び長手方向の表面抵抗分布のトレンド（経時的な変化）をコンピューター７により求めることができる。
【００４７】
次に、上記の渦電流表面抵抗計の動作について説明する。
（１）前記渦電流発生部３Ａが基材１上の導電膜２と数ｍｍの設定間隔を空けて対向する状態、または基材１を挟み込む状態に渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔距離センサー４Ｂを配置する。
【００４８】
（２）センサーアンプ６から渦電流センサー３の渦電流発生部３Ａに高周波を印加して、高周波誘導結合により導電膜２に渦電流を発生させる。
【００４９】
（３）前記印加する高周波電圧を一定に制御していれば、導電膜２に流れる渦電流と導電膜２の表面抵抗が逆比例（反比例）する。そのため、図２に示すように、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことで、導電膜２と渦電流発生部３Ａとを前記設定間隔を空けた状態の基準温度での未知の導電膜２の表面抵抗を求めることができる。
【００５０】
（４）渦電流は、コイル材料の温度特性が正特性を有していれば大きくなり、表面抵抗は小さくなる傾向がある。そのため、図３に示すような、予め作成しておいた表面抵抗と前記温度との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、渦電流検出部３Ｂの検出結果を補正する。
【００５１】
（５）渦電流は、渦電流センサーと導電膜との離隔距離が大きいほど、表面抵抗は小さくなる傾向があるため、予め作成しておいた図４に示す、表面抵抗と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、上記（４）で得られた算出結果を補正する。
【００５２】
前記コンピューター７により表示される導電膜２の表面抵抗は、任意の作成ソフトウェアによりＣＲＴ６に表示し、測定値やグラフとしてデータ処理を行い、インラインで表面抵抗を連続的に測定する。また、必要に応じて、プリンタ９に印字出力する。
【００５３】
導電膜２の表面抵抗の算出は、コンピューター７の演算周期により導電膜２の製造プロセスにおいて連続的に行うことができる。
【００５４】
また、表面抵抗の測定結果を、警報装置１０や製造プロセスにフィードバックすることで、透明導電性プラスチックフィルムロールを製造する際に表面抵抗を制御することができ、製造工程における品質の向上・生産性向上を図ることができる。
【００５５】
さらに、前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂを一体に設けることで、ほぼ同一点での渦電流と温度の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。
【００５６】
本発明の透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断した後、フィルム上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【００５７】
図１１に、本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いた、アナログ方式のペン入力用タッチパネルの例を示す。透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いたものである。
【００５８】
このタッチパネルにペンにより文字や図形を入力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電膜同士が接触し、電気的にＯＮの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することができる。
【００５９】
この際、ペン接触側のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用いると、長手方向及び幅方向ともにほぼ均一な表面抵抗が得られるため、透明導電性フィルムロールのどの部分を裁断して用いても、文字や図形の認識ズレ率の小さい安定なタッチパネルが得られる。
【００６０】
また、アナログ方式のペン入力用タッチパネルにおける両方のパネルに本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用い、透明導電性フィルムの導電膜を形成していない面を、粘着剤を介して透明樹脂シートと積層することで、タッチパネルの固定電極に用いる透明導電性積層シートが得られる。すなわち、固定電極をガラス製から樹脂製にすることで、軽量でかつ衝撃により割れにくいタッチパネルを作製することもできる。
【００６１】
前記粘着剤は透明性を有するものであれば特に制限はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着剤の厚さは特に制限はないが、通常１〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが１μｍ未満の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難しく、１００μｍを越える厚さでは生産性の観点から好ましくない。
【００６２】
この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使用するものであり、厚さは０．０５〜５ｍｍの範囲が好ましい。前記透明樹脂シートの厚みが０．０５ｍｍ未満では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さが５ｍｍを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを使用することができる。
【００６３】
【実施例】
次に、本発明を実施例及び比較例により詳しく説明するが、本発明は当然以下に示す実施例に限定されるものではない。また、本実施例で得られた透明導電性フィルムロール及びタッチパネルの特性は下記の方法により評価した。
【００６４】
（１）透明導電膜の表面抵抗
透明導電性フィルムのスリットロールの幅方向における中央部及び中央部から左右２００ｍｍの位置について、長さ１０ｍピッチで、ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠した４探針法にて、透明導電膜の表面抵抗を、表面抵抗測定器（三菱油化（株）製、ＬｏｔｅｓｔＡＭＣＰ−Ｔ４００）を用いて測定した。
【００６５】
すなわち、１本のスリットロールにおいて、３３箇所（幅方向３点×長手方向１１点）の表面抵抗を測定し、この３３個の測定値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとした。この値を用いて、（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）を算出した。この算出を１６本のスリットロールすべてに対して行った。
【００６６】
（２）タッチパネルの図形認識ズレ率
上記のように作製したタッチパネルに、Ｘ−Ｙプロッタ（ローランド株式会社製、ＤＸＹ−１１５０Ａ）を用いて、直径４０ｍｍの丸印を５箇所に筆記した。ペンは先端が０．８ｍｍΦのポリアセタール製を用い、ペン荷重は０．６Ｎとした。銀ペーストからの信号を読み取り、丸印が正確に認識されているかを評価するために、認識した印の長軸の長さをｒ１、筆記した丸印の直径をｒ０＝４０ｍｍとした際に、認識図形のズレとして、（｜ｒ１−ｒ０｜／ｒ０）×１００を図形認識ズレ率（％）として計算した。５箇所の筆記個所において算出し、最も大きなズレ率を、このタッチパネルの図形認識ズレ率とした。
【００６７】
実施例１
図１に記載の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を具備した巻取り式スパッタリング装置を使用し、ＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。なお、前記渦電流式表面抵抗計は、フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に配設した。幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、基材とした。次いで、該ＰＥＴフィルムの接着改質層面に透明導電膜を成膜した。
【００６８】
透明導電膜の成膜条件は、スパッタ時の圧力を０．４Ｐａ、Ａｒ流量を２００ｓｃｃｍ、酸素流量を３ｓｃｃｍとした。また、ターゲット電力投入は、日本イー・エヌ・アイ社製ＲＰＧ１００を用いて、３Ｗ／ｃｍ²を印加した。この際に、パルス幅２μsec.でパルス周期が１００ｋＨｚの正電圧パルスも印加することで、異常放電の発生を抑制した。
【００６９】
なお、渦電流センサーの温度依存性及び離隔距離依存性をあらかじめ測定し、検量線を作成した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を連続的にモニターしながら、上記検量線から表面抵抗が２５０Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は２２〜２７ｎｍであった。また、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図５に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００７０】
得られた透明導電性フィルムロールを幅６００ｍｍ、長さ１００ｍにスリットし、１６本のスリットロールを作製した。得られた透明導電性フィルムロールの評価結果を表１に示す。
【００７１】
前記透明導電性フィルムのスリットロールから、透明導電性フィルムを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出し、一方のパネル板として用い、両端部（２００ｍｍ長の両辺）に銀ペーストを印刷した。他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマＣＶＤ法で厚みが２０ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物薄膜（酸化スズ含有量：１０質量％）からなる透明導電性ガラス（日本曹達製、Ｓ５００）を用い、これを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出した後、３００ｍｍ長の両辺に銀ペーストを印刷した。この２枚のパネル板を透明導電膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの断面図を図１３に示した。また、タッチパネルの評価結果を表２及び図１１に示した。
【００７２】
実施例２
プラスチックフィルムとして、厚みが１９２μｍのクリアハードコート層を片面に設けたＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製、ＨＣ１０１）を用いた。前記ハードコート層の反対面に透明導電膜を形成させたこと以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図６に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０９であった。
【００７３】
実施例３
光重合開始剤含有アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）を、トルエン／ＭＥＫ（８／２：質量比）の混合溶媒を用いて、固形分濃度が５０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液Ａを調製した。
【００７４】
幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、上記塗布液Ａを塗膜の厚みが５μｍになるようにマイヤーバーによりフィルムの接着改質層に塗布し、８０℃で１分間乾燥を行った。次いで、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ²）し、塗膜を硬化させた。さらに、１８０℃で１分間の加熱処理を施して、揮発成分の低減を行ない、片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを巻き取り、基材とした。
【００７５】
片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを基材として用い、硬化物層面に透明導電膜を形成させること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００７６】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図７に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０２であった。
【００７７】
実施例４
実施例１において、ＩＴＯターゲットの代わりにスズ−アンチモン複合酸化物（ＡＴＯ）ターゲット（酸化アンチモン５質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用い、酸素流量を３ｓｃｃｍから５ｓｃｃｍに変更し、透明導電膜の表面抵抗が１０００Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。このこと以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。また、透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は９５〜１１０ｎｍであった。
【００７８】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図８に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．１０であった。
【００７９】
実施例５
実施例１の導電膜の製造プロセスにおいて、温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を、透明導電フィルムの導電膜上の隔離した位置に、幅方向に３個固定して配置する代わりに、上記渦電流式表面抵抗計１個を導電膜の幅方向に連続的に走査させながら、透明導電性フィルムの幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所で導電膜の表面抵抗を測定すること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００８０】
なお、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１４に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００８１】
比較例１
温度センサー及び離隔距離センサーを備えていない渦電流式表面抵抗計（フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に設置）を用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１、表２、及び図１２に示した。
【００８２】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図９に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．２２であった。
【００８３】
比較例２
実施例１において、渦電流式表面抵抗計の代わりに、２本の絶縁式フリーロール間の抵抗値からフィルム上の表面抵抗を算出するモニターを用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１及び表２に示した。
【００８４】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１０に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．３３であった。
【００８５】
【表１】

【００８６】
【表２】

【００８７】
以上の結果から、次のことがいえる。
実施例１〜５は、透明導電性フィルムのスリットロール内での透明導電膜の表面抵抗分布が、長手方向及び幅方向ともに均一である。そのため、例えば実施例１の透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルも入力図形が正確に認識されている。
【００８８】
これに対し、比較例１は、透明導電膜の表面抵抗分布が長手方向において均一性が不十分であり、比較例２は幅方向の均一性が不十分である。そのため、例えばの透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルは、図形認識ズレ率が大きく、タッチパネルとして不適であった。
【００８９】
【発明の効果】
表面抵抗などの品質が長手方向及び幅方向で均一な透明導電性フィルムロールが得られ、最終製品であるタッチパネル等の文字や図形の認識ズレ率が小さくなるなど性能安定性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】非接触式表面抵抗測定装置の構成を示す説明図である。
【図２】渦電流と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図３】温度と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図４】渦電流と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図５】実施例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図６】実施例２におけるのスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図７】実施例３におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図８】実施例４におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図９】比較例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１０】比較例２におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１１】実施例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１２】比較例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１３】実施例１のタッチパネルの断面図である。
【図１４】実施例５におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【符号の説明】
１基材
２導電膜
３Ａ渦電流発生部
３Ｂ渦電流検出部
４Ａ温度センサー
４Ｂ離隔距離センサー
５センサーケーブル
６センサーアンプ
７コンピューター
８ＣＲＴ
９プリンター
１０警報装置
１１通信ケーブル
１２ＣＲＴケーブル
１３プリンターケーブル
１４制御ケーブル
１５タッチパネルの認識図形
１６透明導電性フィルム
１７プラスチックフィルム
１８透明導電膜
１９ガラス板
２０ビーズ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a transparent conductive film roll obtained by winding a transparent conductive film in which a transparent conductive film is laminated on a plastic film into a roll shape. How to manufacture About. Specifically, the longitudinal direction and width are suitable for producing transparent electrodes for touch panels and electroluminescent panels that require transparency and conductivity, and particularly suitable for producing transparent electrodes for large panels. Long transparent conductive film roll with uniform surface resistance distribution in the direction Manufacturing method It is about.
[0002]
[Prior art]
As the transparent conductive film, a film obtained by laminating a conductive material on a plastic film is generally used. Moreover, as an electroconductive material, although both an organic substance and an inorganic substance can be used, an inorganic substance is suitable from the point of coexistence of electroconductivity and transparency. As said inorganic substance, metals, such as gold | metal | money and silver, and a metal oxide are suitable from a viewpoint of transparency. In particular, among metal oxides, indium oxide, tin oxide, zinc oxide and composite oxides thereof are preferable, and a film obtained by laminating the metal oxide on a plastic film by vapor deposition, ion plating, sputtering, or CVD. It has been known.
[0003]
This transparent conductive film is generally manufactured by a film winding type ion plating apparatus or sputtering apparatus. The transparent conductive film roll manufactured using these apparatuses is cut into a size of about 300 to 800 mm in width and about 10 to 1000 m in length by a slitter, wound around a paper tube or a plastic core, and the form of a film roll It is common to distribute with. After the transparent conductive film wound up in a roll is cut into a sheet, the transparent conductive film of the transparent conductive film is subjected to processing such as silver paste printing or dielectric printing, and transparent for touch panels and electroluminescence panels. Used as an electrode.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The analog touch panel recognizes the input position and displays it as characters and symbols on the assumption that the surface resistance distribution of the transparent electrode is uniform (Monthly Display, September 1999, page 82). Therefore, the distribution of the surface resistance of the transparent conductive film used for this needs to be extremely uniform at any position. In addition, in the transparent electrode of the electroluminescence panel, it is necessary to use a transparent electrode having a uniform surface resistance distribution in order to obtain uniform light emission intensity within the panel. In particular, the larger the electroluminescence panel, the more strongly the surface resistance distribution of the transparent electrode is required to be more uniform.
[0005]
In order to make the distribution of the surface resistance of the transparent electrode uniform, a surface resistance measuring device is provided in a roll-up type film forming device, and continuous inline while forming a transparent conductive film. In A method of measuring the surface resistance and controlling the film forming conditions of the conductive thin film so that the distribution of the surface resistance is constant can be employed.
[0006]
For example, as an example of this method, there is a method in which a transparent conductive film is sandwiched between two metal rolls and the surface resistance between the rolls is measured. However, this method can measure the distribution of surface resistance in the longitudinal direction of the transparent conductive film, but it is impossible in principle to measure the distribution of surface resistance in the width direction. Further, regarding the distribution of the surface resistance in the longitudinal direction, if the tension of the film is not uniform, the contact between the metal roll and the transparent conductive film becomes non-uniform, and the surface resistance includes a measurement error.
[0007]
Further, in order to measure the surface resistance in the width direction of the transparent conductive film, three or more metal rings are wound around one insulating roll (made of silicon rubber or polyfluorotetraethylene), and the resistance value between the metal rings is There is also a method of measuring. However, in this method, a minute protrusion is formed at the boundary between the insulator and the metal ring, and thus the film surface is likely to be damaged.
[0008]
Therefore, as a surface resistance measuring instrument that can continuously measure the surface resistance distribution in the width direction and does not cause scratches on the film surface, a method of measuring the coupling inductance between the electromagnetic induction coil and the conductive film (magnetic field) (Method for measuring the eddy current generated by applying) is known (Monthly Display, September 1999, page 88). However, in this method, in order to measure a conductive film having a surface resistance of about 10 Ω / □ or more, it is necessary to considerably increase the strength of the applied magnetic field. In the manufacturing process, fluctuations in the substrate pass line (vibration in the normal direction of the substrate surface) cause the distance between the sensor unit and the conductive film to be measured to fluctuate, and the coupling inductance is not constant. As a result, there is a problem that the measurement error increases.
[0009]
Furthermore, since the magnetic permeability of the ferrite coil as an eddy current generation unit or eddy current detection unit has a temperature characteristic, the inductance changes according to the temperature fluctuation, and the high frequency applied to the coil. Even if the voltage is kept constant, the eddy current flowing in the conductive film changes, resulting in a problem that the measurement error increases.
[0010]
As described above, even if a general surface resistance measuring meter is provided in the winding device, it is extremely difficult to obtain a transparent conductive film roll having a uniform surface resistance because of a large measurement error.
[0011]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and the purpose thereof is a transparent conductive film roll having a uniform surface resistance distribution in the longitudinal direction and the width direction. Manufacturing method Is to provide.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
Transparent conductive film roll in the present invention Manufacturing method The invention according to A step of unwinding a plastic substrate film from a plastic film roll, a step of producing a transparent conductive film by forming a transparent conductive film on at least one side of the unwound substrate film using a roll-up film forming device, and obtaining A method of manufacturing a transparent conductive film roll having a width of 300 to 1300 mm and a length of 10 to 1000 m, comprising the step of winding the obtained transparent conductive film into a roll, in this order. Has a non-contact type surface resistance measuring device in the device, and the surface resistance of the transparent conductive film formed on the base film is in-line in the film longitudinal direction at a plurality of positions in the width direction of the film. By continuously measuring and feeding back the measured values, the film deposition conditions are adjusted so that the surface resistance distribution is constant. It is characterized by that.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The plastic film used as the base material of the transparent conductive film roll in the present invention is obtained by subjecting an organic polymer to melt extrusion or solution extrusion, and stretching, cooling, and heat setting in the longitudinal direction and / or the width direction as necessary. It is a film that has been applied.
[0014]
Organic polymers include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, polyimide, polyamideimide, polyethersulfan, polyetheretherketone , Polycarbonate, polyarylate, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyether imide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, norbornene-based polymer, and the like.
[0015]
Among these organic polymers, polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, syndiotactic polystyrene, norbornene polymer, polycarbonate, polyarylate and the like are preferable. In addition to using these organic polymers alone, a small amount of other organic polymer monomers may be copolymerized, or one or more other organic polymers may be blended.
[0016]
The plastic film needs to be excellent in transparency from the viewpoint of panel visibility. Therefore, it is preferable that the plastic film does not contain particles or additives that deteriorate transparency. However, from the viewpoint of handling properties (sliding property, running property, blocking property, air release of accompanying air during winding, etc.) during plastic film production, roll unwinding and winding, it is appropriate for the film surface. It is preferable to have surface irregularities.
[0017]
As a method of satisfying such contradictory characteristics, a base film is formed by a coating method or a coextrusion method to form a laminated structure having a very thin surface layer of 0.03 to 1 μm, and only on the surface layer. A method of incorporating particles is preferred. Among these methods, the coating method is preferable because the surface layer can be made thinner than the coextrusion method and the adhesion between the plastic film and the conductive layer can be improved.
[0018]
When a laminated plastic film is used as the substrate, one or more particles may be contained in the surface layer. From the viewpoint of transparency, the refractive index of the particles is a component resin of the plastic film and a binder resin of the coating layer. It is preferable to use the same or close ones. For example, when a polyester-based resin is used as the binder resin for the substrate or the coating layer, silica, glass filler, alumina-silica-based composite oxide having an average particle size of 10 to 200 nm, etc. is included in the binder resin. It is preferable to make it contain 5-5.0 mass%.
[0019]
The thickness of the plastic film is preferably in the range of more than 10 μm and not more than 300 μm, particularly preferably in the range of 70 to 260 μm. When the thickness of the plastic film is 10 μm or less, the mechanical strength is insufficient, and especially when used for a touch panel, there is a tendency to increase the deformation with respect to pen input, and the durability tends to be insufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 300 μm, it becomes difficult to take the form of a wound film roll.
[0020]
In addition, the plastic film is subjected to surface activation treatment such as corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, ozone treatment, etc. within the range not impairing the object of the present invention. May be.
[0021]
Moreover, in order to improve the adhesive force of a transparent conductive film, you may provide the hardened | cured material layer or inorganic thin film layer which uses curable resin as the main structural component between the plastic film of a base material, and a transparent conductive film.
[0022]
The curable resin is not particularly limited as long as it is a resin that is cured by application of energy such as heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and the like. Silicon resin, acrylic resin, methacrylic resin, epoxy resin, melamine resin, polyester resin, urethane Resin etc. are mentioned. From the viewpoint of productivity, it is preferable to use an ultraviolet curable resin as a main component.
[0023]
The inorganic thin film layer includes titanium oxide, cerium oxide, tungsten oxide, niobium oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, zinc oxide, gallium oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tantalum oxide, hafnium oxide, and oxide. A simple substance such as samarium or a composite oxide of two or more kinds is preferable.
[0024]
Further, the transparent conductive film used in the present invention is not particularly limited as long as it is a material having both transparency and conductivity, but indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite. Examples thereof include oxides, zinc-aluminum composite oxides, indium-zinc composite oxides, silver and silver alloys, copper and copper alloys, gold, and the like having a single layer or a stacked structure of two or more layers. Of these, indium-tin composite oxide or tin-antimony composite oxide is preferable from the viewpoint of environmental stability and circuit processability.
[0025]
Furthermore, in order to adjust surface resistance and transparency in these transparent conductive films, titanium oxide, cerium oxide, tungsten oxide, niobium oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, zinc oxide, gallium oxide, aluminum oxide , Antimony oxide, tantalum oxide, hafnium oxide, samarium oxide, and the like may be included. The content of these inorganic oxides is preferably at most 10% by mass in total with respect to the main component.
[0026]
The thickness of the transparent conductive film is preferably in the range of 4 to 800 nm, particularly preferably 5 to 500 nm. When the film thickness of the transparent conductive film is less than 4 nm, it tends to be difficult to form a continuous thin film and to exhibit good conductivity. On the other hand, when it is thicker than 800 nm, the transparency tends to decrease.
[0027]
As a method for forming a transparent conductive film in the present invention, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, and the like are known, and the above-described method is performed according to a required film thickness. It can be used as appropriate.
[0028]
For example, in the case of the sputtering method, a normal sputtering method using an oxide target, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition, plasma irradiation, or ion assist may be used in combination. In addition, a bias such as direct current, alternating current, and high frequency may be applied to the substrate as long as the object of the present invention is not impaired.
[0029]
In order to reduce the reflectance of light on the transparent conductive film surface of the transparent conductive film and improve the light transmittance, a material having a refractive index different from the refractive index of the transparent conductive film is used as the transparent conductive film and the plastic film. A single layer or two or more layers are preferably laminated. In the case of a single layer structure, it is preferable to use a material having a refractive index smaller than that of the transparent conductive film. In the case of a multilayer structure of two or more layers, a layer adjacent to the plastic film is made of a material having a refractive index larger than that of the plastic film, and a lower refractive index is used for the layer below the transparent conductive film. It is better to choose the material you have.
[0030]
The material constituting such a low reflection treatment layer is not particularly limited as long as the above refractive index relationship is satisfied, whether it is an organic material or an inorganic material. For example, CaF ₂ , MgF ₂ NaAlF _Four , SiO ₂ , ThF _Four , ZrO ₂ , Nd ₂ O _Three , SnO ₂ TiO ₂ , CeO ₂ , ZnS, In ₂ O _Three It is preferable to use a dielectric such as.
[0031]
In the transparent conductive film roll of the present invention, the distribution uniformity D of the surface resistance of the transparent conductive film defined by the following formula (1) is 0.2 or less, and the distribution of the surface resistance is uniform in the longitudinal direction and the width direction. It is a transparent conductive film roll.
D = (Rmax−Rmin) / (Rmax + Rmin) (1)
[0032]
In order to make the distribution of the surface resistance uniform in the longitudinal direction and the width direction in the transparent conductive film roll produced by the above materials and methods, for example, in the step of laminating the transparent conductive layer, It is preferable to provide the film machine with an in-line and non-contact type surface resistance measuring device described in detail below.
[0033]
The configuration of this non-contact type surface resistance measuring apparatus will be described with reference to FIG.
The non-contact type surface resistance measuring apparatus is configured to cause an eddy current generating unit 3A that causes an eddy current to flow through the conductive film 2 while facing the conductive film 2 on the base material 1 with a set interval, and an eddy current that flows through the conductive film 2. A plurality (n) of eddy current sensors 3 each including an eddy current detection unit 3B (integrated with the eddy current generation unit 3A) that is detected in a state of being separated from the conductive film 2 are provided. A temperature sensor 4A (corresponding to a temperature detection unit) for detecting the temperature of the eddy current sensor 3 and a separation distance sensor 4B between the eddy current sensor 3 and the conductive film 2 are provided integrally with the eddy current sensor 3. Consists of. Furthermore, a computer 7 (corresponding to a calculation means) for calculating the surface resistance of the conductive film 2 is provided based on the detection results of the eddy current detection unit 3B and the detection results of the temperature sensor 4A and the separation distance sensor 4B. Yes.
[0034]
Eddy current sensor 3, temperature sensor 4A, remote distance Each sensor of the sensor 4B is connected to a sensor amplifier 6. The sensor amplifier 6 includes a high-frequency oscillator, A / D conversion means for converting an eddy current analog signal into a digital signal, and an analog signal corresponding to the separation distance between the conductive film 2 and the sensor 3 into a digital signal A. / D conversion means and A / D conversion means for converting an analog signal corresponding to temperature into a digital signal. The high frequency oscillator detects an eddy current flowing in the conductive film by applying a high frequency.
[0035]
Preferably, the sensor 4B that detects the separation distance between the conductive film 2 and the sensor 3 is a displacement sensor such as a capacitance type, an ultrasonic type, a laser type, or a photoelectric type. The means for calculating the surface resistance of the conductive film calculates the surface resistance of the conductive film based on the digital signal.
[0036]
The eddy current is allowed to flow through the conductive film by setting the conductive film at a set interval with the eddy current generator and the eddy current detector facing each other, and sandwiching the conductive film between the eddy current generator and the eddy current detector. There is. For example, by applying a high-frequency voltage to a coil such as a ferrite coil as an eddy current generator, the coil is brought close to the conductive film, or the conductive film is sandwiched between the coils, thereby causing an eddy current due to high-frequency inductive coupling to flow through the conductive film. .
[0037]
When this high frequency voltage is made constant, the eddy current flowing in the conductive film and the surface resistance of the conductive film are inversely proportional (inversely proportional). Therefore, if a calibration curve (calibration curve) is created in advance for the relationship between eddy current and surface resistance, the surface resistance at the separation distance (reference point) can be obtained.
[0038]
Since the eddy current tends to decrease as the separation distance between the conductive film and the sensor increases in principle, a calibration curve (calibration curve) is created in advance for the relationship between the eddy current and the separation distance. Specifically, the difference from the reference point is calculated from the separation distance obtained by the means for detecting the separation distance between the conductive film and the sensor, and the correction value of the eddy current is calculated from the calibration curve. This correction value is calculated in the direction of subtraction when the separation distance between the conductive film and the sensor is smaller than the reference point, and in the direction of addition when the separation distance between the conductive film and the sensor is larger than the reference point. To do. Thus, the surface resistance of the conductive film can be accurately calculated at an arbitrary point of the separation distance between the conductive film and the sensor. The calculation of the surface resistance of the conductive film is continuously performed in the manufacturing process of the conductive film by a computer calculation cycle.
[0039]
In addition, the eddy current, in principle, has a temperature characteristic of the magnetic permeability of the coil serving as the eddy current generation unit or the eddy current detection unit. There is a positive correlation between eddy current and magnetic permeability, but there are both positive and negative temperature characteristics of magnetic permeability depending on the type of coil material. That is, there are a positive characteristic in which the magnetic permeability increases with an increase in temperature and a negative characteristic in which the magnetic permeability decreases with an increase in temperature.
[0040]
Therefore, if the detection result of the temperature detector deviates from the reference temperature, the calculation means calculates the increase / decrease amount of the eddy current due to the deviation from the reference temperature according to the temperature characteristics of the selected coil material. At the same time, a correction is made to subtract or add the increase / decrease amount of the eddy current from the detection result of the eddy current detector, and the surface resistance is calculated based on the corrected value of the eddy current.
[0041]
In this case, it is important to prepare a calibration curve (calibration curve) in advance for the relationship between the temperature fluctuation amount and the eddy current correction amount. Thus, since the surface resistance of the conductive film is calculated based on the calibration curve prepared in advance, even if the temperature of the eddy current generating portion varies, it is difficult to cause an error in the measured value of the surface resistance of the conductive film.
[0042]
In addition, eddy current sensors, temperature sensors and Separation distance By arranging a plurality of eddy current type surface resistance meters integrated with the sensor in the width direction of the conductive film manufacturing process, the process width is wide and the temperature distribution (temperature unevenness) in the width direction is reduced. Even so, the surface resistance in the width direction can be accurately measured. In addition, as a method of showing the same effect as described above, there is provided a driving means that can provide one eddy current type surface resistance meter in the width direction of the conductive film manufacturing process, and load and scan them in the width direction. The method of providing is mentioned.
[0043]
The eddy current sensor 3, the temperature sensor 4A, and the separation distance sensor 4B are connected to the sensor amplifier 6 through the sensor cable 5, and display the measurement result of the CRT 8 that displays the measurement result of the surface resistance of the conductive film. An output printer 9 and an alarm device 10 for notifying the operator that the measured surface resistance is out of the specified range or abnormality are provided.
[0044]
The sensor amplifier 6 includes a high-frequency oscillator, a first A / D converter that converts an analog signal of eddy current into a digital signal, and a second A / D converter that converts the analog signal corresponding to the temperature into a digital signal. And are provided.
[0045]
The computer 7 performs data processing based on the digital signals obtained by the first and second A / D converters, and if the detection result of the temperature sensor 4 deviates from the reference temperature, the computer 7 deviates from the reference temperature. The amount of increase / decrease in the eddy current due to the eddy current is calculated, and the amount of increase / decrease in the eddy current is corrected or subtracted from the detection result of the eddy current detection unit 3B. Based on the corrected value of the eddy current, Calculate the surface resistance.
[0046]
In the manufacturing process of the conductive film 2, a plurality of eddy current surface resistance meters in which the temperature sensor and the separation distance sensor are integrated are arranged in the width direction of the conductive film 2, or one eddy current surface resistance meter. The trend of the surface resistance distribution in the conductive film 2 of the transparent conductive film roll in the width direction and the longitudinal direction (change with time) is loaded on the appropriate driving means and scanned in the width direction of the conductive film 2. It can ask for.
[0047]
Next, the operation of the eddy current surface resistance meter will be described.
(1) The eddy current sensor 3, the temperature sensor 4 A, and the separation distance in a state where the eddy current generator 3 A faces the conductive film 2 on the base material 1 with a set interval of several mm or sandwiches the base material 1. The sensor 4B is arranged.
[0048]
(2) A high frequency is applied from the sensor amplifier 6 to the eddy current generator 3A of the eddy current sensor 3, and an eddy current is generated in the conductive film 2 by high frequency inductive coupling.
[0049]
(3) If the applied high frequency voltage is controlled to be constant, the eddy current flowing in the conductive film 2 and the surface resistance of the conductive film 2 are inversely proportional (inversely proportional). Therefore, as shown in FIG. 2, by creating a calibration curve (calibration curve) for the relationship between eddy current and surface resistance in advance, the conductive film 2 and the eddy current generator 3A are spaced apart from each other by the set interval. The surface resistance of the unknown conductive film 2 at the reference temperature of the state can be obtained.
[0050]
(4) The eddy current tends to increase if the temperature characteristics of the coil material have positive characteristics, and the surface resistance tends to decrease. Therefore, the detection result of the eddy current detection unit 3B is corrected based on a calibration curve (calibration curve) regarding the relationship between the surface resistance and the temperature prepared in advance as shown in FIG.
[0051]
(5) Since the eddy current tends to decrease in surface resistance as the separation distance between the eddy current sensor and the conductive film increases, the relationship between the surface resistance and the separation distance shown in FIG. The calculation result obtained in the above (4) is corrected based on the calibration curve (calibration curve).
[0052]
The surface resistance of the conductive film 2 displayed by the computer 7 is displayed on the CRT 6 by arbitrary creation software, data processing is performed as measurement values and graphs, and the surface resistance is continuously measured inline. Further, it prints out to the printer 9 as necessary.
[0053]
The calculation of the surface resistance of the conductive film 2 can be continuously performed in the manufacturing process of the conductive film 2 by the calculation cycle of the computer 7.
[0054]
In addition, by feeding back the measurement result of the surface resistance to the alarm device 10 and the manufacturing process, the surface resistance can be controlled when manufacturing the transparent conductive plastic film roll, and the quality improvement and productivity in the manufacturing process can be controlled. Improvements can be made.
[0055]
Furthermore, by providing the eddy current sensor 3, the temperature sensor 4A, and the separation distance sensor 4B integrally, eddy current and temperature can be measured at substantially the same point, and the measurement accuracy can be improved.
[0056]
The transparent conductive film roll of the present invention is cut into a size of about 300 to 800 mm in width and about 10 to 1000 m in length by a slitter, and then subjected to processing such as silver paste printing or dielectric printing on the film, so that the touch panel or electro Used as transparent electrode for luminescence panel.
[0057]
FIG. 11 shows an example of an analog touch panel for pen input using a transparent conductive film obtained by cutting the transparent conductive film roll of the present invention. In a touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive film are arranged via a spacer so that the transparent conductive films face each other, the transparent obtained by cutting the transparent conductive film roll of the present invention on one panel plate A conductive film is used.
[0058]
When characters or figures are input to the touch panel with a pen, the opposing transparent conductive films come into contact with each other by pressing from the pen and are electrically turned on, and the position of the pen on the touch panel can be detected. it can. By detecting the pen position continuously and accurately, characters can be recognized from the pen trajectory.
[0059]
At this time, when the transparent conductive film obtained by cutting the transparent conductive film roll of the present invention is used for the panel plate on the pen contact side, a substantially uniform surface resistance is obtained in both the longitudinal direction and the width direction. Regardless of which part of the conductive film roll is cut and used, a stable touch panel with a small recognition deviation rate of characters and figures can be obtained.
[0060]
Moreover, the surface which has not formed the electrically conductive film of the transparent conductive film using the transparent conductive film obtained by cutting the transparent conductive film roll of this invention for both panels in the touch panel for analog type pen input. The transparent conductive laminated sheet used for the fixed electrode of the touch panel is obtained by laminating with a transparent resin sheet via an adhesive. That is, by changing the fixed electrode from glass to resin, it is possible to produce a touch panel that is lightweight and difficult to break by impact.
[0061]
The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited as long as it has transparency, but for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, and the like are suitable. The thickness of the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but it is usually desirable to set it in the range of 1 to 100 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive is less than 1 μm, it is difficult to obtain adhesiveness having no practical problem, and a thickness exceeding 100 μm is not preferable from the viewpoint of productivity.
[0062]
The transparent resin sheet to be bonded via this pressure-sensitive adhesive is used for imparting mechanical strength equivalent to that of glass, and the thickness is preferably in the range of 0.05 to 5 mm. When the thickness of the transparent resin sheet is less than 0.05 mm, the mechanical strength is insufficient as compared with glass. On the other hand, when the thickness exceeds 5 mm, it is too thick to be used for a touch panel. Moreover, the material similar to the said transparent plastic film can be used for the material of this transparent resin sheet.
[0063]
【Example】
EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to the Example shown below naturally. Moreover, the characteristic of the transparent conductive film roll and touch panel obtained by the present Example was evaluated by the following method.
[0064]
(1) Surface resistance of transparent conductive film
The surface resistance of the transparent conductive film is measured by a four-probe method according to JIS-K7194 at a pitch of 10 m at a central portion in the width direction of the slit roll of the transparent conductive film and a position of 200 mm from the center to the left and right. It measured using the surface resistance measuring device (Mitsubishi Yuka Co., Ltd. make, Lotest AMCP-T400).
[0065]
That is, in one slit roll, the surface resistance at 33 points (3 points in the width direction × 11 points in the longitudinal direction) was measured, and among these 33 measured values, the maximum value was Rmax and the minimum value was Rmin. Using this value, (Rmax−Rmin) / (Rmax + Rmin) was calculated. This calculation was performed for all 16 slit rolls.
[0066]
(2) Touch panel figure recognition rate
On the touch panel produced as described above, a circle with a diameter of 40 mm was written at five locations using an XY plotter (DXY-1150A, manufactured by Roland Corporation). The pen was made of polyacetal having a tip of 0.8 mmΦ, and the pen load was 0.6 N. In order to read the signal from the silver paste and evaluate whether the circle is correctly recognized, when the length of the long axis of the recognized mark is r1 and the diameter of the written circle is r0 = 40 mm, As the displacement of the recognized figure, (| r1-r0 | / r0) × 100 was calculated as the figure recognition deviation rate (%). Calculation was performed at five writing locations, and the largest deviation rate was defined as the figure recognition deviation rate of the touch panel.
[0067]
Example 1
Using a winding type sputtering apparatus equipped with an eddy current type surface resistance meter in which the temperature sensor and the separation distance sensor shown in FIG. 1 are integrated, an ITO target (containing 10% by mass of tin oxide, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) Was used. In addition, the eddy current type surface resistance meter was disposed at a total of three locations, a central portion in the film width direction, and a position 500 mm away from the center. A PET film roll (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a width of 1300 mm, a length of 850 m, and a thickness of 188 μm and having an adhesion modified layer on one side was unwound as a substrate. Next, a transparent conductive film was formed on the adhesion modified layer surface of the PET film.
[0068]
The film forming conditions for the transparent conductive film were a pressure during sputtering of 0.4 Pa, an Ar flow rate of 200 sccm, and an oxygen flow rate of 3 sccm. The target power input is 3 W / cm using RPG100 manufactured by Japan NI ² Was applied. At this time, the occurrence of abnormal discharge was suppressed by applying a positive voltage pulse having a pulse width of 2 μsec and a pulse period of 100 kHz.
[0069]
In addition, the temperature dependence and the separation distance dependence of the eddy current sensor were measured in advance, and a calibration curve was created. While continuously monitoring the measurement results of the eddy current surface resistance meter, the film feed rate and the oxygen flow rate were adjusted so that the surface resistance was centered at 250 Ω / □ from the calibration curve. The film thickness of the transparent conductive film at the time of manufacturing the transparent conductive film roll was 22 to 27 nm. Also, when manufacturing a transparent conductive film roll, the surface resistance value of the conductive film at the center in the width direction, the position 500 mm from the center to the left, and the position 500 mm from the center to the right is output for 100 m at a pitch of 10 m in the longitudinal direction. did. The measurement results of the eddy current type surface resistance meter are shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.03.
[0070]
The obtained transparent conductive film roll was slit to a width of 600 mm and a length of 100 m to prepare 16 slit rolls. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film roll.
[0071]
The transparent conductive film was cut into a rectangle of 200 mm × 300 mm from the transparent conductive film slit roll, used as one panel plate, and silver paste was printed on both ends (200 mm long sides). As the other panel plate, a transparent conductive glass (Nihon Soda, S500) made of an indium-tin composite oxide thin film (tin oxide content: 10 mass%) having a thickness of 20 nm by a plasma CVD method on a glass substrate is used. After cutting this into a 200 mm × 300 mm rectangle, a silver paste was printed on both sides of 300 mm length. The two panel plates were arranged via epoxy beads having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive film faced to prepare a touch panel. A cross-sectional view of the obtained touch panel is shown in FIG. The evaluation results of the touch panel are shown in Table 2 and FIG.
[0072]
Example 2
A PET film (Toyobo Co., Ltd., HC101) provided with a clear hard coat layer having a thickness of 192 μm on one side was used as the plastic film. A transparent conductive film roll and a touch panel were obtained in the same manner as in Example 1 except that a transparent conductive film was formed on the opposite surface of the hard coat layer. The obtained results are shown in Tables 1 and 2. As in Example 1, when manufacturing a transparent conductive film roll, the surface resistance value of the conductive film at the center part in the width direction, the position 500 mm from the center to the left, and the position 500 mm from the center to the right is 10 m pitch in the longitudinal direction. Output 100m. The measurement result of the eddy current type surface resistance meter is shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.09.
[0073]
Example 3
Using a mixed solvent of toluene / MEK (8/2: mass ratio), a photopolymerization initiator-containing acrylic resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam EXF-01J) has a solid content concentration of 50% by mass. The mixture was stirred and dissolved uniformly to prepare a coating solution A.
[0074]
A PET film roll (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a width of 1300 mm, a length of 850 m, and a thickness of 188 μm and having an adhesion modified layer on one side is unwound so that the coating liquid A has a thickness of 5 μm. The film was applied to the adhesion-modified layer of the film with a Meyer bar and dried at 80 ° C. for 1 minute. Next, UV irradiation is performed using an ultraviolet irradiation device (UB042-5AM-W, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) (light quantity: 300 mJ / cm). ² And the coating film was cured. Furthermore, the heat processing for 1 minute was performed at 180 degreeC, the volatile component was reduced, and the PET film roll which has a hardened | cured material layer on one side was wound up, and it was set as the base material.
[0075]
A transparent conductive film roll and a touch panel were obtained in the same manner as in Example 1 except that a PET film roll having a cured product layer on one side was used as a substrate and a transparent conductive film was formed on the cured product layer surface. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.
[0076]
Further, in the same manner as in Example 1, when the transparent conductive film roll was manufactured, the surface resistance value of the conductive film at the center in the width direction, the position 500 mm from the center to the left, and the position 500 mm from the center to the right in the longitudinal direction. Outputs 100m at 10m pitch. The measurement results of the eddy current type surface resistance meter are shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.02.
[0077]
Example 4
In Example 1, a tin-antimony composite oxide (ATO) target (containing 5% by mass of antimony oxide, manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.) was used in place of the ITO target, and the oxygen flow rate was changed from 3 sccm to 5 sccm. The film feed rate and oxygen flow rate were adjusted so that the surface resistance of the film was centered at 1000Ω / □. Except this, it carried out similarly to Example 1, and obtained the transparent conductive film roll and the touch panel. The obtained results are shown in Tables 1 and 2. Moreover, the film thickness of the transparent conductive film at the time of transparent conductive film roll manufacture was 95-110 nm.
[0078]
Further, in the same manner as in Example 1, when the transparent conductive film roll was manufactured, the surface resistance value of the conductive film at the center in the width direction, the position 500 mm from the center to the left, and the position 500 mm from the center to the right in the longitudinal direction. Outputs 100m at 10m pitch. The measurement results of the eddy current type surface resistance meter are shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.10.
[0079]
Example 5
In the manufacturing process of the conductive film of Example 1, three eddy current type surface resistance meters in which the temperature sensor and the separation distance sensor were integrated were fixed in the width direction at isolated positions on the conductive film of the transparent conductive film. Instead of placing one, the eddy current type surface resistance meter is continuously scanned in the width direction of the conductive film, while the central portion in the width direction of the transparent conductive film, a total of three positions located 500 mm left and right from the center. A transparent conductive film roll and a touch panel were obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface resistance of the conductive film was measured. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.
[0080]
As in Example 1, during the production of the transparent conductive film roll, the surface resistance value of the conductive film at the central portion in the width direction, at a position of 500 mm from the center to the left, and at a position of 500 mm from the center to the right, in the longitudinal direction. Outputs 100m at 10m pitch. The measurement results of the eddy current type surface resistance meter are shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.03.
[0081]
Comparative Example 1
Example 1 except that an eddy current type surface resistance meter (installed in a total of three positions at a distance of 500 mm from the center to the center in the film width direction) without a temperature sensor and a separation sensor was used. . The obtained results are shown in Table 1, Table 2, and FIG.
[0082]
Similarly to Example 1, during the production of the transparent conductive film roll, the surface resistance value of the conductive film at the center in the width direction, at a position of 500 mm from the center to the left, and at a position of 500 mm from the center to the right, in the longitudinal direction. Outputs 100m at 10m pitch. The measurement result of the eddy current type surface resistance meter is shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.22.
[0083]
Comparative Example 2
Example 1 was the same as Example 1 except that a monitor for calculating the surface resistance on the film from the resistance value between the two insulating free rolls was used instead of the eddy current type surface resistance meter. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.
[0084]
Similarly to Example 1, during the production of the transparent conductive film roll, the surface resistance value of the conductive film at the center in the width direction, at a position of 500 mm from the center to the left, and at a position of 500 mm from the center to the right, in the longitudinal direction. Outputs 100m at 10m pitch. The measurement result of the eddy current type surface resistance meter is shown in FIG. The distribution uniformity D of the surface resistance of the conductive film was 0.33.
[0085]
[Table 1]

[0086]
[Table 2]

[0087]
From the above results, the following can be said.
In Examples 1 to 5, the surface resistance distribution of the transparent conductive film in the slit roll of the transparent conductive film is uniform in both the longitudinal direction and the width direction. For this reason, for example, the touch panel produced from the slit roll of the transparent conductive film of Example 1 also correctly recognizes the input figure.
[0088]
In contrast, Comparative Example 1 has insufficient uniformity in the longitudinal direction of the surface resistance distribution of the transparent conductive film, and Comparative Example 2 has insufficient uniformity in the width direction. Therefore, the touch panel produced from the slit roll of the transparent conductive film, for example, has a large figure recognition deviation rate and is not suitable as a touch panel.
[0089]
【The invention's effect】
A transparent conductive film roll having uniform surface resistance and other qualities in the longitudinal direction and width direction is obtained, and the performance stability is excellent, for example, the recognition deviation rate of characters and figures of the final product such as a touch panel is reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration of a non-contact type surface resistance measuring apparatus.
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a calibration curve (calibration curve) for the relationship between eddy current and surface resistance.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a calibration curve (calibration curve) for the relationship between temperature and surface resistance.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a calibration curve (calibration curve) for the relationship between eddy current and separation distance.
5 is an explanatory diagram showing a distribution of surface resistance in the slit roll in Example 1. FIG.
6 is an explanatory diagram showing a distribution of surface resistance in the slit roll in Example 2. FIG.
7 is an explanatory diagram showing a distribution of surface resistance in a slit roll in Example 3. FIG.
8 is an explanatory diagram showing a distribution of surface resistance in the slit roll in Example 4. FIG.
9 is an explanatory view showing a distribution of surface resistance in the slit roll in Comparative Example 1. FIG.
10 is an explanatory diagram showing a distribution of surface resistance in a slit roll in Comparative Example 2. FIG.
FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating an output shape of the touch panel according to the first embodiment.
12 is an explanatory diagram showing an output shape of the touch panel of Comparative Example 1. FIG.
13 is a cross-sectional view of the touch panel of Example 1. FIG.
14 is an explanatory view showing a distribution of surface resistance in the slit roll in Example 5. FIG.
[Explanation of symbols]
1 Base material
2 Conductive film
3A Eddy current generator
3B Eddy current detector
4A temperature sensor
4B Separation distance sensor
5 Sensor cable
6 Sensor amplifier
7 Computer
8 CRT
9 Printer
10 Alarm device
11 Communication cable
12 CRT cable
13 Printer cable
14 Control cable
15 Touch panel recognition figures
16 Transparent conductive film
17 Plastic film
18 Transparent conductive film
19 Glass plate
20 beads

Claims

プラスチックフィルムロールからプラスチック基材フィルムを巻き出す工程、巻き出した基材フィルムの少なくとも片面に、巻き取り式成膜装置を用いて透明導電膜を形成させて透明導電性フィルムを製造する工程、得られた透明導電性フィルムをロール状に巻き取る工程、をこの順に含む、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍの透明導電性フィルムロールを製造する方法であって、
前記巻き取り式成膜装置は、該装置内に非接触式表面抵抗測定装置を有しており、
基材フィルム上に形成された透明導電膜の表面抵抗を、前記フィルムの幅方向の複数位置でインラインでフィルム長手方向に連続的に測定し、測定値をフィードバックすることによって、表面抵抗の分布が一定となるように、フィルムの成膜条件を調整することを特徴とする透明導電性フィルムロールの製造方法。A step of unwinding a plastic substrate film from a plastic film roll, a step of producing a transparent conductive film by forming a transparent conductive film on at least one side of the unwound substrate film using a roll-up film forming device, and obtaining A method of manufacturing a transparent conductive film roll having a width of 300 to 1300 mm and a length of 10 to 1000 m, including a step of winding the obtained transparent conductive film into a roll, in this order,
The winding film forming apparatus has a non-contact type surface resistance measuring device in the apparatus,
By continuously measuring the surface resistance of the transparent conductive film formed on the base film in the film longitudinal direction in-line at a plurality of positions in the width direction of the film and feeding back the measured value, the distribution of the surface resistance is A method for producing a transparent conductive film roll, wherein film forming conditions are adjusted so as to be constant.

上記非接触式表面抵抗測定装置は、透明導電膜に設定間隔を空けて対向させてその導電膜に渦電流を流す渦電流発生部および前記導電膜に流れる渦電流を前記導電膜とは離間した状態で検出する渦電流検出部とからなる渦電流センサーと、渦電流センサーの温度を検出する温度センサーと、渦電流センサーと導電膜との離隔距離センサーと、渦電流発生部に印加する電圧を一定にした状態で、前記渦電流検出部の検出結果および前記温度センサーの検出結果に基づき、前記導電膜の表面抵抗を算出する算出手段と、を備え、
前記算出手段は、前記温度センサーの検出結果が基準温度から外れた時に、前記基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を前記渦電流検出部の検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、前記導電膜の表面抵抗を算出する請求項１に記載の透明導電性フィルムロールの製造方法。The non-contact type surface resistance measuring device is opposed to a transparent conductive film with a set interval, and an eddy current generating part for supplying an eddy current to the conductive film and an eddy current flowing to the conductive film are separated from the conductive film. An eddy current sensor comprising an eddy current detector for detecting the state, a temperature sensor for detecting the temperature of the eddy current sensor, a distance sensor between the eddy current sensor and the conductive film, and a voltage applied to the eddy current generator. A calculation means for calculating a surface resistance of the conductive film based on a detection result of the eddy current detection unit and a detection result of the temperature sensor in a fixed state;
When the detection result of the temperature sensor deviates from the reference temperature, the calculation means obtains an increase / decrease amount of the eddy current resulting from the deviation from the reference temperature, and calculates the increase / decrease amount of the eddy current. The manufacturing method of the transparent conductive film roll of Claim 1 which correct | amends or adds to the detection result of this, and calculates the surface resistance of the said electrically conductive film based on the value of the corrected eddy current.