JP3876665B2 - 光照射式加熱処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
半導体ウエハ(以下ウエハ)を、成膜、拡散、アニール等のために、急速加熱・高温保持・急速冷却処理する、光照射式加熱処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造工程における光照射式加熱処理は、成膜、拡散、アニールなど、広い範囲にわたって行われている。いずれの処理も、ウエハを高温に加熱処理するものである。この加熱処理に光照射式加熱処理装置を使用すれば、ウエハを急速に加熱することができ、1000°C以上にまで数秒間〜数十秒で昇温させることができる。そして、光照射を停止すれば、急速に冷却することができる。
しかし、ウエハを加熱する際にウエハに温度分布の不均一が生じると、ウエハにスリップと呼ばれる現象、即ち結晶転移の欠陥が発生し、不良品となる恐れがある。そこで、光照射式加熱処理装置を用いてウエハを加熱処理する場合に、ウエハの温度分布が均一になるように、加熱・高温保持・冷却する必要がある。
また、ウエハ上に成膜するために加熱する場合、均一な厚さで膜を形成するためには、高い面内照度均一度でウエハを加熱しなければならない。
【0003】
図9に、従来の光加熱処理装置の断面図を示す。
光源部1には、図10に示すような発光管(内部に設けられたフィラメントが発光する部分)が円環状であるフィラメントランプL2〜L10と、その中心部にはシングルエンドタイプ(一端封止型)のランプL1が配されている。チャンバ2内には保持台3が設けられ、加熱処理される半導体ウエハW等のワークが載置される。また、ランプL2〜L10とチャンバ2の間は例えば石英窓4等により区画される。
図11に、光源部をワーク(ウエハ)側から見た図を示す。円環の直径が異なる複数個のランプが、同心円状に配置されている。
なお、用いるランプは、図12のように、発光管が円弧状のものを2本またはそれ以上組み合わせて円環状にしてもよい。図13に、発光管が円弧状のランプを組み合せて配置した光源部を、ワーク(ウエハ)側から見た図を示す。
光源部の中心部、即ち、配置される環状または円弧状ランプ(以下、両者を合わせ環状ランプと呼ぶ)の同心円の中心は、環状ランプ封体の曲げ加工の限界により、ランプのない状態になる。
そのままでは、ワークの中心部に照射される光の照度が低くなるので、図9に示すように、シングルエンドタイプ(一端封止型)のランプL1を該中心部に設け、照度の低下を補償している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
中心に設けたシングルエンドランプL1の放射照度は、その周辺の環状ランプL2等の放射照度と同等でなければならない。
しかし、シングルエンド型のランプは、環状のランプに比べ、フィラメントの径が細い。したがって、シングルエンドランプと環状ランプとを同じ放射照度にするため、同等の電力を供給すると、シングルエンドランプは環状ランプに比べてフィラメントが早く切れる。即ち寿命が短くなる。
シングルエンドランプと環状ランプとで、フィラメント径が異なる理由は次の通りである。
図14(a)に示すように、シングルエンドランプは、封体20内でフィラメント21を折り返す構造である。折り返したフィラメント21どうしが接触してショートしないように、フィラメント21の径を細くする。なお、環状ランプの場合、前記図10、図12に示したように、フィラメントは折り返さないので、図14(b)に示すようにフィラメント径を太くすることができる。
ランプの寿命(フィラメントが切れるまでの点灯時間)は、例えば、環状ランプの寿命が約2000時間であるのに対し、シングルエンドランプは約500時間である。
【0005】
中心部に設けたシングルエンドランプL1の寿命が他の環状ランプよりも短いので、シングルエンドランプL1の交換のためだけに、頻繁に(約500時間毎に)装置を停止しなければならない。
装置の頻繁な停止をなくすために、シングルエンドランプの使用をやめたいが、このランプをなくすと、照射面における中心部の照度が小さくなり、照度分布が悪くなるので、ウエハ全面を均一に加熱することができなくなる。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、光源部の中心にシングルエンドランプを設けずに、均一な照度を得ることができる、光照射式加熱処理装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を本発明においては、次のようにして解決する。
(1)前記光照射式加熱処理装置において、シングルエンドランプを設ける代わりに、光源部の中心部に、最も内側に設けられたフイラメントランプからの光をワークの中心部に向けて反射する、ワーク方向に凸の反射ミラーを設ける。
これにより、一番内側の環状ランプから照射される光を、上記ミラーにより、ワークの中心部方向に反射し、ワーク面での照度の落ちこみを補償することができる。
また、最も内側に設けられたフイラメントランプの直径をL、該フイラメントランプの中心からワークまでの距離をdとしたとき、d<2Lとする。
上記のようにd<2Lとすることにより、円錐形状のミラーによる照度補償効果を得ることができる。特に、d≦Lとすれば、ワークの中心部の温度を所望の温度に近くすることができる。
(2)上記反射ミラーを、円錐形状とする。これにより、ランプからの光を均等にワーク面に照射することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1に本発明の実施例の光照射式加熱処理装置の断面図を示す。
同図に示すように、光源部1には、環状のランプL2〜L10が前記図11、図13に示したように同心円状に配置されている。環状ランプL2〜L10の中心部には、ワーク側に凸のミラー1bが設けられ、ランプL2〜L10の背面にはミラー1aが設けられている。チャンバ2内には保持台3が設けられ、加熱処理される半導体ウエハW等のワークが載置される。
本実施例においては、上記のように環状ランプL2〜L10の中心部に、ワーク側に凸のミラーを設けているので、中心部にシングルエンドランプを設けることなく、照射面における中心部の照度の低下を小さくすることができた。
【0008】
上記のように中心部にミラー1bを設けた場合の照射面の中心部の照度がどのようになるかを検証した。以下、検証結果について説明する。
図2に検証結果を示す。図2は、図9に示した従来の装置(中心にシングルエンドランプあり)において、ウエハ面における照度を、中心から100mmの位置まで計算してこの値を100%とし、以下の(1) 〜(3) の各条件におけるウエハ面の照度を示したものである。
(1) 図9に示した装置において、シングルエンドランプをなくした場合(ランプのなくなった部分は空洞)。
(2) 図3に示すように、ランプがなくなった空洞部を平面ミラー1cに置き換えた場合
(3) 図4に示すようにランプがなくなった空洞部に、図3の平面ミラー1cに代えて円錐形状のミラー1bを設けた場合における照度の計算値を示したものである。
なお、この計算においては、環状ランプL2,L3,L4の照度を考慮している。
【0009】
従来の装置から、中心のランプを取り外し、それ以外は同じ条件で照度を計算した結果を図2の三角印で示す(上記(1) の場合)。この場合、ランプのなくなったミラー面は空洞である。中心から100mm、80mmの位置において照度に変化はない。しかし、60mmの位置において、照度は96%に低下し、中心では79%に低下した。
図3に示すように、ランプがなくなった空洞部を平面ミラーで覆い、それ以外は同じ条件で照度を計算した結果を図2の四角形で示す(上記(2) の場合)。中心から100mm〜40mmの位置において、従来装置の場合と比較して照度に変化はなかった。20mmの位置において、照度は95%に低下し、中心では89%に低下した。
図4に示すように、図3の平面ミラー1cに代えて円錐形状のミラー1bを設け、それ以外は同じ条件で照度を計算した結果を丸印で示す(上記(3) の場合)。なお、円錐の斜面の角度は、ランプL2からの光を、ワークの中心に向けて反射する角度に設定した。図3の場合と同様、中心から100mm〜40mmの位置において、従来装置の場合と比較して照度は変化しなかった。20mmの位置において、照度は97%に低下し、中心では94%に低下した。
【0010】
図2から明らかなように、図4の場合には、中心部の照度低下を10%以内に抑えることができた。照度の低下が10%以内であれば、内側の環状ランプL2やL3などの電力を制御し、放射照度を変化させる(バランス調整)ことにより、照度分布の均一度を従来と同等程度に補正することが可能である。
なお、図4においては、円錐形状の反射ミラー1bの反射面と、ランプを収めるミラーの溝とは連続していないが、図5(a)のように連続的に構成してもよい。また、図1に示したワークとランプとの間に設ける石英板に円錐状ミラーが接触しないようにするため、図5(b)に示すように円錐状ミラーの先端を切り取ってもよい。なお、装置設計上の制約がなければ、完全な円錐形とした方が、光の反射効率がよいので好ましい。
なお、反射ミラーの形状は、円錐形状に限らない。図6(a)に示すように内側に凹の円錐形状であってもよいし、また図6(b)に示すように反射面を多面体にしてもよい。
【0011】
また、ランプの中心からワークまでの距離が短い程、ワーク側に凸の反射ミラーによるワーク中央部の照度の落ち込みを補償する効果がある。
図7に、ワーク中央部の照度改善率の距離(ランプ中心からワークまでの距離)依存性を示す。
同図において、縦軸は、円錐ミラーを設けたときの、ワーク中央部の照度の改善率である(中心のランプを取り除いた時の、ワークの中央部の照度を1とし、それとの比で表している)。
また、横軸は、ランプの中心からワークまでの距離dである。
図7は、最も内側に設けたランプL2の直径を50mmとしたときに求めたグラフであり、ランプの中心からワークまでの距離dが100mm未満のとき、中心のランプを取り除いたときに比べ、ワーク中央部の照度が改善されていることがわかる。
したがって、図8に示すように、最も内側に設けたランプL2の直径をL(mm)、ランプL2の中心からワークまでの距離をd(mm)とすると、d<2Lの場合、円錐ミラーによる照度補償効果が得られる。
特に、d≦Lの場合、反射ミラーがないと、温度換算にして、1000°Cの設定に対して、ワークの中心部は、20〜30°C低くなる。一方、前記図4のような反射ミラーを設けると、中心部の温度は設定された温度に近くなる。更に、環状ランプL2やL3などの電力を制御し、放射照度を変化させる (バランス調整)ことにより、中心部の温度低下をほぼ解消することができる。
【0012】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)光源の中心部に、最も内側に設けられたフイラメントランプからの光をワークの中心部に向けて反射する、ワーク方向に凸の反射ミラーを設けたので、中心部にシングルエンドランプを設けなくても、照度分布の悪化を防ぐことができる。このため、寿命の短いシングルエンドランプを使用する必要がなく、光加熱装置の停止時間を短くすることができる。
(2)また、上記反射ミラーとして、円錐形状のミラーを使用し、最も内側に設けられたフイラメントランプの直径をL、該フイラメントランプの中心からワークまでの距離をdとしたとき、d<2Lとすることにより、効果的に照度分布の悪化を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の光照射式加熱処理装置の断面構成を示す図である。
【図2】中心部にミラーを設けた場合の照射面の中心部の照度の検証結果を示す図である。
【図3】シングルエンドランプがなくなった空洞部を平面ミラーに置き換えた場合を示す図である。
【図4】シングルエンドランプがなくなった空洞部に円錐形状のミラーを設けた場合を示す図である。
【図5】図4の変形例を示す図である。
【図6】ワーク方向に凸の反射ミラーの他の例を示す図である。
【図7】ワーク中央部の照度改善率の距離依存性を示す図である。
【図8】dとLを示す図である。
【図9】従来の光加熱処理装置の断面構成を示す図である。
【図10】円環状であるフィラメントランプの例を示す図である。
【図11】図10のランプを用いた場合に光源部をワーク側から見た図である。
【図12】円環状であるフィラメントランプを2本用いた場合を示す図である。
【図13】図13のランプを用いた場合に光源部をワーク側から見た図である。
【図14】シングルエンドランプの構成例を示す図である。
【符号の説明】
1 光源部
1a ミラー
1b 円錐形のミラー
1c 平面ミラー
2 チャンバ
3 保持台
4 石英窓
L2〜L10 環状のランプ
W 半導体ウエハ
Claims (2)
- 発光管が円環状または円弧状であり、上記円環または円弧の直径が異なる複数個のフイラメントランプが、同心円状に配置され、該フィラメントランプの背面にはミラーが設けられた光源部を有し、光源部からの光をワークに照射し、ワークを加熱する、光照射式加熱熱処理装置であって、
上記光源部の中心部には、最も内側に設けられたフイラメントランプからの光を、上記ワークの中心部に向けて反射する、ワーク方向に凸の反射ミラーが設けられ、
最も内側に設けられた上記フイラメントランプの直径をL、該フイラメントランプの中心からワークまでの距離をdとしたとき、d<2Lとした
ことを特徴とする光照射式加熱装置。 - 上記反射ミラーは、円錐形状であることを特徴とする請求項1の光照射式加熱処理装置。
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