JP3517825B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JP3517825B2 JP3517825B2 JP08658898A JP8658898A JP3517825B2 JP 3517825 B2 JP3517825 B2 JP 3517825B2 JP 08658898 A JP08658898 A JP 08658898A JP 8658898 A JP8658898 A JP 8658898A JP 3517825 B2 JP3517825 B2 JP 3517825B2
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- Japan
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- high frequency
- heated
- feeding surface
- heating chamber
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B40/00—Technologies aiming at improving the efficiency of home appliances, e.g. induction cooking or efficient technologies for refrigerators, freezers or dish washers
Landscapes
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱室底面に給電
面を設け、被加熱物の下部から高周波を照射し、高効率
で加熱する高周波加熱装置に関するものである。
面を設け、被加熱物の下部から高周波を照射し、高効率
で加熱する高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図７は例えば特開平８−３２１３７６号
公報に開示されている第１従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図である。
公報に開示されている第１従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図である。
【０００３】図７において、１は被加熱物、２は加熱
室、３は高周波の発生源である高周波発生器、４は被加
熱物１の物理量を検出する物理量検出手段であり、重量
センサ、電界プローブセンサ等がある。５は物理量検出
手段４の検出結果に基づいて高周波発生器３を制御する
制御部、６は高周波発生器３から加熱室２に高周波７を
送出させる導波管、８は導波管６と加熱室２の境界にあ
る給電面、９はターンテーブル、１１はターンテーブル
９を回動させるモータ、１２はターンテーブル９に支持
されて被加熱物１を設置する設置台である。
室、３は高周波の発生源である高周波発生器、４は被加
熱物１の物理量を検出する物理量検出手段であり、重量
センサ、電界プローブセンサ等がある。５は物理量検出
手段４の検出結果に基づいて高周波発生器３を制御する
制御部、６は高周波発生器３から加熱室２に高周波７を
送出させる導波管、８は導波管６と加熱室２の境界にあ
る給電面、９はターンテーブル、１１はターンテーブル
９を回動させるモータ、１２はターンテーブル９に支持
されて被加熱物１を設置する設置台である。
【０００４】この第１従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波７は、導波管６を
伝搬して上下２ヶ所の給電面８より加熱室２に伝搬し、
加熱室２の内壁面に入射や反射を繰り返しながら、回動
するターンテーブル９上の設置台１２に置かれた被加熱
物１に照射する。これにより、被加熱物１が加熱され
る。
て、高周波発生器３で発生した高周波７は、導波管６を
伝搬して上下２ヶ所の給電面８より加熱室２に伝搬し、
加熱室２の内壁面に入射や反射を繰り返しながら、回動
するターンテーブル９上の設置台１２に置かれた被加熱
物１に照射する。これにより、被加熱物１が加熱され
る。
【０００５】このように、前述の第１従来例において
は、導波管６が加熱室２の側面に設置されて、給電面８
と被加熱物１との距離が遠くなっているため、給電面８
から加熱室２に入射した高周波７が直接被加熱物１に吸
収されず、加熱室２の内壁面に入射反射を繰り返した後
に被加熱物１に吸収される。そのため、エネルギーロス
が生ずるという難点がある。
は、導波管６が加熱室２の側面に設置されて、給電面８
と被加熱物１との距離が遠くなっているため、給電面８
から加熱室２に入射した高周波７が直接被加熱物１に吸
収されず、加熱室２の内壁面に入射反射を繰り返した後
に被加熱物１に吸収される。そのため、エネルギーロス
が生ずるという難点がある。
【０００６】また、加熱室２の側面より高周波が入射さ
れるため、被加熱物１の側面や上面が加熱され易く、下
面や中心部が加熱され難いため、加熱ムラが発生する。
れるため、被加熱物１の側面や上面が加熱され易く、下
面や中心部が加熱され難いため、加熱ムラが発生する。
【０００７】そこで、例えば特開平９−２１０３７２号
公報に示されている高周波加熱装置のように、被加熱物
の下面中央部の温度を高くできるようにしたものが提案
されている。図８は同公報に開示されている第２従来例
の高周波加熱装置を示す縦断面図であり、図中、前述の
第１従来例（図７）のものに相当する部分には同一符号
を付し、その説明を省略する。
公報に示されている高周波加熱装置のように、被加熱物
の下面中央部の温度を高くできるようにしたものが提案
されている。図８は同公報に開示されている第２従来例
の高周波加熱装置を示す縦断面図であり、図中、前述の
第１従来例（図７）のものに相当する部分には同一符号
を付し、その説明を省略する。
【０００８】この第２従来例の高周波加熱装置は、加熱
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、２１はターンテーブル９の周縁部
を下方で支持し、これを回動させるローラ、２２はロー
ラ２１を回転させる回転板、２３は回転板２２を支持回
転させる回転板支持ローラ、２４は回転板支持ローラ２
３を駆動する駆動部である。
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、２１はターンテーブル９の周縁部
を下方で支持し、これを回動させるローラ、２２はロー
ラ２１を回転させる回転板、２３は回転板２２を支持回
転させる回転板支持ローラ、２４は回転板支持ローラ２
３を駆動する駆動部である。
【０００９】この第２従来例の高周波加熱装置において
は、駆動部２４により回転板支持ローラ２３を回転させ
ることで回転板２２を回転させ、回転板２２が回転する
ことでローラ２１が回転し、ターンテーブル９が回転す
る。このように、ターンテーブル９の外縁に沿った略円
周上に、これを回転させる機構を配置することで、給電
面８を下面に設置することができる。これにより、高周
波発生器３より発生した高周波７が加熱室２の底面中央
部から加熱室２内に伝搬する。したがって、被加熱物１
の下面中央部の温度を十分高くすることが可能になる。
は、駆動部２４により回転板支持ローラ２３を回転させ
ることで回転板２２を回転させ、回転板２２が回転する
ことでローラ２１が回転し、ターンテーブル９が回転す
る。このように、ターンテーブル９の外縁に沿った略円
周上に、これを回転させる機構を配置することで、給電
面８を下面に設置することができる。これにより、高周
波発生器３より発生した高周波７が加熱室２の底面中央
部から加熱室２内に伝搬する。したがって、被加熱物１
の下面中央部の温度を十分高くすることが可能になる。
【００１０】また、同様に給電面を加熱室の底面側に配
置したものとして、例えば特開平８−３２１３７８号公
報に示されているものを挙げることができる。図９は同
公報に開示されている第３従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図７）の
ものに相当する部分には同一符号を付し、その説明を省
略する。
置したものとして、例えば特開平８−３２１３７８号公
報に示されているものを挙げることができる。図９は同
公報に開示されている第３従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図７）の
ものに相当する部分には同一符号を付し、その説明を省
略する。
【００１１】この第３従来例の高周波加熱装置は、加熱
室２の底面の一側に給電室３１を設け、給電室３１内に
回転アンテナ３２を設置している。なお、３３は回転ア
ンテナ３２を駆動する第１モータ、３４はターンテーブ
ル９を駆動する第２モータ、３５は高周波発生器３と第
１モータ３３と第２モータ３４を制御する制御部であ
る。
室２の底面の一側に給電室３１を設け、給電室３１内に
回転アンテナ３２を設置している。なお、３３は回転ア
ンテナ３２を駆動する第１モータ、３４はターンテーブ
ル９を駆動する第２モータ、３５は高周波発生器３と第
１モータ３３と第２モータ３４を制御する制御部であ
る。
【００１２】この第３従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６から
給電室３１内の回転アンテナ３２を介して加熱室２の底
面から加熱室２内に伝搬する。このとき、図示しない重
量センサや温度センサで被加熱物１の状態を検出し、検
出した被加熱物１の状態に応じ、回転アンテナ３２を第
１モータ３３で駆動して、高周波の指向性を制御してい
る。したがって、加熱分布を均一化することが可能にな
る。
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６から
給電室３１内の回転アンテナ３２を介して加熱室２の底
面から加熱室２内に伝搬する。このとき、図示しない重
量センサや温度センサで被加熱物１の状態を検出し、検
出した被加熱物１の状態に応じ、回転アンテナ３２を第
１モータ３３で駆動して、高周波の指向性を制御してい
る。したがって、加熱分布を均一化することが可能にな
る。
【００１３】また、同様に給電面を加熱室の底面側に配
置したものとして、例えば特開平９−２２７７５号公報
に示されているものを挙げることができる。図１０は同
公報に開示されている第４従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図７）の
ものに相当する部分には同一符号を付し、その説明を省
略する。
置したものとして、例えば特開平９−２２７７５号公報
に示されているものを挙げることができる。図１０は同
公報に開示されている第４従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図７）の
ものに相当する部分には同一符号を付し、その説明を省
略する。
【００１４】この第４従来例の高周波加熱装置は、有効
利用スペースの拡大や清掃性・操作性を向上させるため
に、加熱室２内にターンテーブルを設置せず、かつ加熱
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、４１は被加熱物１を載せる誘電体
板、４２は導波管６の長さを変えるための導電性部材か
らなる移動体、４３は移動体４２を往復運動させるモー
タ、４４は導波管６と加熱室２を連結する給電部で、複
数の開口部から構成されている。
利用スペースの拡大や清掃性・操作性を向上させるため
に、加熱室２内にターンテーブルを設置せず、かつ加熱
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、４１は被加熱物１を載せる誘電体
板、４２は導波管６の長さを変えるための導電性部材か
らなる移動体、４３は移動体４２を往復運動させるモー
タ、４４は導波管６と加熱室２を連結する給電部で、複
数の開口部から構成されている。
【００１５】この第４従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６を介
して複数の開口部４４より加熱室２内に伝搬する。この
とき、導波管６の長さを規定する移動体４２をモータ４
３で往復運動させることで、被加熱物１を下面より様々
な電界分布で加熱することができる。
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６を介
して複数の開口部４４より加熱室２内に伝搬する。この
とき、導波管６の長さを規定する移動体４２をモータ４
３で往復運動させることで、被加熱物１を下面より様々
な電界分布で加熱することができる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
第１乃至第３従来例のものにあっては、いずれも加熱室
２内にターンテーブル９が設置されているため、以下の
ような問題が存在していた。（１）ターンテーブル９を
回転させるための構造が複雑で、部品点数が増え、これ
に 伴い故障率が高くなり、かつ電波シールド機構が難
かしくなり、信頼性に欠ける。（２）加熱室２内の有効
利用スペースが減少し、かつ清掃性も悪化する。（３）
ターンテーブル９の回動により、被加熱物１を設置した
位置・向きが変更され、取り出しにくくなり、操作性が
悪い。
第１乃至第３従来例のものにあっては、いずれも加熱室
２内にターンテーブル９が設置されているため、以下の
ような問題が存在していた。（１）ターンテーブル９を
回転させるための構造が複雑で、部品点数が増え、これ
に 伴い故障率が高くなり、かつ電波シールド機構が難
かしくなり、信頼性に欠ける。（２）加熱室２内の有効
利用スペースが減少し、かつ清掃性も悪化する。（３）
ターンテーブル９の回動により、被加熱物１を設置した
位置・向きが変更され、取り出しにくくなり、操作性が
悪い。
【００１７】また、前述の第１及び第３従来例のものに
あっては、加熱室２の底面中央部に給電面がないため被
加熱物１の中心を高効率で加熱することができないとい
う難点があった。
あっては、加熱室２の底面中央部に給電面がないため被
加熱物１の中心を高効率で加熱することができないとい
う難点があった。
【００１８】また、前述の第４従来例のものにあって
は、給電部が複数の開口部４４から構成されているた
め、中心部だけを集中的に加熱することができず、縦に
細長い被加熱物に対しては、高効率に加熱できないとい
う問題があった。
は、給電部が複数の開口部４４から構成されているた
め、中心部だけを集中的に加熱することができず、縦に
細長い被加熱物に対しては、高効率に加熱できないとい
う問題があった。
【００１９】本発明の技術的課題は、加熱室の有効スペ
ースを拡大でき、清掃性・操作性を向上させ得られ、か
つ被加熱物を高効率に加熱できるようにすることにあ
る。
ースを拡大でき、清掃性・操作性を向上させ得られ、か
つ被加熱物を高効率に加熱できるようにすることにあ
る。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、高周
波を発生する高周波発生器と、加熱室下部に設けられ、
高周波発生器から発生する高周波を加熱室に伝送する導
波管と、加熱室下部の略中央部と導波管の境界に設けら
れ、ここに至るまでの導波管の幅と同一か又はそれより
も広く設定された給電面と、低誘電率材質からなり、給
電面上に設けられて被加熱物を設置する設置台とを備
え、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする円形
給電面または多角形給電面と、その周囲に設けた弧状ス
ロット給電面とから形成するとともに、弧状スロット給
電面を開閉するスロット開閉手段と、物理量検出手段の
検出結果に基づいてスロット開閉手段を駆動制御するス
ロット開閉制御手段と、を設けたものである。
高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、高周
波を発生する高周波発生器と、加熱室下部に設けられ、
高周波発生器から発生する高周波を加熱室に伝送する導
波管と、加熱室下部の略中央部と導波管の境界に設けら
れ、ここに至るまでの導波管の幅と同一か又はそれより
も広く設定された給電面と、低誘電率材質からなり、給
電面上に設けられて被加熱物を設置する設置台とを備
え、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする円形
給電面または多角形給電面と、その周囲に設けた弧状ス
ロット給電面とから形成するとともに、弧状スロット給
電面を開閉するスロット開閉手段と、物理量検出手段の
検出結果に基づいてスロット開閉手段を駆動制御するス
ロット開閉制御手段と、を設けたものである。
【００２１】また、本発明の請求項２に係る高周波加熱
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を多方向にラ
ンダムに反射させる導体で構成された可動スタラを設け
るとともに、物理量検出手段の検出結果に基づいてスタ
ラを駆動制御するスタラ駆動制御手段を設けたものであ
る。
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を多方向にラ
ンダムに反射させる導体で構成された可動スタラを設け
るとともに、物理量検出手段の検出結果に基づいてスタ
ラを駆動制御するスタラ駆動制御手段を設けたものであ
る。
【００２２】また、本発明の請求項３に係る高周波加熱
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を受信して電
界を強くする高周波受信体を設けたものである。
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を受信して電
界を強くする高周波受信体を設けたものである。
【００２３】また、本発明の請求項４に係る高周波加熱
装置は、高周波受信体を可動機構に取付けるとともに、
物理量検出手段の検出結果に基づいて可動機構を駆動し
て高周波受信体の位置を制御する高周波受信***置制御
手段を設けたものである。
装置は、高周波受信体を可動機構に取付けるとともに、
物理量検出手段の検出結果に基づいて可動機構を駆動し
て高周波受信体の位置を制御する高周波受信***置制御
手段を設けたものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】実施形態１．
以下、図示実施形態により本発明を説明する。図１は本
発明の請求項１に係る高周波加熱装置の給電面部分を拡
大して示す平面図で、図１（ａ）は弧状スロット給電面
が全開している状態の図、図１（ｂ）は弧状スロット給
電面が全閉している状態の図、図２はそのスロット開閉
板を示す平面図、図３はそのスロット開閉手段を含む装
置全体構成を示す縦断面図であり、各図中、前述の第１
従来例（図７）のものに相当する部分には同一符号を付
し、説明を省略する。
発明の請求項１に係る高周波加熱装置の給電面部分を拡
大して示す平面図で、図１（ａ）は弧状スロット給電面
が全開している状態の図、図１（ｂ）は弧状スロット給
電面が全閉している状態の図、図２はそのスロット開閉
板を示す平面図、図３はそのスロット開閉手段を含む装
置全体構成を示す縦断面図であり、各図中、前述の第１
従来例（図７）のものに相当する部分には同一符号を付
し、説明を省略する。
【００２５】この第１実施形態の高周波加熱装置は、給
電面を、加熱室２の底面略中央部を中心とする円形給電
面（又は多角形給電面）８Ｃと、その周囲４箇所（９０
度毎に）に設けた弧状スロット給電面８Ｄとから形成す
るとともに、各弧状スロット給電面８Ｄを開閉するスロ
ット開閉手段５０と、物理量検出手段４の検出結果に基
づいてスロット開閉手段５０を駆動制御するスロット開
閉制御機能が付加された制御手段５Ａとを備えている。
電面を、加熱室２の底面略中央部を中心とする円形給電
面（又は多角形給電面）８Ｃと、その周囲４箇所（９０
度毎に）に設けた弧状スロット給電面８Ｄとから形成す
るとともに、各弧状スロット給電面８Ｄを開閉するスロ
ット開閉手段５０と、物理量検出手段４の検出結果に基
づいてスロット開閉手段５０を駆動制御するスロット開
閉制御機能が付加された制御手段５Ａとを備えている。
【００２６】これを更に詳述すると、スロット開閉手段
５０は、給電面の下方に重ねて配置されたリング状のス
ロット開閉板５１と、スロット開閉板５１を回動させる
駆動機構５２とから構成されている。
５０は、給電面の下方に重ねて配置されたリング状のス
ロット開閉板５１と、スロット開閉板５１を回動させる
駆動機構５２とから構成されている。
【００２７】スロット開閉板５１は図２に示すようにリ
ング状のプレートからなり、その中央孔５１ａは、円形
給電面（又は多角形部）８Ｃと同形状、寸法に設定され
ている。またスロット開閉板５１の面内の周方向４箇所
には、スロット給電面８Ｄと同形状、寸法に設定された
弧状穴５１ｂが形成されており、各弧状穴５１ｂによっ
て各弧状スロット給電面８Ｄを同時に開放できるように
なっているとともに、各弧状穴５１ｂ間の各面部５１ｃ
によって各弧状スロット給電面８Ｄを同時に閉塞できる
ようになっている。更にスロット開閉板５１の外周の一
部にはセクタギヤ５１ｄが形成され、駆動機構５２のモ
ータ５３の出力軸に取り付けたピニオン５４と噛み合っ
ている。
ング状のプレートからなり、その中央孔５１ａは、円形
給電面（又は多角形部）８Ｃと同形状、寸法に設定され
ている。またスロット開閉板５１の面内の周方向４箇所
には、スロット給電面８Ｄと同形状、寸法に設定された
弧状穴５１ｂが形成されており、各弧状穴５１ｂによっ
て各弧状スロット給電面８Ｄを同時に開放できるように
なっているとともに、各弧状穴５１ｂ間の各面部５１ｃ
によって各弧状スロット給電面８Ｄを同時に閉塞できる
ようになっている。更にスロット開閉板５１の外周の一
部にはセクタギヤ５１ｄが形成され、駆動機構５２のモ
ータ５３の出力軸に取り付けたピニオン５４と噛み合っ
ている。
【００２８】この第１実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ５３によりピニオン５４を往復回動させる
ことで、スロット開閉板５１を往復回動させる。すなわ
ち、物理量検出手段４で、検出した被加熱物の形状・個
数により、底面が広い被加熱物や複数個の被加熱物があ
る場合は、図１（ａ）に示す如く各弧状スロット給電面
８Ｄを全開させる。これにより、高周波発生器３で発生
し、加熱室２下部の導波管６を伝搬してきた高周波は、
スロット開閉板５１の中央孔５１ａと各弧状穴５１ｂか
ら、加熱室２の底面中央下部に形成されている円形給電
面（又は多角形給電面）８Ｃと各弧状スロット給電面８
Ｄに進入し、円形給電面（又は多角形給電面）８Ｃと各
弧状スロット給電面８Ｄより加熱室２に伝搬し、設置台
１２上に置かれた被加熱物の下面中央部に直接照射す
る。またミルク・酒等の被加熱物が１個のみある場合
は、駆動機構５２によってスロット開閉板５１を４５度
回転させ、図１（ｂ）に示す如くスロット開閉板５１の
各面部５１ｃによって各弧状スロット給電面８Ｄを閉塞
し、高周波を中央部の円形給電面（又は多角形給電面）
８Ｃからのみ被加熱物の下面中央部に直接照射する。こ
のため高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物に
照射され、高効率で被加熱物に吸収される。従って、被
加熱物を高効率で加熱することができ、エネルギーロス
を大幅に低減することができる。
ては、モータ５３によりピニオン５４を往復回動させる
ことで、スロット開閉板５１を往復回動させる。すなわ
ち、物理量検出手段４で、検出した被加熱物の形状・個
数により、底面が広い被加熱物や複数個の被加熱物があ
る場合は、図１（ａ）に示す如く各弧状スロット給電面
８Ｄを全開させる。これにより、高周波発生器３で発生
し、加熱室２下部の導波管６を伝搬してきた高周波は、
スロット開閉板５１の中央孔５１ａと各弧状穴５１ｂか
ら、加熱室２の底面中央下部に形成されている円形給電
面（又は多角形給電面）８Ｃと各弧状スロット給電面８
Ｄに進入し、円形給電面（又は多角形給電面）８Ｃと各
弧状スロット給電面８Ｄより加熱室２に伝搬し、設置台
１２上に置かれた被加熱物の下面中央部に直接照射す
る。またミルク・酒等の被加熱物が１個のみある場合
は、駆動機構５２によってスロット開閉板５１を４５度
回転させ、図１（ｂ）に示す如くスロット開閉板５１の
各面部５１ｃによって各弧状スロット給電面８Ｄを閉塞
し、高周波を中央部の円形給電面（又は多角形給電面）
８Ｃからのみ被加熱物の下面中央部に直接照射する。こ
のため高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物に
照射され、高効率で被加熱物に吸収される。従って、被
加熱物を高効率で加熱することができ、エネルギーロス
を大幅に低減することができる。
【００２９】このように、この第１実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
【００３０】また、各弧状スロット給電面８Ｄ部を開閉
自在にしたため、被加熱物の位置、大きさ、種類等に対
して、高効率に最適な開口パターンで加熱することがで
きる。
自在にしたため、被加熱物の位置、大きさ、種類等に対
して、高効率に最適な開口パターンで加熱することがで
きる。
【００３１】実施形態２． 図４
は本発明の請求項１，２に係る高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１実施形態（図３）
のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省略す
る。
す縦断面図であり、図中、前述の第１実施形態（図３）
のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省略す
る。
【００３２】この第２実施形態の高周波加熱装置は、導
波管６内の給電面８の下方に、高周波を多方向にランダ
ムに反射させる導体で構成された可動スタラ６１とこの
スタラ６１を駆動するモータ６２を設けるとともに、物
理量検出手段４の検出結果に基づいてスタラ６１を駆動
制御するスタラ駆動制御機能が付加された制御手段５Ｂ
を設けたものである。
波管６内の給電面８の下方に、高周波を多方向にランダ
ムに反射させる導体で構成された可動スタラ６１とこの
スタラ６１を駆動するモータ６２を設けるとともに、物
理量検出手段４の検出結果に基づいてスタラ６１を駆動
制御するスタラ駆動制御機能が付加された制御手段５Ｂ
を設けたものである。
【００３３】この第２実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ６２により加熱室２の底面中央下部に配置
されているスタラ６１を回転させる。これにより、高周
波発生器３で発生し、加熱室２下部の導波管６を伝搬し
てきた高周波を、スタラ６１によって多方向に反射さ
せ、加熱室２の底面略中央部の給電面８より加熱室２に
伝搬し、設置台１２上に置かれた被加熱物１に対して直
接ランダムに照射する。従って、底面の広い被加熱物や
複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。このよ
うに高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１に
照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。
ては、モータ６２により加熱室２の底面中央下部に配置
されているスタラ６１を回転させる。これにより、高周
波発生器３で発生し、加熱室２下部の導波管６を伝搬し
てきた高周波を、スタラ６１によって多方向に反射さ
せ、加熱室２の底面略中央部の給電面８より加熱室２に
伝搬し、設置台１２上に置かれた被加熱物１に対して直
接ランダムに照射する。従って、底面の広い被加熱物や
複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。このよ
うに高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１に
照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。
【００３４】このように、この第２実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
【００３５】実施形態３． 図５
は本発明の請求項１，３に係る高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１実施形態（図３）
のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省略す
る。
す縦断面図であり、図中、前述の第１実施形態（図３）
のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省略す
る。
【００３６】この第３実施形態の高周波加熱装置は、導
波管６内の給電面８の下方に、高周波を受信して電界を
強くする波長の１／４以上の長さに設定された高周波受
信体７１を設けたものである。
波管６内の給電面８の下方に、高周波を受信して電界を
強くする波長の１／４以上の長さに設定された高周波受
信体７１を設けたものである。
【００３７】この第３実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６を伝搬して、加熱室２の底面略中央部の給電
面８より加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置かれた被
加熱物１の底面に直接照射する。このとき、導波管６を
伝搬してきた高周波は、一旦、高周波受信体７１に受信
される。このため、高周波受信体７１周りに強電界域Ｃ
が発生し、被加熱物１の底面への照射効率が向上する。
従って高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１
に照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６を伝搬して、加熱室２の底面略中央部の給電
面８より加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置かれた被
加熱物１の底面に直接照射する。このとき、導波管６を
伝搬してきた高周波は、一旦、高周波受信体７１に受信
される。このため、高周波受信体７１周りに強電界域Ｃ
が発生し、被加熱物１の底面への照射効率が向上する。
従って高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１
に照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。
【００３８】このように、この第３実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
【００３９】実施形態４． 図６
は本発明の請求項１，３，４に係る高周波加熱装置
を示す縦断面図であり、図中、前述の第５実施形態（図
５）のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省
略する。
を示す縦断面図であり、図中、前述の第５実施形態（図
５）のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省
略する。
【００４０】この第４実施形態の高周波加熱装置は、高
周波を受信して電界を強くする波長の１／４以上の長さ
に設定されて導波管６内の給電面８の下方に配置される
高周波受信体７１を、水平回転板７２に取り付け、回転
板７２をモータ７３により駆動できるようにするととも
に、物理量検出手段４の検出結果に基づいて回転板７２
を駆動制御して高周波受信体７１の位置を制御する高周
波受信体駆動制御機能が付加された制御手段５Ｃを設け
たものである。
周波を受信して電界を強くする波長の１／４以上の長さ
に設定されて導波管６内の給電面８の下方に配置される
高周波受信体７１を、水平回転板７２に取り付け、回転
板７２をモータ７３により駆動できるようにするととも
に、物理量検出手段４の検出結果に基づいて回転板７２
を駆動制御して高周波受信体７１の位置を制御する高周
波受信体駆動制御機能が付加された制御手段５Ｃを設け
たものである。
【００４１】この第４実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ７３により回転板７２を回転させて高周波
受信体７１の位置を変えることで、高周波を受信する場
所を任意に指定でき、任意の加熱分布にすることができ
る。これにより、任意の被加熱物１に対して高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。すなわ
ち、被加熱物１に対して高効率で高周波エネルギを直接
照射することができる。このため、被加熱物１を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。
ては、モータ７３により回転板７２を回転させて高周波
受信体７１の位置を変えることで、高周波を受信する場
所を任意に指定でき、任意の加熱分布にすることができ
る。これにより、任意の被加熱物１に対して高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。すなわ
ち、被加熱物１に対して高効率で高周波エネルギを直接
照射することができる。このため、被加熱物１を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。
【００４２】また、この第４実施形態の高周波加熱装置
においても、ターンテーブルを不要にでき、被加熱物を
回転させることなくこれを均一に加熱することができ
る。更にターンテーブルを不要とすることで、装置コス
トを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの
拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
においても、ターンテーブルを不要にでき、被加熱物を
回転させることなくこれを均一に加熱することができ
る。更にターンテーブルを不要とすることで、装置コス
トを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの
拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。
【００４３】
【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする円
形給電面または多角形給電面と、その周囲に設けた弧状
スロット給電面とから形成するとともに、弧状スロット
給電面を開閉するスロット開閉手段と、物理量検出手段
の検出結果に基づいてスロット開閉手段を駆動制御する
スロット開閉制御手段とを設けたので、被加熱物の位
置、大きさ、種類等に対して、高効率に最適な開口パタ
ーンで加熱することができる。また下方の導波管からの
高周波エネルギを、加熱室底面の略中央部を中心とする
円形または多角形に形成された給電面より、下方の導波
管からの高周波エネルギを効率よく加熱室内に伝搬させ
ることができる。更にターンテーブルを不要とすること
ができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収納
する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向上
させることができる。
れば、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする円
形給電面または多角形給電面と、その周囲に設けた弧状
スロット給電面とから形成するとともに、弧状スロット
給電面を開閉するスロット開閉手段と、物理量検出手段
の検出結果に基づいてスロット開閉手段を駆動制御する
スロット開閉制御手段とを設けたので、被加熱物の位
置、大きさ、種類等に対して、高効率に最適な開口パタ
ーンで加熱することができる。また下方の導波管からの
高周波エネルギを、加熱室底面の略中央部を中心とする
円形または多角形に形成された給電面より、下方の導波
管からの高周波エネルギを効率よく加熱室内に伝搬させ
ることができる。更にターンテーブルを不要とすること
ができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収納
する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向上
させることができる。
【００４４】また、請求項２の発明によれば、導波管内
の給電面下方に、高周波を多方向にランダムに反射させ
る導体で構成された可動スタラを設けるとともに、物理
量検出手段の検出結果に基づいてスタラを駆動制御する
スタラ駆動制御手段を設けたので、加熱室下部の導波管
を伝搬してきた高周波を、スタラによって多方向に反射
させて、加熱室の底面略中央部の給電面より加熱室に伝
搬させ、設置台上に置かれた被加熱物に対して直接ラン
ダムに照射させることができる。このため、底面の広い
被加熱物や複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を
高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱することができ
る。このように高周波エネルギは、その大部分が直接被
加熱物に照射され、高効率で被加熱物に吸収される。こ
のため、被加熱物を高効率で加熱することができ、エネ
ルギーロスを大幅に低減することができる。更にターン
テーブルを不要とすることができて、装置コストを低減
でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大が図
れ、清掃性・操作性を向上させることができる。
の給電面下方に、高周波を多方向にランダムに反射させ
る導体で構成された可動スタラを設けるとともに、物理
量検出手段の検出結果に基づいてスタラを駆動制御する
スタラ駆動制御手段を設けたので、加熱室下部の導波管
を伝搬してきた高周波を、スタラによって多方向に反射
させて、加熱室の底面略中央部の給電面より加熱室に伝
搬させ、設置台上に置かれた被加熱物に対して直接ラン
ダムに照射させることができる。このため、底面の広い
被加熱物や複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を
高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱することができ
る。このように高周波エネルギは、その大部分が直接被
加熱物に照射され、高効率で被加熱物に吸収される。こ
のため、被加熱物を高効率で加熱することができ、エネ
ルギーロスを大幅に低減することができる。更にターン
テーブルを不要とすることができて、装置コストを低減
でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大が図
れ、清掃性・操作性を向上させることができる。
【００４５】また、請求項３の発明によれば、導波管内
の給電面下方に、高周波を受信して電界を強くする高周
波受信体を設けたので、高周波受信体周り強電界域が発
生し、被加熱物の底面への照射効率が向上する。従って
高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物に照射さ
れ、高効率で被加熱物に吸収される。このため、被加熱
物を高効率で加熱することができ、エネルギーロスを大
幅に低減することができる。更にターンテーブルを不要
とすることができて、装置コストを低減でき、かつ被加
熱物を収納する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操
作性を向上させることができる。
の給電面下方に、高周波を受信して電界を強くする高周
波受信体を設けたので、高周波受信体周り強電界域が発
生し、被加熱物の底面への照射効率が向上する。従って
高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物に照射さ
れ、高効率で被加熱物に吸収される。このため、被加熱
物を高効率で加熱することができ、エネルギーロスを大
幅に低減することができる。更にターンテーブルを不要
とすることができて、装置コストを低減でき、かつ被加
熱物を収納する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操
作性を向上させることができる。
【００４６】また、請求項４の発明によれば、高周波受
信体を可動機構に取付けるとともに、物理量検出手段の
検出結果に基づいて可動機構を駆動して高周波受信体の
位置を制御する高周波受信***置制御手段を設けたの
で、高周波を受信する場所を任意に指定でき、任意の加
熱分布にすることができる。このため、任意の被加熱物
に対して高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱するこ
とができる。また、被加熱物に対して高効率で高周波エ
ネルギを直接照射することができて、被加熱物を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。更にターンテーブルを不要とすること
ができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収納
する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向上
させることができる。
信体を可動機構に取付けるとともに、物理量検出手段の
検出結果に基づいて可動機構を駆動して高周波受信体の
位置を制御する高周波受信***置制御手段を設けたの
で、高周波を受信する場所を任意に指定でき、任意の加
熱分布にすることができる。このため、任意の被加熱物
に対して高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱するこ
とができる。また、被加熱物に対して高効率で高周波エ
ネルギを直接照射することができて、被加熱物を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。更にターンテーブルを不要とすること
ができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収納
する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向上
させることができる。
【図１】 本発明の第１実施形態に係る高周波加熱装置
の給電面部分を拡大して示す平面図である。
の給電面部分を拡大して示す平面図である。
【図２】 第１実施形態に係る高周波加熱装置のスロッ
ト開閉板を示す平面図である。
ト開閉板を示す平面図である。
【図３】 第１実施形態に係る高周波加熱装置の全体構
成を示す縦断面図である。
成を示す縦断面図である。
【図４】 本発明の第２実施形態に係る高周波加熱装置
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図５】 本発明の第３実施形態に係る高周波加熱装置
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図６】 本発明の第４実施形態に係る高周波加熱装置
の縦断面図である。
の縦断面図である。
【図７】 第１従来例の高周波加熱装置を示す縦断面図
である。
である。
【図８】 第２従来例の高周波加熱装置を示す縦断面図
である。
である。
【図９】 第３従来例の高周波加熱装置を示す縦断面図
である。
である。
【図１０】 第４従来例の高周波加熱装置を示す縦断面
図である。
図である。
１ 被加熱物、２ 加熱室、３ 高周波発生器、５Ａ
制御手段（スロット開閉制御手段）、５Ｂ 制御手段
（スタラ駆動制御手段）、５Ｃ 制御手段（高周波受信
***置制御手段）、６ 導波管、７ 高周波、８ 給電
面、８Ｃ 円形給電面、８Ｄ 弧状スロット給電面、１
２ 設置台、５０ スロット開閉手段、６１ 可動スタ
ラ、７１ 高周波受信体、７２ 水平回転板（高周波受
信体可動機構）。
制御手段（スロット開閉制御手段）、５Ｂ 制御手段
（スタラ駆動制御手段）、５Ｃ 制御手段（高周波受信
***置制御手段）、６ 導波管、７ 高周波、８ 給電
面、８Ｃ 円形給電面、８Ｄ 弧状スロット給電面、１
２ 設置台、５０ スロット開閉手段、６１ 可動スタ
ラ、７１ 高周波受信体、７２ 水平回転板（高周波受
信体可動機構）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 宮前 哲也
埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地
１ 三菱電機ホーム機器株式会社内
(56)参考文献 特開 平４−12493（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−124672（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−119650（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−229374（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−321378（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−37216（ＪＰ，Ａ)
特開 昭51−130941（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
F24C 7/02 501
H05B 6/68 320
H05B 6/70
H05B 6/72
H05B 6/74
Claims (4)
- 【請求項１】 被加熱物を収納する加熱室と、 高周波を発生する高周波発生器と、 前記加熱室下部に設けられ、前記高周波発生器から発生
する高周波を前記加熱室に伝送する導波管と、 前記加熱室下部の略中央部と前記導波管の境界に設けら
れ、ここに至るまでの導波管の幅と同一か又はそれより
も広く設定された給電面と、 低誘電率材質からなり、前記給電面上に設けられて被加
熱物を設置する設置台とを備え、 前記給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする円形
給電面または多角形給電面と、その周囲に設けた弧状ス
ロット給電面とから形成するとともに、 該弧状スロット給電面を開閉するスロット開閉手段と、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記スロット開閉
手段を駆動制御するスロット開閉制御手段と、 を設けたことを特徴とする高周波加熱装置。 - 【請求項２】 導波管内の給電面下方に、高周波を多方
向にランダムに反射させる導体で構成された可動スタラ
を設けるとともに、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記スタラを駆動
制御するスタラ駆動制御手段を設けたことを特徴とする
請求項１記載の高周波加熱装置。 - 【請求項３】 導波管内の給電面下方に、高周波を受信
して電界を強くする高周波受信体を設けたことを特徴と
する請求項１記載の高周波加熱装置。 - 【請求項４】 高周波受信体を可動機構に取付けるとと
もに、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記可動機構を駆
動して前記高周波受信体の位置を制御する高周波受信体
位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項３記載の
高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08658898A JP3517825B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08658898A JP3517825B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11287456A JPH11287456A (ja) | 1999-10-19 |
| JP3517825B2 true JP3517825B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=13891178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08658898A Expired - Fee Related JP3517825B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3517825B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4570524B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2010-10-27 | 三菱電機株式会社 | 高周波加熱装置 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP08658898A patent/JP3517825B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11287456A (ja) | 1999-10-19 |
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