JP4825023B2 - OPTICAL FILTER FOR DISPLAY, MANUFACTURING METHOD THEREOF, DISPLAY HAVING THE FILTER AND PLASMA DISPLAY PANEL - Google Patents
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本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、その製造方法及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。 The present invention is applicable to various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical filter having various functions such as reflection prevention, near-infrared shielding, electromagnetic wave shielding, and the like, a manufacturing method thereof, and a display including this optical filter, particularly a PDP.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。 In the case of flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays (PDP), EL displays, and CRT displays, it has been known that the light from the outside is reflected on the surface and the internal visual information is difficult to see. Various measures have been taken, such as the installation of an optical film including an antireflection film.
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、ＰＤＰに対しては、導電性を有するＰＤＰ用反射防止フィルム（電磁波シールド性光透過窓材）が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。 In recent years, large-screen displays have become mainstream in displays, and PDPs have become common as next-generation large-screen display devices. However, in this PDP, high-frequency pulse discharge is performed on the light emitting unit for image display, which may cause unnecessary electromagnetic radiation and infrared radiation that may cause malfunction of the infrared remote controller. Thus, various antireflection films for PDP (electromagnetic wave shielding light transmitting window material) having conductivity have been proposed. As the conductive layer of this electromagnetic wave shielding light transmitting window material, for example, (1) a transparent film provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, and (2) a conductive mesh made of a metal wire or conductive fiber in a net shape are provided. Transparent film, (3) a layer of copper foil or the like on the transparent film is etched into a net-like shape, an opening is provided, and (4) a conductive ink is printed on the transparent film in a mesh shape, etc. Are known.
さらに、従来のＰＤＰを初めとする大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムを貼り合わされている。例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。 Furthermore, in a large display such as a conventional PDP, various films such as an antireflection film and a near infrared cut film are bonded together. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-74683) discloses an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive mesh is interposed between two transparent substrates and bonded and integrated with a transparent adhesive resin. Are listed.
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。そのためには、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。 In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, it is necessary to ground (ground) a conductive layer (electromagnetic wave shielding material), for example, a conductive mesh, in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer. There is. For this purpose, an electromagnetic wave shielding material protrudes from between two transparent substrates and is grounded by wrapping around the back side of the light transmitting window material laminate, or is in contact with the electromagnetic wave shielding material between two transparent substrates. Thus, it is necessary to sandwich the conductive adhesive tape. However, in such a method, there is a problem that the above work in the stacking process is complicated.
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。 Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-142406) discloses a laminate in which a single transparent substrate, an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near infrared cut film are laminated and integrated. An electromagnetic wave comprising a body, a conductive pressure-sensitive adhesive tape is attached across the edge and front and back edges of the transparent substrate, and the conductive pressure-sensitive adhesive tape and the edge of the electromagnetic shielding material are attached by a conductive pressure-sensitive adhesive A shielding light-transmitting laminated film is described.
例えば、長尺状のプラスチックフィルムを用いて上記ＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタを製造する場合、近赤外カットフィルム及び反射防止フィルム作製し、これらを電磁波シールド用導電性メッシュを介して積層することにより長尺状の光学フィルタを得ることになり、その後、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断される。このため、このような光学フィルタの裁断面、即ち端面（側面）には、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかない。導電性メッシュも、メッシュ状の断面がほんのわずか覗いているに過ぎない。 For example, when producing an optical filter for a display such as the above-mentioned PDP using a long plastic film, a near-infrared cut film and an antireflection film are produced, and these are laminated via a conductive mesh for electromagnetic wave shielding. Thus, a long optical filter is obtained, and then cut into a rectangular shape in accordance with the shape of the display portion on the entire surface of each display. For this reason, the end faces of all the layers are exposed at the cut surface, that is, the end face (side face) of such an optical filter, but it is naturally only an extremely small area. The conductive mesh also has only a slight peek at the mesh-like cross section.
このようなディスプレイ用光学フィルタを、そのまま用いて、導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために導電層（例えば導電性メッシュ）をＰＤＰ本体に接地（アース）することができれば、極めて高い生産性でアースが容易なディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。 If such an optical filter for display is used as it is and the conductive layer (for example, conductive mesh) can be grounded (grounded) to the PDP body in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer, it is extremely high. An optical filter for display that is easy to ground with productivity can be obtained.
特許文献２に記載されているような光学フィルタでは、フィルタの端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープを接着させる必要があり、その際、粘着テープの撚れや折れが発生し易く、これらを防止するため作業が繁雑になること、また導電性メッシュを端面からはみ出させる必要があるとの問題がある。
In the optical filter as described in
従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has an earth electrode which can be easily attached to the display and can be easily grounded. .
また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。 The present invention also provides an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a grounding electrode which is light and thin, has a good electromagnetic wave shielding property, and is easy to attach to the display and to be easily grounded. With the goal.
さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。 Furthermore, the present invention provides an optical filter suitable for a PDP that can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has a ground electrode that can be easily mounted on a display and is easily grounded. Objective.
また、本発明は、上記ディスプレイ用光学フィルタを有利に得ることができるディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。 Moreover, this invention aims at providing the manufacturing method of the optical filter for displays which can obtain the said optical filter for displays advantageously.
さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。 Furthermore, an object of the present invention is to provide a display in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。 Furthermore, an object of the present invention is to provide a PDP in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.
従って、本発明は、
少なくとも１枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ（透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されていることが好ましい）；
透明フィルムの一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
透明フィルムの一方の表面に導電層及び近赤外線吸収層がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
一方の表面にハードコート層が設けられた透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムが、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向するように配置した状態で接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
２枚の透明フィルム、導電層、及びハードコート層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。
一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、該突出部が少なくとも導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることにより、アースをとりやすい。ディスプレイへの装着が容易となる。
Therefore, the present invention
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
Transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer are laminated,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display (a transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a proximity film), which is exposed and inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion. It is preferable that the infrared absorption layer is laminated so as to form an end face together);
An optical filter for display in which a conductive layer and a hard coat layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface,
The transparent film, the conductive layer hard coat layer, and the near infrared absorption layer are laminated so as to form an end face together,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion;
An optical filter for display in which a conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. hard coat layer is provided and one surface; the exposed and protruding portions of at least a part of the optical filter for display, characterized in that forming the inserted and the electrode portion in contact with the conductive layer Two transparent films, one transparent film and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film via an adhesive layer An optical filter for display that is bonded in a state of being arranged to face each other,
Two transparent films, a conductive layer, and a hard coat layer are laminated together to form an end face,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion;
It is in.
An elongated conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, and a comb-like conductive metal piece is inserted so that the protrusions are at least in contact with the conductive layer to form an electrode portion. This makes it easy to ground. Mounting on the display becomes easy.
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）透明フィルム、導電層、及びハードコート層の形状、或いは透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、端面の少なくとも一部で面一となるように積層されている。特に、透明フィルム、導電層、及びハードコート層の形状、或いは透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、その形状及び面積において同一であり、且つ端面で面一となるように積層されていることが好ましい。
（２）透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形である。一般的なディスプレイ用光学フィルタの形状である。
（３）導電性金属片が、最上層（一般に、ハードコート層又はその上に設けられた低屈折率層）における矩形状表面の、少なくとも対向する２辺の端部領域に、挿入されている。
（４）最上層における矩形状表面の、少なくとも対向する２辺の端部領域に挿入された導電性金属片の最上層における露出部分に、一部が外側に突き出るように長尺状導電性粘着テープが接着されている。アースをとりやすい。ディスプレイへの装着が容易となる。
Preferred embodiments of the optical filter for display of the present invention are as follows.
(1) The shape of the transparent film, the conductive layer, and the hard coat layer, or the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near-infrared absorbing layer are laminated so as to be flush with at least a part of the end face. In particular, the shape of the transparent film, the conductive layer, and the hard coat layer, or the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near-infrared absorbing layer are the same in shape and area, and are flush with the end face. It is preferable that they are laminated.
( 2 ) The shapes of the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near infrared absorption layer are rectangular. It is a shape of a general optical filter for display.
( 3 ) Conductive metal pieces are inserted into end regions of at least two opposing sides of the rectangular surface of the uppermost layer (generally, the hard coat layer or the low refractive index layer provided thereon). .
( 4 ) A long conductive adhesive so that a part of the rectangular surface of the uppermost layer protrudes outward from the exposed portion of the uppermost layer of the conductive metal piece inserted into the end regions of the two opposing sides. The tape is adhered. Easy to ground. Mounting on the display becomes easy.
上記（４）において、最上層における矩形状表面の、少なくとも対向する２辺の端部領域に埋め込まれた導電性金属片の最上層における露出部分が、長尺状の導電性金属板であり、そして該導電性金属板の上に、一部が外側に突き出るように長尺状導電性粘着テープが接着されている。アースをとりやすい。ディスプレイへの装着が容易となる。
（５）上記（４）において、長尺状導電性粘着テープが、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されている。
（６）２枚の透明フィルムを使用するディスプレイ用光学フィルタにおいて、ハードコート層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることが好ましい。また、導電層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることも好ましい。
（７）導電層が、メッシュ状導電層である。優れた電磁シールド性を示す。
（８）ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
（９）近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１０）メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている。優れた透明性が得られる。
（１１）透明フィルムがプラスチックフィルムである。
（１２）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１３）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
In the above ( 4 ), the exposed portion of the uppermost layer of the conductive metal piece embedded in the end region of at least two opposing sides of the rectangular surface of the uppermost layer is a long conductive metal plate, A long conductive adhesive tape is bonded on the conductive metal plate so that a part of the conductive metal plate protrudes outward. Easy to ground. Mounting on the display becomes easy.
( 5 ) In the above ( 4 ), the long conductive adhesive tape is bonded so that the sides and the longitudinal direction of the tape are parallel to each other.
( 6 ) In an optical filter for display using two transparent films, it is preferable that a near-infrared absorbing layer is provided on the entire back surface of the transparent film having a hard coat layer. Moreover, it is also preferable that the near-infrared absorption layer is provided in the whole back surface of the transparent film which has a conductive layer.
( 7 ) The conductive layer is a mesh-like conductive layer. Excellent electromagnetic shielding properties.
( 8 ) A low refractive index layer is further formed on the hard coat layer. Good antireflection properties can be obtained.
( 9 ) The transparent adhesive layer is provided in the surface on the opposite side to the transparent film of a near-infrared absorption layer. Mounting on the display becomes easy.
( 10 ) A hard coat layer is embedded in the mesh gap of the mesh-like conductive layer. Excellent transparency is obtained.
( 11 ) The transparent film is a plastic film.
( 12 ) A release sheet is provided on the transparent adhesive layer. Mounting on the display becomes easy.
( 13 ) A filter for a plasma display panel.
上記本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば以下のようにして有利に得ることができる：
長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層上にその幅方向一杯にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側にその幅方向一杯に近赤外線吸収層を形成することにより、導電層を有する積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に裁断した後、該積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片を、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入して電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法；及び
一方の表面にハードコート層が設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムを、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して配置した状態で接着して積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に裁断した後、該積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片を、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入して電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
The display optical filter of the present invention can be advantageously obtained, for example, as follows:
A conductive layer is formed over the entire width of the long transparent film, and then a hard coat layer is formed over the entire width of the conductive layer, and then close to the full width of the back of the long transparent film. By forming an infrared absorption layer, a laminated body having a conductive layer is formed, and after the laminated body is cut in the width direction , a large number of protrusions are formed on one surface on the end surface of the uppermost layer of the laminated body. A long conductive metal plate having a portion, and a comb-like conductive metal piece is inserted so that a part of the metal piece is exposed on the end surface and at least a part of the protrusion is in contact with the conductive layer. A method of producing an optical filter for display, comprising: forming an electrode portion; and a long transparent film having a hard coat layer provided on one surface; a conductive layer provided on one surface; Another transparent with near infrared absorption layer on the surface of Two transparent films with a film are bonded together in a state where the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film are disposed via an adhesive layer, and a laminate is formed. After cutting in the width direction , a comb-like conductive metal piece is formed on the end surface of the uppermost layer of the laminate with a long conductive metal plate having a number of protrusions on one surface. A method for producing an optical filter for a display, comprising: forming an electrode part by inserting the electrode part so that the part is exposed on the surface of the end part and at least a part of the protruding part is in contact with the conductive layer.
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
Furthermore, the present invention provides
A display characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate; and a plasma characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate It is also on the display panel.
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、製造が容易な光学フィルタにアース電極（電極部）が設けられた生産性に優れたアース電極付き光学フィルタである。例えば、製造が容易な光学フィルタとしては、長尺状のプラスチックフィルム上に、導電層、反射防止層及び近赤外吸収層等を形成して得られる長尺状積層体を裁断して得られるものがあるが、このような積層体（即ち製造が容易な光学フィルタ）に導電性金属片を用いて簡便にアース電極を設けたアース電極付き光学フィルタはこれまで考えられておらず、本発明により初めて達成されたものである。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、連続的製造が容易な光学フィルタに簡便な方法でアース電極を設けた、生産性に優れたアース電極付き光学フィルタということができる。 The optical filter for display according to the present invention is an optical filter with a ground electrode excellent in productivity in which a ground electrode (electrode part) is provided on an optical filter that is easy to manufacture. For example, an optical filter that is easy to manufacture can be obtained by cutting a long laminate obtained by forming a conductive layer, an antireflection layer, a near-infrared absorbing layer, and the like on a long plastic film. However, there has not been proposed an optical filter with a ground electrode in which a ground electrode is simply provided by using a conductive metal piece in such a laminate (that is, an optical filter that can be easily manufactured). Was achieved for the first time. Therefore, the optical filter for display of the present invention can be said to be an optical filter with a ground electrode excellent in productivity, in which a ground electrode is provided by a simple method on an optical filter that is easily manufactured continuously.
特に、透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。 In particular, when the above optical filter is obtained using a single transparent film, the thickness of the optical filter becomes extremely small, and the mass decreases accordingly. It is advantageous.
さらに、アース電極に導電性粘着テープを貼り付け光学フィルタの周囲に電極を設けた場合は、アースが容易に、且つ安定的に行うことができ、ディスプレイへの装着がさらに容易となる。 Further, when a conductive adhesive tape is attached to the ground electrode and an electrode is provided around the optical filter, the grounding can be performed easily and stably, and the mounting on the display is further facilitated.
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。 Therefore, the optical filter for display of the present invention includes a field emission display (FED) including a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, and a surface electric field display (SED). It can be said that the optical filter has various functions such as anti-reflection, near-infrared shielding, and electromagnetic wave shielding for various displays such as).
本発明の電極部（アース電極）が設けられた生産性に優れた電極部付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。なお、図１〜３、図４（１）及び図５、並びにそれらの説明については参考例として記載した。 The optical filter for a display with an electrode part which is provided with the electrode part (earth electrode) of the present invention and is excellent in productivity will be described in detail below. In addition, FIGS. 1-3, FIG. 4 (1) and FIG. 5, and those description were described as a reference example.
（参考例）
ディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の平面図を図１に示す。矩形のディスプレイ用光学フィルタ１１であり、透明フィルム１２の一方の表面に、導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層等の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５（図２参照）が設けられている。図１では反射防止層１７のみ見ることができる。反射防止層１７の端部表面には、棒状の導電性金属片の電極部１８が、その端部が反射防止層１７の表面に露出するように且つ他の部分の一部（例、もう一方の端部）が導電層１３と接触するように挿入、埋め込まれている。これによりアース用の電極部が形成されている。電極部は１個でも良いし、多数設けても良い。
(Reference example)
A plan view of one example of the basic configuration of the optical filter for de Isupurei shown in FIG. An
図１の棒状の導電性金属片１８を分断するように、Ａ−Ａ’方向で切断した概略断面図を図２に示す。図２において、透明フィルム１２の一方の表面に、導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層等の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。そして、棒状の導電性金属片の電極部１８が、挿入され、反射防止層１７の表面から導電層１３を突き抜けて透明粘着剤層１５まで達している。これにより、導電層から電気が確実に表面まで導かれ、この電極部からアースを確実に行うことができる。電極部１８の先端は反射防止層１７より突き出ている方が好ましいが（また透明粘着剤層１５側にも突き出ていても良い）、後述の導電性粘着テープを使用する場合は、反射防止層１７の表面と面一となって突き抜けていない方が好ましい。この積層体の端面は、図では面一に形成されているが、面一でなくても良い。しかしながら、面一に形成された端面の場合には、導電層の露出部が小さいため導通をとりにくく、この方法が特に有効である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA ′ so as to divide the rod-shaped
また、一般に、導電性金属片の電極部１８は少なくとも相対する両端部に設ける必要があるが、四辺の全ての端面に設けることが好ましい。これによりアースが容易となると共に、安定したアースが可能となる。さらに、反射防止層１７の表面に露出した導電性金属片の電極部１８に、後述するように、導電性粘着テープを接着した場合は、さらにアースが容易となる。またディスプレイへの貼付も容易である。これによりアースが容易となると共に、安定したアースが可能となる。
In general, the
この構成において、ハードコート層１６及び低屈折率層等の反射防止層１７と、近赤外線吸収層１４との位置が、相互に入れ替わっていてもよい。このような構成を図３に示す。図３において、透明フィルム２２の一方の表面に、導電層２３、近赤外線吸収層２４及び透明粘着剤層２５がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層２６及び低屈折率層等の反射防止層２７が設けられている。そして、棒状の導電性金属片の電極部２８が、挿入され、反射防止層２７の表面から導電層２３を突き抜けて透明粘着剤層２５まで達している。また図２の近赤外線吸収層１４が、導電層１３とハードコート層１６との間に設けられても良い。
In this configuration, the positions of the
導電層１３は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、下記の図５に示すように、ハードコート層１６で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層１６で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層１４或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。
The
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
The
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
Further, the
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＦのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
The near-infrared
電極部１８は、一般にアース電極と呼ばれるものであり、その一部が端部表面に露出し且つその他の一部が少なくとも導電層と接触することができる導電性金属片であればどのような形状でも良い。図１〜３では、棒状の金属片を用いたが、棒状の断面は、円形でも多角形でも、また長さ方向の断面積が変化していてもよい。また先端が尖っていても尖っていなくても良い。さらに棒状の金属片は、端部に板状の物を有する釘状でも良い。図１〜３（参考例）では、棒状の物を多数使用しているが、板状のものを使用しても良い。図４に示す板状の金属片において、ナイフ状の物（１）は参考例であり、櫛状の物（２）は本発明に当たる。特に本発明の（２）の形状が、光学フィルタの最上層の表面に露出した電極部を大きな面積で得られる。
The
棒状の金属片（参考例）は、一般に口径が０．１〜１ｍｍ、長さが０．５〜５ｍｍ（好ましくは０．５〜３ｍｍ）であり、櫛状の物（本発明）としては、幅０．５〜５ｍｍの長尺状金属板に上記棒状の金属を多数突出させた物である。長尺状金属板に棒状の金属を２列以上でも、或いはジグザグ状に設けることもできる。 The rod-shaped metal piece (reference example) generally has a diameter of 0.1 to 1 mm and a length of 0.5 to 5 mm (preferably 0.5 to 3 mm). As a comb-like object (the present invention) , A long metal plate having a width of 0.5 to 5 mm is formed by projecting a large number of the rod-like metals. Two or more rows of rod-shaped metals can be provided on the long metal plate, or can be provided in a zigzag shape.
（参考例）
図５に、図２のディスプレイ用光学フィルタの別の１例の概略断面図を示す。図５は、図２の導電層がメッシュ導電層の場合の図に相当する。図５において、透明フィルム３２の一方の表面に、メッシュ状の導電層３３、ハードコート層３６及び低屈折率層等の反射防止層３７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層３４及びその上に透明粘着剤層３５が設けられている。そして、棒状の導電性金属片の電極部３８が、挿入され（埋められ）、反射防止層３７の表面から導電層３３を突き抜けて透明粘着剤層３５の表面側まで達している。図５では、導電層としてメッシュ状の金属層を用いているので、電磁波遮断効果等が特に優れている。このメッシュ状の金属層のメッシュの空隙は、ハードコート層３６で埋められており、これにより透明性が向上している。
(Reference example)
Figure 5 shows a schematic section view showing another example of the optical filter for de Isupurei FIG. FIG. 5 corresponds to a view when the conductive layer of FIG. 2 is a mesh conductive layer. In FIG. 5, an
図６に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの特に好ましい態様の１例の概略断面図を示す。図６は、図５とは電極部の形状が異なっており、櫛状の金属片が用いられている。図６において、透明フィルム４２の一方の表面に、メッシュ状の導電層４３、ハードコート層４６及び低屈折率層等の反射防止層４７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層４４及びその上に透明粘着剤層４５が設けられている。そして、櫛状の導電性金属片の電極部４８の棒状部分が挿入され（埋められ）、その突出部が反射防止層４７の表面から導電層４３を突き抜けて透明フィルム４２まで達している。さらに先まで（例透明粘着剤層４５）達していても良い。反射防止層４７の表面には、櫛状の導電性金属片の上部の板状部分が存在しており、この部分は少し突出していても、埋め込まれていたも良い。このような板状の部分により、アースがとりやすくなり、また導電性粘着テープの貼付も容易となる（図９参照）。
FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of one example of a particularly preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention. FIG. 6 differs from FIG. 5 in the shape of the electrode portion, and uses a comb-shaped metal piece. In FIG. 6, an
図７に、本発明のディスプレイ用光学フィルタのさらに好ましい態様の１例の概略断面図を示す。図７は、図６のディスプレイ用光学フィルタの櫛状の導電性金属片の板状部分に導電性粘着テープが貼り付けられたディスプレイ用光学フィルタ５１を示している。即ち、図７において、透明フィルム５２の一方の表面に、メッシュ状の導電層５３、ハードコート層５６及び低屈折率層等の反射防止層５７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層５４及びその上に透明粘着剤層５５が設けられている。そして、櫛状の導電性金属片の電極部５８の棒状部分が、挿入され（埋められ）、その突出部が反射防止層５７の表面から導電層４３を突き抜けて透明フィルム５２まで達している。さらに先まで（例透明粘着剤層５５）達していても良い。さらに、櫛状の導電性金属片における上部の板状部分に導電性粘着テープ５９が貼付されている。導電性粘着テープ５９の一部は外側に突き出ている。通常、ディスプレイへの装着に用いられる。
FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of an example of a further preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention. FIG. 7 shows a display
導電性粘着テープ５９は、少なくとの対向する２辺の端部領域に設けられるが、四辺全てに設けられても良い。また図７では長尺状導電性粘着テープ５９は、反射防止層５７上に設けられているが、最上層に設けられるので、最上層が、ハードコート層であれば、その上に設けられる。
The conductive
この導電性粘着テープ５９を用いることによりアースが極めてとりやすくなる。電極部５８の一部と接触することができればテープの形状は限定されない。しかしながら、反射防止層５７の端部領域に、長尺状の導電性粘着テープ５９が、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されていることが好ましい。図８に示すように、テープの一部が一般に突き出ている。
By using this conductive
図８に、図７のディスプレイ用光学フィルタ５１を反射防止層側から見た平面図を示す。点線までが反射防止層５７、即ち積層体であり、導電性粘着テープ５９は、ほぼ半分が反射防止層５７及び電極部５８（点線まで）を覆っている。この外側の導電性粘着テープ５９からアースをとっても良い。導電性粘着テープ５９の幅は、５〜５０ｍｍである。導電性粘着テープ５９の突き出た幅（点線からの距離）は、一般に０．５〜１０ｍｍである。
FIG. 8 is a plan view of the display
図９に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の態様の１例の概略断面図を示す。図９は、図７の矩形のディスプレイ用光学フィルタにおいて、透明フィルムを２枚用いた場合のディスプレイ用光学フィルタ６１を示している。即ち、図９において、透明フィルム６２Ａの表面に、ハードコート層６６及び低屈折率層等の反射防止層６７がこの順で設けられ、別の透明フィルム６２Ｂの表面にはメッシュ状の導電層６３が設けられ、その裏面には近赤外線吸収層６４及びその上に透明粘着剤層６５が設けられ、透明フィルム６２Ａの層が設けられていない表面と透明フィルム６２Bの導電層６３が、粘着剤層６０を介して接着されている。そして、櫛状の導電性金属片の電極部６８の棒状部分が、挿入され（埋められ）、その突出部が反射防止層６７の表面から導電層６３を突き抜けて透明フィルム６２Ｂまで達している。さらに、櫛状の導電性金属片における上部の板状部分に導電性粘着テープ６９が貼付されている。導電性粘着テープ６９の一部は外側に突き出ている。通常、ディスプレイへの装着に用いられる。
FIG. 9 shows a schematic cross-sectional view of an example of another embodiment of the optical filter for display according to the present invention. FIG. 9 shows a display
透明フィルム２枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。 The two transparent films are employed when it is advantageous in terms of production, but are disadvantageous in that they are bulky because the thickness is increased.
上述のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層上にその幅方向一杯にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側にその幅方向一杯に近赤外線吸収層を形成することにより、導電層を有する積層体を形成し、さらに該積層体を、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて、幅方向に裁断した後、該積層体の最上層の端部表面に、導電性金属片を、その一部が端部表面に露出し且つその他の部分の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入して電極部を形成することにより、或いは該積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板が、該突出部が少なくとも導電層と接触するように、挿入して電極部を形成することにより得られる。 The above-mentioned optical filter for display is formed, for example, by forming a conductive layer over the entire length of the long transparent film, then forming a hard coat layer over the width of the conductive layer, and then forming a long transparent film. By forming a near-infrared absorbing layer across the width of the film on the back side, a laminate having a conductive layer is formed, and the laminate is further adjusted in the width direction according to the shape of the display portion on the entire surface of each display. After cutting, the conductive metal piece is inserted on the end surface of the uppermost layer of the laminate so that a part of the conductive metal piece is exposed on the end surface and at least a part of the other part is in contact with the conductive layer. Forming an electrode portion, or an elongated conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface on the end surface of the uppermost layer of the laminate, and the protrusions are at least conductive layers Insert the electrode part so that it comes into contact with Obtained by forming.
或いは、透明フィルムを２枚使用する場合は、例えば、一方の表面にハードコート層が設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に導電層が、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられた別の透明フィルムとの、２枚の透明フィルムを、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、接着して積層体を形成し、さらに該積層体を各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて幅方向に裁断した後、該積層体の最上層の端部表面に、導電性金属片を、その一部が端部表面に露出し且つその他の部分の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入して電極部を形成することにより、或いは該積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板が、該突出部が少なくとも導電層と接触するように、挿入して電極部を形成することにより、ディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。 Alternatively, when two transparent films are used, for example, a long transparent film provided with a hard coat layer on one surface, a conductive layer on one surface, and a near infrared absorption layer on the other surface Adhering two transparent films together with another transparent film, the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film are opposed to each other with a pressure-sensitive adhesive layer to form a laminate. Further, after the laminate is cut in the width direction in accordance with the shape of the display portion on the entire surface of each display, a conductive metal piece is formed on the end surface of the uppermost layer of the laminate, and part of the end surface A plurality of protrusions on one surface by forming an electrode part by inserting it so that at least a part of the other part is in contact with the conductive layer, or on the end surface of the uppermost layer of the laminate. A long conductive metal plate having a portion So they contact with at least conductive layer, by forming the electrode unit is inserted, it is possible to obtain an optical filter for display.
上記幅方向に裁断した際の光学フィルタの裁断面である端面は、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかなく、アース電極として使用するのは困難である。本発明によれば、光学フィルタの端部に金属片を導電層に接触するように挿入することにより、簡単に、接地及びディスプレイの装着に容易な電極部（アース電極）を設けることができる。 The end face, which is the cut surface of the optical filter when cut in the width direction, exposes the end faces of all layers, but of course has only a very small area and is difficult to use as an earth electrode. According to the present invention, an electrode part (ground electrode) that can be easily grounded and attached to a display can be easily provided by inserting a metal piece into an end part of an optical filter so as to be in contact with the conductive layer.
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。 In the case of a rectangular transparent film, each layer may be formed in a batch system. However, as described above, it is preferable to form each layer on a continuous film, in a roll-to-roll system, and to cut the layers.
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。 The material used for the optical filter for display of this invention is demonstrated below.
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性が優れているので好ましい。 The material of the transparent film is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。 The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、塗工層でもよく、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。 The conductive layer of the present invention is set so that the surface resistance value of the obtained optical filter is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. Is done. A mesh-like conductive layer is also preferable. Alternatively, the conductive layer may be a coating layer or a layer obtained by a vapor deposition method (a transparent conductive thin film of metal oxide (ITO or the like)). Further, it may be an alternate laminate of a metal oxide dielectric film such as ITO and a metal layer such as Ag (eg, ITO / silver / ITO / silver / ITO laminate).
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。 As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。 In the case of a mesh-shaped conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the light amount from the display is also reduced.
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。 The opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh.
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。 The metal fibers constituting the mesh-like conductive layer and the metal of the metal-coated organic fiber include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, Stainless steel and nickel are used.
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。 As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。 When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。 If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。 The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.
或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。 Alternatively, the mesh-like conductive layer may be formed by pattern printing of conductive ink on a transparent substrate. Using the following conductive ink, it can be printed on the surface of the transparent substrate by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like.
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。 In general, carbon black particles having a particle size of 100 μm or less, or particles of a conductive material such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc. are bound to a binder of PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., applied to the surface of the transparent substrate by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply. Particles obtained by covering the same conductive material particles as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。 The thickness of the printed film formed in this way is not preferable because the electromagnetic wave shielding property is insufficient if it is too thin, and if it is too thick, it affects the thickness of the resulting film, so it is about 0.5 to 100 μm. It is preferable to do this.
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。 According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, a plastic film having desired electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties Can be easily formed.
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。 There is no particular limitation on the pattern printing shape of the conductive layer. For example, a grid-like printed film having a rectangular opening or a punching metal shape having a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening. Examples include printed films. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this printed film is 20 to 95%.
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。 In addition to the above, as a mesh-like conductive layer, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface, A mesh-like conductive layer obtained by contacting the film surface with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots may be used.
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。 Examples of the conductive layer by coating include a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。 Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead; or ITO, oxidation Indium, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped oxide) And conductive oxides such as zinc). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。 Examples of the polymer include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。 Alternatively, the polymer is particularly preferably an ultraviolet curable resin used for a hard coat layer described later.
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。 The conductive layer is formed by coating by dispersing the conductive fine particles in a polymer (using a solvent if necessary) by mixing or the like to prepare a coating solution, and coating the coating solution on a transparent substrate. And then drying and curing as appropriate. In the case of using a thermoplastic resin, it is obtained by drying after coating, and in the case of a thermosetting type, it is obtained by drying and thermosetting. When an ultraviolet curable resin is used, it can be obtained by drying after application and irradiating with ultraviolet rays after coating.
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。 The thickness of the conductive layer formed by coating is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。 The conductive layer of the present invention is also preferably a conductive polymer layer formed by coating. For example, hydrocarbon polymers such as polyacetylene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacene, polyphenylacetylene, polynaphthalene; heteroatom-containing polymers such as polypyrrole, polyaniline, polythiophene, polyethylene vinylene, polyazulene, polyisothianaphthene . Polypyrrole and polythiophene are preferred. The thickness of the light conductive layer of the conductive polymer is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.
導電層を気相成膜法により形成する場合（金属酸化物層）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。 When the conductive layer is formed by a vapor deposition method (metal oxide layer), the formation method is not particularly limited, but a vapor phase such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, etc. Examples of the method include a film forming method, printing, and coating, but a gas phase film forming method (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) is preferable. A conductive layer can be formed using the inorganic compound. When the conductive layer is formed by a vapor deposition method, the layer thickness is preferably 30 to 50000 nm, particularly about 50 nm.
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.
また導電層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。 Further, the conductive layer may be an alternately laminated film of a dielectric layer (metal oxide) and a metal layer. In particular, a laminate of 5 layers or more of dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer is preferable. For example, an alternate laminate of a dielectric layer of a metal oxide such as ITO and a metal layer of Ag or the like (eg, a laminate of ITO / silver / ITO / silver / ITO) can be used.
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。 The transparent conductive film can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
導電層（特にメッシュ状導電層）をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。 In order to improve the electromagnetic wave shielding effect by further reducing the resistance value of the conductive layer (particularly the mesh-shaped conductive layer), it is preferable to form a plating layer on the conductive layer.
メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を上げることができる。これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては通常の液相メッキ（電気メッキ、無電解メッキ等）により一般に行われる。 Examples of materials used for the plating process include copper, nickel, chromium, zinc, tin, silver, and gold. These may be used alone or as two or more kinds of alloys. The plating process is generally performed by ordinary liquid phase plating (electroplating, electroless plating, etc.).
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。 Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.
本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。 The antireflection layer of the present invention is generally a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of a transparent film as a substrate and a low refractive index layer provided thereon, or a hard coat layer and a low refractive index layer. Is a composite film in which a high refractive index layer is further provided therebetween. Even if the antireflection layer is only a hard coat layer having a refractive index lower than that of the substrate, it is effective. However, when the refractive index of the substrate is low, a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than the transparent film and a low refractive index layer provided thereon, or a higher refractive index layer is provided on the low refractive index layer. A composite film obtained may be used.
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。 As a hard-coat layer, an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, a silicone resin layer, etc. can be mentioned, The thickness is 1-50 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers. Either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin may be used, but an ultraviolet curable resin is preferable.
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。 Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。 Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 For the hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomers and oligomers), hard materials such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are used. It is preferable to mainly use polyfunctional monomers.
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。 Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。 The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。 The hard coat layer preferably has a refractive index lower than that of the transparent film. By using the ultraviolet curable resin, a refractive index lower than that of the substrate is generally easily obtained. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate. Therefore, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.60 or less. The film thickness is as described above.
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。 The high refractive index layer is made of, for example, ITO, ATO, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 or the like in a polymer (preferably UV curable resin). It is preferable to use a layer in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compound) are dispersed. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. Those having a refractive index of 1.64 or more are suitable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層２の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
When the high refractive index layer is a conductive layer, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film is set within 1.5% by setting the refractive index of the high
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。 The low refractive index layer is a layer (cured) in which fine particles such as silica and fluororesin, preferably 10 to 40% by weight (preferably 10 to 30% by mass) of hollow silica are dispersed in a polymer (preferably UV curable resin). Layer). The refractive index of this low refractive index layer is preferably 1.45 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。 As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。 The hard coat layer preferably has a visible light transmittance of 85% or more. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。 When the antireflection layer is composed of the above three layers, for example, the thickness of the hard coat layer is 2 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 75 to 90 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 85 to 110 nm. Preferably there is.
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。 In order to form each layer of the antireflection layer, as described above, the polymer (preferably UV curable resin) is blended with the fine particles as necessary, and the obtained coating solution is applied, and then dried. If necessary, it is heat-cured, or after coating, if necessary, it is dried and irradiated with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together.
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。 As a specific method of coating, a method of coating a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, and then dried, and then cured by ultraviolet rays. Can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating and curing with ultraviolet rays, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained. The conductive layer can be formed similarly.
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。 In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。 The antireflection layer of the present invention is preferably formed by coating as described above, but may be formed by a vapor phase film forming method. Usually, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。 Examples of the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer include the following.
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。 (A) 1 layer each in the order of high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of 2 layers, (b) 2 layers of high refractive index layer / low refractive index layer alternately, 4 layers in total (C) One layer each in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of three layers, (d) high refractive index layer / low refractive index layer In this order, each layer is alternately stacked in 3 layers for a total of 6 layers. As the high refractive index layer, ITO (tin indium oxide) or ZnO, a thin film of ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ZrO or the like doped with Al can be employed. As the low refractive index layer, a thin film having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3, or the like can be used.
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。 The high refractive index layer, the low refractive index layer, and the like can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。 A near-infrared absorption layer is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of a transparent film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating solution containing an ultraviolet curable or electron beam curable resin containing the pigment and the binder resin, and drying and curing if necessary. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes and squarylium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。 In the present invention, the near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a function of absorbing neon light emission. For this purpose, a neon-emission absorption layer may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。 Examples of selective absorption dyes for neon emission include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。 Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。 Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。 As a near-infrared absorption characteristic of the optical filter of the present invention, it is preferable that the transmittance at 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility.
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。 The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.
本発明の電極部は、一般にアース電極と呼ばれるものであり、その一部が端部表面に露出し且つその一部が少なくとも導電層と接触することができる導電性金属片であればどのような形状でも良い。またその材料としては、導電性を有する金属材料であればどのような材料でも良い。導電性の高い材料であれば金属材料以外に物を使用しても良い。 The electrode part of the present invention is generally called a ground electrode, and any conductive metal piece that is partly exposed on the end surface and that part can be in contact with at least the conductive layer. It may be in shape. The material may be any material as long as it is a conductive metal material. A material other than a metal material may be used as long as it is a highly conductive material.
導電性金属片の材料としては、銅、銅合金、銀、銀―銅合金、ニッケル、ステンレス、炭素鋼等を挙げることができる。銅、銅合金が好ましい。 Examples of the material for the conductive metal piece include copper, copper alloy, silver, silver-copper alloy, nickel, stainless steel, and carbon steel. Copper and copper alloys are preferred.
導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。 As the conductive adhesive tape, an adhesive layer in which conductive particles are dispersed is provided on one surface of a metal foil, and in this adhesive layer, acrylic, rubber-based, silicon-based adhesive, What mixed the hardening | curing agent with the epoxy-type and phenol-type resin can be used.
粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。 The conductive particles dispersed in the adhesive layer may be any electrically good conductor, and various types can be used. For example, metal powder such as copper, silver, nickel, etc., resin coated with such metal, ceramic powder, or the like can be used. The shape is not particularly limited, and any shape such as a flake shape, a dendritic shape, a granular shape, or a pellet shape can be taken.
この導電性粒子の配合量は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。 The blending amount of the conductive particles is preferably 0.1 to 15% by volume with respect to the polymer constituting the adhesive layer, and the average particle size is preferably 0.1 to 100 μm. Thus, by prescribing the blending amount and the particle size, it is possible to prevent the conductive particles from condensing and obtain good conductivity.
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。 As metal foil used as the base material of the conductive pressure-sensitive adhesive tape, foil of copper, silver, nickel, aluminum, stainless steel or the like can be used, and the thickness is usually 1 to 100 μm.
粘着層は、この金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。 The pressure-sensitive adhesive layer is obtained by uniformly mixing the metal foil with the pressure-sensitive adhesive and conductive particles in a predetermined ratio using a roll coater, die coater, knife coater, my cover coater, flow coater, spray coater, etc. By doing so, it can be easily formed.
この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。 The thickness of this adhesive layer is usually 5 to 100 μm.
導電性粘着テープを使用する代わりに、上記粘着層を構成する材料からなる接着剤を導電性金属片の露出部に塗布し、その上に上記金属箔等の導電性テープを貼付しても良い。 Instead of using a conductive pressure-sensitive adhesive tape, an adhesive made of the material constituting the pressure-sensitive adhesive layer may be applied to the exposed portion of the conductive metal piece, and a conductive tape such as the metal foil may be applied thereon. .
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブタジエン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。 The transparent adhesive layer of the present invention is a layer for adhering the optical film of the present invention to a display, and any resin can be used as long as it has an adhesive function. For example, acrylic adhesives, rubber adhesives, and thermoplastic elastomers (TPE) such as SEBS (styrene / ethylene / butadiene / styrene) and SBS (styrene / butadiene / styrene) formed from butyl acrylate, etc. TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives can also be used.
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。 The layer thickness is generally in the range of 5 to 500 μm, particularly 10 to 100 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。 When two transparent films are used in the present invention, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer) Polymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer Examples thereof include ethylene copolymers such as a polymer, a carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, and an ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer. ("(Meth) acryl" means "acryl or methacryl"). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicon resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomers such as SEBS and SBS can be used, but good adhesion Acrylic resin adhesives and epoxy resins are easily obtained.
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。 The layer thickness is generally 10 to 50 μm, preferably 20 to 30 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.
上記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。 When EVA is also used as the material for the transparent pressure-sensitive adhesive layer, EVA has a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。 As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by weight of EVA. .
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。 The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。 Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve the physical properties of EVA (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。 Examples include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds, which are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。 When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。 In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。 The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。 In addition, the EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, and the like. A small amount of a filler such as hydrophobic silica or calcium carbonate may be included.
上記接着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。 For example, after the EVA and the above-mentioned additive are mixed and kneaded with an extruder, a roll or the like, the adhesive layer is formed into a predetermined shape by a film forming method such as a calendar, roll, T-die extrusion, or inflation. Manufactured by.
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。 A protective layer may be provided on the antireflection layer. The protective layer is preferably formed in the same manner as the hard coat layer.
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
The material of the release sheet provided on the transparent adhesive layer is preferably a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. Examples of such a material include polyesters such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. In addition to polyamide resins such as nylon resins,
本発明の光学フィルタは、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、導電層、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより製造することができる。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の積層体を、裁断し、その端部に前記のように電極部を設ければよい。長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。 In the optical filter of the present invention, for example, a conductive layer, a hard coat layer, an antireflection layer, and the like are sequentially provided on one surface of a long transparent film, and then a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface of the transparent film. And it can manufacture by providing a transparent adhesive layer. The installation of each layer may be performed continuously or in a batch. What is necessary is just to cut | judge the elongate laminated body obtained in this way, and to provide an electrode part as mentioned above in the edge part. As a coating machine used when applying (applying) each layer to a long transparent film, a slit die, a lip direct, a lip reverse, or the like can be used. When both surfaces are applied simultaneously, a double-sided simultaneous coating machine in which lip dies are arranged on both sides is generally used.
また長尺状の透明フィルムを２枚用いた場合は、一方の長尺状の透明フィルムの表面に、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの一方の表面に導電層を、他方の表面に近赤外線吸収層（必要により透明粘着剤層）を設け（或いは近赤外線カットフィルムに透明粘着剤層を設けても良い）、これらの２枚の積層体を、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、競接着、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の積層体を、裁断し、前記のように電極部を設ければよい。 When two long transparent films are used, a hard coat layer and an antireflection layer are sequentially provided on the surface of one long transparent film, and one of the other long transparent films is provided. A conductive layer is provided on the surface, and a near-infrared absorbing layer (a transparent adhesive layer if necessary) is provided on the other surface (or a transparent adhesive layer may be provided on the near-infrared cut film). It can be easily manufactured by competitive adhesion and integration in a state where the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film face each other with the adhesive layer interposed therebetween. What is necessary is just to cut | judge the elongate laminated body obtained in this way, and to provide an electrode part as mentioned above.
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。 The display optical filter of the present invention thus obtained is used by being bonded to the surface of an image display glass plate of a display such as a PDP.
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。 Since the PDP display device of the present invention uses a plastic film as a transparent substrate, the optical filter of the present invention can be directly bonded to the surface of the glass plate, and thus a single transparent film is used. In this case, the PDP itself can contribute to weight reduction, thickness reduction, and cost reduction. Compared with the case where a front plate made of a transparent molded body is installed on the front side of the PDP, an air layer having a low refractive index can be eliminated between the PDP and the PDP filter, so that visible light reflection due to interface reflection can be achieved. Problems such as an increase in rate and double reflection can be solved, and the visibility of the PDP can be further improved.
従って、本発明の光学フィルタは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。 Therefore, the optical filter of the present invention is excellent in antireflection effect and antistatic property, hardly emits dangerous electromagnetic waves, is easy to see, hardly has dust and the like, and can be said to be a safe display.
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
＜電極部のないディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.
[Example 1]
<Preparation of optical filter for display without electrode part>
(1) Formation of mesh-like conductive layer On an easy-adhesion layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an easy-adhesion layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface, A 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol was printed in dots. The size of one dot is a square shape with one side of 234 μm, the interval between the dots is 20 μm, and the dot arrangement is a square lattice. The printing thickness is about 5 μm after drying.
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルム上にメッシュ状導電層を形成した。 On top of that, copper was vacuum-deposited so as to have an average film thickness of 4 μm. Next, it was immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to dissolve and remove the dot portion, then rinsed with water and dried to form a mesh-like conductive layer on the polyethylene film.
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。 The conductive layer on the film surface had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots accurately, the line width was 20 μm, and the aperture ratio was 77%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 4 μm.
（２）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
(2) Formation of hard coat layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 80 parts by mass ITO (average particle size 150 nm) 20 parts by mass Methyl ethyl ketone 100 parts by mass Toluene 100 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by mass
A coating liquid obtained by mixing the above was applied onto the mesh-like conductive layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a hard coat layer (refractive index of 1.52) having a thickness of 5 μm was formed on the mesh-like conductive layer.
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（ＪＳＲ（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
(3) Formation of low refractive index layer The following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by JSR Corporation) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 117 parts by weight Methyl isobutyl ketone 117 parts by weight
The coating liquid obtained by mixing was applied on the hard coat layer using a bar coater, dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a low refractive index layer (refractive index 1.42) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製） ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
(4) Formation of near-infrared absorbing layer (having color tone correction function)
Polymethylmethacrylate 30 parts by mass TP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 0.4 parts by mass Plast Red 8380 (manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.) 0.1 parts by mass CIR-1085 (Nippon Carlit Co., Ltd.) Manufactured) 1.3 parts by weight IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.6 parts by weight Methyl ethyl ketone 152 parts by weight
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
(5) Formation of transparent adhesive layer The following formulation:
SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.45 parts by
これにより電極部のないディスプレイ用光学フィルタを得た。
この長尺状の電極部のないディスプレイ用光学フィルタを横方向に裁断して、矩形の電極部のないディスプレイ用光学フィルタを得た。
Thus, an optical filter for display without an electrode part was obtained.
This optical filter for display without an elongated electrode part was cut in the horizontal direction to obtain an optical filter for display without a rectangular electrode part.
［実施例２］
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 2]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 1 except that a high refractive index layer was provided as described below between the hard coat layer and the low refractive index layer.
（６）高屈折率層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ６質量部
ＺｎＯ（平均粒径４ｎｍ） ４質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） １質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの高屈折率層（屈折率１．７０）を形成した。
(6) Formation of high refractive index layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 6 parts by weight ZnO (average particle size 4 nm) 4 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was coated on the hard coat layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a high refractive index layer (refractive index: 1.70) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.
［実施例３及び４］
実施例１及び２で得た電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端部（縁部から３ｍｍの位置）に、口径０．５ｍｍ、長さ１０ｍｍの精密銅棒（中国・海亮具ルーム有限公司社製）を挿入した。銅棒を表側に０．１ｍｍ突出させた。こうして電極部を形成した。
[Examples 3 and 4]
A precision copper rod with a diameter of 0.5 mm and a length of 10 mm (China / Hai Liang) on all four ends (position 3 mm from the edge) of the display-use optical filter without electrodes obtained in Examples 1 and 2. Room Co., Ltd.) was inserted. The copper rod was protruded 0.1 mm to the front side. In this way, an electrode part was formed.
得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。 The obtained optical filter for display was evaluated as follows.
［光学フィルタの評価］
（１）導電性
光学フィルタの電極（相対する２個の電極部（銅棒の頂部）に抵抗計（商品名：ミリオームハイテスタ；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。
[Evaluation of optical filter]
(1) Conductivity Connect a resistance meter (trade name: Milliohm Hitester; manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) to the electrodes of the optical filter (the two opposing electrode parts (top of the copper rod)) and measure the resistance value. did.
上記結果を表１に示す。 The results are shown in Table 1.
また、実施例３及び４で得られたＰＤＰフィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、電極部設置については極めて容易に行うことができた。 In addition, the PDP filters obtained in Examples 3 and 4 are not inferior to conventional ones in transparency, electromagnetic wave shielding properties, etc. even if they are actually attached to the PDP, and it is very easy to install the electrode part. I was able to.
１１、２１、３１、４１、５１、６１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２、２２、３２、４２、５２、６２Ａ、６２Ｂ 透明フィルム
１３、２３、３３、４３、５３、６６ 導電層
１６、２６、３６、４６、５６、６６ ハードコート層
１７、２７、３７、４７、５７、６７ 反射防止層
１４、２４、３４、４４、５４、６４ 近赤外線吸収層
１５、２５、３５、４５、５５、６５ 透明粘着剤層
１８、２８、３８、４８、５８、６８ 電極部
５９、６９ 導電性粘着テープ
11, 21, 31, 41, 51, 61 Optical filter for
Claims (26)
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
Transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer are laminated,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion.
透明フィルム、導電層ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display in which a conductive layer and a hard coat layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface,
The transparent film, the conductive layer hard coat layer, and the near infrared absorption layer are laminated so as to form an end face together,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion.
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display in which a conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion.
２枚の透明フィルム、導電層、及びハードコート層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして上記積層体の最上層の端部表面に、一方の表面に多数の突出部を有する長尺状の導電性金属板で、櫛状の導電性金属片が、その一部が端部表面に露出し、且つ該突出部の少なくとも一部が導電層と接触するように挿入されて電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 Two transparent films, a transparent film provided with a hard coat layer on one surface and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, are the back surface of the former transparent film and the latter transparent film. An optical filter for display, which is adhered in a state where the conductive layer is disposed so as to face each other with an adhesive layer interposed therebetween,
Two transparent films, a conductive layer, and a hard coat layer are laminated together to form an end face,
And on the end surface of the uppermost layer of the laminate , a long conductive metal plate having a large number of protrusions on one surface, the comb-shaped conductive metal piece is partially on the end surface. An optical filter for display which is exposed and is inserted so that at least a part of the protruding portion is in contact with the conductive layer to form an electrode portion.
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