JP3697275B2 - 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム - Google Patents
局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP3697275B2 JP3697275B2 JP22511494A JP22511494A JP3697275B2 JP 3697275 B2 JP3697275 B2 JP 3697275B2 JP 22511494 A JP22511494 A JP 22511494A JP 22511494 A JP22511494 A JP 22511494A JP 3697275 B2 JP3697275 B2 JP 3697275B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- box body
- clean
- chamber
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Ventilation (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、クリーンルーム内に設置した製造装置内を超清浄度に保つための局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造用クリーンルームへの清浄度に対する要求はますます厳しくなっているが、ギガビット世代においても現在の全面垂直層流方式を中心としたクリーンルームを採用した場合、そのイニシャルコストとランニングコストが膨大になると予想されている。また歩留まり向上のためには、クリーンルームの循環空気の清浄度よりも、ウエハの表面汚染をいかにして防止するかに着目する必要があるといわれている。さらに、微粒子汚染だけでなく、空気中のガス、イオンなどの分子汚染の対策も必要である。
【0003】
これらの観点から、将来のクリーンルームでは清浄空間の局所化が必要とされ、米国においては、SMIF(Standard Mechanical InterFace )に代表される”ミニエンバイロメント”の開発が行われてきており、日本でも、大見忠弘等により”クローズド・マニファクチャリング・システム”(Break through for scientific semiconductor manufacturing in 2001-A proposal from Tohoku Univer-sity,REARIZE INC. No.71,May,1992 )の概念が発表されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、現在の半導体の量産工場においては、歩留まり向上のために製造装置の改良とメンテナンスが頻繁に実施されているので、これらのシステムの採用は、ほとんど行われていない。そこで、量産向上の実状に見合った新しいコンセプトの清浄空間の局所化を構築することが必要である。
【0005】
本発明者らは、次世代の半導体(64〜256MB)クリーンルーム用に、ウエハ処理領域と人を隔離する密閉された空間に高清浄度(微粒子及びガス対策)空気を供給し、かつ、個別の製造装置に対応可能で全体のランニングコストの低下が可能な局所クリーン化システムを開発してきた。
【0006】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、全室清浄化されたクリーンルーム内の製造装置内の超清浄化が達成できる局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルームを提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項1の発明は、クリーンルーム内のアクセスフロア上に設置される製造装置に接続され、その製造装置へ処理材を出入するための局所クリーン化におけるインターフェイスボックスにおいて、上記アクセスフロア上に上記製造装置の搬出入口に接続されるボックス本体を設置し、該ボックス本体内に処理材の搬出入室を形成し、ボックス本体の前面に、処理材を搬出入室に出入れするための開閉扉を設け、該搬出入室上部のボックス本体内に、送風機とケミカルフィルタとULPAフィルタとを設け、さらに搬出入室の下部のボックス本体に、搬出入室の超清浄空気をクリーンルームの床下チャンバに排気する排気系を設けると共に、搬出入室内の圧力をクリーンルーム空間の圧力より高くしたことを特徴とする局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0008】
請求項2の発明は、搬出入室上部のボックス本体内には、クリーンルーム内の清浄空気を吸引する送風機が配置され、その吹出口と搬出入室間にケミカルフィルタとULPAフィルタが吹出流路を仕切るように配置される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0009】
請求項3の発明は、ボックス本体の上面の吸込口に、ケミカルフィルタが設けられ、搬出入室上部のボックス本体内に、上記ケミカルフィルタを通してクリーンルーム内の清浄空気を吸引すると共にULPAフィルタを介して清浄化するフィルタ付き送風機ユニットが配置される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0010】
請求項4の発明は、搬出入室には、処理材を載置すると共に超清浄空気を排気系に排気するための多孔板からなる載置台を有する請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0011】
請求項5の発明は、載置台下方のボックス本体が前後に仕切られ、その前室に排気系が形成される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0012】
請求項6の発明は、排気系には、搬出入室内の圧力をクリーンルームに対して僅かに高い圧力に保って排気するための微差圧ダンパを有する請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスである。
【0013】
請求項7の発明は、全面垂直層流で清浄空気が循環されるクリーンルーム空間と、そのクリーンルーム空間のアクセスフロア上に配置される各種製造装置と、クリーンルーム空間のアクセスフロア下の床下チャンバに配置され、各種製造装置内の空気を吸引と共に外部に排気する真空ポンプを含む排気手段と、上記アクセスフロア上に設置されると共に各種製造装置に接続されるボックス本体を有し、そのボックス本体内に処理材を搬出入する搬出入室が形成されると共に上部に、フィルタ付き送風機ユニットとケミカルフィルタとULPAフィルタとが配置された超清浄空気供給手段を有し、下部に搬出入室内の超清浄空気を上記床下チャンバに排気する排気系を有し、上記搬出入室内の圧力をクリーンルーム空間の圧力より高くするインターフェイスボックスとを備えたことを特徴とする局所クリーン化におけるクリーンルームである。
【0014】
【作用】
上記構成によれば、ボックス本体内の処理材の搬出入室に、送風機とケミカルフィルタとULPAフィルタにより超清浄空気を流すことで、クリーンルーム循環空気から製造装置への分子汚染防止と処理材収納時の分子汚染を防止できる。
【0015】
従って、このインターフェイスボックスを、製造装置の処理材の搬入口や搬出口にそれぞれ接続したり搬出入口が同じであればその搬出入口に接続することで、クリーンルーム内で製造装置の局所超清浄化が達成できる。
【0016】
請求項2によれば、ULPAフィルタと送風機とをユニット化し、その吸込口にケミカルフィルタを設けることで、ケミカルフィルタのフィルタ面積を自在に設定できる。
【0017】
請求項5によれば、ボックス本体下部の前室に排気系を形成することで、搬出入室内を流れる超清浄空気を前後に二分し、前方の超清浄空気流では処理材の出入れの際のエアカーテンとして、また後方では、製造装置内の清浄度の保持として作用させることで、クリーンルームと製造装置との分離が確実となる。
【0018】
請求項6によれば、排気系に微差圧ダンパを設けることで、搬出入室内の超清浄空気の流れを最適化できる。
【0019】
請求項7によれば、インターフェイスボックス内からの超清浄空気を床下チャンバーに直接排気することで、製造装置の配置が変更になってもその配置に応じて自在にインターフェイスボックスを接続することができる。
【0020】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
【0021】
先ず、図3により本発明におけるクリーンルームの全体構成を説明する。
【0022】
図3において、10は、建屋11内に形成されるクリーンルーム空間で、建屋11内に設けたアクセスフロア12上に側壁13で周囲が囲まれ、その上部に天井壁14が設けられて区画形成される。この天井壁14にはフィルタ付き送風機ユニット(FFU)15が整列されて設けられる。
【0023】
このクリーンルーム空間10には、フィルタ付き送風機ユニット15から清浄空気が吹き出され、クリーンルーム空間10を層流状態で流れて下方のアクセスフロア12を介して床下チャンバ19に流入し、側壁13の周囲のドライコイル16で空調されて、側壁13外周の循環流路17を通って天井チャンバ18に流入し、再度フィルタ付き送風機ユニット15に吸引されてクリーンルーム空間10に循環される。
【0024】
床下チャンバー19には、床下チャンバ19内に外部空気を導入する外気ダクト19Aが配置され、また床下チャンバ19内の空気を、付属機器20で、排気ダクト20Aを介して建屋11の外部に排気できるようになっている。
【0025】
このクリーンルーム空間10内には、半導体ウエハや液晶基板などの処理材の洗浄処理やCVDによる成膜を行う製造装置21等が多数配置され、その製造装置21の搬出入口22に、処理材としての半導体ウエハカセット23を搬出入するための本発明のインターフェイスボックス24が接続される。なお、この処理材として液晶を製造するための基板であってもよい。
【0026】
床下チャンバ19には、製造装置21内を高真空に保つための真空ポンプ25やダクト26,27からなる排気手段28が配置される。
【0027】
このインターフェイスボックス24を図1により詳細に説明する。
【0028】
先ず、クリーンルーム空間10の上部の天井壁14には、ULPAフィルタ29が設けられているが、このULPAフィルタ29は、送風機と別個でも送風機ユニット15と一体に設けてもよい。
【0029】
クリーンルーム空間10のアクセスフロア12上には製造装置21が配置され、そのアクセスフロア12の下部の床下チャンバ19には、製造装置21内を排気するための排気ダクト26が接続される。
【0030】
この製造装置21の搬出入口22に接続されるインターフェイスボックス24は、アクセスフロア12上に設置されると共に、製造装置21の搬出入口22に接続されるボックス本体30からなり、そのボックス本体30内に、半導体ウエハカセット23を一時保管する搬出入室31が形成される。
【0031】
ボックス本体30の前面には、半導体ウエハカセット23を搬出入室31に出入れするための上下移動自在な開閉扉32が設けられ、その搬出入室31の上部のボックス本体30内に、その上部より送風機33とケミカルフィルタ34とULPAフィルタ35とが順に設けられる。
【0032】
搬出入室31には、半導体ウエハカセット23を複数載置する多孔板からなる載置台36を有し、その載置台36の下方のボックス本体30には、搬出入室31から載置台36を通過した超清浄空気を床下チャンバ19に排気する排気系37が設けられる。
【0033】
この排気系37は、例えば載置台36の下方のボックス本体30を前後に二つに仕切り、その前方に形成し、載置台36を通過した超清浄空気を図示の矢印38に示すようにアクセスフロア12を介して床下チャンバ19に排気するように形成される。
【0034】
次に本実施例の作用を述べる。
【0035】
図1において、天井チャンバ18内の循環空気流は、ULPAフィルタ29により超清浄化され、図示の矢印39に示すようにクリーンルーム空間10内に流入し、垂直層流となってアクセスフロア12より床下チャンバ19内に流れる。
【0036】
このクリーンルーム空間10は、各種製造装置や機器などにより分子レベルの汚染が有り、この分子汚染物質が製造装置21内に流入し、半導体ウエハに分子レベルの汚染質として付着しやすい。
【0037】
この際、製造装置21には、インターフェイスボックス24が接続され、半導体ウエハカセット23の出入れの際に、一旦インターフェイスボックス24の搬出入室31に収納し、クリーンルーム空間10と遮断した状態で、搬出入室31内の半導体ウエハカセット23を搬出入口22を通して製造装置21内に自動又は手動操作で搬出入することで分子汚染を防止できる。
【0038】
すなわち、インターフェイスボックス24の搬出入室31には、送風機33によりクリーンルーム空間10内の清浄空気が吸引され、ケミカルフィルタ34にて、吸引清浄空気中の炭化水素系やアルカリ性ガス、酸性ガスが吸着除去され、次にULPAフィルタ35で、サブミクロン以下の微粒子が除去され、図示の矢印で示したように超清浄空気が搬出入室31に流入し、常時は載置台36を通して排気系37により床下チャンバ19に流れている(例えば、流速約0.2m/sec)。従って、カセット23の出入れで、開閉扉32を開閉しても、この矢印で示した超清浄空気の流れがエアカーテンとなり、クリーンルーム空間10の空気が製造装置21側に流入することが防止される。
【0039】
またこの搬出入室31内の圧力は、クリーンルーム空間10の空気圧力よりやや高く維持され、また超清浄空気はボックス本体30の前部の排気系37を通って下部の床下チャンバ19に流れると共に一部は搬出入口22を通って製造装置21に流れる空気に二分され、その前方の空気流でエアカーテンを構成するため前方の超清浄空気流ではカセットの出入れの際のエアカーテンとして、また後方では、製造装置内の清浄度の保持として作用させることで、クリーンルームと製造装置との分離が確実となる。
【0040】
図3は、本発明の他の実施例を示したものである。
【0041】
この図2において、クリーンルームは、図3で説明したように、フィルタ付き送風機ユニット15で、床下チャンバ19内の空気を循環流路17を通って天井チャンバ18に循環するようになし、フィルタ付き送風機ユニット15に設けたULPAフィルタ(図示せず)より超清浄空気をクリーンルーム空間10に流すように構成される。
【0042】
インターフェイスボックス24は、ボックス本体30の上面の吸込口に、ケミカルフィルタ34が設けられ、搬出入室31上部のボックス本体30内には、ケミカルフィルタ34を通してクリーンルーム内の清浄空気を吸引すると共にULPAフィルタ35を介して清浄化するフィルタ付き送風機ユニット40が配置され、また載置台36の下部のボックス本体30には、排気系37として、搬出入室31内の圧力をクリーンルーム空間の圧力に対して僅かに高い圧力に保って排気するための微差圧ダンパ41を設けたものである。
【0043】
この図2の例においては、ケミカルフィルタ34がボックス本体30の上面の吸込口に取り付けることができるため、フィルタ面積を自在に設定でき、また排気系37として微差圧ダンパ41を設けることで、クリーンルーム空間10と搬出入室31との差圧が良好に調整でき、図1で説明した超清浄空気流の制御が確実に行える。
【0044】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、ボックス本体内の処理材の搬出入室に、送風機とケミカルフィルタとULPAフィルタにより超清浄空気を流すことで、クリーンルーム循環空気から製造装置への分子汚染防止と処理材収納時の分子汚染を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す概略図である。
【図2】図1の他の実施例を示す概略図である。
【図3】本発明の他の実施例を示す正面図である。
【符号の説明】
10 クリーンルーム空間
21 製造装置
23 半導体ウエハカセット(処理材)
30 ボックス本体
31 搬出入室
32 開閉扉
33 送風機
34 ケミカルフィルタ
35 ULPAフィルタ
37 排気系
Claims (7)
- クリーンルーム内のアクセスフロア上に設置される製造装置に接続され、その製造装置へ処理材を出入するための局所クリーン化におけるインターフェイスボックスにおいて、上記アクセスフロア上に上記製造装置の搬出入口に接続されるボックス本体を設置し、該ボックス本体内に処理材の搬出入室を形成し、ボックス本体の前面に、処理材を搬出入室に出入れするための開閉扉を設け、該搬出入室上部のボックス本体内に、送風機とケミカルフィルタとULPAフィルタとを設け、さらに搬出入室の下部のボックス本体に、搬出入室の超清浄空気をクリーンルームの床下チャンバに排気する排気系を設けると共に、搬出入室内の圧力をクリーンルーム空間の圧力より高くしたことを特徴とする局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- 搬出入室上部のボックス本体内には、クリーンルーム内の清浄空気を吸引する送風機が配置され、その吹出口と搬出入室間にケミカルフィルタとULPAフィルタが吹出流路を仕切るように配置される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- ボックス本体の上面の吸込口に、ケミカルフィルタが設けられ、搬出入室上部のボックス本体内に、上記ケミカルフィルタを通してクリーンルーム内の清浄空気を吸引すると共にULPAフィルタを介して清浄化するフィルタ付き送風機ユニットが配置される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- 搬出入室には、処理材を載置すると共に超清浄空気を排気系に排気するための多孔板からなる載置台を有する請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- 載置台下方のボックス本体が前後に仕切られ、その前室に排気系が形成される請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- 排気系には、搬出入室内の圧力をクリーンルームに対して僅かに高い圧力に保って排気するための微差圧ダンパを有する請求項1記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボックス。
- 全面垂直層流で清浄空気が循環されるクリーンルーム空間と、そのクリーンルーム空間のアクセスフロア上に配置される各種製造装置と、クリーンルーム空間のアクセスフロア下の床下チャンバに配置され、各種製造装置内の空気を吸引と共に外部に排気する真空ポンプを含む排気手段と、上記アクセスフロア上に設置されると共に各種製造装置に接続されるボックス本体を有し、そのボックス本体内に処理材を搬出入する搬出入室が形成されると共に上部に、フィルタ付き送風機ユニットとケミカルフィルタとULPAフィルタとが配置された超清浄空気供給手段を有し、下部に搬出入室内の超清浄空気を上記床下チャンバに排気する排気系を有し、上記搬出入室内の圧力をクリーンルーム空間の圧力より高くするインターフェイスボックスとを備えたことを特徴とする局所クリーン化におけるクリーンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22511494A JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22511494A JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0888155A JPH0888155A (ja) | 1996-04-02 |
JP3697275B2 true JP3697275B2 (ja) | 2005-09-21 |
Family
ID=16824198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22511494A Expired - Fee Related JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3697275B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999028968A1 (fr) | 1997-12-02 | 1999-06-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Preservation de la proprete des substrats et boite de rangement de substrats |
US6123617A (en) * | 1998-11-02 | 2000-09-26 | Seh-America, Inc. | Clean room air filtering system |
JP2003289043A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
CN102208535A (zh) * | 2004-09-09 | 2011-10-05 | 国立大学法人北海道大学 | 太阳能电池及光电转换元件 |
JP4844285B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2011-12-28 | 株式会社デンソー | クリーンルーム用局所排気装置 |
JP4525789B2 (ja) * | 2008-04-17 | 2010-08-18 | 株式会社デンソー | 作業設備および作業設備における局所クリーンルーム |
JP5742619B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-07-01 | 旭硝子株式会社 | Euvl用反射型マスクの製造装置およびeuvl用マスクブランクスの製造装置 |
-
1994
- 1994-09-20 JP JP22511494A patent/JP3697275B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0888155A (ja) | 1996-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3425592B2 (ja) | 処理装置 | |
US5261935A (en) | Clean air apparatus | |
JP4354675B2 (ja) | 薄板状電子部品クリーン移載装置および薄板状電子製品製造システム | |
JP4632612B2 (ja) | 制御された小環境を有するウエハの大気圧搬送モジュール、大気圧搬送モジュールを作成するための方法 | |
US5261167A (en) | Vertical heat treating apparatus | |
US5219464A (en) | Clean air apparatus | |
US9272315B2 (en) | Mechanisms for controlling gas flow in enclosure | |
JP2006228974A (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
JP6599599B2 (ja) | Efemシステム | |
JP4346175B2 (ja) | マイクロエレクトロニクス素子製造システムおよびマイクロエレクトロニクス素子の製造方法 | |
JP4606348B2 (ja) | 基板処理装置及び基板搬送方法並びに記憶媒体 | |
JP3697275B2 (ja) | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム | |
US5514196A (en) | Air cleaning apparatus | |
US20070130738A1 (en) | Vacuum processing apparatus and zonal airflow generating unit | |
JP3774277B2 (ja) | 被処理基板の搬送方法及び処理システム | |
JPH06232064A (ja) | 熱処理装置 | |
JPH06340304A (ja) | 筐体の収納棚及び筐体の搬送方法並びに洗浄装置 | |
JPH06302487A (ja) | 半導体製造用エアフイルタ装置 | |
JPH1097962A (ja) | 処理装置及び処理システム | |
JP3856726B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2001182978A (ja) | クリーンルーム設備 | |
JP2003031451A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP7411004B2 (ja) | ロードポートモジュールのウエハ容器の湿度低減装置及びそれを備えた半導体工程装置 | |
JP2001153416A (ja) | ファンフィルターユニット、このファンフィルターユニットを用いたミニエンバイロメント、及びこのミニエンバイロメントを備えたクリーンルーム | |
JP2002022227A (ja) | クリーンルーム設備 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040824 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050704 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090708 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100708 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110708 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110708 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120708 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130708 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |