JP3889743B2 - 荷電ビーム描画方法及び描画装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係わる電子ビーム描画装置を示す概略構成図である。
第1の実施形態のようにブランキング状態にしてビーム位置ずれを補正する場合でも、若干の漏れ電子或いは散乱電子がブランキングアパーチャ22の開口を通って試料面の上に到達するおそれがある。この漏れ電子或いは散乱電子は、ブランキング偏向器21を動作しない場合に電子ビームが照射される位置の周辺に照射される。この量は僅かであるが、測定を行う時間は描画時にレジストを感光させる時間に比べると遥かに長いため、試料面に高感度レジストが塗布されている場合にはレジストを若干感光させることが起こり得る。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。実施形態では、成形アパーチャにおける開ロの位置ずれ量を求めるためにブランキングアパーチャからの反射電子を検出したが、この代わりに、ブランキングアパーチャヘの流入電流を検出するようにしてもよい。さらに、第2成形アパーチャからの反射電子、又は第2成形アパーチャヘの流入電流を検出するようにしてもよい。
11,12…コンデンサレンズ
13…第1成形アパーチャ
14…投影レンズ
15…第2成形アパーチャ
16…成形偏向器
17…縮小レンズ
18…対物レンズ
19…対物偏向器
21…ブランキング偏向器
22…ブランキングアパーチャ
25…反射電子検出器
31…試料ステージ
32…ウェハ(試料)
33…反射電子検出器
Claims (5)
- 荷電ビームを成形するためにビーム軸方向に離間配置された第1,第2の成形アパーチャ及び第1,第2の成形アパーチャ間に配置された成形偏向器と、第1,第2の成形アパーチャ及び成形偏向器により成形された成形ビームを試料面上の所望の位置に照射する対物偏向器と、第1の成形アパーチャの上流側に設けられたブランキング偏向器と、第2の成形アパーチャの下流側に設けられ、前記ブランキング偏向器の駆動により前記成形ビームを遮断するブランキングアパーチャと、第2の成形アパーチャ若しくは前記ブランキングアパーチャヘの流入電流、又は第2の成形アパーチャ若しくは前記ブランキングアパーチャからの反射粒子を検出する検出手段と、
を備えた荷電ビーム描画装置を用い、試料面上に所望パターンを描画する荷電ビーム描画方法であって、
描画の途中で描画を一時的に停止し、前記ブランキング偏向器を駆動して成形ビームを試料面上から遮断した状態で、第1の成形アパーチャで成形された成形ビームを第2の成形アパーチャ上で走査させることにより、前記検出手段で得られる信号から第2の成形アパーチャの所定の開口の位置ずれ量を測定し、該測定された位置ずれ量に応じて前記対物偏向器の偏向量を補正し、次いで前記ブランキング偏向器の駆動を停止した後に描画を再開することを特徴とする荷電ビーム描画方法。 - 前記測定された位置ずれ量に応じて、前記成形偏向器の偏向量を補正することを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画方法。
- 前記位置ずれ量の測定を行う間、試料面上の成形アパーチャの像の位置が常時移動するように前記対物偏向器を駆動することを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画方法。
- 荷電ビーム源から発生された荷電ビームを成形する第1の成形アパーチャと、
第1の成形アパーチャを通して成形された第1の成形ビームが投影される第2の成形アパーチャと、
第1及び第2の成形アパーチャ間に配置され、第2の成形アパーチャ上における第1の成形ビームの投影位置を可変する成形偏向器と、
第2の成形アパーチャを通して成形された第2の成形ビームを試料面上の所望の位置に照射する対物偏向器と、
第1の成形アパーチャの上流側に設けられたブランキング偏向器と、
第2の成形アパーチャの下流側に設けられ、前記ブランキング偏向器の駆動により第2の成形ビームを遮断するブランキングアパーチャと、
第2の成形アパーチャ若しくは前記ブランキングアパーチャヘの流入電流、又は第2の成形アパーチャ若しくは前記ブランキングアパーチャからの反射粒子を検出する検出手段と、
前記ブランキング偏向器を駆動して第2の成形ビームを試料面上から遮断した状態において、第1の成形ビームを第2の成形アパーチャ上で走査させることにより前記検出手段で得られる信号から第2の成形アパーチャの所定の開口の位置ずれ量を測定する位置ずれ測定手段と、
前記測定された位置ずれ量に応じて前記対物偏向器の偏向量を補正する補正手段と、
を具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。 - 前記測定された位置ずれ量に応じて、前記成形偏向器の偏向量を補正する補正手段を設けたことを特徴とする請求項4記載の荷電ビーム描画装置。
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