JP3759026B2 - 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器 - Google Patents

半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP3759026B2
JP3759026B2 JP2001373159A JP2001373159A JP3759026B2 JP 3759026 B2 JP3759026 B2 JP 3759026B2 JP 2001373159 A JP2001373159 A JP 2001373159A JP 2001373159 A JP2001373159 A JP 2001373159A JP 3759026 B2 JP3759026 B2 JP 3759026B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
address
signal
circuit
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001373159A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003173699A (ja
Inventor
幸司 宮下
正也 上原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001373159A priority Critical patent/JP3759026B2/ja
Priority to US10/314,433 priority patent/US7085974B2/en
Publication of JP2003173699A publication Critical patent/JP2003173699A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3759026B2 publication Critical patent/JP3759026B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/12015Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising clock generation or timing circuitry
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/006Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation at wafer scale level, i.e. wafer scale integration [WSI]
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、メモリセルを備える半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器に関する。
【0002】
【背景技術および発明が解決しようとする課題】
半導体装置の製造においては、パッケージングなどの工程が無駄になるのを極力避けるために、可能な限りウエハの状態で様々な試験を行うのが一般的である。
【0003】
ウエハ状態における半導体装置の検査には、多数のプローブ(接触子)を備えるプローブカードを介してテスタ(半導体装置試験装置)が半導体装置に接続されて検査が行われる。この検査においては、例えば図14に模式図として示すようにプローブカード3000の各プローブ3010を半導体ウエハ2000の各チップに形成されている端子例えばデータ入出力端子に接触させて、アドレス信号、データ信号、コントロール信号や電源などの入出力がテスタと半導体装置との間で行われる。このようなテスタは、半導体装置との間でデータの入出力を行うための入出力回路、アドレス信号や制御信号を送出するドライバなどを多数備えているが、そのような入出力回路やドライバの数には自ずと限度がある。
【0004】
一方、一枚のウエハに搭載されている半導体装置の数すなわちチップ数や各チップが備える端子数は、高集積度化に伴ってますます多くなってきている。したがって、1枚のウエハ上に形成された多数の半導体装置の検査を行うために、多くの回数に分けて検査する必要が生じ、検査に長い時間が必要となっている。
【0005】
また、半導体装置をウエハの状態で検査するために、プローブ3010を半導体装置の各端子例えばアドレス入力端子に接触させることによって端子が損傷を受け、そのような端子の損傷に起因してそのような端子へのボンディングなどで問題が発生し,完成品としての半導体装置が不良となってしまうことがあることが知られている。したがって、プローブによる端子への接触回数はできるだけ少ないことが好ましい。
【0006】
さらに、半導体装置においては、初期故障を可能な限り出荷前に発生させ、出荷される製品から取り除くためにバーンインを行うことが多い。なお、バーンインとは、電子装置を通常の動作条件よりも高い温度や電圧で動作させることにより電子装置に強いストレスを与え、これにより、初期故障を短時間で発生させて、不具合の生じた電子装置を出荷される前に取り除くために行われる試験のことである。半導体装置におけるバーンインは、従来、セラミックや樹脂を用いたパッケージングなどを行って製品として完成した後に実施されることが多かった。しかしながら、それではバーンインにおいて不良となったチップの組立コストが無駄になってしまう。そこで、バーンインもやはりウエハ状態で行うウエハレベルバーンインが行われるようになっている。
【0007】
ウエハレベルバーンインでは、高い温度条件下で動作させるために半導体ウエハを専用のバーンイン装置内に配置する。ところで、このようなバーンイン装置が、近年、テスタ機能を備えるようになってきている。しかし、バーンイン装置に備えられたテスタによって同時に検査できる半導体装置の数は通常のテスタに比べると少ないことが多い。したがって、ウエハ上のすべての半導体装置を検査するためには、通常のテスタに比べると、さらに長い時間がかかってしまう。
【0008】
本発明は、上記のような点に鑑みてなされたものであって、その目的は、以下のいずれかの作用効果を奏することができる半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器を提供することにある。
1) 検査に要する時間を短縮することができる。
2) ウエハ状態における検査による端子の損傷を低減することができる。
【0009】
【課題を解決するための手段】
(1) 本発明に係る半導体装置は、
データを記憶する複数のメモリセルと、
クロック信号が入力されるクロック信号入力端子と、
試験モードでの動作を指示する試験モード信号が入力される試験モード信号入力端子と、
前記複数のメモリセルの一部を選択するためのアドレス信号を生成するアドレス入力部と、
前記アドレス入力部から出力された前記アドレス信号が後続の回路へ入力されるタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らす遅延回路と、を有し、
前記アドレス入力部は、
前記試験モードにおいて、前記クロック信号を用いて、前記アドレス信号を生成するアドレス信号生成部と、
前記アドレス信号を一時的に保持するアドレス保持回路と、
を備えることを特徴としている。
【0010】
本発明によれば、試験モードにおいては、アドレス信号生成部がクロック信号を用いてアドレス信号を生成するため、外部からアドレスを入力するためのアドレス入力端子に信号を入力することなくアドレス指定することができる。したがって、試験モードにおいて、アドレス入力端子にテスタのプローブ(接触子)を接触させることなく、アドレス指定を行うことができる。そのため、ウエハ状態における検査によるアドレス入力端子の損傷を低減することができる。
【0011】
また、テスタが半導体装置一つあたりに使用するプローブの数を削減することが可能となるため、プローブ数が限られたテスタによって一度に検査できる半導体装置の数を増加させることが可能となる。その結果、ウエハ状態における半導体装置一つあたりの検査に要する時間を短縮することができる。
【0012】
さらに、アドレス入力部から出力された前記アドレス信号が後続の回路へ入力されるタイミングを、アドレス信号の生成に用いたクロック信号の例えば立上りまたは立下りから遅らす遅延回路を備えているため、遅延させる時間を適切に選択することによってクロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ出力することができる。
【0013】
(2) 前記遅延回路における前記所定時間は、前記アドレス信号生成部がアドレス信号の生成に要する時間以上であってもよい。
【0014】
この遅延回路によって、アドレス信号をアドレス入力部に後続する回路へ出力するタイミングが、アドレス信号生成部がアドレス信号の生成に要する時間以上にわたってクロック信号に基づいて遅らされるため、クロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ出力することができる。
【0015】
(3) 前記アドレス信号生成部は、入力された信号をそれぞれ分周して出力する複数の直列接続された分周回路を備え、
先頭の前記分周回路には、前記クロック信号が入力され、
他の前記分周回路には、当該分周回路の前段の前記分周回路の出力が入力され、
一の前記アドレス保持回路には、前記クロック信号が入力可能に形成され、
他の前記アドレス保持回路には、前記複数の分周回路のうち当該アドレス保持回路に対応する分周回路からの出力が入力可能に形成されていてもよい。
【0016】
(4) (1)ないし(3)のいずれかの半導体装置は、
複数の前記アドレス保持回路から出力された前記アドレス信号をデコードするデコーダ回路をさらに有し、
前記遅延回路は、前記アドレス信号が前記デコーダ回路へ入力されるタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らすようにしてもよい。
【0017】
(5) (1)ないし(3)のいずれかの半導体装置は、
複数の前記アドレス保持回路から出力された前記アドレス信号をデコードするデコーダ回路をさらに有し、
前記遅延回路は、前記デコーダ回路が前記アドレス信号をデコードするタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らすようにしてもよい。
【0018】
(6) (1)ないし(5)のいずれかの半導体装置は、前記アドレス入力部において、
前記アドレス保持回路が、前記アドレス信号生成部が生成した前記アドレス信号、および、外部アドレス信号の、いずれを保持するかを切り替えるスイッチング部をさらに備えていてもよい。
【0019】
本発明によれば、外部アドレス信号によってアドレスが指定される通常のモードでの動作と、クロック信号をもとに生成したアドレス信号によってアドレスが指定される試験モードでの動作とを、スイッチング部によって切り替えることができる。
【0020】
(7) 本発明に係る電子機器は、前記いずれかの半導体装置を備えることを特徴としている。
【0021】
(8) 本発明に係る半導体装置の検査方法は、
クロック信号を用いてアドレス信号を生成するアドレス信号生成過程と、
前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らして、前記アドレス信号を後続の回路へ出力するアドレス信号出力過程と、
を有することを特徴としている。
【0022】
本発明によれば、アドレス信号を後続の回路へ出力するタイミングが、クロック信号の例えば立上がりまたは立下りから所定時間だけ遅らされるため、遅延させる時間を適切に選択することによってクロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ出力することができる。
【0023】
また、外部からアドレスを入力するためのアドレス入力端子に信号を入力することなくアドレス指定することができるため、アドレス入力端子にテスタのプローブ(接触子)を接触させることなく、アドレス指定を行うことができる。そのため、ウエハ状態における検査によるアドレス入力端子の損傷を低減することができる。さらには、テスタが半導体装置一つあたりに使用するプローブの数を削減することが可能となるため、プローブ数が限られたテスタによって一度に検査できる半導体装置の数を増加させることが可能となる。その結果、ウエハ状態における半導体装置一つあたりの検査に要する時間を短縮することができる。
【0024】
(9) 前記アドレス信号出力過程における前記所定時間は、前記アドレス信号生成過程において前記アドレス信号の生成に要する時間以上であってもよい。
【0025】
これによって、アドレス信号を後続の回路へ出力するタイミングが、アドレス信号生成過程においてアドレス信号の生成に要する時間以上だけクロック信号に基づいて遅らされるため、クロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ出力することができる。
【0026】
(10) 前記アドレス信号生成過程においては、前記クロック信号と、当該クロック信号を複数回分周して得られる各分周信号とを、それぞれ1つのビットとするアドレス信号を生成してもよい。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら、さらに具体的に説明する。以下の各実施形態では本発明に係る半導体メモリをSRAM(static random access memory)チップに適用した例を示すが、本発明はこれに限定されず他の半導体メモリにも適用することができる。
【0028】
1.SRAMチップの概略構成
図1は、本実施形態に係るSRAMチップ1000の構成の概略を示すブロック図である。この図に示すように、SRAMチップ1000は、アドレス入力部としてのアドレス入力回路100、データ入力回路200、データ出力回路300、制御回路400、行デコーダ550、列デコーダ570、ライトドライバ250、メモリセルアレイ500、センスアンプ350、および多数の端子601〜605を備えて構成される。
【0029】
メモリセルアレイ500には、例えば16メガビットのメモリセルが配置されている。なお、メモリセルアレイ500は、チップ状態で発見された不良メモリセルを置換してリペアするための冗長メモリセルを余分に備えている。
【0030】
端子601〜605は、メタルパッドとして形成されており、殆どがパッケージング工程においてバンプやボンディングワイヤ等を介してパッケージの外部端子と接続される。これらの端子は、大まかに分類すると、アドレス信号A0〜A19が入力されるアドレス入力端子601、すなわちI/O1〜I/O16端子を備えデータが入出力されるデータ入出力端子602、制御信号端子603、Vdd端子およびGND端子を備える電源端子604、およびモニタ端子605となる。
【0031】
制御信号端子603には、クロック信号が入力されるφ端子と、チップセレクト信号が入力される/CS端子と、ライトイネーブル信号が入力される/WE端子と、試験モード信号が入力される試験モード信号入力端子であるTM端子とが含まれる。なお、チップセレクト信号/CSおよびライトイネーブル信号/WEはアクティブローであり、試験モード信号TMはアクティブハイである。したがって、TM端子がHレベルのとき、SRAMチップ1000は試験モードになり、オープンまたはLレベルのときは通常動作モードとなる。制御信号端子603の各端子、すなわちφ端子、/CS端子、/WE端子、TM端子へ入力された制御信号は、制御回路400へ入力される。そして、制御回路400は、SRAMチップ1000におけるデータ書き込み、データ読み出しなどの制御を行うための各種制御信号を発生させる。
【0032】
アドレス入力部としてのアドレス入力回路100は、入力された外部アドレス信号A0〜A19に基づいて、あるいは独自に、メモリセルの一部を選択するための(内部)アドレス信号を行デコーダ550と列デコーダ570に対して出力する。
【0033】
行デコーダ550は、アドレス入力回路100から出力されたアドレス信号に基づいて行選択信号を生成する。また、列デコーダ570は、アドレス入力回路100から出力されたアドレス信号に基づいて列デコード信号を生成する。
【0034】
データ入力回路200には、データ書き込み時にデータ入出力端子602を経由して外部データ信号が入力される。そして、データ入力回路200は、データ信号をライトドライバ250に対して出力する。
【0035】
データ出力回路300には、データ読み出し時にメモリセルのデータ信号をセンスアンプ350で増幅した信号が入力される。そして、データ出力回路300は、データ入出力端子602を介して外部へデータを出力する。
【0036】
2.メモリセルアレイ
本実施形態に係るSRAMチップ1000のメモリセルアレイ500は、図2に模式図として示すように、4つのメモリセルマット510、すなわち、データの上位8ビットに対応する2つのメモリセルマット510と、データの下位8ビットに対応する2つのメモリセルマット510とを備えている。そして、各メモリセルマット510は、複数のメモリブロックから構成されている。
【0037】
図3は、データの上位8ビットが記憶されるメモリセルマット510内の、一つのメモリブロック520および周辺回路を示す概略図である。このメモリブロック520はメモリセルMCを128kビット分備えており、それらのメモリセルMCはメモリブロック520内にアレイ状に配置されている。このようなメモリブロック520は、各メモリセルマット510内に32ブロック配置され、4つのメモリセルマット510を備えるメモリセルアレイ500全体としてのメモリ容量は16Mビットとなっている。
【0038】
メモリブロック520は、複数のワード線WL1〜WL2048と、これらのワード線と交差する複数のビット線対(BL1,/BL1)〜(BL64,/BL64)と、これらのワード線とこれらのビット線対との交点に対応して設けられたメモリセルMCとを備えている。各メモリセルMCは、図4に示すように、転送トランジスタQ1、Q2、駆動トランジスタQ3、Q4、負荷トランジスタQ5、Q6の6個のMOSトランジスタで構成されている。
【0039】
なお、不良が発生したメモリセルを置き換えてリペアを可能とするために、各メモリブロックは冗長ワード線およびそれら冗長ワード線に対応する冗長メモリセルを備えている。また、いくつかのメモリブロック520は冗長ビット線対およびそれら冗長ビット線対に対応する冗長メモリセルも備えている。各メモリブロックにおいては前述したように16ビットのデータの上位8ビットまたは下位8ビットに対応したメモリセルが設けられているため、前述した各冗長ワード線に対応して設けられる冗長メモリセルは8ビットのメモリセルとなっている。
【0040】
また、メモリブロック520の周囲には、データバス(DB1,/DB1)〜(DB8,/DB8)や、列デコーダ570からの出力信号を伝達するデコード信号線(Y1,/Y1)〜(Y8,/Y8)も設けられている。データバス対(DB1,/DB1)〜(DB8,/DB8)は、それぞれ、8個のビット線対毎にビット線対と接続される。データバス対(DB1,/DB1)を例とすれば、データバス対(DB1,/DB1)は、ビット線対(BL1,/BL1)、(BL9,/BL9)、(BL17,/BL17)…(B57,/BL57)と、トランスミッションゲートで構成されたカラムゲートCGを介して接続される。カラムゲートCGによるビット線対とデータバス対との接続制御は、列デコーダ570から出力されたデコード信号(Y1,/Y1)〜(Y8,/Y8)にしたがって行われる。また、データバス対(DB1,/DB1)〜(DB8,/DB8)はライトドライバ250およびセンスアンプ350に接続されている。
【0041】
なお、図3ではデータの上位8ビットが記憶されるメモリセルマット510内の、一つのメモリブロック520を示したため、各ビット線対が接続されるデータバス対は(DB1,/DB1)〜(DB8,/DB8)のいずれかとなっていた。しかし、データの下位8ビットが記憶されるメモリセルマット510内では、各メモリブロック520において、各ビット線対が接続されるデータバス対は(DB9,/DB9)〜(DB16,/DB16)のいずれかとなる。
【0042】
3.アドレス入力回路
アドレス入力回路100は、図5に一部を省略したブロック図として示すように、20個のアドレス信号入力回路110−0〜110−19と、20個のアドレス保持回路としてのアドレスラッチ130−0〜130−19と、19個の分周回路としてのTフリップフロップ120−1〜120−19と、アドレス遷移検出信号ATP0〜ATP19を合成するATP合成回路150を含んで構成される。
【0043】
アドレス信号入力回路110−0〜110−19には、それぞれ、/CS信号と、TM信号とが入力され、A0〜A19端子の対応するいずれかが接続されている。
【0044】
また、19個のTフリップフロップ120−1〜120−19により、19段の2進カウンタが構成されている。このカウンタでは、クロック信号φが、インバータ140を介して、アドレス信号入力回路110−0および第1段目のTフリップフロップ120−1のクロック入力端子に入力されている。そして、第1段目のTフリップフロップ120−1の出力端子Qからの出力Q1は、アドレス信号入力回路110−1および第2段目のTフリップフロップ120−2のクロック入力端子に入力されている。さらに、以下同様に入出力されるように、Tフリップフロップとアドレス信号入力回路とが順次接続されている。最後に、第19段目のTフリップフロップ120−19の出力端子Qからの出力Q19は、アドレス信号入力回路110−19に入力される。
【0045】
すなわち、各Tフリップフロップ120−1〜120−19を分周回路ととらえると、これらのTフリップフロップは、入力された信号をそれぞれ分周して出力する複数の直列接続された分周回路とみることができる。そして、先頭の分周回路としてのTフリップフロップ120−1にはクロック信号φが入力され、他の分周回路としてのTフリップフロップ120−2〜120−19には、各段の前段の出力が入力されている。また、試験モード時は、アドレス保持回路としてのアドレスラッチ130−0にはインバータ140によって反転されたクロック信号がアドレス信号入力回路110−0を介して入力され、アドレス保持回路としてのアドレスラッチ130−1〜130−19には対応する分周回路としてのTフリップフロップ120−1〜120−19が対応するアドレス信号入力回路110−1〜110−19を介して入力されるように構成されている。
【0046】
アドレス保持回路としてのアドレスラッチ130−0〜130−19は、制御回路400から出力される制御信号にしたがって内部アドレス信号線に対して(内部)アドレス信号を出力する。
【0047】
次に、アドレス信号入力回路の詳細について、アドレス信号入力回路110−0を例として説明する。図6は、アドレス信号入力回路110−0のブロック図である。
【0048】
通常の動作中は、/チップセレクト信号(/CS)がLレベル(アクティブ)、試験モード信号(TM)がLレベル(ノンアクティブ)となる。したがって、NORゲート115から出力されたHレベルの信号は、インバータ117で反転されてLレベルの信号となり、NORゲート119に入力される。また、Lレベルの試験モード信号により、トランスミッションゲート113はオンする。これにより、A0端子から入力した外部からのアドレス信号は、NORゲート119で反転され、インバータ112で反転され、トランスミッションゲート113を通り、(内部)アドレスA0i信号として行デコーダ550へ出力される。アドレス信号A0iは、ATP発生回路114にも入力されており、ATP発生回路114はアドレス信号A0iが反転した場合、パルス信号であるアドレス遷移検出信号ATP0を発生する。アドレス遷移検出信号ATP0は、図5に示したATP合成回路150に入力される。なお、Lレベルの試験モード信号TMにより、トランスミッションゲート111はオフするので、クロック信号φがインバータ140により反転された信号の入力は禁止される。
【0049】
一方、試験モード中は、試験モード信号がHレベル(アクティブ)となり、トランスミッションゲート111はオンし、インバータ140で反転されたクロック信号φはトランスミッションゲート111を通り、(内部)アドレスA0i信号として行デコーダ550へ出力される。アドレス信号A0iは、ATP発生回路114にも入力されており、ATP発生回路114はアドレス信号A0iが反転した場合、アドレス遷移検出信号ATP0を発生する。アドレス遷移検出信号ATP0は、図5に示したATP合成回路150に入力される。なお、Hレベルの試験モード信号TMにより、トランスミッションゲート113はオフするので、A0端子からの入力は禁止される。
【0050】
図7は、アドレス信号入力回路110−1の回路図である。この図から明らかなように、アドレス信号入力回路110−1は、アドレス信号入力回路110−0と同様に構成されている。異なる点は、トランスミッションゲート111に入力される信号がTフリップフロップ120−1の出力信号Q1であること、出力するアドレス信号がアドレス信号A1iであること、そして、ATP発生回路114がアドレス信号A1iの反転時に発生させるアドレス遷移検出信号がATP1であることである。
【0051】
同様に、アドレス信号入力回路110−2〜110−19においても、トランスミッションゲート111に入力される信号は対応するTフリップフロップ120−2〜120−19の出力信号Q2〜19であり、出力するアドレス信号は対応するアドレス信号A2i〜A19iである。そして、各ATP発生回路114が対応するアドレス信号A2i〜A19iの反転時に発生させるアドレス遷移検出信号は対応するATP2〜ATP19である。
【0052】
このように、アドレス信号入力回路110−0ではトランスミッションゲート111に入力される信号が、インバータ140で反転されたクロック信号φであり、アドレス信号入力回路110−1〜110−19ではトランスミッションゲート111に入力される信号が、対応するTフリップフロップ120−1〜120−19の出力信号Q1〜Q19である。そして、試験モード時には試験モード信号TMがHレベルであるため、それらの信号が各トランスミッションゲート111を通過し、アドレス信号A0i〜A19iとして出力されて、各アドレスラッチ130−0〜130−19に保持される。なお、Hレベルの試験モード信号により、トランスミッションゲート113はオフするので、入出力端子A0〜A19からの入力は禁止される。したがって、試験モード時には、19個のTフリップフロップ120−1〜120−19により構成され、クロック信号が初段のTフリップフロップに入力されるカウンタは、試験モードにおけるアドレス信号を生成するアドレス信号生成部となっている。
【0053】
また、通常モード時すなわちTM信号がLレベルで、/CS信号がLレベル(アクティブ)の場合には、アドレス入力端子601(A0〜A19)に入力されたアドレス信号が、各トランスミッションゲート113に伝達され、トランスミッションゲート113を通過し、アドレス信号A0i〜A19iとして出力されて、各アドレスラッチ130−0〜130−19に保持される。なお、Lレベルの試験モード信号により、トランスミッションゲート111はオフするので、アドレス信号生成部が生成したアドレス信号の入力は禁止される。
【0054】
このように、各アドレス信号入力回路110−0〜110−19のトランスミッションゲート111およびトランスミッションゲート113を含む回路は、アドレス信号生成部が生成したアドレス信号、および、アドレス入力端子601(A0〜A19)から入力した外部アドレス信号のいずれを、アドレスラッチ130−0〜130−19が保持するかを切り替えるスイッチング部として動作する。なお、このスイッチング部は、トランスミッションゲートに替えて他のスイッチング素子例えばクロックドインバータを用いて構成することもできる。
【0055】
このように本実施形態のアドレス入力回路100によれば、試験モードにおいては、アドレス信号生成部がクロック信号φを用いてアドレス信号を生成するため、外部からアドレスを入力するためのアドレス入力端子601に信号を入力することなくアドレス指定することができる。したがって、試験モードにおいて、アドレス入力端子601にテスタのプローブ(接触子)を接触させることなく、アドレス指定を行うことができる。そのため、ウエハ状態における検査によるアドレス入力端子601の損傷を低減することができる。
【0056】
また、テスタがSRAMチップ1000一つあたりに使用するプローブの数を削減することが可能となるため、プローブ数が限られたテスタによって一度に検査できるSRAMチップ1000の数を増加させることが可能となる。その結果、ウエハ状態におけるSRAMチップ1000一つあたりの検査に要する時間を短縮することができる。
【0057】
4.遅延回路
ところで、前述したアドレス入力回路では、試験モードにおいて、直列接続された分周回路としてのTフリップフロップ120−1〜19の各段における出力を内部アドレス信号の1ビットとして用いていた。このように、複数のTフリップフロップを直列接続すると、最初のTフリップフロップ120−1にクロック信号φが入力されてから、各段のTフリップフロップの状態が反転し最後のTフリップフロップ120−19の状態が反転するまでに、無視できない時間がかかってしまう。すなわち、クロック信号φが最初のTフリップフロップ120−1に入力されてから内部アドレスが確定するまでに無視できない時間がかかってしまうことになる。
【0058】
そこで、試験モードにおいて、アドレス入力部100から出力されたアドレス信号が後続の回路へ入力されるタイミングを、クロック信号φの立上りまたは立下りから所定時間だけ遅らす遅延回路例えばタイマー回路を備える構成が用いられている。図8は、そのような構成の一例であり、タイマー回路170と行デコード回路550の一部を示すブロック図である。この図に示すように、内部アドレス信号線140により伝達されるアドレス信号からプリデコード信号560を生成するこのデコード回路550の部分において、内部アドレス信号線140に入力端子が接続されたNANDゲート552の出力は、もう一つのNANDゲート554の一つの入力端子に入力されている。そのNANDゲート554の他の入力端子にはタイマー回路170の出力信号MWLEがインバータ172を介して入力されている。したがって、NANDゲート554の出力は、NANDゲート552の出力がLレベルであり、かつ、タイマー回路170の出力信号MWLEがHレベルである場合にのみ、Hレベルとなって対応するプリデコード信号線の信号がアクティブとなる。これによって、対応する行のメモリセルMCの選択が可能となる。
【0059】
一方、タイマー回路170は、図8に示したように、試験モード信号TMとクロック信号φが入力され、出力信号MWLEを発生させる。すなわち、タイマー回路170の出力信号MWLEは、通常Hレベルであるが、試験モード信号TMがHレベルすなわち試験モードであることを示している場合には、図9に示しように、クロック信号φの立上りまたは立下りに同期して所定期間PにわたってLレベルとなるパルス信号となる。この所定期間Pは、クロックの周期C(例えば50ns)より遥かに短く、しかもアドレス入力部100のアドレス信号生成部がアドレス信号の生成に要する時間以上(例えば10ns)になるように、タイマー回路170が構成されている。アドレス信号生成部がアドレス信号の生成に要する時間は例えばシミュレーションなどによって予測できる。前述したように、タイマー回路170の出力信号MWLEがLレベルである場合は、プリデコード信号線の信号はLレベルで非アクティブなため、対応する行のメモリセルMCは選択されない。したがって、メモリセルMCの選択は、クロック信号φの立上りまたは立下りから、タイマー回路170の出力信号MWLEがLレベルである所定期間だけ遅らされ、タイマー回路170の出力信号MWLEがHレベルとなった後となる。
【0060】
このように、タイマー回路170を含む構成によって、アドレス信号をアドレス入力部100に後続する回路へ出力するタイミングが、アドレス入力部100のアドレス信号生成部がアドレス信号の生成に要する時間以上にわたってクロック信号の立上がりまたは立下りから遅らされるため、クロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ伝えることができる。
【0061】
5.データ入力回路
図10は、データ入力回路200の構成の一例を示すブロック図である。この図に示すように、データ入力回路200は、複数の入出力端子I/O 1〜I/O 16のそれぞれに対応して、入力バッファIBと、入力データ保持部としてのライトラッチWLとを備えている。すなわち、各入出力端子には入力バッファIBが接続され、その入力バッファIBにはライトラッチWLが接続されている。
【0062】
さらに、データ入力回路200は、通常モードであるかあるいは試験モードであるかによって、次のような異なった状態となるようにスイッチングを行うスイッチング回路を備えている。なお、試験モードであるかあるいは通常モードであるかは、試験モード信号入力端子(TM端子)に入力される試験モード信号TMが試験モードであることを示しているか否かによって認識される。このスイッチング回路の動作によって、データ入力回路200は、通常のモードにおいては、各入出力端子I/O 1〜I/O 16に入力された信号をそれぞれの入力バッファIBおよびライトラッチWLを介してそのビットのデータとして後続の回路例えばライトドライバ250に伝達する。一方、試験モードである場合は、このスイッチング回路の動作によって、データ入力回路200は、複数の入出力端子から入力された複数の信号を用いることに替えて、それら複数の入出力端子のそれぞれに後続する回路の所与の箇所における信号を、それら複数の入出力端子のうちの一つにおけるその箇所の信号で置き換えて後続の回路例えばライトドライバ250に伝達する。これによって、データ入力回路200は、試験モードにおいては、複数の入出力端子のうち、いずれか一つの入出力端子に入力された信号を、それら複数の入出力端子が対応する各ビットのデータとして後続の回路に出力する。
【0063】
そのようなスイッチング回路の一例として、本実施形態においては図10に示すように、複数のクロックドインバータ208および複数のクロックドインバータ210を含んだ回路が用いられている。このスイッチング回路によって、入出力端子I/O 1、I/O 3、I/O 5、およびI/O 7に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 1の信号経路にあるライトラッチWLからの出力信号を反転させた信号に置き換えられる。I/O 3を例にこれを説明すると、試験モードでは試験モード信号TMがHレベル(アクティブ)となるため、I/O 3端子に続くクロックドインバータ208がオフとなり、I/O 3端子から入力され入力バッファIBおよびWL204を経た信号は後続の回路からは切断される。同時に、そのクロックドインバータ208の出力端子から延びる信号線には、クロックドインバータ210がオンすることによってI/O 1端子からの信号経路にあるライトラッチWLの出力信号が反転された信号が接続される。試験モードにおいては、I/O 5およびI/O 7においても同様な信号の置き換えが行われる。また、入出力端子I/O 1に続く各ライトラッチWLの出力は、当該各ライトラッチWLに続くインバータ206によって反転される。その結果、試験モードにおいては、入出力端子I/O 1、I/O 3、I/O 5、およびI/O 7に対応する信号は、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 1の信号経路にあるライトラッチWLからの出力信号が反転された信号となる。
【0064】
同様にして、入出力端子I/O 2、I/O 4、I/O 6、およびI/O 8に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 2に対応するライトラッチからの出力信号が反転された信号となる。
【0065】
このようにして、入出力端子I/O 1〜I/O 8のうち奇数番号の入出力端子に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 1に対応するライトラッチWLからの出力信号が反転された信号となって後続の回路例えばライトドライバ250に伝達される。また、入出力端子I/O 1〜I/O 8のうち偶数番号の入出力端子に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 2に対応するライトラッチからの出力信号が反転された信号となって後続の回路例えばライトドライバ250に伝達される。
【0066】
さらに、I/O 9〜I/O 16に後続する回路においても、I/O 1〜I/O 8に後続する回路の場合と同様に、入出力端子I/O 9〜I/O 16のうち奇数番号の入出力端子に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 9に対応するライトラッチからの出力信号が反転された信号となって後続の回路例えばライトドライバ250に伝達され、I/O 9〜I/O 16のうち偶数番号の入出力端子に対応する信号は、試験モードにおいては、ライトラッチWLに続く信号経路において、すべて入出力端子I/O 10に対応するライトラッチからの出力信号が反転された信号となって後続の回路例えばライトドライバ250に伝達されるように構成されている。
【0067】
なお、通常モードすなわちTM信号がLレベルの場合においては、I/O 3〜I/O 8、および、I/O 11〜I/O 16のそれぞれのライトラッチに後続するクロックドインバータ208がオンし、各クロックドインバータ210がオフするため、各入出力端子に続く各ライトラッチWLの出力は、クロックドインバータ208を経て後続の回路例えばライトドライバ250に伝達される。また、入出力端子I/O 1、I/O 2、I/O 9、およびI/O 10に続く各ライトラッチWLの出力は、当該各ライトラッチWLに続くインバータ206を介して、後続の回路例えばライトドライバ250に伝達される。
【0068】
このように本実施形態のデータ入力回路200よれば、メモリセルMCに記憶させるためのデータの試験モードにおける入力時に複数の入出力端子のうちのいずれか一つの入出力端子に入力された信号が、それら複数の入出力端子のそれぞれに入力された場合と同一な信号を後続する各部に対して出力するようにスイッチング回路がスイッチングできるため、一つの端子にテスタのプローブ(接触子)を接触させるだけで複数の端子に同じデータを入力したのと同様に動作させることができる。したがって、一つのSRAMチップ1000へのデータ入力に必要となるプローブの数を削減することが可能となり、テスタによって一度に検査できるSRAMチップ1000の数を増加させることが可能となる。その結果、ウエハ状態におけるSRAMチップ1000一つあたりの検査に要する時間を短縮することができる。
【0069】
また、複数の入出力端子のうちの一つだけにプローブを接触させてデータ入力を行うことができるため、入出力端子に対するプローブの接触回数を削減することができ、ウエハ状態における検査による入出力端子の損傷を低減することができる。
【0070】
6.データ出力回路
図11は、データ出力部としてのデータ出力回路300の構成を示すブロック図である。この図に示すように、データ出力回路200は、複数の入出力端子I/O 1〜I/O 16のそれぞれに対応して、センスアンプSA、出力データ保持部としてのリードラッチRL、および出力バッファOBを備えている。すなわち、各入出力端子602には、それぞれに対応して設けられた、センスアンプSA、リードラッチRL、および出力バッファOBを順に経た信号が伝達される。
【0071】
さらに、データ出力回路300は、前述したデータ入力回路200において試験モード時に同一の信号がライトドライバ250に伝達されるようにしたビットの入出力端子のグループについて、そのグループ内の各入出力端子に対応するリードラッチの出力データが入力され、それら出力データが一致するか否かを判定する比較器306を備えている。この比較器306は入出力端子のグループごとに設けられている。
【0072】
そして、データ出力回路300は、通常モードであるか試験モードであるかによって、次のように異なった出力状態とするための構成である切り替えスイッチ部を備えている。この切り替えスイッチ部は複数のクロックドインバータ310と複数のクロックドインバータ314とを含んで構成される。すなわち、この切り替えスイッチ部の動作によって、データ出力回路300は、通常のモードにおいては、各入出力端子I/O 1〜I/O 16に、それぞれのセンスアンプSA、出力データ保持部としてのリードラッチRL、および出力バッファOBを経た信号を出力する。また、この切り替えスイッチ部の動作によって、データ出力回路300は、試験モードである場合すなわち試験モード信号入力端子(TM端子)に入力される試験モード信号TMが試験モードであることを示している場合においては、前述した比較器306の出力を対応するグループ内の一つの入出力端子に伝達する。なお、比較器306の出力をモニタ端子605に接続するようにしても良い。
【0073】
そのような構成の一例として、本実施形態においては図11に示すように、入出力端子I/O 1、I/O 3、I/O 5、およびI/O 7に対応する各リードラッチRLの出力は、それら入出力端子のグループに対応して設けられた比較器306にそれぞれ入力されている。なお、これらの入出力端子は、前述したデータ入力回路200において試験モード時に同一の信号をライトドライバ250に対して出力するようにしたビットの入出力端子である。そして、その比較器306の出力は、インバータ308、試験モード時すなわち試験モード信号TMがHレベルのときにオンするクロックドインバータ310、および出力バッファOBを介してそのグループ内の一つの入出力端子例えばI/O 1に伝達されるように構成されている。また、入出力端子I/O 1に対応するリードラッチの出力はインバータ312に入力され、そのインバータの出力は通常モード時にはオンし試験モード時にはオフするクロックドインバータ314に入力され、クロックドインバータ314の出力は入出力端子I/O 1の出力バッファOBに入力されている。したがって、入出力端子I/O 1からの出力は、通常モード時には入出力端子I/O 1に対応するリードラッチRLの出力するデータ信号となり、試験モード時にはその入出力端子のグループに対応する比較器306から出力されたデータ信号となる。
【0074】
同様に、入出力端子I/O 2、I/O 4、I/O 6、およびI/O 8に対応する各リードラッチRLの出力は、それら入出力端子のグループに対応して設けられた比較器306にそれぞれ入力されている。これらの入出力端子も、前述したデータ入力回路200において試験モード時に同一の信号をライトドライバ250に対して出力するようにしたビットの入出力端子である。そして、上記と同様に、これらの入出力端子のグループに対応して設けられた、インバータ308、クロックドインバータ310、インバータ312、およびクロックドインバータ314の動作によって、入出力端子I/O 2からの出力は、通常モード時には入出力端子I/O 2に対応するリードラッチRLの出力するデータ信号となり、試験モード時にはその入出力端子のグループに対応する比較器306から出力されたデータ信号となる。
【0075】
さらに、I/O 9〜I/O 16に対応するデータ出力回路300においても、I/O 1〜I/O 8に対応する回路の場合と同様に、入出力端子I/O 9〜I/O 16のうち奇数番号の入出力端子に対応するリードラッチRLからの出力信号は、試験モードにおいては、それら奇数番号の入出力端子のグループに対応して設けられた比較器306に入力され、その比較器306の出力がそのグループ内の一つの入出力端子例えばI/O 9に伝達されるように構成されている。同様に、入出力端子I/O 9〜I/O 16のうち偶数番号の入出力端子に対応するリードラッチRLからの出力信号は、試験モードにおいては、それら偶数番号の入出力端子のグループに対応して設けられた比較器306に入力され、その比較器306の出力がそのグループ内の一つの入出力端子例えばI/O 10に伝達されるように構成されている。
【0076】
なお、通常モードすなわちTM信号がLレベルの場合においては、すべての比較器306の出力はクロックドインバータ310がオフするため入出力端子には伝えられず、試験モード時に比較器306の出力信号が伝達される入出力端子I/O 1、I/O 2、I/O 9、およびI/O 10には、クロックドインバータ314がオンするため、各入出力端子に対応するリードラッチRLの出力信号が伝達される。
【0077】
以上のように、本実施形態のデータ出力回路300によれば、同一データが出力されるべきデータ入出力端子からの出力データが一致するか否かを、それらのデータ入出力端子のすべてにプローブを接触させることなく、比較器306の出力が行われる入出力端子にプローブを接触させることによって検出できる。したがって、テスタによって一度に検査できるSRAMチップ1000の数を増加させることが可能となり、ウエハ状態におけるSRAMチップ1000一つあたりの検査に要する時間を短縮することができる。また、比較器306の出力を行う入出力端子のみにプローブを接触させるだけで複数のデータ入出力端子からの出力データが一致する否か検出できるため、検査における入出力端子に対するプローブの接触回数を削減することができ、ウエハ状態におけるSRAMチップ1000の検査による入出力端子の損傷を低減することができる。
【0078】
7.半導体装置の検査方法
図12は、本実施形態のSRAMチップ1000が多数形成された半導体ウエハ2000の模式的な平面図である。本実施形態のSRAMチップ1000の検査は、このようなウエハ状態におけるSRAMチップ1000に対して行われる検査である。なお、以下においては、バーンイン装置内における半導体装置の検査であって、高温試験の前に常温で行われる検査を例として説明する。
【0079】
この検査においては、まず、多数のプローブ(接触子)を備えるプローブカードのプローブが、検査対象となるチップに設けられた端子(パッド)例えば前述したデータ入出力端子602および制御信号端子603に接触した状態とされる。これによって、プローブカードを介して接続されたテスタ(半導体装置試験装置)と、各SRAMチップ1000との間で、データ信号、コントロール信号や電源などの入出力を行ってSRAMチップ1000を動作させることが可能となる。
【0080】
そして、SRAMチップ1000の制御信号端子603の一つであるTM端子に、テスタが発生させたアクティブ(Hレベル)の試験モード信号TMが入力される。SRAMチップ1000へのデータの入力および以下に説明する検査における各ステップは、この試験モード信号によってSRAMチップ1000が試験モードとなった後に行われる。
【0081】
SRAMチップ1000へのデータの入力においては、複数の入出力端子のうちのいずれか一つの入出力端子に入力された信号を、それら複数の入出力端子のそれぞれに入力された信号としてデータ入力が行われる。すなわち、図10を示して前述したデータ入力回路200の例では、各クロックドインバータ208および210に入力される試験モード信号TMに対応した、クロックドインバータ208および210を含んで構成されるスイッチング回路のスイッチング状態にしたがってデータ入力が行われる。
【0082】
そのようにして入力されたデータは、アドレス入力回路100が出力する信号に基づいて、行デコーダ550および列デコーダ570によって指定されたアドレスのメモリセルMCにライトドライバ250によって書き込まれる。
【0083】
なお、このアドレス指定は次のようなステップで行われる。まず、アドレス入力回路100は、クロック信号を用いて、クロック信号と、そのクロック信号を複数回分周して得られる各分周信号とを、それぞれ1つのビットとするアドレス信号を生成する。
【0084】
そして、生成されたアドレス信号は、クロック信号の立上りまたは立下りから、アドレス信号生成過程においてアドレス信号の生成に要する時間以上である所定時間だけ遅らされて、後続の回路例えば行デコーダへ出力される。このように、アドレス信号を後続の回路へ出力するタイミングが、アドレス信号の生成に要する時間以上だけクロック信号の立上がりまたは立下りから遅らされるため、クロック信号ごとに確実に更新されたアドレスを後続の回路へ出力することができる。
【0085】
このようにしてメモリセルに書き込まれたデータは、アドレス入力回路100、行デコーダ550および列デコーダ570を介して指定されたメモリセルMCから、センスアンプ350により読み出される。センスアンプ350によって読み出されたデータは、前述したデータ出力回路300のリードラッチRLおよび出力バッファOBを介して入出力端子602に出力される。
【0086】
8.電子機器
図13(A)、(B)、および(C)は、前述した実施形態におけるSRAMチップを用いた電子機器の例を示す外観図である。図13(A)は携帯電話機88であり、図13(B)は腕時計92であり、図13(C)は、携帯情報機器96である。
【0087】
これらの電子機器は、前述した実施形態におけるSRAMチップ、CPU(central processing unit)、表示部98を駆動する表示ドライバなどを含んで構成されている。これらを含む各部はバスラインまたは他の信号伝達手段により互いに接続されている。
【0088】
なお、前述したいずれかの実施形態におけるSRAMチップが使用される電子機器としては、携帯電話機、腕時計、および携帯情報機器に限らず、ノート型パソコン、電子手帳、ページャ、電卓、POS端末、ICカード、ミニディスクプレーヤなど様々な電子機器が考えられる。
【0089】
9.変形例
9.1 前述した実施形態においては、遅延回路によって行デコーダにおけるデコードのタイミングを遅らす例を示したが、遅延回路によって列デコーダにおけるデコードのタイミングを遅らすようにしてもよい。
【0090】
9.2 前述した実施形態においては、アドレス入力回路100のアドレス信号生成部が分周回路としてTフリップフロップを用いる例を示した。しかしながら、分周回路を他の回路に適用しても良い。
【0091】
9.3 前述した実施形態においては、アドレス入力部100から出力されたアドレス信号が後続の回路へ入力されるタイミングを遅らす遅延回路として、タイマーを用いた構成の例を示した。しかしながら、遅延回路を他の回路を用いても良い。
【0092】
9.4 本発明は前述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内、または、特許請求の範囲の均等範囲内で、各種の変形実施が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】SRAMチップの構成の概略を示すブロック図である。
【図2】4つのメモリセルマットを備えるメモリセルアレイを示す模式図である。
【図3】メモリブロックおよび周辺回路を示す概略図である。
【図4】各メモリセルMCの構成を示す回路図である。
【図5】アドレス入力回路の一部を省略したブロック図である。
【図6】アドレス信号入力回路の一つを示すブロック図である。
【図7】アドレス信号入力回路の他の一つを示すブロック図である。
【図8】タイマー回路と行デコード回路の一部を示すブロック図である。
【図9】クロック信号とタイマー回路の出力信号との関係を示す図である。
【図10】データ入力回路の構成例を示すブロック図である。
【図11】データ出力回路の構成例を示すブロック図である。
【図12】SRAMチップが多数形成された半導体ウエハの模式的な平面図である。
【図13】(A)、(B)、および(C)は、いずれかの実施形態におけるSRAMチップを用いた電子機器の例を示す外観図である。
【図14】ウエハ状態における半導体装置の検査の様子を示す模式図である。
【符号の説明】
100 アドレス入力回路
110−0〜110−19 アドレス信号入力回路
111 トランスミッションゲート
112 インバータ
113 トランスミッションゲート
114 ATP発生回路
115 NORゲート
117 インバータ
119 NORゲート
120−1〜120−19 Tフリップフロップ(分周回路)
130−0〜130−19 アドレスラッチ(アドレス保持回路)
140 (内部)アドレス信号線
150 ATP合成回路
170 タイマー(遅延回路)
172 インバータ
200,201,202 データ入力回路
206 インバータ
208 クロックドインバータ
210 クロックドインバータ
250 ライトドライバ
300 データ出力回路
306 比較器
308 インバータ
310 クロックドインバータ
312 インバータ
314 クロックドインバータ
350 センスアンプ
400 制御回路
500 メモリセルアレイ
510 メモリセルマット
520 メモリブロック
550 行デコーダ
552 NANDゲート
554 NANDゲート
560 プリデコード信号
570 列デコーダ
601 アドレス入力端子
602 データ入出力端子
603 制御信号端子
604 電源端子
605 モニタ端子
1000 SRAMチップ
2000 半導体ウエハ
3000 プローブカード
3010 プローブ
CG カラムゲート
MC メモリセル
OB 出力バッファ
RL リードラッチ
SA センスアンプ
TM 試験モード信号
WL ライトラッチ

Claims (11)

  1. データを記憶する複数のメモリセルと、
    クロック信号が入力されるクロック信号入力端子と、
    試験モードでの動作を指示する試験モード信号が入力される試験モード信号入力端子と、
    前記複数のメモリセルの一部を選択するためのアドレス信号を生成するアドレス生成部と、
    前記アドレス生成部から出力された前記アドレス信号が後続の回路へ入力されるタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らす遅延回路と、を有し、
    前記アドレス生成部は、
    前記試験モードにおいて、前記クロック信号を用いて、複数ビットの前記アドレス信号の各ビットをそれぞれ生成するアドレス信号生成回路と、
    前記アドレス信号の各ビットをそれぞれ一時的に保持する複数のアドレス保持回路と、
    入力された信号をそれぞれ分周して出力する、直列接続された複数の分周回路と、
    を備え、
    先頭の前記分周回路には、前記クロック信号が入力され、
    他の前記分周回路には、当該分周回路の前段の前記分周回路の出力が入力され、
    一の前記アドレス信号生成回路には、前記クロック信号が入力可能に形成され、
    他の前記アドレス信号生成回路には、前記複数の分周回路のうち当該アドレス信号生成回路に対応する分周回路からの出力が入力可能に形成された半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記アドレス信号は、前記複数ビットの少なくとも1ビットが、前記クロック信号の半周期毎に変化する、半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記遅延回路における前記所定時間は、前記アドレス信号生成回路がアドレス信号の生成に要する時間以上である半導体装置。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれかにおいて、
    前記複数の分周回路の各々が2進カウンタである、半導体装置。
  5. 請求項1ないし請求項4のいずれかにおいて、
    前記複数のアドレス保持回路から出力された前記アドレス信号をデコードするデコーダ回路をさらに有し、
    前記遅延回路は、前記アドレス信号が前記デコーダ回路へ入力されるタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らす、半導体装置。
  6. 請求項1ないし請求項5のいずれかにおいて、
    前記複数のアドレス保持回路から出力された前記アドレス信号をデコードするデコーダ回路をさらに有し、
    前記遅延回路は、前記デコーダ回路が前記アドレス信号をデコードするタイミングを、前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らす、半導体装置。
  7. 請求項1ないし請求項6のいずれかにおいて、
    前記アドレス生成部は、
    前記複数のアドレス保持回路が、前記アドレス信号生成回路が生成した前記アドレス信号、および、外部から入力される外部アドレス信号の、いずれを保持するかを切り替えるスイッチング部をさらに備え、
    前記遅延回路は、前記クロック信号及び前記試験モード信号に基づいて、試験モード時に前記アドレス信号が前記デコーダ回路へ入力されるタイミングを前記所定時間だけ遅らせる半導体装置。
  8. 請求項1ないし7のいずれかに記載の半導体装置を備える電子機器。
  9. クロック信号を用いて、複数ビットのアドレス信号の各々を複数のアドレス信号生成回路にて生成するアドレス信号生成過程と、
    前記クロック信号に基づいて所定時間だけ遅らして、前記複数ビットのアドレス信号を後続の回路へ出力するアドレス信号出力過程と、
    を有し、
    前記アドレス信号生成過程では、
    直列接続された複数の分周回路のうちの先頭の分周回路には、前記クロック信号が入力され、他の前記分周回路には、当該分周回路の前段の前記分周回路の出力が入力され、
    一の前記アドレス信号生成回路には、前記クロック信号が入力され、
    他の前記アドレス信号生成回路には、前記複数の分周回路のうち当該アドレス信号生成回路に対応する分周回路からの出力が入力され、前記クロック信号と、当該クロック信号を複数回分周して得られる各分周信号とを、それぞれ1つのビットとする複数ビットの前記アドレス信号を生成する、半導体装置の検査方法。
  10. 請求項9において、
    前記アドレス信号は、前記複数ビットの少なくとも1ビットが前記クロック信号の半周期毎に変化する、半導体装置の検査方法。
  11. 請求項9または請求項10において、
    前記アドレス信号出力過程にて遅延される前記所定時間は、前記アドレス信号生成過程において前記アドレス信号の生成に要する時間以上である、半導体装置の検査方法。
JP2001373159A 2001-12-06 2001-12-06 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器 Expired - Fee Related JP3759026B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001373159A JP3759026B2 (ja) 2001-12-06 2001-12-06 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器
US10/314,433 US7085974B2 (en) 2001-12-06 2002-12-06 Semiconductor device, method of testing the same and electronic instrument

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001373159A JP3759026B2 (ja) 2001-12-06 2001-12-06 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003173699A JP2003173699A (ja) 2003-06-20
JP3759026B2 true JP3759026B2 (ja) 2006-03-22

Family

ID=19181928

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001373159A Expired - Fee Related JP3759026B2 (ja) 2001-12-06 2001-12-06 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7085974B2 (ja)
JP (1) JP3759026B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7405585B2 (en) * 2006-02-14 2008-07-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Versatile semiconductor test structure array
JP5559616B2 (ja) * 2010-06-17 2014-07-23 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体メモリ装置
KR102217920B1 (ko) * 2014-12-15 2021-02-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0461420A (ja) 1990-06-28 1992-02-27 Canon Inc データ検出装置
US5461243A (en) * 1993-10-29 1995-10-24 International Business Machines Corporation Substrate for tensilely strained semiconductor
US6039803A (en) * 1996-06-28 2000-03-21 Massachusetts Institute Of Technology Utilization of miscut substrates to improve relaxed graded silicon-germanium and germanium layers on silicon
JPH10172298A (ja) 1996-12-05 1998-06-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US5963817A (en) * 1997-10-16 1999-10-05 International Business Machines Corporation Bulk and strained silicon on insulator using local selective oxidation
JPH11185497A (ja) 1997-12-24 1999-07-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US6521041B2 (en) * 1998-04-10 2003-02-18 Massachusetts Institute Of Technology Etch stop layer system
US6207530B1 (en) * 1998-06-19 2001-03-27 International Business Machines Corporation Dual gate FET and process
KR100318595B1 (ko) * 1998-11-19 2002-02-19 전주범 클럭펄스지연보상장치
US6180490B1 (en) * 1999-05-25 2001-01-30 Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. Method of filling shallow trenches
US6214653B1 (en) * 1999-06-04 2001-04-10 International Business Machines Corporation Method for fabricating complementary metal oxide semiconductor (CMOS) devices on a mixed bulk and silicon-on-insulator (SOI) substrate
US6235567B1 (en) * 1999-08-31 2001-05-22 International Business Machines Corporation Silicon-germanium bicmos on soi
US6300172B1 (en) * 1999-10-01 2001-10-09 Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. Method of field isolation in silicon-on-insulator technology
JP2001236797A (ja) 1999-12-17 2001-08-31 Fujitsu Ltd 自己試験回路及びそれを内蔵するメモリデバイス
EP1249036A1 (en) * 2000-01-20 2002-10-16 Amberwave Systems Corporation Low threading dislocation density relaxed mismatched epilayers without high temperature growth
US6339244B1 (en) * 2000-02-22 2002-01-15 Advanced Micro Devices, Inc. Fully depleted silicon on insulator semiconductor device and manufacturing method therefor
US6313486B1 (en) * 2000-06-15 2001-11-06 Board Of Regents, The University Of Texas System Floating gate transistor having buried strained silicon germanium channel layer
JP2002373499A (ja) * 2001-06-13 2002-12-26 Seiko Epson Corp 半導体メモリ及びこのバーンイン方法
US6510091B1 (en) * 2001-08-01 2003-01-21 International Business Machines Corporation Dynamic precharge decode scheme for fast DRAM

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003173699A (ja) 2003-06-20
US20030126525A1 (en) 2003-07-03
US7085974B2 (en) 2006-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100559022B1 (ko) 테스트 및 리페어를 위한 방법 및 회로
JP2570203B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH11238393A (ja) 欠陥救済回路及び欠陥救済方法
US6888366B2 (en) Apparatus and method for testing a plurality of semiconductor chips
US6323664B1 (en) Semiconductor memory device capable of accurately testing for defective memory cells at a wafer level
US6807116B2 (en) Semiconductor circuit device capable of accurately testing embedded memory
US7171592B2 (en) Self-testing circuit in semiconductor memory device
US8441832B2 (en) Semiconductor device and test method thereof
US7406637B2 (en) Semiconductor memory device capable of testing memory cells at high speed
US7013414B2 (en) Test method and test system for semiconductor device
US9618575B2 (en) Semiconductor device having plural data input/output terminals configured for write test and read test operations
JP3759026B2 (ja) 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器
KR100371047B1 (ko) 메모리시험회로와메모리시험회로가포함되어있는반도체집적회로및반도체메모리장치의불량검출방법
US20120087195A1 (en) Semiconductor storage device and method for producing semiconductor storage device
JP2003151299A (ja) 半導体装置およびその検査方法ならびに電子機器
JP5031393B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2013012275A (ja) 半導体記憶装置およびそのテスト手法
JP2012033241A (ja) 半導体装置、及び半導体試験方法
KR100534206B1 (ko) 반도체 메모리 장치의 리던던시 디코더
JPH1125698A (ja) 半導体記憶装置及びそのメモリテスト方法及びメモリテスト用の配線基板
JP2004265503A (ja) 半導体集積回路
JP2020098182A (ja) 半導体装置
JP2019220239A (ja) メモリデバイス
JPH05101699A (ja) メモリ装置
JP2001184900A (ja) 半導体装置のテスト回路

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050527

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050607

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050803

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051227

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees