JP3690632B2 - 狭帯域モジュールの検査装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は狭帯域化モジュールの狭帯域化効率、波長選択特性などの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置製造用のステッパの光源としてエキシマレーザの利用が注目されている。これは、エキシマレーザの波長が短いことから光露光の限界0.35μm以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較して焦点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)が小さくてすみ、露光領域を大きくできること、大きなパワーが得られること等の多くの優れた利点が期待できるからである。
【0003】
ところが、このエキシマレーザを半導体露光装置の光源として用いる場合、エキシマレーザの波長(KrFエキシマレーザの波長は248nm、ArFエキシマレーザでは193nm)で製作可能な光学系のレンズの材料としては合成石英素材しかないが(CaF2では加工が困難)、合成石英素材単一では色収差の機能を持たせることはできない。
【0004】
例えば、KrFエキシマレーザの自然発振光の場合は、スペクトル線幅は300pmと広く、このままでは露光装置のレンズの色収差を無視することはできず、露光結果に充分な解像度を得る事はできない。
【0005】
そこで、エキシマレーザを半導体露光装置の光源として用いる場合は、レーザ共振器内にエタロンあるいはグレーティングおよびプリズム等の波長選択素子を含む狭帯域化モジュールを配置することによりレーザ光を狭帯域化するようにしている。
【0006】
このような狭帯域化モジュールの性能を検査するに当たり、従来は、狭帯域化モジュールを実機のレーザに搭載し、レーザチャンバから出射された実際のレーザ光を狭帯域化モジュールに入射しその出力光を検査するようにしていた。
【0007】
このため従来技術では、
(1)狭帯域化モジュールの性能確認のために実機のレーザ装置が必要である、
(2)狭帯域化モジュールの検査及び調整に時間がかかる、
(3)レーザ出力光に所要の性能が出なくなった際、その原因が、狭帯域化モジ ュールの不具合か、或いは他の構成要素、すなわち、レーザチャンバ、モ ニタモジュールのなどの不具合か、さらには共振器の光軸調整の不具合か などを特定することができない
などの問題がある。
【0008】
また、実開平2−129844号公報には、光ディスク装置などに適用される回折格子の光学特性を検査するための技術が示されている。すなわち、この従来技術では、回折格子に単一波長の平行光を入射し、回折格子からの1次光の受光位置との基準受光位置との位置ズレを測定し、この測定した受光位置ズレに基づいて回折格子のピッチ位置ズレを検査するようにしている。また、この従来技術においては、回折格子に単一波長の平行光を入射し、回折格子からの一次光の光量と0次光の光量とを測定し、これら光量の比に基づいて回折格子の溝深さを検査するようにしている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
この従来技術では、確かに光ディスク装置における回折格子の物理的形状に関する検査を回折格子単体としてなし得るものの、この従来技術は単に光ディスク装置などに用いられる回折格子の物理的形状を検出するものでしかなく、回折格子の狭帯域化性能を直接的に検出するものではない。
【0010】
すなわち、エキシマレーザなどのレーザの分野においては、狭帯域化モジュールから発生される狭帯域化光の強度分布、スペクトルの広がり、中心波長、狭帯域化効率、波面の形状などの各種の狭帯域化性能を、狭帯域化モジュール単体として直接的に検査および調整することができる検査装置が望まれている。
【0011】
この発明はこのような実情に鑑みてなされたもので、狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を狭帯域化モジュール単体として検査することができる狭帯域化モジュールの検査装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段及び作用効果】
請求項1に対応する発明では、狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、狭帯域レーザ光の波長域で発光する光を発生する光源手段と、前記光源手段からの光が入射されるスリットと、このスリットを経由した光をコリメート光に変換し、変換された光を前記狭帯域化モジュールに入射するコリメート変換器と、前記狭帯域化モジュールからの出力光を集光する集光手段と、直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光が入射される光検出器と、前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段とを備えるようにしている。
【0013】
係る発明では、狭帯域化レーザで発振させる波長域で発光する光をスリットを経由してコリメート光に変換した後、狭帯域化モジュールに入射し、狭帯域化モジュールからの出力光を集光して光検出器上に入射する。コリメート変換器と狭帯域化モジュールとの間の光路上には全反射ミラーが取り外し可能に配設されており、光検出器の出力に基づいて全反射ミラーが配設された状態での光強度Ibと、全反射ミラーが取り外された状態での光強度すなわち狭帯域化モジュールで狭帯域化された光の光強度Inとを求め、これらの比In/Ibを指標として狭帯域化モジュールの狭帯域化効率を検査する。この狭帯域化効率はレーザの出力を大きく左右させるものである。
【0014】
このようにしてこの発明によれば、光軸上に全反射ミラーを取り外し可能に配設するという極めて簡単か構成によって、狭帯域モジュールの性能上極めて重要なレーザ出力に影響を与える狭帯域化効率を検査できるようになる。また、実機のレーザを用いることなく、狭帯域化モジュール単体の狭帯域化効率を評価できるようになるため、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0015】
請求項2の発明では、請求項1の検査手段は、前記全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしている。
【0016】
したがって、この発明によれば狭帯域化モジュールの波長選択特性(選択中心波長、スペクトル線幅など)を実機のレーザを用いることなく評価できるようになり、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0017】
請求項3に対応する発明では、狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、広帯域の光を発生する広帯域光源と、この広帯域光源からの光が入射されるスリットと、このスリットを経由した光をコリメート光に変換し、変換された光を前記狭帯域化モジュールに入射するコリメート変換器と、前記狭帯域化モジュールからの出力光を集光する集光手段と、前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光を分光する分光器と、この分光器によって分光された光が入射される光検出器と、前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段とを備えるようにしている。
【0018】
この請求項3に対応する発明では、広帯域光を狭帯域化モジュールに入射し、分光器によって狭帯域レーザ光の波長域の光を分光して光検出器に入射する。この発明においても、コリメート変換器と狭帯域化モジュールとの間の光路上には全反射ミラーが取り外し可能に配設されており、光検出器の出力に基づいて全反射ミラーが配設された状態での光強度Ibと、全反射ミラーが取り外された状態での光強度すなわち狭帯域化モジュールで狭帯域化された光の光強度Inとを求め、これらの比In/Ibを指標として狭帯域化モジュールの狭帯域化効率を検査する。
【0019】
このようにしてこの発明によれば、光軸上に全反射ミラーを取り外し可能に配設するという極めて簡単か構成によって、狭帯域モジュールの性能上極めて重要な狭帯域化効率を検査できるようになる。また、実機のレーザを用いることなく、狭帯域化モジュール単体の狭帯域化効率を評価できるようになるため、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0020】
請求項4の発明では、請求項3の検査手段は、前記全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしている。
【0021】
したがって、この発明によれば狭帯域化モジュールの波長選択特性(選択中心波長、スペクトル線幅など)を実機のレーザを用いることなく評価できるようになり、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0022】
請求項5に対応する発明では、狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、狭帯域レーザ光の波長域で発光する光を発生する光源手段と、この光源手段からの単色光をコリメート光に変換するコリメート変換器と、この変換されたコリメート光を2光束に分けて一方の光束を前記狭帯域化モジュールに入射し、前記狭帯域化モジュールからの戻り光と前記2光束に分けられた他方の光束とを干渉させる干渉計と、前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、前記干渉計の出力光を集光する集光手段と、直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光が入射される光検出器と、前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段とを備えるようにしている。
【0023】
この請求項5に対応する発明では、干渉計によって入射された単色コリメート光を2光束に分けて一方の光束を前記狭帯域化モジュールに入射し、前記狭帯域化モジュールからの戻り光と前記2光束に分けられた他方の光束とを干渉させ、この干渉された光を集光した後光検出器上に入射する。この発明においても、コリメート変換器と狭帯域化モジュールとの間の光路上には全反射ミラーが取り外し可能に配設されており、光検出器の出力に基づいて全反射ミラーが配設された状態での光強度Ibと、全反射ミラーが取り外された状態での光強度すなわち狭帯域化モジュールで狭帯域化された光の光強度Inとを求め、これらの比In/Ibを指標として狭帯域化モジュールの狭帯域化効率を検査する。
【0024】
このようにしてこの発明によれば、光軸上に全反射ミラーを取り外し可能に配設するという極めて簡単か構成によって、狭帯域モジュールの性能上極めて重要な狭帯域化効率を検査できるようになる。また、実機のレーザを用いることなく、狭帯域化モジュール単体の狭帯域化効率を評価できるようになるため、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0025】
請求項6の発明では、請求項5の発明の検査手段は、全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力から得られた干渉縞に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしている。
【0026】
このようにこの発明によれば、干渉縞に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性(選択中心波長、スペクトル線幅など)を実機のレーザを用いることなく評価できるようになり、検査コスト、検査時間を著しく短縮することができ、狭帯域化モジュールの量産出荷することができるようになる。
【0027】
請求項7に対応する発明では、請求項1、4または5の発明において、前記狭帯域化モジュールとコリメート変換器との間の光路上に、入射された狭帯域レーザ光の波面を補正して出射する波面調整手段を設けるようにしている。
【0028】
この請求項7の発明では、波面調整を可能にするようにしたので、狭帯域化モジュールから出射される波面の形状によって左右されるスペクトル線幅、レーザ光出力、ビーム断面の空間的出力分布などを仕様範囲内に調整することが可能になる。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下この発明の実施形態を添付図面に従って詳細に説明する。
【0030】
図1にこの発明をエキシマレーザの狭帯域化モジュールを検査する検査装置に適用した場合の実施形態についての概念的構成を示す。
【0031】
図1において、光源2は、当該狭帯域化モジュール1が搭載されるレーザ装置から発生される狭帯域レーザ光の波長域の単色光を発生する。光源2から発生された単色光は、コリメータ部3で平行光に変換された後、狭帯域化モジュール1に入射される。コリメータ部3は、ビームスプリッタ4およびコリメータレンズ5を有している。コリメータ部3と狭帯域化モジュール1の間の光路上には、全反射ミラー6が当該光路上から取り外し可能に配設されている。
【0032】
狭帯域化モジュール1または全反射ミラー6からの戻り光は、ビームスプリッタ3によって偏向され、直線状に並ぶ複数の感光部を有するCCDあるいはラインセンサ等で構成される光検出器7に入射される。検査装置8は、光検出器7の検出出力に基づき、狭帯域モジュール1の狭帯域化効率、波長選択性能などの各種狭帯域化性能を検査する。
【0033】
すなわち、全反射ミラー6が光路上に配設されている状態のときには、光源2からの自然発振光が光検出器7に入射され、全反射ミラー6が光路上から取り外されているときは狭帯域化モジュール1によって狭帯域化された光が光検出器7に入射されることになり、これらの各受光光量の比を求めることで狭帯域化効率を求め、これを本狭帯域化モジュール1を搭載したレーザ装置のレーザ出力を判定する上での指標とする。また、光検出器7の受光位置などを判定することで狭帯域化モジュール1から出力される狭帯域化光のスペクトル構造を検査し、その波長選択特性を判定する。
【0034】
上記光源2としては、例えば次のようなものを用いる。
【0035】
KrFエキシマレーザの狭帯域化モジュールを検査する場合は、
a.低圧水銀ランプの3本の発光線、248.1996nm、248.2716nm、248.3815nm(空気中)
b.Feのホローカソードランプの248.3271nm線(空気中)
c.アルゴンレーザ(496.5nm)の第2高調波である248.25nm線
d.その他248.1〜248.6nmの間の発光線またはレーザ光
ArFエキシマレーザの狭帯域化モジュールを検査する場合は、
a.Asのホローカソードランプの193.7590nm線(真空中)
b.低圧水銀ランプの194.2273nm線(真空中)
c.その他193.0〜194.3nmの間の発光線またはレーザ光
以上の基本構成によって狭帯域化モジュール1単体の光学性能を検査する。
【0036】
図2により具体的な実施形態を示す。
【0037】
図2において、低圧水銀ランプなどのランプ10の光は、コリメータレンズ11でコリメート光に変換された後、干渉フィルタ12で所要の波長の発光線が透過され、さらに集光レンズ13によって集光される。集光レンズ13の焦点位置にはスリット14が配置され、このスリット14を透過した光はビームスプリッタ15を透過し、さらにコリメータレンズ16によってコリメート光に変換された後、狭帯域化モジュール1に入射される。
【0038】
この場合、狭帯域化モジュール1は2個のプリズムから成るプリズムビームエキスパンダ17、回折格子18および波面調整器20を有しており、プリズムビームエキスパンダ17、回折格子18によって狭帯域化された光が狭帯域化モジュール1から出力される。
【0039】
コリメータレンズ16と狭帯域化モジュール1との間の光路上には、全反射ミラー6が光路上から取り外し可能に配設されている。
【0040】
狭帯域化モジュール1または全反射ミラー6からの戻り光は、コリメータレンズ16、ビームスプリッタ3を経由した後、CCDあるいはラインセンサ等で構成される光検出器7に入射される。検査装置8は、光検出器7の出力が、その受光位置と光強度との対応関係などで表示されるモニタを有しており、光検出器7の検出出力に基づいて狭帯域モジュール1の各種狭帯域化性能を検査する。
【0041】
波面調整器20は、プリズムビームエキスパンダ17およびグレーティング18へ入射する光の波面を平面波、凸面波、凹面波のいずれにも変換可能なものである。すなわち、プリズムビームエキスパンダ17およびグレーティング18の組み合わせから成る狭帯域化モジュール1の狭帯域化性能をより発揮するためにはこれらへの入射光の波面を平面波、凸面波、凹面波のいずれかにし、かつ凸面波、凹面波の場合はその2次元的な曲率半径を調整する必要があるので、この調整を波面調整器20で行うようにしている。なお、平面波、凸面波、凹面波のいずれを選ぶかは光学素子の特性のばらつきに応じて異なっている。
【0042】
図3は波面調整器20の各種の具体例を示すものである。
【0043】
図3(a)においては、波面調整器20は、凹レンズ21および凸レンズ22で構成され、凸レンズ22を適宜の機構によって光軸方向に移動可能にしており、入射された波面を凹レンズ21と凸レンズ22の光軸方向の相対位置に応じて任意の曲率をもつ波面(凹波面、凸波面)または平面波に変換することができるようにしている。
【0044】
図3(b)においては、反射型の光学素子基板23に実際に物理的力を加えて反射面を歪ませるようにしている。すなわち、反射ミラー23の両端を支持部材24に形成した凹部25に係合させて、これら凹部25で反射ミラー23の両端を支持するとともに、反射ミラー23の背面中央付近に設けた適宜の機構によって反射ミラー23の背面中央部を押圧または引張ることによって、ミラー反射面を凹面または凸面に曲げるようにしている。
【0045】
図3(c)(d)においては、透過型の光学素子基板26に対し、温度分布を故意に与えることで基板26に屈折率分布を発生させて波面調整器20を実現するようにしている。図3(d)は図3(c)の平面図である。すなわち、例えば、石英硝子基板26の四方の各側面に、熱電素子のような加熱および冷却が可能な加熱冷却器27a〜27dを設置し、これら各加熱冷却器27a〜27dを温度制御することで石英硝子基板26に所望の屈折率分布を与える。なお、図3(d)において、27はレーザビームが通過するエリアである。
【0046】
つぎに、図4のフローチャートを参照して図2の実施形態の検査手順を説明する。
【0047】
まず、最初の段階では、コリメータレンズ16と狭帯域化モジュール1との間の光路上には全反射ミラー6が配置されている状態にある。この段階で、検査装置8のモニタを見ながら光検出器7の受光光量が最大となるように図2の狭帯域化モジュール1以外の各光学機器の光軸調整を実行する(ステップ100)。そして、この状態で、検査装置8に指令を与えることで、光検出器7の出力を取り込ませ、その受光光量I b (図5で示されるように光検出器7の各感光部で検出される光量のうちの最大値)を測定する(ステップ110)。このようにして、干渉フィルタ12で波長選択された光の自然発光光の光強度Ibを得ることができる。
【0048】
次に、前記全反射ミラー6を光路上から取り外す(ステップ120)。そして、検査装置8のモニタを見ながら光検出器7の受光光量が最大となるように狭帯域化モジュール1内の光学機器17、18の光軸調整を実行する(ステップ130)。すなわち、プリズムビームエキスパンダ17の2つのプリズムの位置、角度を調整すると共に、グレーティング18の回転角度を調整してグレーティング18に対する入射光の入射角度を調整し、その選択波長が光源の波長すなわち干渉フィルタ12の選択波長と一致するようにする。
【0049】
次に、検査装置8のモニタを見ながら光検出器7の受光出力の光の拡がり幅(図5参照)が最小になるように、狭帯域化モジュール1内の波面調整器20によって波面調整を実行する(ステップ140)。
【0050】
そして、この状態で、検査装置8に指令を与えることで、光検出器7の出力を取り込ませ、その受光光量I n (図5で示されるように光検出器7の各感光部で検出される光量のうちの最大値)を測定する(ステップ150)。
【0051】
そして、検査装置8は、先に取り込んだ受光光量Ibと、今回取り込んだ受光光量Inとの比、すなわち狭帯域化効率Ef(=In/Ib)を求める(ステップ160)。また、検査装置8では、このようにして求められた狭帯域化効率Efを予め設定された許容範囲値と比較し、許容範囲内に入っていた場合は、合格品である旨をモニタに表示し、許容範囲外である場合は不合格品である旨をモニタ表示することで、当該狭帯域化モジュールの良否をオペレータに報知する。なお、このようにして求められた狭帯域化効率Efは、当該狭帯域化モジュールが搭載されたレーザ装置の出力パワーを評価する上での1つの重要な指標となる。
【0052】
すなわち、単色光発光手段から発生される光の強度は、波長に応じてばらつく強度−波長分布を通常もっており、単に狭帯域モジュールから出力された光の強度を検出しても、これだけでは狭帯域化モジュール1での狭帯域化された光の光強度に関する絶対的に評価を決めることはできない。
【0053】
そこで、同じ光学系を介して受光した単色光源の自然発振光と狭帯域化光との比を求め、この比によって狭帯域化モジュールの狭帯域化出力効率を評価するようにしている。
【0054】
また、この検査システムでは、前述したように、光検出器7の出力から狭帯域化モジュール1の波長選択特性(選択中心波長、スペクトル線幅など)を評価するようにしている。
【0055】
なお、図4に示した検査手順において、最初に全反射ミラー6を取り外して狭帯域化モジュール1からの戻り光を光検出器7に入射してその光強度Inを検出し、その後で全反射ミラー6を光路上に配設ししてその光強度Ibを検出するようにしてもよい。
【0056】
このようにこの実施形態では、狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を確認する上での重要な指標となる狭帯域化効率、および波長選択特性を実機のレーザを用いることなく、簡単な構成および短い検査時間で検査することができるようになる。
【0057】
図6にこの発明の他の実施形態を示す。
【0058】
この図6の実施形態においては、単色光源30としてアルゴンレーザの第2高調波である248.25nm線を用い、このレーザ光を光ファイバースリーブ31、光ファイバー32および光ファイバースリーブ33を経由して集光レンズ13に導光するようにしている。また、図2のコリメータレンズ16の代わりに軸外放物面鏡34を用いてコリメート変換を行うようにしている。
【0059】
軸外放物面鏡34の場合、コリメータレンズ16とは違って色収差および球面収差が発生しないために、単色光源30をその発光波長域が異なるものに交換するだけで、狭帯域化の波長域が異なる複数種の狭帯域化モジュールの検査を行う利点がある。例えば、KrFエキシマレーザ用の狭帯域化モジュールを検査する場合は、前述したように248.1〜248.6nmの間の発光線またはレーザ光を発生する光源を用い、ArFエキシマレーザの狭帯域化モジュールを検査する場合は、この光源を193.0〜193.9nmの間の発光線またはレーザ光を発生する光源に交換するだけで、両狭帯域化モジュールの検査を行うことができる。
【0060】
この実施形態においても、先の図2の実施形態と同様、全反射ミラー6を配置および取り外した状態で光検出器7の出力に基づいて狭帯域化モジュール1の狭帯域化効率Efを求めると共に、光検出器7の出力から得られた波長およびスペクトル線幅に基づいて狭帯域化モジュール1の波長選択特性を検査することができる。また、波面調整器20によってプリズムエキスパンダ17およびグレーティング18への入射波面を調整することで、スペクトル線幅が最小になるように調整することができる。
【0061】
ただし、この図6の実施形態において、波面制御を行った場合は、この波面調整に応じて軸外放物面鏡34の焦点位置が変化するので、光検出器7は光軸方向に移動可能にしている。すなわち、前述したように、波面調整器20によって波面を変えながら光検出器7によってスペクトル幅を観測すると波面の変化のみによってスペクトル幅が変化するので、その幅が最も細くなる波面で、波面補正器20の調整状態を固定する。この結果、調整前のときと調整後では、軸外放物面鏡34の焦点位置が変化するので、調整中或いは調整後に光検出器7を軸外放物面鏡34の焦点位置に移動させるようにしている。例えば、平面波を反射したときの焦点位置に比べて凸面波を反射したときの焦点位置は遠くなり、凹面波を反射したときの焦点位置は近くになる。
【0062】
図7にこの発明の更に別の実施形態を示す。
【0063】
この実施形態においては、光源35として重水素ランプを用いるとともに、波長選択素子として先の図2の干渉フィルタ12の代わりに分光器40を用いるようにしている。
【0064】
重水素ランプ35は、KrFエキシマレーザの波長域248.3nm近傍およびArFエキシマレーザの波長域193.nm近傍の双方で比較的広帯域のスペクトルを発生する。分光器40は、この場合、回折格子41および2つの凹面鏡42、43を用いたツェルニーターナー方式のものを用いており、この分光器40を用いて狭帯域化モジュール1で狭帯域化する選択波長域の光を分光して取り出すようにしている。他の構成および動作は先の図6に示した実施形態と同様である。
【0065】
この実施形態においては、ランプ35を交換することなく、KrFエキシマレーザ用およびArFエキシマレーザ用の狭帯域化モジュール1の狭帯域化性能を検査することができる。
【0066】
図8にこの発明の更に別の実施形態を示す。
【0067】
この実施形態においては、光源35としては、先の図7の実施形態同様、重水素ランプのようなKrFエキシマレーザの波長域248.3nm近傍およびArFエキシマレーザの波長域193.nm近傍の双方で広帯域のスペクトルを発生するものを用いる。また、この場合、分光器40は、狭帯域化モジュール1に対する入射側に配するのではなく、狭帯域化モジュール1からの出射側に配するようにしている。この実施形態においても、先の実施形態と同様、全反射ミラー6を配置および取り外した状態で光検出器7の出力に基づいて狭帯域化モジュール1の狭帯域化効率Efを測定するとともに、光検出器7の出力から得られた波長およびスペクトル線幅に基づいて狭帯域化モジュール1波長選択特性を検査することができる。また、波面調整器20によってプリズムエキスパンダ17およびグレーティング18への入射波面を調整することで、スペクトル線幅が最小になるように調整する。
【0068】
図9にこの発明の更に他の実施形態を示す。
【0069】
この図9に示す実施形態では、フィゾー干渉計を用いて干渉縞を発生させ、この干渉縞によって波面を計測するようにしている。
【0070】
この場合、光源30からは、アルゴンイオンレーザの第2高調波である248.25nmのレーザ光が発生される。すなわち、アルゴンイオンレーザ30は、496.5nmを基本波としているが、このアルゴンイオンレーザの共振器内にエタロンなどの波長選択素子を配置して縦モードを1本に選択することによりスペクトル線幅を狭くし、この基本波をBBOなどの第2高調波への変換素子を通過させることで、248.25nmのレーザ光を出力する。
【0071】
このレーザ光は、2枚のミラー51、52経由した後、拡散レンズ52によって広げられた後、ビームスプリッタ15を透過し、コリメータレンズ16によって平行光に変換される。
【0072】
そして、オプティカルフラットで構成された半透過鏡55によって一部が透過され、残りが反射される。
【0073】
半透過鏡55で反射された光は、コリメータレンズ16、ビームスプリッタ15を経由して集光レンズ54に入射され、集光された光が光検出器7に第1光として入射される。
【0074】
半透過鏡55を透過した光は、狭帯域化モジュール1に入射され、波面調整器20、プリズム17を経由した後、グレーティング18に入射され、その回折光が、再度プリズム17、波面補正器20を経由して狭帯域化モジュール1から出射される。狭帯域化モジュール1から出射された光は、半透過鏡55を透過した後、コリメータレンズ16、ビームスプリッタ15を経由して集光レンズ54に入射され、集光された光が光検出器7に第2の光として入射される。
【0075】
このようにして、第1の光と第2の光が干渉し、CCDで構成される光検出器7上には干渉縞が形成される。
【0076】
したがって、検査装置8によってCCD7上干渉縞を観測することで、狭帯域化モジュール1で狭帯域化された光のスペクトル構造、狭帯域化モジュール1へ入射される波面の状態を検査することができ、狭帯域化モジュール1の波長選択特性を評価することができる。また、先の実施形態と同様、全反射ミラー6を配置および取り外した状態で光検出器7の出力に基づいて狭帯域化モジュール1の狭帯域化効率Efを求めることができる。
【0077】
なお、フィゾー干渉計の場合、光源30として、可干渉距離が長い(スペクトル線幅が狭い)レーザ光源でないと、干渉縞を発生させることができない。
【0078】
図10は、マイケルソンの干渉計を使用して狭帯域化モジュール1の狭帯域化性能を検査するようにした実施形態である。
【0079】
すなわち、この場合は、コリメータレンズ16からの平行光は、一部がビームスプリッタ15で反射されてオプティカルフラットで構成された全反射鏡57に入射され、その残りが透過されて狭帯域化モジュール1に入射される。
【0080】
したがって、全反射鏡57で反射された光がビームスプリッタ15を経由して集光レンズ54に入射され、集光された光が光検出器7に第1の光として入射され、狭帯域化モジュール1から出射された光がビームスプリッタ15を経由して集光レンズ54に入射され、集光された光が光検出器7に第2の光として入射される。このようにして、第1の光と第2の光が干渉し、光検出器7上には干渉縞が形成される。
【0081】
したがって、この場合も、検査装置8によってCCD7上干渉縞を観測することで、狭帯域化モジュール1で狭帯域化された光の波長選択特性(スペクトル構造)、狭帯域化モジュール1へ入射される波面の状態を検査することがきる。また、全反射ミラー6を配置および取り外した状態で光検出器7の出力に基づいて狭帯域化モジュール1の狭帯域化効率Efを求めることができる。
【0082】
なお、マイケルソンの干渉計の場合は、全反射鏡57の位置を調整することにより、可干渉距離が短くても干渉縞を発生させることができる利点をもっている。したがって、光源として、Hg,Fe、Asなどのランプの発光線を使用しても、干渉縞を発生させることができる。
【0083】
図11は、図9又は図10の実施形態の検査手順を示すものであり、以下、この図11のフローチャートを参照して図9又は図10の実施形態の検査手順を説明する。
【0084】
まず、最初の段階では、コリメータレンズ16と狭帯域化モジュール1との間の光路上には全反射ミラー6が配置されている状態にある。この段階で、検査装置8のモニタを見ながら光検出器7の受光光量が最大となるように狭帯域化モジュール1以外の各光学機器の光軸調整を実行する(ステップ200)。そして、この状態で、検査装置8に指令を与えることで、光検出器7の出力を取り込ませ、その受光光量I b (図5で示されるように光検出器7の各感光部で検出される光量のうちの最大値)を測定する(ステップ210)。
【0085】
次に、前記全反射ミラー6を光路上から取り外す(ステップ220)。そして、検査装置8のモニタをモニタを見ながら干渉縞が発生するように狭帯域化モジュール1内の光学機器17、18の光軸調整を実行する(ステップ230)。すなわち、プリズムビームエキスパンダ17の2つのプリズムの位置、角度を調整すると共に、グレーティング18の回転角度を調整してグレーティング18に対する入射光の入射角度を調整し、その選択波長が光源30の波長と一致するようにする。
【0086】
次に、検査装置8のモニタを見ながら干渉縞の形状が所定の範囲内の形状となるように、狭帯域化モジュール1内の波面調整器20によって波面調整を実行する(ステップ240)。そして、この状態で、検査装置8に指令を与えることで、光検出器7の出力を取り込ませ、その受光光量I n (図5で示されるように光検出器7の各感光部で検出される光量のうちの最大値)(ステップ250)。
【0087】
そして、 検査装置8は、先に取り込んだ受光光量Ibと、今回取り込んだ受光光量Inとの比、すなわち狭帯域化効率Ef(=In/Ib)を求める(ステップ260)。
【0088】
なお、前述した本発明の検査装置をエキシマレーザ以外の任意のレーザ装置の検査に適用するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施形態の基本的な構成を示す概念的ブロック図。
【図2】この発明の実施形態を示す図。
【図3】波面調整器の具体例を示す図。
【図4】図2の実施形態の検査手順を示すフローチャート。
【図5】光検出器の出力を示す図。
【図6】この発明の他の実施形態を示す図。
【図7】この発明の更に別の実施形態を示す図。
【図8】この発明の更に他の実施形態を示す図。
【図9】この発明の更に他の実施形態を示す図。
【図10】この発明の更に他の実施形態を示す図。
【図11】図9及び図10の実施形態の検査手順を示すフローチャート。
【符号の説明】
1…狭帯域化モジュール 2、30、35…光源
3…コリメータ部 4、15…ビームスプリッタ
5、11、16…コリメータレンズ 6…全反射ミラー
7…光検出器 8…検査装置 10…ランプ
12…干渉フィルタ 13…集光レンズ 14…スリット
17…プリズムビームエキスパンダ 18…回折格子
20…波面調整器 31、33…スリーブ 32…光ファイバー
40…分光器 55…半透過鏡 57…全反射ミラー

Claims (7)

  1. 狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、
    狭帯域レーザ光の波長域で発光する光を発生する光源手段と、
    前記光源手段からの光が入射されるスリットと、
    このスリットを経由した光をコリメート光に変換し、変換された光を前記狭帯域化モジュールに入射するコリメート変換器と、
    前記狭帯域化モジュールからの出力光を集光する集光手段と、
    直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光が入射される光検出器と、
    前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、
    前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段と、
    を備えるようにしたことを特徴とする狭帯域化モジュールの検査装置。
  2. 前記検査手段は、
    前記全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしたことを特徴とする請求項1記載の狭帯域化モジュールの検査装置。
  3. 狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、
    広帯域の光を発生する広帯域光源と、
    この広帯域光源からの光が入射されるスリットと、
    このスリットを経由した光をコリメート光に変換し、変換された光を前記狭帯域化モジュールに入射するコリメート変換器と、
    前記狭帯域化モジュールからの出力光を集光する集光手段と、
    前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、
    直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光を分光する分光器と、
    この分光器によって分光された光が入射される光検出器と、
    前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段と、
    を備えるようにしたことを特徴とする狭帯域化モジュールの検査装置。
  4. 前記検査手段は、
    前記全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしたことを特徴とする請求項3記載の狭帯域化モジュールの検査装置。
  5. 狭帯域化モジュールの狭帯域化性能を検査する狭帯域化モジュールの検査装置において、
    狭帯域レーザ光の波長域で発光する光を発生する光源手段と、
    この光源手段からの単色光をコリメート光に変換するコリメート変換器と、
    この変換されたコリメート光を2光束に分けて一方の光束を前記狭帯域化モジュールに入射し、前記狭帯域化モジュールからの戻り光と前記2光束に分けられた他方の光束とを干渉させる干渉計と、
    前記コリメート変換器と前記狭帯域化モジュールとの間の光路上に取り外し可能に配設される全反射ミラーと、
    前記干渉計の出力光を集光する集光手段と、
    直線状に並ぶ複数の感光部を有し、前記集光手段によって集光された光が入射される光検出器と、
    前記全反射ミラーが前記光路上に配置された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値と前記全反射ミラーが前記光路上から外された状態で前記光検出器の感光部にて検出される受光光量のうちの最大値との比を求める検査手段と、
    を備えるようにしたことを特徴とする狭帯域化モジュールの検査装置。
  6. 前記検査手段は、
    前記全反射ミラーを前記光路上から外した状態での前記光検出器の出力から得られた干渉縞に基づいて狭帯域化モジュールの波長選択特性を検査するようにしたことを特徴とする請求項5記載の狭帯域化モジュールの検査装置。
  7. 前記狭帯域化モジュールとコリメート変換器との間の光路上に、入射された狭帯域レーザ光の波面を補正して出射する波面調整手段を設けるようにしたことを特徴とする請求項1または3または5記載の狭帯域化モジュールの検査装置。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4102457B2 (ja) * 1997-05-09 2008-06-18 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザ装置
US6515741B1 (en) * 1999-03-17 2003-02-04 Lambda Physik Ag Optical device and method for line-narrowed excimer or molecular fluorine laser
US20020071468A1 (en) * 1999-09-27 2002-06-13 Sandstrom Richard L. Injection seeded F2 laser with pre-injection filter
US6542243B2 (en) 2000-01-27 2003-04-01 Lambda Physik Ag Resonator optics monitoring method
US6587202B2 (en) * 2000-01-28 2003-07-01 Lambda Physik Ag Optical materials testing method
US6788726B2 (en) * 2002-02-26 2004-09-07 New Focus, Inc. External cavity laser with high spectral purity output
DE10210038B4 (de) * 2002-03-07 2005-07-07 Siemens Ag Elektro-optisches Messsystem und Verfahren zur Reduzierung von Störsignalen in einem elektro-optischen Messvorgang
DE10329406B4 (de) * 2003-06-26 2009-04-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Transmissions-Filtereinrichtung
TWI245926B (en) * 2004-05-10 2005-12-21 Chroma Ate Inc Device and method of an interference scanner
US7209230B2 (en) 2004-06-18 2007-04-24 Luckoff Display Corporation Hand-held spectra-reflectometer
JP5382975B2 (ja) * 2004-07-06 2014-01-08 株式会社小松製作所 高出力ガスレーザ装置
US7233394B2 (en) 2005-06-20 2007-06-19 Luckoff Display Corporation Compact spectrometer
JP4911558B2 (ja) * 2005-06-29 2012-04-04 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザ装置
JP4791117B2 (ja) * 2005-09-16 2011-10-12 株式会社日立国際電気 調光装置
JP2012172982A (ja) * 2011-02-17 2012-09-10 Toppan Printing Co Ltd 双方向反射率分布関数取得装置及びその制御プログラム
JP5607592B2 (ja) * 2011-09-05 2014-10-15 株式会社小松製作所 狭帯域化レーザ装置
JP6549248B2 (ja) * 2015-12-10 2019-07-24 ギガフォトン株式会社 狭帯域化レーザ装置及びスペクトル線幅計測装置
EP3444676A1 (en) * 2017-08-15 2019-02-20 ASML Netherlands B.V. Metrology method, apparatus and computer program
CN112636152B (zh) * 2020-12-18 2022-10-25 北京科益虹源光电技术有限公司 一种波前可调的激光器光谱线宽压窄装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989000779A1 (en) * 1987-07-17 1989-01-26 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Apparatus for controlling laser wavelength
JP2781987B2 (ja) * 1989-05-23 1998-07-30 株式会社小松製作所 波長検出装置
WO1991012499A1 (fr) * 1990-02-15 1991-08-22 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Detecteur de longueur d'onde
JPH07120326A (ja) * 1993-10-22 1995-05-12 Komatsu Ltd 波長検出装置
US5559816A (en) * 1994-10-26 1996-09-24 Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh Narrow-band laser apparatus
WO1996031929A1 (fr) * 1995-04-03 1996-10-10 Komatsu Ltd. Laser a bande etroite
JP2000216464A (ja) * 1999-01-22 2000-08-04 Komatsu Ltd 狭帯域化レ―ザ装置に用いられるエシェ―ルグレ―ティング

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