JP3768873B2 - エタロン構造 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は近赤外スペクトル線を通過するためにエタロンを含むエタロン構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
分光機器は回析格子および検出器装置のごとき分散要素を含んでいる。1つの精密型において検出器はピクセル位置が検出された波長を示す個々のピクセル光検出器のアレイからなる在来のソリツドステートデバイスである。かかる検出器は代表的にはフオトダイオードアレイ、電荷結合型デバイスまたは電荷注入デバイスである。他の分光機器は単一の光検出器を介して分散要素を走査するかまたはインターフエログラムのフーリエ変換を使用するが、概念は波長が物理的位置、方向付け等に対して較正されるために同一である。最新の機器はスペクトルを分析および比較するために検出器からスペクトルデータを受信するコンピユータを含んでいる。
【0003】
光学系、検出器およびコンピユータ導入における改善によれば、非常に精密な測定を実行する可能性を引き出した。例はガソリンのオクタン価を測定するために化学的測定の数理分析を使用する吸収分光光度計またはポリクロメータである。オクタン価の差異は近赤外線(IR)吸収スペクトルの微妙な差異と関連付けられる。スペクトル特性の非常に小さな変化は人間により直接有効に検出されることができず、そしてコンピユータ化された自動化が必要である。またスペクトル測定に関してはオンラインで連続して行われるのが望ましい。かくして分析化学に進んだ分光測定法を利用することに関心がある。
【0004】
較正は代表的には既知の組成物の標準の化学製品または試験されるべき未知のサンプルと同様な他の特性についてのスペクトル測定により実施される。化学測定モデルは主要成分回帰(PCR)または部分最小二乗法(PLS)のごとき多重振動較正法を使用するこれらのスペクトルから形成される。ガソリンオクタン価値の場合におけるように、これは多数のサンプル(例えば、50〜100)に適切な精度および確度を要求するかも知れず、かつ較正が機器のドリフトを補償するために頻繁に繰り返される必要があるかも知れない。かかるモデル形成はまた精査および専門知識を必要とする。
【0005】
較正はまた公知の波長の幾つかのスペクトル線を供給するランプまたは伝送フイルタにより行われる。かかるスペクトル線源は幾つかの波長に関してのみ利用可能であるので、フアブリイ・ペロー干渉計器によるような周辺パターンが所望のスペクトル範囲に亘って較正すべく利用される。周辺パターンと既知の波長を相関することは挑戦であつた。標準および干渉計により波長を評価するための数学的モデルはサミユエル・シー・バーデンにより編集された、テキスト「フアイバーオプテイツクス・イン・アストロノミー(天文学におけるフアイバーオプテイツクス)」、第3巻(1988年、Astro.Soc.オブ・ザ・パシフイツク)、第218ないし223頁に教示されている。これらの方法は明らかに分析化学の分野に適用されなかつた。
【0006】
代表的な分光光度計は、1989年の応用分光測定43(1)、第27〜32頁の、デイー・エム・メイヤーおよびジエイ・ビー・カリスによる「600〜1100nm波長領域用フオトダイオードアレイを基礎にした近赤外線分光光度計」、および1991年のレビユー・オブ・サイエンテイフイツク・インスツルメント(科学機器についての概論)62(2)、第507〜515頁の、エム・リユソート、ジエイ・バン・ジーおよびジエイ・ビー・カリスによる「ラツプトツプ・ケミストリー:光フアイバ、電界移動式、近赤外線分光計」に記載されている。多チヤンネル分光光度検出器装置の設計、自己走査および性能に関する論文は1978年の応用光学17、第574〜592頁の、エス・エス・ヴオグト、アール・ジー・タルおよびピー・ケルトンによる「自己走査のフオトダイオードアレイ:高分散天文用分光光度計における高性能運転」;および1980年の、応用光学19、第1401〜1414頁の、ワイ・タルミおよびアール・ダブリユー・シンプソンによる「自己走査のフオトダイオードアレイ:多チヤンネル分光検出器」である。
【0007】
【発明が解決すべき課題】
高精度測定による問題は機器が互いに変化することであり、そして各機器は時間にしたがつて変化またはドリフトする。課題の1つは部分的には較正を達成しかつ維持することである。より微妙な態様は器具は各器具に対して特有でありかつまた時間により変化する固有の特性を有するということである。固有の特性は機器によりりもたらされたデータを歪ませ、比較を不正確にする。かかる固有の特性は非常に狭い、鮮明なスペクトル線を示すスペクトルデータの外観(プロフアイル)により代表される。かかる外観すなわち特性曲線は基本的な光学設計ならびに回析作用および機器の光学系および(より少ない範囲で)エレクトロニクスにおける他の不完全さにより、固有の形状および実際の線より広い線幅を有する。理想的な特性曲線はガウス分布に近い、対称であるが、また「機器の特性曲線」として知られる実際の固有の特性曲線は、同様に対称ではないかも知れない。
【0008】
本発明の目的は較正に利用され得る新規な非常に精巧なエタロンを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、選択されたスペクトル範囲の各部分において仮定的に鮮明なスペクトル線用の特有の固有特性曲線を有し、各固有特性曲線が関連の固有の幅を有する分光機器を標準化するための方法により解決される。分光機器は少なくとも1つの選択された部分において、一般的に複数のタンデム部分において、少なくとも1つの狭いスペクトル線の線源を含んでいる。各狭いスペクトル線は対応する選択された部分用の固有の幅より実質上狭い線幅を有する。
【0010】
本方法は、固有の幅にほぼ等しい特性曲線幅を有するガウス分布のような、各選択された部分において仮定的に鮮明なスペクトル線用の目標特性曲線を条件として指定することからなる。本方法はさらに、各組の特性曲線データが対応する選択された部分用の固有の特性曲線を示すような各狭いスペクトル線用の1組の特性曲線データを発生するために線源により機器を最初に作動し、各組の特性曲線データを各選択された部分用の対応する目標特性曲線に変換するために変換フイルタを計算し、そしてサンプルデータへの将来の適用のために変換フイルタを蓄えることからなる。
【0011】
機器の通常の使用において、本方法はさらに、サンプルスペクトルを示すサンプルデータを発生するためにサンプル源により機器を通常作動し、かつサンプルスペクトルを示す標準化されたサンプルデータを発生するために各選択された部分において前記サンプルデータへ前記変換フイルタを印加することからなる。
【0012】
本機器は公称背景データを記憶するために機器を予備的に作動されるべきである。その後、計算および印加工程の前に、特性曲線およびサンプルデータを含むすべてのスペクトルデータが公称背景データにより、好ましくはかかるスペクトルデータを公称背景データで除算することにより補正される。また、かかる工程の前に、スペクトルデータが普通の強度較正に応じて較正されるべきである。
【0013】
好ましい態様において、本方法はさらに、機器用の波長較正を確立し、そして補正マトリクスをもたらすために前記変換フイルタと前記波長較正を結合し、そのさい前記蓄え工程はサンプルデータへの将来の印加のために前記補正マトリクスを蓄えることからなる。かくして補正マトリクスはサンプルスペクトルを示す較正された標準化データを発生するために前記サンプルデータに印加される。
【0014】
より好ましくは、本機器は較正データを発生するために放射線の波長較正源により作動される。変換フイルタ、または最も好ましくは、該フイルタを含んでいる補正マトリクスが波長較正を構成する標準化された較正データを発生するために前記較正データにその場合に印加される。
【0015】
較正に関するさらに他の態様において、機器は所望のスペクトル範囲に亘るスペクトル波長対スペクトル位置の公称(例えば、理論的または予備的)較正を有する。本機器はさらに、ネオジウムでドーピングされたイツトリウムアルミニウムガーネツトフイルタのごとき、精密に識別された波長の1次スペクトルピークの較正源を含んでいる。本機器また、スペクトル範囲に亘って配置された多数の2次ピークの、好都合には被覆されない溶融シリカプレートのごとき低精巧のフアブリ−ペローエタロンからの縞の、多重源を含んでいる。各2次ピークは相関定数にしたがつてピーク波長に対して相関関数(例えば、簡単な縞平行状態)により識別される整数または数を有する。
【0016】
かかるさらに他の態様において、波長較正を確立する工程は以下からなる。すなわち、機器はスペクトルピークを示す較正データを発生するために較正源により追加的に作動され、かつさらに多数の2次ピークを示す2次データを発生するために多重ピーク源により追加的に作動される。前記較正データは1次ピーク位置からスペクトル位置に対して確認される。2次データから、1組の2次ピーク位置がスペクトル位置に対して確認される。相関関数により、相関定数が前記公称較正により決定された少なくとも2つのピーク波長に関して異なる順位数にしたがつて前記相関定数を評価される。また、前記相関関数により、較正順序数は1次ピークに隣接して配置された少なくとも1つの選択された2次ピークに関して識別され、該識別が評価された相関定数および前記公称較正により選択された2次ピークに関して決定された予備波長にしたがつて行われる。選択された2次ピークから該選択された2次ピークおよび1次ピークの精密な相対的な位置決めが挿入(インターポレーテイング)される。前記相関関数により、精密な相関定数が前記較正順位数、前記精密に識別された波長および前記相対的な位置決めから計算される。精密な相関定数はその場合に較正された波長を関連の順位数にかつそれによりスペクトル位置に対する2次ピーク位置に割り当てるために相関関数とともに精密な相関定数を利用される。
【0017】
他の態様において、較正データが較正特性曲線を画成する。確認工程は較正特性曲線の中心波長を評価し、逆にされた特性曲線を作り出すために中心波長を中心に較正特性曲線を反転し、結合された特性曲線を作り出すために前記較正特性曲線および前記逆の特性曲線を加算し、そして評価された中心波長と前記1次スペクトルピークとの間のずれを決定するために前記較正データを前記結合特性曲線に適合させることからなる。それにより前記ずれが前記スペクトル位置に対する前記1次ピーク位置を定義する。
【0018】
前記目的は、近赤外スペクトル線を通過するために或る型のフアブリ−ペローの非常に精巧なエタロンにより達成される。前記エタロンがその各側で被覆する半透明な金を有する薄いポリマフイルムからなり、各被覆が1%ないし10%の間の透過を提供するのに十分である。このエタロンは上述した狭いスペクトル線をもたらすために好都合に利用される。
【0019】
以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。
【0020】
【実施例】
図1は標準化および波長較正がそれに関して行われる光検出器11を有する代表的な分光機器10を例示する。
かかる機器は、例えば、ガソリンのオクタン価を測定するための近赤外線の高い感度および安定性を要求するオンライン化学測定分光ポリクロメータまたは化学的測定機器であつても良い。安定しているが他の点では通常の白熱光源12が光フアイバ16の入力端で焦点合わせされるリレーレンズ14を通過する光13を供給する。光フアイバは試験されるべきガソリンのごとき液体中に浸漬されたプローブ構体18へ光を向ける。直線通過のプローブとして示されるけれども、該プローブは1991年10月8日に出願された本譲受人の同時係属のアメリカ合衆国特許出願第773,189号に開示されたような、戻りフアイバへ光を戻すような反射を備えた屈曲光学系を有することも可能である。
【0021】
プローブにおいてサンプル空間20が光22が、光の幾つが選択的に濾過されることができる場合に、液体に通されるよように液体に設けられる。液体を透過した光は第2光フアイバ24により取り出される。光学スイツチ28を備えたバイパスフアイバ26が、液体を透過した光をそれと比較する標準を提供するために、フアイバを通る光とともに液体を選択的にバイパスするために設けられる。第2フアイバ24は、例えば、光35を検出器11へ分散する凹状ホログラフ格子33を利用する分光計32へ光を運ぶ。スペクトルを示す検出器からの信号はデイスクまたは他のメモリへの記憶39および処理のためにコンピユータ37に向けられる。本実施例において、スペクトルは、標準スペクトルに比較されるかまたはそれに対して較正されるか、または化学測定モデルを形成するのに使用されることができる、サンプル液体の「指紋」として使用される。
【0022】
光検出器11はEG&Gレテイコンにより製造されたRL1024Sのごとき在来のソリツドステート型である。かかる検出器は代表的には自己走査型フオトダイオードアレイ、電荷結合デバイスであるか、または電荷注入デバイス等であつても良い。これは、隣接する感光性ピクセル領域41、例えば、1024ピクセルの直線アレイを有する。ピクセルはライン42を介してコンピユータ37へ供給される電圧信号を発生するために連続して読み出される。
【0023】
本実施例においては、視準領域44が図1に示されるようにそれに幾つかの開口を有する円板43を挿入するためにフアイバの1つに設けられる。関連のレンズ対45(1つが示される)は視準された光を選択された開口を介してフアイバ端間に通す。1つの開口47はサンプルまたは背景を測定するために機器の通常の作動のために濾過されない光を通すために空にされたままである。他の開口は後述される光学フイルタ要素46,48,50を含有する。円板は選択された開口またはフイルタのためにライン53を介してコンピユータ37により自動的にモータ52によつて、手動でまたはより普通に(例えば、再較正のための選択された間隔において)位置決め可能である。
【0024】
分光機器は不完全な光学系のため代表的には線の広がりおよび歪みを導く。この作用はスペクトルの非常に鮮明なスペクトル線に関して特徴的な固有の特性曲線54によつて説明され得る。特性曲線はスペクトル範囲に亘って変化可能である。すなわち、特性曲線帯域幅および歪みは変化する。本目的のために、スペクトルの少なくとも1つの部分(例えば、図2に示される部分)が関心のあるスペクトル範囲において選択される。固有の機器特性曲線が存在しかつ各選択された部分に関して識別される。かかる各特性曲線は半分の高さにおいて特性曲線の幅として普通に定義される、関連の固有の帯域幅W'を有する。
【0025】
全体の標準化および較正のフローチヤートを図3に示す。本実施形態は2つの全体的な態様、すなわち、機器作用を置換する絶対標準へのスペクトルの特性曲線の変換の構造を含む特性曲線標準化56、および精密波長較正58を有する。好都合にはこれら2つの態様は2つの段階においてともに利用される。すなわち、一方の段階において変換は較正決定の間中較正データに印加される。他方の段階において変換および波長較正は補正マトリクスに結合される。このマトリクスその場合にサンプルデータ、再較正時の繰り返しおよび更新標準化を含む続いて起こるすべてのデータに印加59される。(本書でかつ特許請求の範囲において使用されるように、用語「データ」は検出された波長に関する検出器への放射線入射の強さに関連付けられる検出器からの信号情報に言及し、かつまた本書で明記されるような標準化、変換または他の処理の形状のかかる情報に言及する。)
【0026】
特性曲線標準化
特性曲線標準化56に関して、かつより詳細には図3のフローチヤートを参照して、機器は公称背景データ62を測定しかつ記憶するために予備的に作動60される。データの変換により固有の特性曲線を置き換えるようになされる目標特性曲線63は各選択された部分の仮定の狭いスペクトル線に条件が指定され、例えば、図2に示されるかつ以下に説明されるように、目標特性曲線63はガウス(ガウシヤン)分布であつても良い。線源は各選択された部分に少なくとも1つの狭いスペクトル線を備え、各線は対応する選択された部分に関する固有の幅より実質上狭い線幅を有する。これらの線の各々に関する未処理のスペクトルデータは機器の作用により関連の特性曲線(図2)を有する。
【0027】
機器は選択された狭いスペクトル線の各々に関して1組の特性曲線データ66を記憶するために線源により最初に作動64され、特性曲線データの各ピークは対応する選択された部分に関する固有の特性曲線を示す。特性曲線データはこれを公称背景データ62で除算することにより標準化68される。標準化された固有特性曲線を相互に分離する分離工程70の後で、以下に説明される、標準化された固有の特性曲線106を発生するために、各選択された部分に関する変換デジタルキーフイルタ72が、該フイルタが各固有の特性曲線106を対応する目標特性曲線63に変換するように、コンピユータプログラムにより確認74される。挿入(インターポレーシヨン)76がすべてのフイルタ78を発生するように選択された部分間のギヤツプを塞ぐように好ましくは印加され、かかるフイルタは関心のスペクトル範囲に亘る1組の選択されたスペクトル要素の各々に関してである。
【0028】
好適な実施例において、機器用の波長マツプ較正が後述される手順58によるように、確立される。波長較正は機器が通常作動されるとき測定されたデジタルデータに一般の使用59に関して記憶される補正マトリクスを形成82するために変換フイルタ78と結合される。
【0029】
機器はサンプルスペクトルを示す測定データ88を記憶するためにサンプル放射線により通常作動86される。サンプルは、事実上、直接または伝送、散乱、反射、蛍光等の放射線源、例えば、原子放出源またはガソリンを通る上述した伝送放射線であつても良い。変換フイルタを含んでいる補正マトリクス84は、対でサンプルスペクトルおよび背景を示す標準化された、較正データ92を発生するためにデータに印加92される。これらはさらに所望の情報を化学測定的に抽出するように処理され得る。
【0030】
別の方法として、特性曲線変換フイルタを測定データに直接印加しかつ波長較正を別個に印加することができる。しかしながら、理解されることは、補正マトリクスへの結合がデータの便利な、単一の工程処理を提供するということである。
【0031】
測定されたデータはここでは光検出器を構成するピクセルに関連して説明される。かかる指定は光受容器上の多数の光受容区域のみでなく、また走査またはフーリエ変換機器におけるようなスペクトル点の物理的増分(物理的マツピング)の他の等価スペクトル位置を示すようになされる。変換濾過後、ユニツトは任意でありかつ変換が理想的である場合に、絶対波長である波長に較正されることのみが必要となる。かかるユニツトはここでは「標準化ユニツト」と呼ばれかつ「標準化スペクトル」を示す「標準化データ」に関する「標準化増分」にあり、そしてピクセルまたは他の物理的増分との1:1の一致を有する必要はない。例えば、IRスペクトル範囲にわたつてピクセルと同じ位の標準化増分の約半分のみにし得る。
【0032】
機器の作動の1部分として幾つかの信号の予備処理が検出器から到来するすべての未処理信号データに実施されるべきである。これは強さ較正、すなわち縦座標直線化を包含する。かかる較正は既知のまたはアメリカ合衆国特許第5,229,838号に開示されたような所望の精密方法により行われることができる。他の予備処理は暗信号、すなわち遮断された光による信号の減算である。
【0033】
すべての信号データは公称背景62により標準化されるべきである。かかる背景はかかる公称データを記憶するために機器を予備的に作動することにより評価、または好ましくは決定され得る。公称背景の正確な形状は重要ではなく、目的は殆どの固定パターン変化および明白なスペクトル変化を除去することである。いつたん決定されると、この公称背景は永続的に記憶されかつ常に予備処理以外のデータのさらに他の処理の前にすべての他のデータに一貫して(変化なしに)印加される。標準化はデータを公称背景で除算することにより行われる。特性曲線データを除いて(ステツプ66)、個々の計算工程を除去するために相関マトリクス84に公称背景を組み込むのがコンピユータ化された計算において非常に便利である。
【0034】
吸収型スペクトルの代表的な場合において、すべてのサンプルおよび較正データ88,121,130(さらに後述される)はデータとほぼ同時に取られる普通の背景94(ならびに公称背景)に関して通常の方法において補正される。かかる場合においてデータおよび普通の背景はまず標準化されかつ補正マトリクス84を印加することにより較正(それぞれ90,127,132,95)される。次いで予備的に補正されたサンプルマトリクス較正データが、通常補正された背景で除算することにより、普通の背景に関してさらに補正(97,97',97'')される。これは対応する十分に補正されたデータ92,129,134をそれぞれ発生する。放出、散乱または蛍光のごとき他の場合において、普通の背景に関する前記補正は省略されても良い。
【0035】
本実施例が関する限り図示してなくかつ任意のさらに他のステツプは透過から吸収への従来のデータの変換であつても良い。これは一般には吸収スペクトルに関してのみでありかつマトリクス補正データの対数をとることにより行われる。この場合にマトリクス補正の普通の背景がまた変換されかつ他のデータから減算される。
【0036】
上に示したように、分光機器は普通には一般に理想的でない特徴的な固有の特性曲線54(図2)でありそして関心のあるスペクトルにわたつて変化することができる。より重要には、高い精度レベルにおいて、特性曲線は機器から機器へかつ同様に時間から時間へ変化する。本実施例における第1の目的は出力スペクトルのかかる線形態を均一に定義された目標特性曲線63に変換することである。より一般的には、機器により発生されるすべてのスペクトル、線またはその他は同一の方法において変換され、その結果出力スペクトルはもはや機器に依存せずそして非常に高い精度と比較され得る。
【0037】
本実施例における工程は所望の目標特性曲線63の形状および幅に条件を指定することである。これは非常に鮮明な、狭い入力線(例えば、原子放出またはレーザ線)の単一ビームスペクトルに所望されるスペクトル形状である。また、それは実際の下に横たわる吸収線が無視し得る幅を有する場合に非常に弱い、鮮明な吸収特徴に関して所望の形状である。目標特性曲線は、ガウス分布、スウパーガウス分布、渦巻きガウス分布、矩形または三角形のごとき機器特性曲線に合理的に匹敵し得る便利な、数学的に定義し得る形状にすることができる。好都合には、目標特性曲線は形状においてガウス分布である。目標特性曲線幅Wは、それが幾らか小さくする、すなわち特性曲線幅Wが機器特性曲線の固有の幅W'に公称上等しくすべきであるけれども、固有の幅W'とほぼ同一、またはそれより僅かに大きいように選ばれる。必要ならば、目標特性曲線幅および他のパラメータが、測定の解像度条件が変化するためかまたは物理的機器の最悪の場合の解像度がスペクトルを横切って顕著に変化するため、波長の関数として変化するように条件が指定されても良い。一般には、目標特性曲線幅は絶対波長における多項式(第4順位まで)として条件が指定されても良い。しかしながら、可能な場合には、幅を変化せずかつ作動スペクトル範囲に亘る直線変化のみを許容するのが好ましい。
【0038】
変換を発生するために、1組の特徴的な機器特性曲線66が関心のスペクトル領域に亘る一連の非常に鮮明なスペクトル線を有する線源から発生64されかつ記憶される。線源は目的のために十分な線がありかつそれらが鮮明である限り重要ではない。一連のレーザ線または原子放出線源が、十分な数の線が設けられ得る場合には、使用可能である。線は固有の幅より実質上狭い、好ましくは固有の幅の20%以下にすべきである。とくに適切な線源は円板43(図1)のフイルタの1つとして白色光放射線ビームに挿入される非常に精巧なフアブリ−ペローエタロン46である。(「精巧(フイネツス)」はスペクトル線間隔対一連の規則的に間隔が置かれた干渉計縞線の線幅の比として普通に定義される。)用語「非常に」は精巧が少なくとも約30であるべきことを意味する。エタロンの非常に好都合な形状(図6)はニトロセルロースのごときポリマフイルム96である。エタロン構造において、フイルムはリング上に引き延ばされるか、または好都合には、指数整合の光学セメント102を備えた1対の平らなガラス窓98の間に挟持されても良い。エポキシカプセル化または他の密封体が構造を取り囲む。
【0039】
フイルムは、近づき過ぎず(過度の重なり)また離れ過ぎない、適切なピーク密度を設けるような厚さからなるべきである。線間隔(自由なスペクトル範囲)はLS=L2 /2nlにより付与され、ここで、L=波長、n=フイルムの屈折率そしてl=フイルムの厚さである。とくに、本目的に関して、フイルムは固有の特性曲線幅が2〜3nmであるとき近赤外線範囲(800〜1100nm)に関して一般には10ないし25ミクロンの間の厚さ、好ましくは約15ないし20ミクロンにすべきである。フイルムは両側で半透明の金被覆102により被覆される。各金被覆は、金のほぼ300〜400Aの厚さで一般には達成される、1%ないし10%の間の透過、例えば約4%で設けるべきである。かかるエタロンは約40の精巧を備えた非常に鮮明な縞線を設けることが見出された。
【0040】
記載されたように、特性曲線データ66はこれを公称背景62で除算(68)することにより標準化される。最初の標準化特性曲線104は重なり(70)を除去するために曲線置換により先端で変更されるべきである幾らかの重なり翼部を有するかも知れない。キー変換フイルタ72、例えば、変更された固有の特性曲線106から目標特性曲線へ変換するのに要求される15個のキーフイルタが最初の組の選択されたスペクトル波長108に関して計算(74)される。インターポレーシヨン(挿入)は、ピクセル位置に関して、所望のスペクトル領域を適宜に被覆する1組の変換フイルタ78を確立するために選択された波長の間で行われる(76)。元のキーフイルタを置換する、インターポレーシヨンからすべてのフイルタをもたらすためにより正確にすることが認められた。波長較正80が、サンプルスペクトルを示す標準化データを発生するためにサンプルデータへの将来の印加のために記憶される補正マトリクス84をもたらすために、その場合にピクセル範囲にわたつてフイルタ78と結合される。
【0041】
未処理スペクトルを標準化スペクトルに変換するベクトル処理が図7に示される。変換は直線変換であり、そして変換は簡単なベクトル−マトリクス乗算として実行される。ベクトルは選択されたスペクトルにわたつて較正されたスペクトル強さ対波長を示す。標準化スペクトルベクトルがYならば、未処理スペクトルデータベクトルはyであり、そして変換マトリクスはTであり、そこでY=Tyである。
【0042】
実際の状態に関して、特定の標準化スペクトル要素を発生するために必要とされる情報は本来未処理のスペクトルの限定された部分から到来し、幅の領域は機器特性曲線幅のほぼ数倍となる。かくしてマトリクスTにおいて殆どの係数Ti j はゼロとして得られることができる。マトリクスの各列は、対角線上または近くで、幾つかの(代表的には20〜40)非ゼロ要素を含み、その結果マトリクスTはコンパクトな形状において有効に記憶されることができ、かつ実際のマトリクス乗算は比較的迅速にし得る。ベクトルYおよびyの単位は一般に等しくない。代表的には1024個のピクセルがyににありかつ500ないし750のスペクトル増分が標準化ベクトルにあるが、後者の数は適用の条件に依存して広範に変化することができる。
【0043】
標準化単位は絶対波長によつて任意に定義され、すなわちピクセルは直接較正されない。補正マトリクス84はサンプルデータが波長に直接関連付けられるように較正を行う。
【0044】
波長較正
機器の波長(WL)較正に関する概略は図3および図4のフローチヤートに含まれる。記憶された最初の波長較正112は臨界パラメータを決定するために較正ランプの使用により強調された機器の光学モデルを使用する公称機器較正により普通に設けられる。光学モデル計算は機器の物理的配置から通常の方法により行われる。最初の較正はかなり正確にすることができ、例えば99.9%の確度にすべきである。最初の補正マトリクス84は最初の較正により発生(82)される。機器の物理的標準からの続いて起こる精密較正スペクトルデータは1またはそれ以上の繰り返しループ118によりなされる改善を介して、初期のマトリクスから形成される洗練された補正マトリクス84により処理(総括的に58)される。
【0045】
最初の較正はスペクトル波長対所望のスペクトル帯域に亘る光検出器ピクセルのようなスペクトル位置に関してである。用語「波長」が本書および請求の範囲において使用されるけれども、波数または周波数は本目的に関して等価であるとして利用され得る。
【0046】
機器は精密に識別された波長の少なくとも1つの1次スペクトルピークの物理的標準較正源を包含する。好適な較正源は、円板43(図1)によつて、放射線ビームに挿入される光学標準48である。短波の近赤外線にとくに適する光学波長標準は精密に識別された波長(ほぼ938.5および946.0ナノメータ)の2つの近接した1次スペクトルピークにおいて吸収するネオジウムでドーピングされたイツトリウムアルミニウムガーネツト(Nd:YAG)水晶フイルタである。2つのピークはともに精密に識別された波長において中央1次スペクトルピーク117を定義する。(本書および請求の範囲において使用されるように、用語「スペクトルピーク」は単一の中心ならびに、より一般的にはNd:YAG二重項のごとき幾つかのピークの識別された中心を意味する。)
【0047】
較正ステツプ(図3および図4)に関して、機器は1次スペクトルピークを示しかつ較正特性曲線を定義する較正データ121を発生するために物理的標準較正源である波長較正源により最初に作動119される。較正データは縦座標較正を含んでいる上述した前処理により変更され、そして補正された標準ピークデータ129を発生するために補正マトリクス84によりかつ普通の背景(97')に関して補正(127)される。補正された標準ピークデータは好都合には公称背景標準化を含み、かつまた最初に光学モデルからマトリクス続いて繰り返しループを介して以前の較正シーケンスからである波長較正を含んでいる。
【0048】
WL標準特性曲線の中心(ピーク)の明白な波長が幾つかの方法のいずれかににより決定される。波長標準特性曲線位置(図8)の好適な態様131において最初の較正特性曲線120が記憶され、そしてこの特性曲線はまた逆にされた特性曲線122を作るためにスペクトル位置に対して評価された中心波長121を中心に反転される。記憶された特性曲線および逆転された特性曲線は次いで完全に対称な結合特性曲線124を作るために加算される。元の較正データ120は次いで評価された中心波長121と1次スペクトルピーク117との間のずれ125を決定するために結合された特性曲線124に適合させられる。したがつてずれはスペクトル位置に対する1次ピーク位置を定義する。
【0049】
公称中心からのWL標準特性曲線120のずれ125は結合された特性曲線124およびモデル成分として波長に対するその派生体を使用する在来の最小二乗適合方法により精密に決定される。結果として生じる中心位置117は補正されたスペクトルの1点を公知の基準波長に較正するのに使用される。詳細は計算方法の例により以下に記載される。
【0050】
機器はさらにスペクトル帯を横切って間隔が置かれた多数の2次ピークを発生するために物理的標準源を備えており、各2次ピークは相関定数にしたがつてピーク波長に識別し得る整数順位数を有する。適宜な標準は低い精巧(フイネツス)のフアブリ−ペローエタロン50、好ましくは円板43(図1)に配置された、約50ミクロンの厚さの被覆されない溶融シリカプレートである。この光学要素は多数の2次ピークの縞パターン中に放射線を伝送する。光学要素は十分に定義されかつ良く知られた関係において波長に僅かに関連付けられる屈折率(n)を有する。縞順位数(m)は標準縞等式(m=nT'/L)により相関定数(T')にしたがつてピーク波長(L)に識別される。用語T'は要素の有効厚さの2倍である。すなわち、T'はTが実際の厚さである場合にほぼ2Tである。定数T'が本書で開示された手順により非常に正確に決定されることができるので、実際の厚さは知られる必要はない。また、本方法は均一でない厚さおよび温度により誘導される変化を平均しかつ時々変化するかも知れない機器内のエタロンの誤方向付けを補償する。
【0051】
機器は次にピクセルに関連して確認されたピーク位置を有する2次ピークを示す2次データ130を発生するために低いフイネツス(LF)のエタロンにより作動128(図4)される。2次データは補正された2次ピークデータ134を発生するためにマトリクス84により補正132される。最初のラウンドに関して、ピーク波長は近似のみであり、印加された補正マトリクスに含まれる光学モデル較正より正確でない。次のステツプ136は、ピクセル位置に関連して、または較正によりピクセル位置に関連する標準化された位置に直接関連して2次(縞)ピークを正確に配置するために、Nd:YAG水晶の1次ピーク117(またはその中心等価)の正確に知られた波長に関連して上記等式を利用する。
【0052】
相関定数T'は最初に少なくとも1つの選択された順位数にしたがつて評価されかつ対応するピーク波長が公称較正により決定される。この評価は波長を上記等式に適合させかつ相関定数すなわち傾斜T'を設けるように派生体を取ることにより好都合に行われる。較正順位数、すなわち本当の整数順位数が、次いで1次ピークに隣接して配置された選択された2次ピークに関して識別され、かかる識別は等式、評価された相関定数および公称較正により選択された2次ピークに関して決定された予備波長に従っている。他のすべての2次ピークに関する順位数はその場合に較正数から簡単にカウントアツプおよびカウントダウンすることにより確立される。
【0053】
1次ピークに関する実際の順位数はその各側で2次ピークから挿入(インターポレーテイング)され、1つは選択された2次ピークである。精密な相関定数が次いで部分順位数および精密な1次ピーク波長から計算される。精密相関定数が絶対較正波長を関連の順位数にかつそれによりスペクトル位置に対する2次ピーク位置に割り当てるために上記等式により利用される。波長補正係数116は記憶され、波長マツピング114が更新され、そして補正マトリクス84が同様に更新される。
【0054】
継続して図4を参照して、絶対波長(WL)決定(136)後、2次データの観察されたピーク位置が明白な波長位置(原稿の波長較正にしたがつて)の予備モデルを発生するために適合(138)させられ、そしてこのモデルのピークはスペクトルを横切る波長誤差を提供するために割り当てられた絶対較正波長から減算(140)される。誤差は多項式(142)を使用して適合させられた曲線であり、そして決定は誤差曲線が予め定めた許容し得るレベル内にあるかどうかについてなされる(144)。誤差曲線のレベルが許容し得ないならば、ステツプはマツピング発生器114用の波長補正係数116の更新147を包含するように分岐150を有する、小さい再較正ループ118について繰り返される。誤差曲線のレベルが許容し得るならば、較正は完全(146)と見做され、そして補正マトリクス84がサンプルデータへの印加に備えて保持される。
【0055】
図4の手順は、2つのループ、すなわち大きな再較正ループ148および小さな再較正ループ118により、繰り返して作動する。すべての作動は自動的に運転および運行されるパラメータテーブルである。通常、大きな再較正はたまに、または修理が装置に対してなされるとき行われる。これらは比較的計算が多く時間を消費する。小さな再較正はより迅速でありかつ、光学装置の受動安定性に応じて、要求されるとき頻繁になされることができる。通常、小さなループは収束が多項補正係数をマツピングすることに対する補正が無視し得るために得られるまで繰り返される。これは初期の工場較正時3ないし4回の繰り返しを要求するかも知れないが、その後通常は1または2回のみである。
【0056】
前記ステツプを実施するためのプログラミング手段はコンピユータにより利用される演算装置の供給者を通して一般に利用し得る「C」のごとき在来のコンピユータ言語により便利にかつ容易に達成される。曲線適合が普通でありかつプログラムはそれゆえ容易に利用し得る。全体のプログラムは、例えば、分光計と連係することができる、デジタル・エクイツプメント・コーポレーシヨンのモデル316+コンピユータで作り上げられ得る。
【0057】
この発明は同一の選択された目標特性曲線を有する各機器により発生されるデジタルの共通の標準化を提供する。該標準化は種々の機器からかつ時々各機器から引き出されるかかるすべてのデータがあたかもすべて単一の仮定の不変機器により発生されたものであるようになつている。かかる仮定の機器はその固有の特性曲線として選択された目標特性曲線を有し、かつ信号/雑音(S/N)比および1次波長標準較正源の再生性により制限される以外、誤差許容レベルの設定において所望されると事実上同じ位精密な波長確度を有する。時々の再較正は完全に自動化されることができ、その結果機器は連続して正確な出力データを供給し得る。かかる機器は、近赤外線透過によりガソリンオクタンを監視するためのごとき、放射線透過または放出の非常に微妙な差異を検出するのにとくに適する。
【0058】
理解されることは、本実施例は機器によりもたらされた分光機器データの歪みを示す固有の特性を有する分光機器を標準化することを提供するということである。本実施例は分光測定標準化データ用の仮定の目標関数(特性曲線)を条件として指定することを含む。目標関数は固有の特性曲線に対する同様な幅のガウス分布のごとき固有の特性に匹敵し得る。変換関数(例えば、マトリクス)は固有の特性を目標特性に変換するために決定され、そして変換関数は標準化データを発生するために機器データに印加される。波長較正が利用されるならば、較正された標準化データを発生するために機器で印加される、補正関数をもたらすために変換関数と結合されねばならない。
【0059】
計算方法の例
分離特性曲線
標準化された特性曲線は重なりを除去すべく変更されるべきである重なり翼部を有するかも知れない。適宜な方法が使用され得る。有用と認められる翼部モデルは次式(各谷部に関して)である。
【0060】
y(P)=aL exp〔−bL *(P−Pv )〕+aR exp〔bR *(Pv −P)〕+C
ここで、P=ピクセル数、PV =谷部中心ピクセル、C=基線定数ずれ、
aL ,aR =左、右指数翼部の振幅、
bL ,bR =(L,R)翼部の指数傾斜係数。
【0061】
初期の5つのパラメータ非直線適合ラウンドにおいて、各谷部はaL ,bL ,aR ,bR およびCを生じるように適合させられる。次の段階において、基線はC'に全体の多項式適合により置き換えられる。bの値は多項式適合から生じる平滑にされた値により第1ラウンドの値(左および右独立して)に置き換えられる。各谷部の2つのa係数が次いで簡単な直線LS適合(2つのパラメータのみ)を使用して再適合させられる。結果として生じる指数翼モデルは次いで個々の分離されたキー特性曲線評価を供給するために観察された特性曲線コアに接合される。本手順のフローシートが図10に示される。
【0062】
スペクトルを横切る規則的な間隔において機器特性曲線を測定するために金被覆の高いフイネツスのエタロンの透過ピークを使用することにおいて、幾つかのエラーがエタロン特性曲線が完全に鮮明でないため生起する。この不完全さは測定可能な金の反射力および厚さ非均一性による。結果として、特性曲線変換フイルタはエラーが僅かであり、その結果本当に鮮明な線(レーザ線またはガス放出線のごとき)のその後に変換された特性曲線が規定されたガウス分布より狭くなることが判明する。多くの用途に関してエラーは小さくかつ無視され得るが、必要なときそれは、未処理のエタロンスペクトルが、公称背景による除算を含む、あらゆる処理の前に測定可能な金エタロン縞(フリンジ)幅に関して補正される逆回旋(デコンボリユーシヨン)方法により十分に除去されることができる。補正は非常に高い解像度の分光計を使用する個々の測定によりまたは、代替的に、ガス放出線ピーク形状に金エタロンピークを比較することにより認められることができる。逆回旋フイルタはここではフイルタを計算するのに使用される技術と同一である最小二乗回帰技術により計算され得る。
【0063】
特性曲線変換デジタルフイルタ
1組のキーフイルタが、上記キー特性曲線の各々に関して少なくとも1つ発生される。フイルタの大きさnF (物理的なピクセルユニツトにおける素子の数、常に奇数)は予め条件として指定される。使用者はスペクトル範囲に広がるように各々異なる大きさを有する幾つかのグループのフイルタを条件として指定することができる。これは、より狭いフイルタがそれらが十分である場合にスペクトル範囲の部分に使用されることができ、かつより広いフイルタが必要な場合のみ使用される(より不十分な機器解像度またはより正確な化学測定要件のため)ので、メモリ使用および速度の最適化を許容する。グループ割当てはまたスペクトル範囲の各端部での「デツドゾーン」を最小にするためにスペクトル範囲の端部において非常に短いフイルタの使用を許容する。
【0064】
特性曲線デジタルフイルタ(PDF)は変換された未処理特性曲線と対応する目標特性曲線との間の平均二乗エラーを最小にする特定の長さnF のそれらの直線フイルタであるように設計されかつ計算される。計算方法は簡単でかつ良く知られている。フイルタを作成する係数Fi はモデルベクトルが未処理特性曲線の連続して移動されるコピーである通常の直線最小二乗回帰の適合係数として決定され、そして適合されるべき目標特性曲線関数は所望の目標特性曲線(代表的にはガウス分布)である。
【0065】
回帰計算は均一に重みを付けられることができるか、または特性曲線の端部が翼部におけるフイルタ性能を改善するために優先的に重みを付けられることができる。フイルタは係数の単位合計に見積もられる。さらに、フイルタはピーク中心の最小移動を発生するように設計される。これは未処理特性曲線の中心を最初に計算することにより達成される。対応するずれはその場合に合成目標特性曲線に組み込まれ、その結果フイルタは特性曲線移動を発生しないことを要する。この用心にも拘わらず、結果として生じるフイルタは、それらの非ゼロ中心により証明されるように、常に多少の残留移動作用を有する。
【0066】
計算はピクセル空間において完全に行われる。それゆえ、フイルタを発生する最小二乗回帰の目標である目標特性曲線を合成することにおいて、ピクセル上への標準化要素のマツピング、スペクトルにわたつて変化するマツピングを考慮しなければならない。加えて、目標特性曲線の幅は波長に依存するように条件として指定されても良い。それゆえ、キーフイルタ発生は波長較正が完全でかつ正確であるときのみ正しくなされることができる。最初の通過時、マツピングは必然的に近似し、その結果発生されるフイルタは幾らか不正確である。したがつて、方法全体が少なくとも1回(大きな再較正ループ)繰り返されねばならない。エラーは、しかしながら、波長エラーにおける第2順位からなりそしてPDFの収束は非常に急速である。
【0067】
機器の標準化を実施するために、各選択されたスペクトル要素用のフイルタを必要とする。一般に、各フイルタは僅かに異なる。実際の場合に、物理的な機器特性曲線の変化はPDFがキーフイルタ間に連続して挿入されることができるように十分に漸進的である。挿入手順は任意(標準波長)のユニツト(変換後ピクセル空間に置換する)の空間において発生し、そしてフイルタ係数による係数で実施される。異なる大きさのフイルタグループが使用されるとき、挿入は各グループ内のみで実施される。各グループ内に包含されるキーフイルタはグループ境界近傍のキー特性曲線が両方の大きさに関してPDFを発生するのに使用されるように重なり合う。これは非常に標準化された要素用のPDFが、外挿が要求されるかも知れないスペクトル範囲の両端における以外、一方のグループまたは他方のグループのフイルタについての挿入により得られることができることを保証する。
【0068】
標準挿入方法は特定の要素において中間のフイルタ係数を引き出すのに使用され得る。3点ラグランゲ挿入は3点(すなわち、3つの連続フイルタのjt h 係数)に2次適合を有効に使用する。直線挿入/外挿が端部領域において使用される(ラグランゲ2点挿入)。キーフイルタは必ずしも等しく間隔が置かれる必要はない。
【0069】
較正マトリクスの発生
挿入されたPDFがいつたん制御下にありかつ標準化要素とピクセルとの間波長マツピングの評価が存在するならば、変換を実際に行うマトリクスが形成されることができる。it h の標準化要素に対応する、マトリクスのit h 行に関して、すべてゼロがマトリクスの対角線上または近傍の非ゼロ部分を除いて使用される。この部分は基本的には波長マツピングにしたがつて正確な端数のピクセルを発生するように変更された、対応するPDFである。また、各要素は所望の標準化を導入するために固定の公称背景ピクセルスペクトルにより分割される。部分中心はit h 要素にマツピングするのに最も近くなるピクセルに向けるように位置決めされる。
【0070】
とくに、it h 行の非ゼロ部分は、{Gi =Fi 〔回旋〕Si }により付与され、ここでFi はit h 標準化要素、そしてSi はマツピングの全ピクセルプラス副ピクセル調整を行うための移動フイルタである。この回旋後、Gi の個々の要素はそれぞれの背景標準化要素Bj を除算することにより、すなわちTi j =Gi j /Bj により標準化される。係数Si j は標準化要素iからマツピングする最も近いピクセルのまわりの幾つかのピクセルにわたつてのみ非ゼロである。それらは(a)マツピングの端数部分、および(b)PDF Fi の非ゼロ中心による寄生移動を説明するのに必要とされる適切な副ピクセル挿入に実質上等しい直線変換を実行するように計算される。
【0071】
移動フイルタを発生するのに使用される挿入方法の選択は未処理データの品質に依存する。スペクトルがかなりオーバーサンプリング(例えば、10ピクセル/特性曲線幅)されかつS/Nが非常に高い(>104 )であるとき、本当に簡単な挿入方法が適切である。とくに、移動は低い順位のラグランゲ挿入(通常4点、挿入端数ピクセル値に跨がる4点に対して三次多項式を適合させることに対応する)4つのラグランゲ係数は移動フイルタSi を構成する。PDF Fi により回旋されるとき、部分長さは3ピクセルだけ増加する。
【0072】
波長標準測定
波長標準の未処理スペクトル(例えば、Nd:YAGレーザ水晶、6mm厚さ、ドーピング〜0.5%)が標準化されかつ二重ビーム吸収形状に変換される、すなわち、標準化された強さスペクトルが測定された標準化背景かつ同時に、吸収に変換された結果(−log1 0 )により除算される。窓は標準線の予想位置のまわりで調べられる。ピーク(または二重ピーク)を見つけるとき、ピーク位置対数が標準化ユニツト中のその位置(較正が収束されるならば、絶対波長に等しい)を決定するのに使用される。その公知の本当の位置からの観察されたピーク位置のずれがその場合に、標準化要素において注目される。
【0073】
適宜なピーク位置アルゴリズムは以下の通りである。まず、粗いピーク発見が行われる。これは調査窓における最高のスペクトル点である。対称の多重線の場合には我々はスペクトルを、標準化要素間隔が挿入なしに許容するのと同じくらいそれに近接して、公知の多重線ににより対称的に移動されるスペクトルの多数のコピーを重畳しかつ加算することにより前処理する。これは多重線の対称の中心において単一の最高のピークを有する合成擬似スペクトルを結果として生じる。ピーク位置はこの擬似スペクトル中心ピーク(ほぼその最高点)の中心を計算することによりさらに精密にされることができる。中心計算はより低いレベルのカツトオフが確立されることを要求し、これは基線上方のピーク高さの固定部分としてなされる。
【0074】
制御下にあるこのさらに精密にされたピーク位置評価により、我々は元の標準化された二重ビームスペクトル(擬似スペクトルではない)に復帰する。評価を予備ピーク中心として取るとき、我々はスペクトルをこの点のまわりに左方から右方に裏返す。この裏返し(フリツプ)点は、一般にデータ点上にまたはそれらの間の中間ににないので、元の格子でサンプリングされる裏返された回転を発生することは挿入を要求する。立方(キユービツク)スプラインまたはラグランゲ挿入は両方とも目的に適する。左右反転スペクトルは次いで実際のピーク形状と同様な、ピーク形状モデルを発生するために元のスペクトルに加算されるが、構成により裏返し点のまわりに対称に保証される。元のスペクトルはその場合にモデルスペクトル、すなわち(a)対称的にされたピーク形状モデル、(b)ピーク形状モデルの数値的派生物、および(c)1またはそれ以上の多項式背景項(代表的には定数、直線項、および2次項)として使用する普通の直線最小二乗回帰を使用して適合させられる。観察された線の移動はその第1派生物の混合として第1順位にモデル化される。したがつて、派生物ベクトルに対応する最小二乗適合係数はその仮定された位置からのピーク移動の測定である。これは移動がピーク幅の小さな部分である限り有効であり、その状態は上記手順を見出している粗いピークにより確実にされる。移動を決定するための技術は1991年10月4日に出願された本譲受人のアメリカ合衆国特許の同時係属出願771,705号に開示されている。
【0075】
第2波長標準線、例えば、Nd:YAG中の853nmに位置される線を測定するのが望ましいかも知れない。この測定は較正シーケンスにおいて早期に機器波長分散を決定するのに使用され、そしてマーカーエタロン縞数の考え得る誤った識別を回避する。それは最終的な較正に作用しない。
【0076】
第2ピーク測定
単一の低いフイネツスの縞スペクトルが有効なエタロン厚さを決定しかつ縞の各ピーク(および谷部)での標準化較正横座標を測定するのに使用されれる。包絡線151中の平均中心二重ビーム標準化吸収縞スペクトルが図9に示される。ピーク152および谷部154(本目的のためのピークを構成する)は縞のゼロ交差を見出すことによりほぼ配置される。ピークおよび谷部は波数(反復波長)におけるゼロ交差間のほぼ中間であるように取られる。
【0077】
最小二乗回帰は、多項式(2より大きいかまたはほぼ等しい順位の)をピークおよび谷部点に同時に適合させることにより、縞の包絡線を確立するように行われる。この包絡線適合は縞分析において後で使用される。標準化ユニツトは減少された波数またはZ=sn(S)によりZユニツトに変換され、ここで、s=(1/L)が波数(cm- 1 )(真空)でありそしてn(s)は波数の関数としてのエタロン材料の屈折率である。エタロン等式はm=ZT'として書き表され、ここでmは干渉の順位、T'はエタロンの2倍の有効厚さである。
【0078】
縞ピークおよび谷部のZ位置に対する縞数をプロツトすることは非常に高い直線プロツトを付与する。その点に対する直線適合が行われるとき、傾斜は有効厚さの2倍の第1の評価、すなわち、T'=dm/dzを付与する。i番目の縞ピークの絶対順位数mはその場合にmj =INT(ZT')を使用して見出される。正確な順位数を各縞に割当て(ピークに関して整数、使用されるならば、谷部に関して半整数)た後、次いでdm/dz、かつそれゆえ有効厚さをより正確に決定するために単一のパラメータ最小二乗適合(傾斜のみ、切片なし)を行うことができる。これはT'に関しての「改善された評価」である。
【0079】
この点において、波長標準線がそれにおいて発生する縞数が見出される。これを行うために、波長標準(上記で決定されるような)の標準化ユニツト位置に跨がる幾つかの(代表的には2ないし5)隣接する縞スペクトルが詳細に検査される。とくに、それらのピーク(谷部)Z位置が後述されるような手順により正確に測定される。
【0080】
これらの幾つかの縞の順位数は次いでそれらの測定されたZ位置および行われた直線適合(直線回帰)に対してプロツトされる。垂線Z=Z(観察された、波長標準)によるこの回帰線上のm切片はその場合にWL標準波長に対応する端数の順位数m'を付与する。次いでT'=m'/Z(絶対、波長標準)から2倍の有効エタロン厚さに関する最終の最良評価を計算することが可能である。
【0081】
縞は次いで1つづつ計算される。各々に関して(a)有効厚さに基づいて理論的なZ位置が計算されそして(b)適合方法(以下)を使用して観察されたZ位置が測定される。差異はスペクトル中のこの点における較正誤差として取られる。また、この同一の情報は波長エラー対物理的ピクセル数に変換される。波長エラーに対する多項式適合が次いで、代表的には順位3または5について行われる。この適合の係数は、特定されたしきい値より大きいならば、その場合に直接減算によりり多項式補正係数をマツピングするマスタ波長を更新するのに使用される。
【0082】
第2標準(低いフイネツスのエタロン)ピークおよび谷部は直線適合方法により精密に配置される。各ピーク(谷部)を取り囲むスペクトルの小さな領域、代表的には0.7ないし1.5の縞幅は、Z空間内の適切な周期のモデル関数合成変更サインおよびコサイン縞として使用するために個々に最小二乗適合させられる。サインおよびコサイン関数はそれらに上記で決定された包絡線関数を乗算することにより変更される。基線ずれ項がまた適合に包含される。ピーク位置ずれはサイン対コサイン回帰係数の比により付与される。
【0083】
本発明は特定の実施例に関連して詳細に上述されたが、本発明の精神および特許請求の範囲内にある種々の変化および変更は当該技術に熟練した者には明らかとなる。それゆえ、本発明は特許請求の範囲およびそれらの同等物によつてのみ制限されるべく意図される。
【0084】
叙上のごとく、本発明は、近赤外スペクトル線を通過するために非常に精巧なエタロンを含むエタロン構造において、前記エタロンがその各側で被覆する半透明な金を有する薄いポリマフイルムからなり、各被覆が1%ないし10%の間の透過を提供するのに十分であるように構成としたので、較正に利用され得る新規な非常に精巧なエタロンを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例における分光装置を示す概略図である。
【図2】分光機器の固有特性曲線、選択された目標特性曲線、および関連の変換フイルタを示すスペクトルプロツトを示す図である。
【図3】実施例において利用されるコンピユータプログラムに関するフローチヤートである。
【図4】実施例において利用されるコンピユータプログラムに関するフローチヤートである。
【図5】図3と図4の関係を説明する説明図である。
【図6】本発明による高いフイネツスのエタロンの断面図である。
【図7】実施例における補正マトリクスを利用するベクトル乗算を説明する説明図である。
【図8】二重ピーク較正特性曲線および実施例におけるその処理を示すスペクトルプロツト図である。
【図9】実施例において利用される低いフイネツスのスペクトルを示すスペクトルプロツト図である。
【図10】図3および図4のフローチヤートにおける特性曲線を分離するためのステツプの詳細なフローチヤートである。
【符号の説明】
10 分光機器
11 光検出器
12 光源
32 分光計
37 コンピユータ
43 円板
46 光学フイルタ要素
54 固有特性曲線
Claims (2)
- 近赤外スペクトル線を通過するために非常に精巧なエタロンを含むエタロン構造において、前記エタロンがその各側で被覆する半透明な金を有する約10ないし25μmの厚さであるニトロセルロースのポリマフイルムからなり、各被覆が1%ないし10%の間の透過を提供するのに十分であることを特徴とするエタロン構造。
- さらにそれらの間に挟持されたエタロンを有する1対の平らなガラス窓からなることを特徴とする請求項1に記載のエタロン構造。
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