JP3697850B2 - 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液体噴射記録装置に用いられる液体噴射記録ヘッド及びその製造方法、及び液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法に関する。
【0002】
液体噴射記録装置は、ノズル、該ノズルに接した液室を有する液体噴射記録ヘッド、並びに液体供給系を具備し、液室内に充満している液体にエネルギーを与えることにより、該液体がノズルから噴射され、これにより文字や画像情報の記録が行われるものである。液体にエネルギーを与える手段としては、圧電素子を用いて液室内液体を加圧する手段、またはヒータを用いて液室内液体を加熱する手段が一般的である。本発明は、この内、圧電素子を用いて液室内液体を加圧する手段を持つ、液体噴射記録ヘッド及びその製造方法に関する。
【0003】
圧電素子を用いた液体噴射記録ヘッドを用いた液体噴射記録装置においては、前記圧電素子を駆動するための電圧パルス波形を発生させる駆動回路が具備される。本発明は、この駆動回路に薄膜トランジスタ(以下、TFTと示す)、特に多結晶珪素をチャネル部に用いた薄膜トランジスタ(以下、poly−Si TFTと示す)を用いた場合の、液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法に関する。
【0004】
【従来の技術】
本発明に関わる構成要素の従来技術としては、特開平5−822140がある。同従来例記載の特許においては、単結晶珪素基板に液室、液体流路、液体貯蔵室が形成され、液室上に振動板及び圧電膜を用いた圧電素子が形成された液体噴射記録ヘッド及びその製造方法が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例における液体噴射記録ヘッドにおいては、以下に述べるような課題がある。同従来例においては、平面的に配置された液室と液体貯蔵室が液体流路を介して接続されている構成になっている。従って、同従来例における液体噴射記録ヘッドは平面的に大きなものとなっている。また、同従来例においては、圧電素子へ駆動信号を入力する部分の構成が明示されていないが、通常は液体噴射記録ヘッド端部に設けられた電極取り出し用の接続端子に配線パターンがついた実装テープが接続され、前記実装テープにMOSトランジスタによる駆動回路が形成された半導体集積回路が接続される構成となっている。従って、従来の液体噴射記録ヘッドは、平面的のみならず、立体的にも大きなスペースを要するものであった。また、半導体集積回路による駆動回路を用いているため、ノズル数が増加した場合、特に百ノズル以上のライン液体噴射記録ヘッドを形成した場合、極端に大きなスペースを要するとともに、駆動回路が非常に高価なものとなっていた。前記駆動回路を低価格化するため、TFT、特にpoly−Si TFTにより駆動回路を構成することが考えられたが、TFT信頼性の面からあまり駆動電圧を上げることが出来ず、また、TFTはMOSトランジスタに比べON抵抗が大きいため、圧電素子を駆動するための電圧波形の立ち上がり時間が長くかかり、液体噴射記録ヘッドにおける液体噴射特性の劣化を招いていた。
【0006】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の点を目的とするものである。
【0007】
(1)百ノズル以上のライン液体噴射記録ヘッドを平面的、立体的にコンパクトな構造で実現すること。
【0008】
(2)上記コンパクトな構造の液体噴射記録ヘッドを、効率的な方法で製造すること。
【0009】
(3)圧電素子の駆動電圧を上げることが出来、また、駆動電圧波形の立ち上がり時間を短縮することの出来る、TFTを用いた液体噴射ヘッドの駆動回路、駆動方法を提供すること。
【0010】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するため、本発明の液体噴射記録ヘッドは、
(1)ノズルと、
前記ノズルに連通する液室と、
前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
前記圧電素子を覆う保護膜と、
前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドにおいて、
前記液体貯蔵室は前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記駆動回路を有する第1の基板の端面と、該駆動回路を有する第1の基板と接して設けられた第2の基板とにより囲まれた領域を構造体で封止して設けられたこと。
【0011】
(2)前記第1の基板は絶縁基板であり、前記駆動回路は薄膜トランジスタを用いて構成されること。
【0012】
(3)前記圧電素子の上電極と、前記駆動回路の出力端子とが向かい合わせに接続されたこと。
【0013】
(4)前記液体供給孔は、前記振動板を貫通して設けられたこと。
【0014】
(5)前記圧電素子の配列ピッチと、前記駆動回路の出力端子の配列ピッチは同一であること。
【0015】
(6)前記圧電素子の上電極と前記駆動回路の出力端子の接続部に、保護層が設けられたこと。
(7)前記圧電素子の上電極における接続端子は前記液室が配列された方向に対して左右2列に配置され、隣接した前記上電極の接続端子はそれぞれ前記2列のうちの異なる列に配置されたこと。
【0016】
(8)前記圧電素子の上電極は千鳥状に配列され、該上電極における前記接続端子は隣接した上電極のパターン端の外側に配置されたこと。
【0017】
(9)前記圧電素子の上電極における接続端子は前記液室が配列された方向に対して左右2列に配置され、隣接した前記上電極の接続端子はそれぞれ前記2列のうちの異なる列に配置され、
前記圧電素子の上電極は千鳥状に配列され、該上電極における前記接続端子は隣接した上電極のパターン端の外側に配置され、
前記振動板を貫通して設けられた液体供給孔は上電極パターン端の外側かつ隣接した上電極の接続端子より内側に配置されたこと。
【0018】
(10)ノズルと、
前記ノズルに連通する液室と、
前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
前記圧電素子を覆う保護膜と、
前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドにおいて、
前記複数個配列されたノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔は2列配列され、
前記駆動回路を有する第1の基板は前記圧電素子の配列に対応して2個設けられ、
前記液体貯蔵室は前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記2個の駆動回路を有する第1の基板の端面と、該2個の駆動回路を有する第1の基板と接して設けられた第2の基板とにより囲まれた領域であること。
を特徴とする。
【0019】
また、本発明の液体噴射記録ヘッドの製造方法は、
(11)ノズルと、
前記ノズルに連通する液室と、
前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
前記圧電素子を覆う保護膜と、
前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドの製造方法において、
前記圧電素子と前記駆動回路を有する第1の基板とを接続する工程と、
前記圧電素子と前記駆動回路との接続部に保護層を形成する工程と、
前記駆動回路を有する第1の基板に第2の基板を接着する工程と、を有すること。
(12)前記、駆動回路を有する第1の基板に第2の基板を接着する工程の後に、前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記駆動回路を有する第1の基板の端面と、前記第2の基板とにより囲まれた領域を封止する工程を有すること。
(13)前記第1の基板は絶縁基板であり、前記駆動回路は薄膜トランジスタを用いて構成されること。
(14)前記圧電素子と前記駆動回路を有する第1の基板とを接続する工程は、前記圧電素子の上電極と、前記駆動回路の出力端子とを向かい合わせに接続すること。
【0020】
を特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【0022】
(実施例1)
図1は本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドの斜視図、図2はその断面図、図3は本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の斜視図、図4は本発明の実施例における液体噴射記録記録ヘッドにおける、駆動回路を構成する絶縁基板上のTFTの断面図を示す。
【0023】
図1を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの構成を説明する。101はノズル、102はノズルプレート、103は液室、104は液室下に張られた振動板、105は振動板を貫通する液体供給孔、106は液室の隔壁であり、前記101乃至106の構成要素によりヘッド基板が構成されている。圧電素子は図示されていないが、振動板104のさらに下側に配置されている。107はTFTを用いた駆動回路が形成された絶縁基板であり、TFTは図示されていないが、絶縁基板107の上側に配置されている。108は実装基板であり、絶縁基板107のTFTのない面に設けられている。109は前記ヘッド基板及び絶縁基板107の端面及び実装基板108により囲まれた空間を封止するための封止用構造体であり、これらによって封止された空間が液体貯蔵室110となっている。
【0024】
図2を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの詳細な構成、製造方法、及び液体噴射の動作を説明する。ヘッド基板は、ノズル101、ノズルプレート102、液室103、振動板104、液体供給孔105、液室の隔壁106、及び下電極111、圧電膜112、上電極113、保護膜114により構成される。下電極111、圧電膜112、及び上電極113により圧電素子が構成され、該圧電素子の上下電極間に電圧が印加されると、圧電膜112が変形し、この結果圧電素子は振動板104や保護膜114ごと変形する。保護膜114には開口部が形成され、この開口部に形成された接続電極115を介してヘッド基板の上電極113とTFTを用いた駆動回路が形成された絶縁基板107上の駆動回路の出力端子(図示せず)が向かい合わせに接続されている。この電極接続部には保護層116が形成されている。絶縁基板107のTFTのない面には実装基板108が設けられ、これらにより囲まれた空間を封止用構造体109により封止し、液体貯蔵室110が形成される。この、液体噴射記録ヘッドの製造方法は、ノズル101、ノズルプレート102、液室103、振動板104、液体供給孔105、液室の隔壁106、下電極111、圧電膜112、上電極113、保護膜114より成るヘッド基板の保護膜114の開口部に、例えば金により接続電極115としてバンプを形成し、図示されていない、TFTを用いた駆動回路が形成された絶縁基板107上の駆動回路の出力端子上に、例えばハンダをのせておき、これらを向かい合わせにして位置を合わせ、熱をかけて接合、接続する。この接続工程後、接続部に保護層116を、例えば絶縁性のエポキシ材で形成し、接続部を電気的、機械的に保護する。そして絶縁基板107におけるTFTのない面に、例えばガラスで形成した実装基板108を接着して設け、さらに封止用構造体109を、例えば水和ガラスを乾燥させることにより設けて、本実施例の液体噴射記録ヘッドが完成する。バンプ形成は、絶縁基板107上の駆動回路の出力端子上に行っても良く、また、これとヘッド基板電極との接続は異方性導電膜などの材料を用いて接続して良い。さらにこの接続部の保護層106に、水和ガラス等の材料を用いて良い。この液体噴射記録ヘッドの動作は、以下の通りとなる。まず、液室103及び液体貯蔵室110に液体を満たしておく。絶縁基板107上のTFTによる駆動回路からの正電源信号が圧電素子の上電極113に印加される。この時、圧電素子の下電極111には、圧電素子駆動用信号が入力され、圧電素子の上下電極間に電圧が印加される。この時圧電膜112が変形し、この結果圧電素子は振動板104や保護膜114ごと、図中上側に変形する。従って、液室103に満たされている液体は、ノズル101を通って外部に噴射される。その後圧電素子の上下電極間に印加されている電圧を元の状態に戻すと、圧電素子、振動板104、保護膜114は元の状態に戻り、液体貯蔵室110に満たされている液体は毛細管現象により液体供給孔105を介して液室103に供給され、液室103中を満たす。この時、同時に外部から液体貯蔵室110内を満たすように液体が供給される。以上の動作を繰り返すことにより、液体噴射記録ヘッドより液体が断続的に噴射される。
【0025】
図3において、本実施例における液体噴射記録ヘッドにおけるヘッド基板の構成をさらに説明する。同図において、図1及び図2と同一の記号はそれぞれ同一のものを表わす。117は保護膜114の開口部であり、圧電素子の上電極113から、従ってこのヘッド基板からの接続端子となる。図示していないが、実際には保護膜114の開口部は圧電素子の下電極111上にも形成され、下電極111には圧電素子駆動用信号が供給される。
【0026】
図4において、本実施例における液体噴射記録ヘッドにおけるTFTを用いた駆動回路の断面構成を説明する。絶縁基板107上にTFTのソース・ドレイン部118及びチャネル部119が、例えばpoly−Si薄膜により形成される。ソース・ドレイン部にはリンまたはホウ素等の不純物が拡散されている。チャネル部119上にゲート絶縁膜120が例えば2酸化珪素膜により形成され、さらにゲート電極121が例えばタンタルにより形成される。その上に層間絶縁膜122が例えば2酸化珪素により形成され、金属配線層123が例えばアルミニウムにより形成される。最後に保護層124を例えば2酸化珪素により形成し、保護層124に開口部を形成することにより、駆動回路の出力端子125を形成し、TFTによる駆動回路が完成する。この駆動回路の出力端子125の配列ピッチを、前記圧電素子の配列ピッチと同一のものとすることにより、本実施例の液体噴射記録ヘッドを構成することが可能となる。
【0027】
以上の実施例において、ヘッド基板上の上電極113と絶縁基板107上のTFTを用いた駆動回路の出力端子125を向かい合わせに接続し、絶縁基板107におけるTFTのない面に実装基板108を設け、前記ヘッド基板及び絶縁基板107の端面及び実装基板108により囲まれた空間を封止し、液体貯蔵室110を形成すること、また、前記ヘッド基板上の圧電素子の配列ピッチと駆動回路の出力端子125の配列ピッチを同一とすることにより、百ノズル以上のライン液体噴射記録ヘッドにおいても、平面的、立体的にコンパクトな構造で実現することが可能となった。また、上電極113と駆動回路の出力端子125の接続部に保護層116を設けることにより、接続部の機械的な保護、電気的な絶縁を行うことが可能となり、導電性の液体も噴射させることが可能となった。また、ヘッド基板上の上電極113と絶縁基板107上のTFTを用いた駆動回路の出力端子125を向かい合わせに接続した後、この接続部に保護層116を形成し、その後絶縁基板107のTFTのない面に実装基板を設けることにより、保護層116の形成が容易となり、また、同保護層の塗布むら等の検査及び修復が容易となり、液体噴射記録ヘッドの製造方法が効率的となった。
【0028】
(実施例2)
図5は、本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおけるヘッド基板において、上電極の接続端子をその配列ピッチが圧電素子の配列ピッチと同一で、かつ前記接続端子のピッチ方向の長さを液室上の上電極のピッチ方向長さより長くしたヘッド基板の斜視図である。同図において図3と同一の記号は図3と同一のものを表わす。
【0029】
接続端子部における圧電膜112、上電極113、接続端子117の配列ピッチ方向の長さが、液室103上の上電極113のそれよりも長くなっている。このような構成とすることにより、接続端子117の面積を大きくとることができるようになり、実施例1中で示したようなTFTと用いた駆動回路の出力端子125を向かい合わせに接続した場合の接続端子部において、さらに機械的な強度の増大、電気的抵抗の低減、製造上不良の低減を図ることが出来た。
【0030】
本実施例の構成は、特に液体噴射記録ヘッドのノズルを高密度化したときに有効である。例えばノズル密度360dpi(約70.5μmピッチ)の場合は液室103上の上電極113の配列ピッチ方向長さが30μm程度となり、この電極幅ではTFTによる駆動回路の出力端子と向かい合わせに接続することが困難であるが、本実施例の構成をとることにより、ヘッド基板の接続端子117の配列ピッチ方向長さを50μm程度とすることが可能となり、TFTによる駆動回路の出力端子と向かい合わせに接続することが可能となる。
【0031】
(実施例3)
図6は本発明の実施例における、ヘッド基板の両側端にTFTを用いた駆動回路を設けた液体噴射記録ヘッドの斜視図、図7は該液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図である。図6及び図7において図1及び図3と同一の記号はそれぞれ図1及び図3と同一のものを表わす。
【0032】
図6を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの構成を説明する。ノズル101、ノズルプレート102、液室103、振動板104、液体供給孔105、液室の隔壁106、さらに同図中振動板104下に形成された圧電素子(図示せず)により構成されるヘッド基板における、圧電素子の上電極における接続端子(図示せず)がヘッド基板の両側端に配置され(詳細は後述)、TFTによる駆動回路が設けられた絶縁基板107がヘッド基板の両側に配置され、ヘッド基板の両側端に設けられた圧電素子の上電極における接続端子と絶縁基板107上のTFTによる駆動回路の出力端子(図示せず)が向かい合わせに接続される。2個の絶縁基板107のTFTがない面には1個の実装基板108が設けられ、ヘッド基板、2個の絶縁基板107の端面、実装基板108で囲まれた空間が液体貯蔵室110となっている。
【0033】
図7を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドにおける、ヘッド基板の平面構成を説明する。液室103は一列に配列され、圧電素子の上電極113は液室103と隔壁106をまたぐように千鳥状に配列されている。上電極113の接続端子117は、隣接した上電極のパターン端及び液室のパターン端の外側に配置され、また、振動板(図示せず)を貫通する液体供給孔105は、上電極パターン端の外側で液室パターン端の内側、かつ隣接した上電極の接続端子の内側に配置されている。
【0034】
以上説明した本実施例の液体噴射記録ヘッドは、ヘッド基板における接続端子117の配列ピッチを液室103の配列ピッチの倍にすることが出来るため、より高密度にノズル形成する液体噴射記録ヘッドにおいても、ヘッド基板とTFTによる駆動回路との接続を可能にする。
【0035】
(実施例4)
図8は本発明の実施例における、ノズル、液室、振動板、圧電素子を2列配列した液体噴射記録ヘッドの斜視図、図9は該液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図である。図8及び図9において図1及び図3と同一の記号はそれぞれ図1及び図3と同一のものを表わす。
【0036】
図8を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの構成を説明する。ノズル101、ノズルプレート102、液室103、振動板104、液体供給孔105、液室の隔壁106、さらに同図中振動板104下に形成された圧電素子(図示せず)により構成されるヘッド基板において、ノズル101、液室103、振動板104、液体供給孔105、圧電素子(図示せず)が2列配列されている。圧電素子の上電極における接続端子(図示せず)がヘッド基板の両側端に配置され(詳細は後述)、TFTによる駆動回路が設けられた絶縁基板107がヘッド基板の両側に配置され、ヘッド基板の両側端に設けられた圧電素子の上電極における接続端子と絶縁基板107上のTFTによる駆動回路の出力端子(図示せず)が向かい合わせに接続される。2個の絶縁基板107のTFTがない面には1個の実装基板108が設けられ、ヘッド基板、2個の絶縁基板107の端面、実装基板108で囲まれた空間が封止用構造体109で各列毎にしきられ、液体貯蔵室110となっている。
【0037】
図9を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドにおける、ヘッド基板の平面構成を説明する。液室103は2列に配列され、圧電素子の上電極113は液室103と隔壁106をまたぐように2列に配列されている。上電極113の接続端子117は、ヘッド基板(隔壁106の外形に同じ)の両側端に配置され、また、振動板(図示せず)を貫通する液体供給孔105は、上電極パターン端の外側で液室パターン端の内側に配置されている。
【0038】
以上説明した本実施例の液体噴射記録ヘッドは、2列同時の液体噴射記録を可能にするため、液体噴射記録の高速化、カラー化を容易にし、またさらに2列のノズル等を千鳥状に配列することにより、液体噴射記録の高密度化も可能にする。
【0039】
(実施例5)
図10は本発明の実施例における、液体噴射記録ヘッドの駆動回路図である。501は走査回路であり、TFTにより構成される。この走査回路はシフトレジスタで構成すればよいが、その出力段にバッファーインバーター等が設けられていても良い。502及び503は、走査回路501の出力信号線であり、それぞれPチャネル型TFTによるアナログスイッチ504及び505のゲートに接続される。506及び507はそれぞれアナログスイッチ504及び505の出力端子であり、前記実施例における絶縁基板上に形成したTFTによる駆動回路の出力端子に相当する。アナログスイッチの出力端子506及び507はそれぞれ圧電素子510及び511の上電極の接続端子508及び509に接続される。圧電素子510及び511のもう一方の電極(下電極)は、圧電素子駆動信号入力端子512に接続される。また、アナログスイッチ504及び505のもう一つの端子は、正電源入力端子513に接続される。
【0040】
図11は本発明の実施例における、液体噴射記録ヘッドの駆動信号のタイミング図である。601及び602はそれぞれ走査回路501の出力信号線502及び503に印加される電圧波形である。603は、圧電素子駆動信号入力端子512に印加される圧電素子駆動信号の電圧波形の一例であり、604は、圧電素子駆動信号入力端子512に印加される圧電素子駆動信号の別の電圧波形の例である。同図を基に、本実施例の液体噴射記録ヘッドの駆動回路の動作を説明する。
【0041】
時刻t1に走査回路501の出力信号線502の電圧波形601が“ハイ”の状態から立ち下がり始め、時刻t2に“ロー”の状態となる。この時Pチャネル型TFTによるアナログスイッチは完全に導通の状態となり、圧電素子510の上電極には正電位(前記“ハイ”の電位と同電位)が印加される。その後、時刻t3には圧電素子駆動信号603の電位が負電位となり、圧電素子510の下電極に負電位が印加され、圧電素子510の上下電極間に電圧が印加され、圧電素子510は駆動される。この時、圧電素子511においては、下電極は負電位となるものの、アナログスイッチ505のゲート電位は“ハイ”であるため、該アナログスイッチは非導通の状態であるため、圧電素子511の上電極の電位も負電位となり、駆動されない。時刻t4には圧電素子510の下電極の電位が正電位に戻り、該圧電素子の駆動が終了する。その後時刻t5にはアナログスイッチ504のゲート電位が立ち上がり始め、同時にアナログスイッチ505のゲート電位が立ち下がり始める。時刻t6にはアナログスイッチ504のゲート電位は“ハイ”の状態となり、該アナログスイッチは非導通の状態となる。同時にアナログスイッチ505のゲート電位が“ロー”の状態となり、該アナログスイッチは導通の状態となる。そして同様の動作により、圧電素子511が駆動される。
【0042】
以上の液体噴射記録ヘッドの駆動方法は、圧電素子の駆動を開始するタイミングを、アナログスイッチが導通を開始するタイミングより遅らせ、アナログスイッチが完全に導通した後としている。このような駆動方法をとることにより、アナログスイッチが導通を開始するタイミングで圧電素子の駆動を開始する場合に比べ、圧電素子の上下電極間に印加される実質的な電圧波形の立ち上がり時間を短縮することが出来、これにより、前記振動板の変形速度、加速度を増加させ、液体噴射特性を向上させることができる。従って、オン抵抗の大きなTFTを駆動回路に用いても、液体噴射特性の良い液体噴射記録ヘッドを実現することが可能となった。
【0043】
604に示されるような電圧波形を用いて圧電素子を駆動しても良い。この場合は、圧電素子511のみを駆動する場合であるが、アナログスイッチ505が導通を開始する前の時刻t7に圧電素子の下電極に小さな負電圧を印加しておく。時刻t6にアナログスイッチ505は完全に導通し、圧電素子511の上電極は正電位となり、上下電極間には小さな電圧が印加される。その後時刻t8には圧電素子511の下電極は正電位となり、上下電極間は電位差なしの状態となる。その後時刻t9に圧電素子511の下電極は負電位となり、上下電極間には大きな電圧が印加され、該圧電素子は駆動される。このような駆動方法をとることにより、圧電素子は駆動される前に印加される小さな電圧により、分極処理をされることになる。駆動される前に常に一定の電圧で分極処理されるため、圧電素子はその圧電歪み定数等の特性の劣化を低減されることになり、信頼性の良い液体噴射記録ヘッドが実現されるようになった。
【0044】
本実施例において、アナログスイッチはPチャネル型TFTを用いているが、これは、本発明者が鋭意研究の結果、大きな付加容量を駆動する場合は、Nチャネル型TFTよりPチャネル型TFTの方が、信頼性がすぐれていることを見出したためである。具体的には後述する。また、さらに本発明者は、Pチャネル型poly−Si TFTによるアナログスイッチと圧電素子を接続し、実際に603に示す圧電素子駆動信号波形を用いて駆動実験を行い、駆動信号電圧振幅が20Vの時、TFTのチャネル長をL、チャネル幅をW、圧電素子の容量をCとしたとき、C/(L・W)≧3.3×10−2 (F/m)の関係を満たしたときに、1ノズルにつき室温で10億回液体噴射を繰り返しても、液体噴射速度の低下分は初期状態の速度に対して1割以下となることを見出した。この、液体噴射速度の低下は圧電素子の特性の低下と、TFTのオン抵抗の増大に起因するものであるが、この内のTFTのオン抵抗の増大は、圧電素子の容量Cが大きくなるほど大きくなり、TFTのチャネル長Lやチャネル幅Wが大きくなるほど小さくなる。これは、TFTのチャネル部を流れる電流密度が大きいほど、また容量の充電にかかる時間が長いほどTFTのオン抵抗が増大することを示している。また、図11に示す液体噴射記録ヘッドの駆動信号の位相を反転させてNチャネル型poly−Si TFTによるアナログスイッチを用いて同様の駆動実験を行ったところ、駆動信号の電圧振幅は同様に20Vとし、C、L、WをPチャネル型TFTと同一にしたとき、液体噴射速度の低下分は初期状態の速度に対して3割程度となり、この主原因はNチャネル型TFTのON抵抗の増大に起因することがわかった。従って、本実施例におけるアナログスイッチに用いる場合には、明らかにPチャネル型TFTの方がNチャネル型TFTより高信頼性であり、圧電素子駆動信号の電圧振幅、すなわち駆動電圧を大きくすることが可能である。
【0045】
(実施例6)
図12は本発明の実施例における、複数の圧電素子を同時に駆動する液体噴射記録ヘッドの駆動回路図であり、例えばカラー対応液体噴射記録ヘッドの駆動回路にも適用可能なものである。同図において、501は走査回路であり、TFTにより構成される。この走査回路はシフトレジスタで構成すればよいが、その出力段にバッファーインバーター等が設けられていても良い。701及び702は、TFT走査回路501の出力信号線であり、それぞれPチャネル型TFTによるアナログスイッチ703乃至706及び707乃至710のゲートに接続される。アナログスイッチ703乃至706及び707乃至710の出力端子はそれぞれ圧電素子711乃至714及び715乃至718の上電極に接続される。圧電素子711及び715のもう一方の電極(下電極)は、圧電素子駆動信号入力端子719に接続される。同様に圧電素子712及び716、713及び717、714及び718の下電極は、それぞれ圧電素子駆動信号入力端子720、721、722に接続される。また、アナログスイッチ703乃至710のもう一つの端子は、正電源入力端子723に接続される。圧電素子駆動信号入力端子719、720、721、722にそれぞれ黒信号、シアン信号、黄信号、マゼンタ信号を入力すれば、カラー対応液体噴射記録ヘッドの駆動回路となる。
【0046】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の液体噴射記録ヘッド及びその製造方法、及び液体噴射記録ヘッドの駆動回路及び駆動方法を用いることにより、以下のような効果がある。
【0047】
(1)ヘッド基板上の上電極と絶縁基板上のTFTを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに接続し、前記絶縁基板におけるTFTのない面に実装基板を設け、前記ヘッド基板、及び絶縁基板の端面及び実装基板により囲まれた空間を封止し、液体貯蔵室を形成すること、また、前記ヘッド基板上の圧電素子の配列ピッチと駆動回路の出力端子の配列ピッチを同一とすることにより、百ノズル以上のライン液体噴射記録ヘッドにおいても、平面的、立体的にコンパクトな構造で実現することが可能となった。
【0048】
(2)ヘッド基板上の上電極と絶縁基板上のTFTを用いた駆動回路の出力端子を向かい合わせに接続した後、この接続部に保護層を形成し、その後絶縁基板のTFTのない面に実装基板を設けることにより、前記保護層の形成が容易となり、また、同保護層の塗布むら等の検査及び修復が容易となり、液体噴射記録ヘッドの製造方法が効率的となった。
【0049】
(3)TFTを用いた液体噴射記録ヘッドの駆動回路において、アナログスイッチにPチャネル型TFTを用い、TFTのチャネル長をL、チャネル幅をW、圧電素子の容量をCとしたとき、C/(L・W)≧3.3×10−2 (F/m)の関係を満たすようにすることにより、圧電素子の駆動電圧を上げることが出来た。また、TFTを用いた液体噴射記録ヘッドの駆動方法において、圧電素子駆動信号における圧電素子の駆動を開始するタイミングを、アナログスイッチが導通を開始するタイミングより遅らせることにより、実質的に圧電素子の上下電極間に印加される駆動電圧波形の立ち上がり時間を短縮することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドの斜視図。
【図2】本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドの断面図。
【図3】本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の斜視図。
【図4】本発明の実施例における液体噴射記録記録ヘッドにおける、駆動回路を構成する絶縁基板上のTFTの断面図。
【図5】本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおけるヘッド基板において、上電極の接続端子をその配列ピッチが圧電素子の配列ピッチと同一で、かつ前記接続端子のピッチ方向の長さを液室上の上電極のピッチ方向長さより長くしたヘッド基板の斜視図。
【図6】本発明の実施例におけるヘッド基板の両側端にTFTを用いた駆動回路を設けた液体噴射記録ヘッドの斜視図。
【図7】本発明の実施例におけるヘッド基板の両側端にTFTを用いた駆動回路を設けた液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図。
【図8】本発明の実施例における、ノズル、液室、振動板、圧電素子を2列配列した液体噴射記録ヘッドの液体噴射記録ヘッドの斜視図。
【図9】本発明の実施例における液体噴射記録ヘッドにおける、ノズル、液室、振動板、液体供給孔及び圧電素子が形成されて成るヘッド基板の平面図。
【図10】本発明の実施例における、液体噴射記録ヘッドの駆動回路図。
【図11】本発明の実施例における、液体噴射記録ヘッドの駆動信号のタイミング図。
【図12】本発明の実施例における、複数の圧電素子を同時に駆動する液体噴射記録ヘッドの駆動回路図。
【符号の説明】
101 ノズル
102 ノズルプレート
103 液室
104 振動板
105 液体供給孔
106 液室の隔壁
107 TFTを用いた駆動回路が形成された絶縁基板
108 実装基板
109 封止用構造体
110 液体貯蔵室
111 下電極
112 圧電膜
113 上電極
114 保護膜
115 接続電極
116 電極接続部保護層
117 ヘッド基板の接続端子
118 ソース・ドレイン部
119 チャネル部
120 ゲート絶縁膜
121 ゲート電極
122 層間絶縁膜
123 金属配線層
124 保護層
125 駆動回路の出力端子

Claims (14)

  1. ノズルと、
    前記ノズルに連通する液室と、
    前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
    圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
    前記圧電素子を覆う保護膜と、
    前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
    前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
    前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
    前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
    前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドにおいて、
    前記液体貯蔵室は前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記駆動回路を有する第1の基板の端面と、該駆動回路を有する第1の基板と接して設けられた第2の基板とにより囲まれた領域を構造体で封止して設けられたことを特徴とする液体噴射記録ヘッド。
  2. 前記第1の基板は絶縁基板であり、前記駆動回路は薄膜トランジスタを用いて構成されることを特徴とする請求項1記載の液体噴射記録ヘッド。
  3. 前記圧電素子の上電極と、前記駆動回路の出力端子とが向かい合わせに接続されたことを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の液体噴射記録ヘッド。
  4. 前記液体供給孔は、前記振動板を貫通して設けられたことを特徴とする請求項1記載の液体噴射記録ヘッド。
  5. 前記圧電素子の配列ピッチと、前記駆動回路の出力端子の配列ピッチは同一であることを特徴とする、請求項3記載の液体噴射記録ヘッド。
  6. 前記圧電素子の上電極と前記駆動回路の出力端子の接続部に、保護層が設けられたことを特徴とする、請求項3記載の液体噴射記録ヘッド。
  7. 前記圧電素子の上電極における接続端子は前記液室が配列された方向に対して左右2列に配置され、隣接した前記上電極の接続端子はそれぞれ前記2列のうちの異なる列に配置されたことを特徴とする請求項3記載の液体噴射記録ヘッド。
  8. 前記圧電素子の上電極は千鳥状に配列され、該上電極における前記接続端子は隣接した上電極のパターン端の外側に配置されたことを特徴とする請求項7記載の液体噴射記録ヘッド。
  9. 前記圧電素子の上電極における接続端子は前記液室が配列された方向に対して左右2列に配置され、隣接した前記上電極の接続端子はそれぞれ前記2列のうちの異なる列に配置され、
    前記圧電素子の上電極は千鳥状に配列され、該上電極における前記接続端子は隣接した上電極のパターン端の外側に配置され、
    前記振動板を貫通して設けられた液体供給孔は上電極パターン端の外側かつ隣接した上電極の接続端子より内側に配置されたことを特徴とする請求項4記載の液体噴射記録ヘッド。
  10. ノズルと、
    前記ノズルに連通する液室と、
    前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
    圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
    前記圧電素子を覆う保護膜と、
    前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
    前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
    前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
    前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
    前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドにおいて、
    前記複数個配列されたノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔は2列配列され、
    前記駆動回路を有する第1の基板は前記圧電素子の配列に対応して2個設けられ、
    前記液体貯蔵室は前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記2個の駆動回路を有する第1の基板の端面と、該2個の駆動回路を有する第1の基板と接して設けられた第2の基板とにより囲まれた領域であることを特徴とする液体噴射記録ヘッド。
  11. ノズルと、
    前記ノズルに連通する液室と、
    前記液室を構成する一の面に張られた振動板と、
    圧電膜の上下を電極で挟んで成る、前記振動板に接した圧電素子と、
    前記圧電素子を覆う保護膜と、
    前記液室に液体を供給する液体供給孔と、
    前記圧電素子の電極に接続された駆動回路を有する第1の基板と、
    前記液体供給孔に連通する液体貯蔵室と、を有し、
    前記ノズル、液室、振動板、圧電素子、及び液体供給孔が複数個配列されて成り、
    前記圧電素子を前記駆動回路で駆動して前記振動板をたわませ前記液室の体積を変化させて前記液室に満たされた液体を前記ノズルより外部に噴射させる液体噴射記録ヘッドの製造方法において、
    前記圧電素子と前記駆動回路を有する第1の基板とを接続する工程と、
    前記圧電素子と前記駆動回路との接続部に保護層を形成する工程と、
    前記駆動回路を有する第1の基板に第2の基板を接着する工程と、を有することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。
  12. 前記、駆動回路を有する第1の基板に第2の基板を接着する工程の後に、前記振動板に接した圧電素子を覆う保護膜と、前記駆動回路を有する第1の基板の端面と、前記第2の基板とにより囲まれた領域を封止する工程を有することを特徴とする請求項11記載の液体噴射記録ヘッドの製造方法。
  13. 前記第1の基板は絶縁基板であり、前記駆動回路は薄膜トランジスタを用いて構成されることを特徴とする請求項11記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
  14. 前記圧電素子と前記駆動回路を有する第1の基板とを接続する工程は、前記圧電素子の上電極と、前記駆動回路の出力端子とを向かい合わせに接続することを特徴とする請求項11記載の液体噴射記録ヘッドの製造方法。
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