JP3695917B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板処理装置、特に、複数の処理槽にわたって基板を搬送しながら所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェハ、液晶表示装置用又はプラズマ表示装置用のガラス角形基板等の各種基板を、複数の処理槽を搬送しながら処理する基板処理装置が従来より提供されている。この種の装置は、主に、基板表面に対してエッチングや現像等の薬液処理を行う薬液処理部と、薬液処理された基板を水洗する水洗処理部と、水洗処理された基板を乾燥する乾燥処理部とを有している。
【０００３】
このような基板処理装置における水洗処理部は、一般に、循環水水洗処理部と新水水洗処理部とから構成されている。新水水洗処理部は、乾燥処理の直前において最終的な水洗処理を行う部分であり、一般には、搬送されてくる基板に対して純水（新水）をスプレーして処理が行われる。また、循環水水洗処理部は、新水水洗処理の前段に行われる処理であり、節水のために、新水水洗処理部で使用した新水が用いられる。すなわち、新水水洗処理部で用いられた新水を循環水水洗処理部のタンクに導き、そのタンク内の新水（循環水）をポンプにより汲み上げて基板にスプレーし、さらにその洗浄水（循環水）を再度タンクに戻すようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記のような基板処理装置では、基板が各処理槽を順次搬送されていくので、特に薬液処理部の後段に薬液を持ち出さないようにすることが重要である。このため薬液処理部の出口部分にはエアナイフが設けられており、基板に付着する薬液をエアにより吹き飛ばすようにしている。
【０００５】
しかし、基板表面のムラを生じさせないためには、エアナイフからのエアの圧力をあまり上げることができない。このため、少量の薬液が循環水水洗処理部に流れ込み、これが循環水を貯留しているタンクに流入してしまう。
【０００６】
一方、循環水を貯留するタンクには後段の新水水洗処理部から一定量の使用後の新水が供給されており、その分、タンクはオーバーフローしている。しかし、薬液の流入が多い場合には徐々にタンク内の薬液濃度が高くなる。このような場合には、循環水水洗処理部では、希釈された薬液を基板にスプレーしていることになり、水洗処理部の本来の目的である、薬液を洗い流し薬液を新水に置換するといった作用が十分に行われなくなってしまう。さらに、希釈された薬液をスプレーすると、処理が不所望に進んでしまう場合がある。
【０００７】
本発明の課題は、特に循環水水洗処理部において、薬液の流入があっても、循環水によって薬液を十分に洗い流すことができるようにし、循環水及び新水による水洗によって確実な水洗処理が行えるようにすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る基板処理装置は、複数の処理槽にわたって基板を搬送しながら所定の処理を行う装置であって、基板を搬送する搬送手段と、薬液処理部と、循環水水洗処理部と、新水水洗処理部と、新水導入路と、循環水制御手段とを備えている。薬液処理部は搬送されてきた基板に薬液を供給して処理する。循環水水洗処理部は、循環水を貯留する循環水貯留部を有し、薬液処理部から搬送されてきた基板に循環水貯留部の循環水を供給して水洗処理を行うとともに、基板を洗浄した循環水を循環水貯留部に導く戻し水路を有する。新水水洗処理部は循環水水洗処理部から搬送されてきた基板に新水を供給して水洗処理を行う。新水導入路は新水水洗処理部から排出される使用後の新水を循環水貯留部に導入する。循環水制御手段は、循環水貯留部の水位が所定の水位に維持されるように、循環水水洗処理部における循環水の戻し水路から循環水貯留部への循環量を制御するための手段である。
【０００９】
この装置では、基板は、搬送手段によって搬送されながら薬液処理、水洗処理が施される。水洗処理部では、まず循環水による水洗処理が行われ、その後、新水による水洗処理が行われる。新水水洗処理部で使用された新水は、新水導入路を介して循環水水洗処理部の循環水貯留部に導入される。そして、循環水貯留部の水位を所定の水位に維持するために、循環水の循環水貯留部への循環量を循環水制御手段によって制御することができる。
【００１０】
ここでは、循環水貯留部に導入される新水の量が十分に多い場合は、循環水をすべて廃棄して循環水水洗処理部で使用される循環水から薬液を排除することができる。また、新水の量が不足している場合は、一部の循環水を循環させるとともにその他の循環水を廃棄することにより、循環水中の薬液濃度を極めて低くすることができる。したがって、循環水貯留部の水位を所定の水位に維持しつつ循環水水洗処理部においても良好な水洗処理が行える。
【００１１】
請求項２に係る基板処理装置は、請求項１の装置において、循環水水洗処理部は、基板を洗浄した循環水を廃棄する廃棄水路を有し、循環水制御手段は、廃棄水路に設けられ廃棄される循環水の流量を制御する廃棄流量制御手段を含む。
【００１２】
この装置では、循環水貯留部に戻される循環水以外の循環水は廃棄水路を介して廃棄されるが、この廃棄水の流量は廃棄流量制御手段によって制御される。この廃棄水の流量を制御することによって、前記同様に、循環水貯留部における薬液を排除したり、あるいは薬液濃度を極めて低くできる。
【００１３】
請求項３に係る基板処理装置は、請求項１又は２の装置において、循環水貯留部から供給される循環水の量を検出する循環水量検出手段と、新水導入路を通して循環水貯留部に導入される新水の流量を検出する新水量検出手段とを備えている。そして、循環水制御手段は循環水量検出手段及び新水量検出手段の検出結果に応じて循環水水洗処理部における循環水の戻し水路から循環水貯留部への循環量を制御する。
【００１４】
この装置では、供給される循環水の流量及び導入される新水の流量がそれぞれ検出され、その検出結果に応じて循環水の循環水貯留部への循環量が制御される。ここでは、循環水貯留部に導入される新水の流量に応じて循環水の循環量を制御でき、前記同様に、新水の流量が十分に多い場合は循環水をすべて廃棄して循環水水洗部で使用される循環水から薬液を排除することができる。また、新水の流量が不足している場合は、一部の循環水を循環させるとともにその他の循環水を廃棄することにより、循環水中の薬液濃度を極めて低くすることができる。
【００１５】
請求項４に係る基板処理装置は、請求項３の装置において、循環水制御手段は、循環水量検出手段による検出値が新水量検出手段による検出値よりも多い場合に、両者の差分の循環水を循環水水洗処理部から循環水貯留部へ戻すように制御する。
【００１６】
この装置では、新水の量が不足し、循環水の量が多い場合は、循環水を循環させる。このとき、両者の差分の循環水だけ循環させるのが最適である。
【００１７】
請求項５に係る基板処理装置は、請求項３又は４の装置において、循環水制御手段は、戻し水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第１自動バルブをさらに含み、廃棄流量制御手段は、廃棄水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第２自動バルブと、第２自動バルブと直列に設けられ流量を任意に調整可能な手動バルブとを有している。そして、循環水制御手段は制御部をさらに含み、制御部は、新水量検出手段による検出値が循環水量検出手段による検出値以上の場合は第１自動バルブを全閉かつ第２自動バルブを全開とし、循環水量検出手段による検出値が新水量検出手段による検出値より多い場合は第１及び第２自動バルブを全開とする。
【００１８】
この装置では、新水が十分に循環水貯留部に導入される場合は、第１自動バルブを全閉として循環水が循環水貯留部へ戻るのを停止し、第２自動バルブを全開として循環水の全量を廃棄する。この場合は、循環水水洗処理部に薬液が流れ込んでもその薬液は循環水とともに廃棄されるので、循環水水洗処理部において良好な水洗処理が行える。
【００１９】
一方、新水の導入量が不足し、循環水の方が新水より多い場合は、循環水を全量廃棄すると、循環水貯留部の水位は徐々に低くなり、いずれは空になってしまう。そこでこの場合は、第１及び第２自動バルブの両方を全開とし、循環水の一部は循環水貯留部に戻し、その他は廃棄するようにする。この際、廃棄する循環水の流量は、廃棄水路において第２自動バルブの下流側に設けられている手動バルブにより、適宜調整する。この場合は、循環水中における薬液の濃度は極めて低いものとなる。
【００２０】
また、廃棄する循環水の流量を、全開及び全閉をとり得る自動バルブと、流量調整が任意に可能な手動バルブとの組み合わせで行っているので、流量制御を安価な構成で実現できる。
【００２１】
請求項６に係る基板処理装置は、請求項５の装置において、表示部をさらに備えており、循環水制御手段は、循環水量検出手段による検出値が新水量検出手段による検出値よりも多い場合は、新水量検出手段で検出された値を表示部に表示する。
【００２２】
前述のように、新水の循環水貯留部への導入が十分でない場合、すなわち循環水の流量が新水の流量より多い場合、手動バルブによって廃棄する循環水の流量が適宜調整されるが、このとき、新水の導入量が表示部に表示される。したがって、手動バルブの開度を調整する際、表示部に表示される新水の導入量分だけ循環水が廃棄されるように手動バルブを調整すればよい。これにより、簡単に、循環水貯留部の水位を保ちながら循環水中の薬液濃度を極めて低くでき、手動バルブの開度の調整時間を短縮できる。
【００２３】
請求項７に係る基板処理装置は、請求項３又は４の装置において、循環水制御手段は、戻し水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第１自動バルブをさらに含み、廃棄流量制御手段は流量を任意に調整可能な第２自動バルブを有している。そして、循環水制御手段は制御部を有し、制御部は、新水量検出手段による検出値が循環水量検出手段による検出値以上の場合は第１自動バルブを全閉かつ第２自動バルブを全開とし、循環水量検出手段による検出値が新水量検出手段による検出値よりも多い場合は第１自動バルブを全開にするとともに新水量検出手段で検出された流量だけ循環水が廃棄水路から廃棄されるように第２自動バルブの開度を調整する。
【００２４】
ここでは、第２自動バルブによって循環水の廃棄量を連続的に調整可能である。したがって、前述のような手動バルブが不要となり、新水の流量が十分でない場合でも、全自動で循環水貯留部の水位を維持しながら循環水中の薬液濃度を極めて低くできる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
図１に、本発明の一実施形態による基板処理装置の概略構成図を示す。
【００２６】
［全体構成］この基板処理装置１は、薬液処理部２、水洗処理部３、及び乾燥処理部４がそれぞれ上流側（図１の左方）から下流側に向けて相互に隣接しながら直列に配設されて形成されている。そして、薬液処理部２、水洗処理部３、及び乾燥処理部４を上流側から下流側に向けて貫通するように搬送手段５が設けられており、薬液処理部２に順次送り込まれた基板Ｗは、この搬送手段５によって搬送されつつ薬液処理部２、水洗処理部３、及び乾燥処理部４において処理される。
【００２７】
［搬送手段］
本実施形態においては、搬送手段５はローラコンベアによって構成されている。ローラコンベアは、基板Ｗの搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）に直交する方向に支持軸を有する複数のローラ１０を有しており、これらの複数のローラ１０は等ピッチで搬送方向に並設されている。そして、この複数のローラ１０は、図示しない駆動機構によって同期して回転させられるようになっている。
【００２８】
なお、基板Ｗは、前工程からコンベアあるいはロボット等の上流側引き継ぎ手段を介して薬液処理部２内のローラ１０上に導入され、ついで搬送手段５の駆動によるローラ１０の回転によって、薬液処理部２、水洗処理部３、及び乾燥処理部４内を搬送される。各処理が施された基板Ｗは、乾燥処理部４の下流端からコンベアあるいはロボット等からなる下流側引き継ぎ手段を介して次工程に向けて導出される。
【００２９】
［薬液処理部］
薬液処理部２は、搬送手段５によって搬送される基板Ｗの表裏にアルカリ洗浄液等の薬液を供給して基板Ｗを洗浄（薬洗）するためのものである。そして、この基板処理部２は、内部に搬送手段５が敷設された薬液処理槽１５と、薬液処理槽１５内に搬送手段５を挟んで上下に配設された複数の薬液ノズル１６と、薬液処理槽１５から戻し管路１７を介して戻された薬液を貯留する薬液タンク１８と、薬液タンク１８内の薬液を薬液供給管路１９を通して薬液ノズル１６に供給する薬液ポンプ２０及び流量制御バルブ２１とを有している。また、薬液処理槽１５の出口側近傍には、エアナイフ２２が配置されており、水洗処理部２に向けて搬出される基板Ｗに付着した薬液を吹き飛ばすようにしている。
【００３０】
［水洗処理部］
水洗処理部３は、薬液処理部２から搬送されてきた基板Ｗを循環水によって水洗処理する循環水水洗処理部２５と、循環水水洗処理部２５で水洗処理された基板Ｗをさらに新水で水洗処理する新水水洗処理部２６とを有している。
【００３１】
＜循環水水洗処理部＞
循環水水洗処理部２５は、内部に搬送手段５が敷設された水洗処理槽３０と、この水洗処理槽３０内に搬送手段５を挟んで上下に配設された複数の循環水ノズル３１と、循環水を貯留する循環水タンク３２と、循環水タンク３２の循環水を循環水ノズル３１に供給するための循環水ポンプ３３とを有している。
【００３２】
また、水洗処理槽３０と循環水タンク３２との間には、水洗処理槽３０で使用された循環水を循環水タンク３２に戻すための戻し水路３５が設けられている。そして、この戻し水路３５には、循環水タンク３２に戻す循環水の量を制御するための第１自動バルブ３６が設けられている。また、第１自動バルブ３６と水洗処理槽３０との間の戻し水路３５からは、廃棄水路３８が分岐して設けられている。この廃棄水路３８は、循環水タンク３２に戻す循環水以外の循環水や循環水タンク３２からオーバーフロー管３８ａを通ってオーバーフローした循環水、さらには循環水タンク３２の排出口から排出される循環水をドレンするためのものである。この廃棄水路３８には、上流側から、廃棄される循環水の量を制御するための第２自動バルブ３９及び第１手動バルブ４０が直列に設けられている。また、循環水タンク３２と循環水ノズル３１との間には循環水供給水路４１が設けられており、この循環水供給水路４１に前述の循環水ポンプ３３が設けられている。この循環水供給水路４１において、循環水ポンプ３３の下流側（循環水ノズル側）には、第２手動バルブ４３及び供給される循環水の流量を計測する流量計４４が順に設けられている。さらに、循環水タンク３２の底部には排出水路４５が接続されており、この排出水路４５には第３手動バルブ４６が設けられている。
【００３３】
なお、各自動バルブ３６，３９は後述する制御部によってオン（全開）又はオフ（全閉）されるものであり、各手動バルブ４０，４３，４６はオペレータの操作によって流量を連続的に制御することができるようになっている。また、水洗処理槽３０の入口部には、循環水が薬液処理部２に流れ込むのを防止するためのエアナイフ４７が設けられている。
【００３４】
＜新水水洗処理部＞
新水水洗処理部２６は、内部に搬送手段５が敷設された水洗処理槽５０と、この水洗処理槽５０内に搬送手段５を挟んで上下に配設された複数の新水ノズル５１とを有している。新水ノズル５１には、図示しない新水供給部から新水供給水路を介して新水が供給されるようになっている。また、水洗処理槽５０には、水洗処理槽５０で使用された新水を循環水タンク３２に導入するための新水導入路５２が設けられている。この新水導入路５２には、導入される新水の流量を計測するための流量計５３が設けられている。
【００３５】
［乾燥処理部］
乾燥処理部４は、水洗処理部３の新水水洗処理部２６から搬出された基板Ｗを乾燥するためのものであり、内部に搬送手段５が敷設された乾燥処理槽６０と、この乾燥処理槽６０内の搬送手段５を挟むように設けられたエアーナイフ６１とを有している。
【００３６】
［制御部］
本装置は図２に示すような制御部７０を有している。制御部７０は、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を有するマイクロコンピュータを有しており、搬送制御や各処理部における制御を行う。この制御部７０には、表示部を有する操作パネル７１、循環水流量計４４、新水流量計５３、及び基板の位置を検出するための複数の基板位置センサ７２が接続されている。また、制御部７０には、搬送手段５、薬液ポンプ２０、循環水ポンプ３３、新水供給部７３、第１自動バルブ３６、及び第２自動バルブ３９が接続されている。
【００３７】
［全体動作］
次に、図３以降に示すフローチャートにしたがって、本装置の制御部によって制御される動作について説明する。
【００３８】
図３に示すステップＳ１では、薬液処理の開始タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ２に移行して薬液処理を開始する。ここでは、薬液ポンプ２０の駆動等の処理を実行する。これにより、薬液タンク１８内の薬液が薬液ノズル１６に供給され、搬送手段５によって搬送されてきた基板Ｗに薬液が吐出される。薬液処理槽１５の底部に落下した薬液は、戻し管路１７を介して薬液タンク１８に戻される。ステップＳ１での判断がＮＯの場合はステップＳ３に移行する。ステップＳ３では、薬液処理の終了タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ４に移行して薬液ポンプ２０の回転を停止する等の処理を実行する。
【００３９】
ステップＳ３での判断がＮＯの場合はステップＳ５に移行する。ステップＳ５では、水洗処理の開始タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ６に移行して水洗処理を開始する。ここでは、循環水ポンプ３３を駆動したり、新水の供給開始等の処理を実行する。これにより、循環水水洗処理部２５では循環水タンク３２の循環水が循環水ノズル３１に供給される。そして、水洗処理槽３０に搬送されてきた基板が循環水によって水洗処理される。また、新水水洗処理部２６では、搬送されてきた基板に対して新水が供給され、新水による水洗処理が行われる。なお、新水水洗処理部２６で使用された新水は、新水導入路５２を介して循環水タンク３２に導入されている。そして、循環水タンク３２においては、オーバーフローした循環水は廃棄水路３８を介して廃棄される。ステップＳ５での判断がＮＯの場合はステップＳ７に移行する。ステップＳ７では、水洗処理の終了タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ８に移行して水洗処理にかかわる各機器の停止等の処理を実行する。
【００４０】
さらに、ステップＳ９では、乾燥処理の開始タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ１０に移行して乾燥処理を開始する。ここでは、エアナイフ６１からエアを吹き出す等の処理を実行する。これにより、水洗処理が行われた基板に対してエアが吹き付けられ、基板の乾燥処理が行われる。ステップＳ９での判断がＮＯの場合はステップＳ１１に移行する。ステップＳ１１では、乾燥処理の終了タイミングであるか否かを判断し、判断がＹＥＳである場合はステップＳ１２に移行して乾燥処理を終了する。
【００４１】
なお、各処理の開始及び終了のタイミングは、基板位置センサ７２の出力やタイマーの出力値によって判断される。
【００４２】
［水洗処理］
次に、水洗処理について、図４にしたがって詳細に説明する。水洗処理においては、まずステップＳ２０で循環水と新水とをそれぞれのノズル３１，５１に供給する。次にステップＳ２１では、循環水タンク３２から循環水ノズル３１に供給される循環水の流量と、新水導入路５２を介して循環水タンク３２に導入される新水の流量とを認識する。これらの流量は、循環水流量計４４及び新水流量計５３の出力によって得られる。そしてステップＳ２２では、ステップＳ２１で認識された値に基づいて、新水の流量が循環水の流量以上であるか否かを判断する。
【００４３】
新水の流量が循環水の流量以上である場合はステップＳ２３に移行する。ステップＳ２３では、第１自動バルブ３６をオフ（全閉）にするとともに、第２自動バルブ３９をオン（全開）とする。これにより、水洗処理槽３０において洗浄処理に使用された循環水はすべて廃棄水路３８を介して廃棄され、循環水タンク３２には使用後の新水のみが導入されることとなる。なお、この場合は、第１手動バルブ４０は作業者によって全開にされている。
【００４４】
また、新水の流量が不足しており、循環水の方が多い場合は、循環水のすべてを廃棄すると循環水タンク３２の水位は徐々に下がり、空になってしまう。そこで、この場合はステップＳ２２からステップＳ２４に移行する。ステップＳ２４では、第１自動バルブ３６及び第２自動バルブ３９をともにオン（全開）とする。これにより、循環水の一部は循環水タンク３２に戻され、その他は廃棄される。そこで、作業者は、第１手動バルブ４０を適宜調整して、循環水タンク３２の水位が維持されるようにする。このとき、戻し水路３５を通って循環水タンク３２へ戻される循環水の量は、循環水流量計４４の検出量から新水流量計５３の検出量を差し引いた量が最適量である。この最適量よりも多く循環水を戻すと、余剰分はオーバーフロー管３８ａを通って排出されるが、循環水タンク３２内の薬液濃度が上昇しがちとなる点で不利である。
【００４５】
このような装置では、循環水タンク３２への新水の導入量に応じて各自動バルブ３６，３９を制御し、循環水の中から薬液を排除したり、あるいは薬液濃度を極めて低くすることができる。また、新水の流量が不足している場合において、循環水の廃棄量を自動バルブと手動バルブの組み合わせによって調整しているので、比較的安価な構成とすることができる。
【００４６】
［他の実施形態］
（ａ）図５に水洗処理の他の実施形態を示す。この例では、第１手動バルブ４０の調整を容易にするために、調整内容が操作パネル７１の表示部に表示される。すなわち、この水洗処理においては、ステップＳ３０で循環水と新水とをそれぞれのノズル３１，５１に供給し、ステップＳ３１では、循環タンク３２に供給される新水の流量と、循環水タンク３２から循環水ノズル３１に供給される循環水の流量とを認識する。そしてステップＳ３２では、新水の流量が循環水の流量以上であるか否かを判断する。
【００４７】
新水の流量が循環水の流量以上である場合はステップＳ３３に移行し、第１自動バルブ３６を閉じるとともに第２自動バルブ３９を開ける。そして第１手動バルブ４０を全開にするように、操作パネル７１の表示部にその旨を表示する。これにより作業者は、その表示内容に従って作業をすればよい。一方、新水の流量より循環水の方が多い場合は、ステップＳ３２からステップＳ３４に移行する。ステップＳ３４では、第１自動バルブ３６及び第２自動バルブ３９をともに開け、さらに新水の流量が操作パネル７１の表示部に表示される。この表示に従って、作業者は、表示された新水の量だけ循環水が廃棄されるように第１手動バルブ４０を適宜調整すればよい。これにより、循環水タンク３２の水位を維持しながら、薬液中の濃度を極めて低くできる。
【００４８】
ここでは、各自動バルブ３６，３９は自動制御され、また第１手動バルブ４０については作業内容が具体的に操作パネル７１の表示部に表示されるので、より作業が簡単になる。なお、表示内容は、第１手動バルブ４０の開度でもよい。
【００４９】
（ｂ）図６及び図７に、水洗処理のさらに他の実施形態を示す。
この実施形態では、図６に示すように、廃棄水路３８にはアクチュエータ付きの第２自動バルブ７０のみが設けられており、手動バルブは設けられていない。第２自動バルブ７０は、その開度が連続的に自動調整できるタイプのバルブであり、流量を任意に自動調整することができる。他の構成は前記各実施例と同様である。
【００５０】
この場合の水洗処理制御は、図７に示すように、ステップＳ４０で循環水と新水の供給を開始し、ステップＳ４１で循環水タンク３２に供給される新水の流量と、循環水タンク３２から水洗処理槽３０に供給される循環水の流量とを認識する。ステップＳ４２では新水の流量が循環水の流量以上であるか否かを判断する。
【００５１】
新水の流量が循環水の流量以上である場合はステップＳ４３に移行し、第１自動バルブ３６を閉じるとともに、第２自動バルブ７０を全開にする。一方、新水の流量より循環水の方が多い場合は、ステップＳ４２からステップＳ４４に移行する。ステップＳ４４では、第１自動バルブ３６を開けるとともに、第２自動バルブ７０から新水の流量だけ循環水が廃棄されるように第２自動バルブ７０の開度を調整する。これにより、認識された循環水の流量から新水の流量を引いた差分だけ、循環水が循環水タンク３２へ戻されることになる。
【００５２】
ここでは、前記同様に、循環水から薬液を排除したり、あるいは循環水中の薬液濃度を極めて低くできる。しかも、循環水の廃棄量の調整がすべて自動で行われるので、作業者による作業が全く不要になる。
【００５３】
（ｃ）前記の各実施形態では、循環水の流量及び新水の導入量に応じて自動バルブを制御するようにしたが、戻し水路３５及び廃棄水路３８にそれぞれ手動バルブを設け、循環水量及び新水量に応じて作業者が各手動バルブを制御するようにしてもよい。また、あらかじめ循環水量、新水量がわかっている場合は、流量計を設けなくてもよく、かかる値を検出値として、またその値を設定する手段を検出手段として取り扱えばよい。
【００５４】
（ｄ）前記各実施形態では、新水の循環水貯留部への導入量を、新水導入路に設置した流量計で測定したが、流量計の設置位置はこれに限定されない。通常、新水水洗処理部では、新水は新水導入路を介して排出されるのみであり、他の排出路は設けられていない。したがって、新水水洗処理部の水洗処理槽の前段側の新水供給水路に流量計を設置して新水導入量を測定してもよい。なお、この場合において、基板とともに水洗処理槽外部に持ち出される新水の量が無視できない程度に多い場合は、その持ち出し量を考慮して新水の循環水貯留部への導入量を決定する必要がある。
【００５５】
【発明の効果】
以上のように本発明では、循環水水洗処理部において、新水水洗処理部で使用された新水を導入するとともに循環水の循環量を制御できるようにしたので、循環水中の薬液を排除したり、あるいは極めて低い濃度にすることができる。したがって、循環水水洗処理部で十分な水洗処理が行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態による基板処理装置の概略断面構成図。
【図２】前記基板処理装置の制御ブロック図。
【図３】前記基板処理装置の制御フローチャート。
【図４】水洗処理の制御フローチャート。
【図５】水洗処理の他の実施形態の制御フローチャート。
【図６】循環水水洗処理部のさらに他の実施形態による概略断面構成図。
【図７】水洗処理のさらに他の実施形態の制御フローチャート。
【符号の説明】
１ 基板処理装置
２ 薬液処理部
３ 水洗処理部
４ 乾燥処理部
５ 搬送手段
２５ 循環水水洗処理部
２６ 新水水洗処理部
３０ 水洗処理槽
３２ 循環水タンク
３５ 戻し水路
３６ 第１自動バルブ
３８ 廃棄水路
３９，７０ 第２自動バルブ
４０ 第１手動バルブ
４４，５３ 流量計
５２ 新水導入路
７０ 制御部
７１ 操作パネル

Claims (7)

1. 複数の処理槽にわたって基板を搬送しながら所定の処理を行う基板処理装置であって、
   基板を搬送する搬送手段と、
   搬送されてきた基板に薬液を供給して処理する薬液処理部と、
   循環水を貯留する循環水貯留部を有し、前記薬液処理部から搬送されてきた基板に前記循環水貯留部の循環水を供給して水洗処理を行うとともに、前記基板を洗浄した循環水を前記循環水貯留部に導く戻し水路を有する循環水水洗処理部と、
   前記循環水水洗処理部から搬送されてきた基板に新水を供給して水洗処理を行う新水水洗処理部と、
   前記新水水洗処理部から排出される使用後の新水を前記循環水貯留部に導入する新水導入路と、
   前記循環水貯留部の水位が所定の水位に維持されるように、前記循環水水洗処理部における循環水の前記戻し水路から前記循環水貯留部への循環量を制御するための循環水制御手段と、
   を備えた基板処理装置。
2. 前記循環水水洗処理部は、前記基板を洗浄した循環水を廃棄する廃棄水路を有し、
   前記循環水制御手段は、前記廃棄水路に設けられ廃棄される循環水の流量を制御する廃棄流量制御手段を含む、
   請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記循環水貯留部から供給される循環水の流量を検出する循環水量検出手段と、前記新水導入路を通して前記循環水貯留部に導入される新水の流量を検出する新水量検出手段とをさらに備え、
   前記循環水制御手段は、前記循環水量検出手段及び新水量検出手段の検出結果に応じて前記循環水水洗処理部における循環水の前記戻し水路から前記循環水貯留部への循環量を制御する、請求項１又は２に記載の基板処理装置。
4. 前記循環水制御手段は、前記循環水量検出手段による検出値が前記新水量検出手段による検出値よりも多い場合に、両者の差分の循環水を前記循環水水洗処理部から前記循環水貯留部へ戻すように制御する、請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記循環水制御手段は、前記戻し水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第１自動バルブをさらに含み、
   前記廃棄流量制御手段は、前記廃棄水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第２自動バルブと、前記第２自動バルブと直列に設けられ流量を任意の量に調整可能な手動バルブとを有し、
   前記循環水制御手段は、前記新水量検出手段による検出値が前記循環水量検出手段による検出値以上の場合は前記第１自動バルブを全閉かつ前記第２自動バルブを全開とし、前記循環水量検出手段による検出値が前記新水量検出手段による検出値より多い場合は前記第１及び第２自動バルブを全開とする制御部をさらに含む、請求項３又は４に記載の基板処理装置。
6. 表示部をさらに備えており、
   前記循環水制御手段は、前記循環水量検出手段による検出値が前記新水量検出手段による検出値よりも多い場合は、前記新水量検出手段で検出された値を前記表示部に表示する、
   請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記循環水制御手段は、前記戻し水路に設けられ全開及び全閉のいずれかをとり得る第１自動バルブをさらに含み、
   前記廃棄流量制御手段は流量を任意に調整可能な第２自動バルブを有し、
   前記循環水制御手段は、前記新水量検出手段による検出値が前記循環水量検出手段による検出値以上の場合は前記第１自動バルブを全閉かつ前記第２自動バルブを全開とし、前記循環水量検出手段による検出値が前記新水量検出手段による検出値よりも多い場合は前記第１自動バルブを全開にするとともに前記新水量検出手段で検出された流量だけ前記循環水が廃棄水路から廃棄されるように前記第２自動バルブの開度を調整する制御部をさらに含む、
   請求項３又は４に記載の基板処理装置。

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