JP3645780B2 - ビルドアップ多層プリント配線板とその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は多層プリント配線板とその製造方法に関し、特にコア基板の表面に絶縁樹脂と導電層をビルドアップして形成される配線効率の改善されたビルドアップ多層プリント配線板とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
コア基板に絶縁樹脂層と配線層を交互に積み上げて形成した多層プリント配線板は、所謂ビルドアップ多層プリント配線板は、微細配線パターンが形成できるために高密度実装用基板として実用化され、その使用が拡大している。
【0003】
ビルドアップ多層プリント配線板の製造方法としては、特開平10―341077号公報(第1の従来技術という)等に開示されている。本技術では、貫通孔を形成した両面銅張り積層板にパネルめっきした後、貫通孔に絶縁樹脂層を充填し、次いでパターニングして貫通するランド付きの第1のビアホールおよび配線パターンを形成してコア基板を製造する。このコア基板上にビルドアップ絶縁層を形成後、該絶縁層に第1のビアホールのランドに貫通する孔を形成して全面にめっきする。次いで、エッチングにより上層配線パターンと第1のビアホールのランドに接続する第2のビアホールを形成する。このビルドアップ絶縁層と配線パターン(含ビアホール)の形成を交互に行い、所定の層数の多層プリント配線板が製造される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の第1の従来技術では、次のような問題点があった。
(1)コア基板の貫通ビアホール(第1のビアホール)の内部表面は絶縁樹脂層が形成されているために、この直上に直接マイクロビアホール(第2のビアホール)を形成することができない。そのために第1のビアホールのランドに上層配線パターンに接続するためのマイクロビアホール(第2のビアホール)を接続していた。そのために、配線に必要な面積が増え、配線効率が悪くなる。
(2)コア基板の第1のビアホールの絶縁樹脂層による穴埋め工程が必要であり、製造コストが増加する。
【0005】
上記の従来技術の問題点を解決する方法が、特開平11―40949号公報、(第2の従来技術という)、特開平―274730号公報(第3の従来技術という)等に開示されている。
【0006】
上記の第2の従来技術では、コア基板の貫通ビアホールに導電性物質を充填してその表面を平坦化した後、該貫通ビアホールの直上のビルドアップ絶縁層に該貫通ビアホールに接続するマイクロビアホールを形成する。
【0007】
また、上記の第3の従来技術では、コア基板の貫通ビアホールに絶縁樹脂層を充填してその表面を平坦化した後、該貫通ビアホール表面の絶縁樹脂層を所定の深さエッチング除去する。次いで、絶縁樹脂層をエッチング除去した凹部に導電性ペーストを充填して平坦化した後、該貫通ビアホールの直上のビルドアップ絶縁層に該貫通ビアホールに接続するマイクロビアホールを形成する。
【0008】
これらの従来技術では、コア基板の貫通ビアホールの表面に該貫通ビアホールのランドに導通した導電性ペースト等の導電材を形成し、貫通ビアホールの直上にコア基板の貫通ビアホールと接続するマイクロビアホールを形成でき、配線効率を改善する効果を得ているが、はんだ付け等の高温雰囲気でマイクロビアホールと導電性ペースト等の導電材との接続信頼性が低下する問題があり、また、上記の第1の従来技術と同様な貫通ビアホールへの導電性物質の充填のための工数が必要であり、製造コスト上昇の問題があった。
【0009】
従って、本発明の目的は、上記の従来技術の問題点を解決したビルドアップ多層プリント配線とその製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の構成のビルドアップ多層プリント配線板は、第1の絶縁層を介して積層され、その内部に該第1の絶縁層が充填されたスルーホールの外層面側をパッドで閉塞して形成されたブラインドビアホールを少なくとも有する2枚のコア基板と、前記積層された2枚のコア基板を貫通してこれらのコア基板の層間を電気的に接続し、その内部に第2の絶縁層が充填されたベース貫通ビアホールと、前記積層された前記2枚のコア基板の表面に形成された第3の絶縁層と、前記ブラインドビアホールの真上の前記第3の絶縁層に設けられ前記ブラインドビアホールの前記パッドに達する開口にめっきにより形成されたマイクロビアホールとを含んで構成されることを特徴とする。
【0011】
上記の第1の構成において、前記2枚のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を介在させることができる。
【0012】
また、上記の第1の構成のビルドアップ多層プリント配線板においては、その少なくとも片面に第4の絶縁層と導電層が交互に1層以上形成した構成とすることができる。
【0013】
本発明の第2の構成のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法は、穴あけした両面銅張り積層板の全面に第1のめっき層を形成する工程と、前記積層板の片面の前記第1のめっき層をパターニングして第1のスルーホールを有する第1および第2の2枚のコア基板を形成する工程と、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着し内層基板を形成するとともに前記第1の絶縁樹脂で前記第1および第2のコア基板の前記第1のスルーホールを充填する工程と、前記内層基板に貫通する穴を形成する工程と、前記穴を含む前記内層基板の全面に第2のめっき層を形成した後、前記第2のめっき層をパターニングし、前記第1のスルーホールの表面を前記第2のめっきで閉塞したパッドを有するブラインドビアホールと前記穴に前記第2のめっき層を有するベース貫通ビアホールを形成する工程と、前記ベース貫通ビアホールを第2の絶縁層で充填する工程と、前記内層基板上に第3の絶縁層を形成する工程と、前記第3の絶縁層に前記パッドに達する開口を形成した後、前記開口を含む前記第3の絶縁層表面に第3のめっき層を形成する工程と、前記第3のめっき層をパターニングして前記開口に前記パッドに電気的に接続されたマイクロビアホールを形成する工程とを含むことを特徴とする。
【0014】
上記第2の構成における前記第3の絶縁樹層は熱硬化性樹脂または光・熱硬化性樹脂により形成され、また、前記第3の絶縁樹脂層に熱硬化性樹脂を使用する場合には、該樹脂に無電解めっき用触媒を分散させることもできる。第3の絶縁樹脂層に無電解めっき用触媒を分散させることにより前記ブラインドビアホール上にアディティブ法で前記マイクロビアホールを形成することができる。
【0015】
上記第2の構成において、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着して内層基板を形成する際に、前記第1および第2のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を有する第3のコア基板を配置し、前記第1の絶縁樹脂を介して前記第1、第3および第2のコア基板を熱接着して内層基板を形成することもできる。また、前記パターニングされた前記第3のめっき層を含む前記第3の絶縁層上に第4の絶縁層と第4のめっき層からなる導電層を交互に1層以上形成することもできる。
【0016】
本発明では、内層基板のブラインドビアホールをめっきで形成したパッドで閉塞し、この上に直接マイクロビアホールを形成することができるために、配線収容性の向上したビルドアップ多層プリント配線板を提供できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に本発明のビルドアップ多層プリント配線板の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0018】
図1は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第1の実施の形態を説明する基板要部の断面図である。図1を参照すると、ビルドアップ多層プリント配線板は、絶縁層23を介して積層され、片面がパッド2aで閉塞されたブラインドビアホールを少なくとも有する2枚のコア基板21,22と、コア基板21,22の表面に形成されたビルドアップ絶縁層25と、積層されたコア基板21,22を貫通し、コア基板21,22の層間を電気的に接続し、その内部にビルドアップ絶縁層25が充填されたベース貫通ビアホール3と、ブラインドビアホール2の直上のビルドアップ絶縁層25にブラインドビアホール2のパッド2aに達する開口にめっきにより形成されたマイクロビアホール1とを含んで構成されている。
【0019】
絶縁層23としては、熱硬化性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が使用できる。コア基板の基材にはガラスエポキシ樹脂基板やガラスポリイミド樹脂基板が使用できる。絶縁層23は、プリプレグと呼ばれる半硬化状態の熱硬化性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等からなる樹脂シートの両側にコア基板21,22を配置して熱プレスで積層して形成される。ブラインドビアホール2の内部もこの積層工程で溶融して流入してきた絶縁層により充填される。また、ビルドアップ絶縁層としては、エポキシ樹脂が使用できる。
【0020】
次に、上記の第1の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法について図2および図3を参照して説明する。図2は、図1のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法の工程順を説明するための基板要部の断面図である。また、図3は図2(c)に続く工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【0021】
まず、エポキシ絶縁樹脂等の銅張り積層板(ガラス繊維で強化)を用いて穴明け、パネル電気銅めっきまたはパターン電気銅めっき等のめっき作業を行い、銅張り積層板に第1めっき層11,12,13,14を形成する。穴にはスルーホール10が形成される。
【0022】
その後、銅張り積層板の積層面(内層側の面)に露光、現像、エッチング作業により導電パターンを形成してコア基板21,22を製造する。
【0023】
次いで、同様に作製した2つのコア基板21,22の間にエポキシ樹脂等からなる半硬化状態のプリプレグを挟み、積層プレスでコア基板21,22を積層する(図2(b))。プリプレグは溶融してコア基板21,22のスルーホール10内にも充填される。符号23はプリプレグが溶融して硬化して形成された絶縁層を示す。コア基板21,22のスルーホール10上に吹き出た絶縁層は研磨で除去して平坦化する。
【0024】
次いで、積層したコア基板21,22を貫通する穴5を明けた後、銅等のめっき作業を行い、第2めっき層15、16を形成する。この時、スルーホール10外層面側の表面は第2めっき層15,16で塞がれる。このめっき作業で、穴5壁にも第2めっき層が形成される。
【0025】
次に、コア基板21,22の外層面側の第2めっき層15,16をフォトリソグラフィ技術でパターニングして導電パターンを形成する。この工程で、スルーホールの表面がパッド2aで閉塞された構造のブラインドビアホール2とコア基板21,22の層間を接続するベース貫通ビアホール3が形成される(図2(c))。
【0026】
次に、コア基板21,22の表面にアンダーコート材としてエポキシ樹脂からなる熱硬化性液状樹脂をスクリーン印刷等により塗布してコア基板21,22の表面のパターン間隙を充填すると同時にベース貫通ビアホール3を熱硬化性液状樹脂で充填して熱硬化する。その後、コア基板21,22の表面に、銅箔24にエポキシ樹脂からなる熱硬化性樹脂が被覆され半硬化状態の樹脂付き銅箔を積層プレスまたはロールラミネーターで熱圧着後、全体を熱硬化する(図3(a))。図3(a)の符号25は樹脂付き銅箔の熱硬化性樹脂を主成分とするビルドアップ絶縁層を示す。
【0027】
次いで、マイクロビアホール1を形成する部分の銅箔24を露光、現像、エッチングにより除去した後、レーザー加工でパッド2aに達する穴を形成する。その後、めっき作業を行い、第3めっき層17,18を形成する。なお、めっき作業には、パネルめっき法またはパターンめっき法を使用できる。
【0028】
その後、露光、現像、エッチング作業を行って外層導電パターンを形成する。この工程で、ブラインドビアホール2のパッド2aに直接接続されるマイクロビアホール1が形成される(図3(b))。
【0029】
上記の図3(a)の工程では、ベース貫通ビアホール3を熱硬化性液状樹脂で充填して熱硬化後、コア基板21,22の表面に、樹脂付き銅箔を積層プレスまたはロールラミネーターで熱圧着したが、樹脂付き銅箔の代わりに液状またはフィルム状のエポキシ樹脂等の光・熱硬化性樹脂や熱硬化性樹脂によりビルドアップ絶縁層25を形成してもよい。
【0030】
光・熱硬化性樹脂を使用する場合には、ビルドアップ絶縁層25には、レーザ穴明けまたはフォトリソグラフィ技術でパッド2aに達する開口を形成することができる。
【0031】
熱硬化性樹脂を使用する場合には、ビルドアップ絶縁層25には、レーザ穴明けでパッド2aに達する開口を形成することができる。また、熱硬化性樹脂を使用する場合には、樹脂中に無電解めっき用触媒を分散させ、外層導電パターン(含マイクロビアホール)をフルアディティブ法により形成することができる。
【0032】
次に、本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0033】
図4は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態を示す基板要部の断面図である。本実施の形態は、上記の第1の実施の形態において、外層にさらに1層のビルドアップ絶縁層と導電パターンを形成したものである。本実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板は、上記の第1の実施の形態で製造した配線板の両面にさらにアンダーコート材を塗布後、樹脂付き銅箔を圧着して、上記の第1の実施の形態と同様な操作により外層にマイクロビアホール1aを有する導電パターンを形成して製造される。なお、図4中、符号25aは2層目のビルドアップ絶縁層を示す。コア基板と隣接するビルドアップ層のマイクロビアホール1がブラインドビアホール2のほば軸線上に設けられていれば、ビルドアップ層が2層以上であっても全く同じ効果が得られる。
【0034】
次に、本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第3の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図5は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態を示す基板要部の断面図である。図5を参照すると、本実施の形態では、上記の第2の実施の形態において、2つのコア基板の間に別のコア基板26を挿入したものである、
図5では、コア基板は3つのコア基板21,22,26から構成されているが、コア基板は最も外側の2つのコア基板21,22にブラインドビアホール2が設けられていれば、その内側のコア基板は片面プリント配線板でも両面以上の多層プリント配線板でもよい。なお、図5の符号3aは3つのコア基板の層間を接続するベース貫通ビアホールを示す。
【0035】
上記の第3の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板は、上記の第1の実施の形態で説明した方法と同様な方法により製造できる。
【0036】
上記の第1〜第3の実施の形態の説明では、個々のコア基板の製造方法はサブトラクテイブ法を使用したが、アディティブ法により製造してもよい。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では次の効果が得られる。
(1)コア基板のスルーホールにコア基板の積層工程で同時に穴埋めしてブラインドビアホールを形成するために、ブラインドビアホールの穴を埋める特別な工程が必要でなく、製造工程を簡略化できる効果がある。
(2)コア基板のブラインドビアホールの表面をパッドで閉塞し、その上に直接上層接続用のマイクロビアホールが形成できるために、ビルドアップ多層プリント配線板の配線収容性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【図2】図1のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法の工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【図3】図2(c)に続く工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【符号の説明】
1,1a マイクロビアホール
2 ブラインドビアホール
3,3a ベース貫通ビアホール
11,12,13,14 第1めっき層
15,16 第2めっき層
17,18 第3めっき層
21,22 コア基板
23 絶縁層
25,25a ビルドアップ絶縁層
Claims (9)
- 第1の絶縁層を介して積層され、その内部に該第1の絶縁層が充填されたスルーホールの外層面側をパッドで閉塞して形成されたブラインドビアホールを少なくとも有する2枚のコア基板と、前記積層された2枚のコア基板を貫通してこれらのコア基板の層間を電気的に接続し、その内部に第2の絶縁層が充填されたベース貫通ビアホールと、前記積層された前記2枚のコア基板の表面に形成された第3の絶縁層と、前記ブラインドビアホールの真上の前記第3の絶縁層に設けられ前記ブラインドビアホールの前記パッドに達する開口にめっきにより形成されたマイクロビアホールとを含んで構成されることを特徴とするビルドアップ多層プリント配線板。
- 請求項1のビルドアップ多層プリント配線板において、前記2枚のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を有することを特徴とするビルドアップ多層プリント配線板。
- 請求項1または2のビルドアップ多層プリント配線板の少なくとも片面に第4の絶縁層と導電層が交互に1層以上形成されていることを特徴とするビルドアップ多層プリント配線板。
- 穴あけした両面銅張り積層板の全面に第1のめっき層を形成する工程と、前記積層板の片面の前記第1のめっき層をパターニングして第1のスルーホールを有する第1および第2の2枚のコア基板を形成する工程と、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着し内層基板を形成するとともに前記第1の絶縁樹脂で前記第1および第2のコア基板の前記第1のスルーホールを充填する工程と、前記内層基板に貫通する穴を形成する工程と、前記穴を含む前記内層基板の全面に第2のめっき層を形成した後、前記第2のめっき層をパターニングし、前記第1のスルーホールの表面を前記第2のめっきで閉塞したパッドを有するブラインドビアホールと前記穴に前記第2のめっき層を有するベース貫通ビアホールを形成する工程と、前記ベース貫通ビアホールを第2の絶縁層で充填する工程と、前記内層基板上に第3の絶縁層を形成する工程と、前記第3の絶縁層に前記パッドに達する開口を形成した後、前記開口を含む前記第3の絶縁層表面に第3のめっき層を形成する工程と、前記第3のめっき層をパターニングして前記開口に前記パッドに電気的に接続されたマイクロビアホールを形成する工程とを含むことを特徴とするビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
- 前記第3の絶縁樹層が熱硬化性樹脂または光・熱硬化性樹脂により形成されることを特徴とする請求項4記載のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
- 前記第3の絶縁樹脂に無電解めっき用触媒の分散された熱硬化性樹脂を使用した請求項4記載のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
- 請求項4において、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着して内層基板を形成する際に、前記第1および第2のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を有する第3のコア基板を配置し、前記第1の絶縁樹脂を介して前記第1、第3および第2のコア基板を熱接着して内層基板を形成することを特徴とするビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
- 請求項4または請求項7において、前記パターニングされた前記第3のめっき層を含む前記第3の絶縁層上に第4の絶縁層と第4のめっき層からなる導電層を交互に1層以上形成することを特徴するビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
- 前記開口形成する方法としてレーザ加工またはフォトリソグラフィ技術を使用する請求項4記載のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法。
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