JP3508288B2 - アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents

アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法

Info

Publication number
JP3508288B2
JP3508288B2 JP09822195A JP9822195A JP3508288B2 JP 3508288 B2 JP3508288 B2 JP 3508288B2 JP 09822195 A JP09822195 A JP 09822195A JP 9822195 A JP9822195 A JP 9822195A JP 3508288 B2 JP3508288 B2 JP 3508288B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
porous film
barrier film
porous
aluminum foil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP09822195A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08293441A (ja
Inventor
義仁 ▲吉▼村
正則 岡林
哲夫 園田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP09822195A priority Critical patent/JP3508288B2/ja
Publication of JPH08293441A publication Critical patent/JPH08293441A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3508288B2 publication Critical patent/JP3508288B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、アルミ電解コンデンサ
用電極箔に関するものである。 【0002】 【従来の技術】近年、アルミ電解コンデンサの小型化及
び高品質化が強く要望されており、これらの要望を満た
すためには、このアルミ電解コンデンサに使用している
アルミ箔の実効表面積を向上させるとともに、化成工程
で生成させる酸化皮膜の特性を向上させることが不可欠
である。特に高リップル電流や急速な充放電が負荷され
るような電解コンデンサに利用される電極箔は、特性向
上のために酸化皮膜に非晶質皮膜を用いたものを使用し
ている。 【0003】以下に従来のアルミ電解コンデンサ用電極
箔の皮膜形状について説明する。図2(a)(b)は従
来のアルミ電解コンデンサ用電極箔の皮膜形状を示した
もので、まず図2(a)に示すように、化成の前段にお
ける前処理として、ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶
液中でアルミ箔1の陽極酸化を行うことによりアルミ箔
1の表面にポーラス皮膜2を生成させ、その後、図2
(b)に示すように、ホウ酸及びホウ酸塩、アジピン酸
及びアジピン酸塩、リン酸塩の単独水溶液もしくはこれ
らの混合水溶液を用いて化成を行うことにより非晶質の
バリアー皮膜3を生成させていた。この場合、前処理で
生成させたポーラス皮膜2があるため、この後における
バリアー皮膜3を生成させるバリアー皮膜生成工程で
は、前記非晶質であるポーラス皮膜2の凹状部分2aを
塞ぐだけでよく、その結果、ポーラス皮膜2がない場合
と比較して必要な電気量は少なくてすむものである。従
来のアルミ電解コンデンサ用電極箔では、前処理で生成
されるポーラス皮膜2の膜厚を、次工程のバリアー皮膜
の膜厚とほぼ等しい膜厚に設定していたため、生成させ
たバリアー皮膜3の表面には、前記ポーラス皮膜2が全
くないか、あるいは一部残存している皮膜形状となって
いた。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】上記した従来のアルミ
電解コンデンサ用電極箔の皮膜形状では、前処理で生成
されるポーラス皮膜2の膜厚を、次工程のバリアー皮膜
3の膜厚とほぼ等しい膜厚に設定していたため、バリア
ー皮膜3を生成させるホウ酸等の化成溶液中でアルミ箔
1の陽極酸化を行う際に、バリアー皮膜3の膜厚がポー
ラス皮膜2の膜厚より厚くなる部分が出てくるもので、
ポーラス皮膜2がない部分に酸化皮膜を生成させるため
にはポーラス皮膜2が残存する部分と比較して多くの電
気量が必要となり、この場合、電流が集中することにな
るため、この電流集中による発熱などにより酸化皮膜が
非晶質から結晶質に変化し、そしてこの結晶化に伴う欠
陥が皮膜中に残って漏れ電流が大きくなるという問題点
を有していた。また表面のポーラス皮膜2は、駆動用電
解液によるバリアー皮膜3の溶解を減少させてバリアー
皮膜3を保護する働きがあるが、皮膜の表面に残存する
ポーラス皮膜2が不十分であると、駆動用電解液による
バリアー皮膜3の溶解が進んでバリアー皮膜3を劣化さ
せてしまい、漏れ電流が大きくなるという問題点も有し
ていた。 【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、酸化皮膜中の欠陥が少なく、漏れ電流を大幅に低減
させることができるアルミ電解コンデンサ用電極箔を提
供することを目的とするものである。 【0006】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
は、ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶液中でアルミ箔
の陽極酸化を行うことによりアルミ箔の表面にポーラス
皮膜を生成させるポーラス皮膜生成工程と、前記アルミ
箔を化成して非晶質のバリアー皮膜を生成させるバリア
ー皮膜生成工程より成るアルミ電解コンデンサ用電極
箔の製造方法において、前記ポーラス皮膜の凹部を前記
バリアー皮膜で塞ぐように形成して、前記ポーラス皮膜
が少なくとも30nm残存するようにしたものである。 【0007】 【作用】上記したアルミ電解コンデンサ用電極箔は、ポ
ーラス皮膜生成工程と、バリアー皮膜生成工程より成る
化成工程における皮膜形状を、バリアー皮膜生成後の皮
膜表面の全面にわたって前記ポーラス皮膜が少なくとも
30nm以上残存するような皮膜形状としているため、
ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶液中でアルミ箔の陽
極酸化を行うことによりアルミ箔の表面に生成されるポ
ーラス皮膜の膜厚は、次工程のバリアー皮膜の膜厚に比
べて十分に厚いものとなり、このため、次工程における
前記アルミ箔を化成してバリアー皮膜を生成させるバリ
アー皮膜生成工程では非晶質であるポーラス皮膜の凹状
部分を塞ぐだけでよいものである。したがって、ポーラ
ス皮膜内には結晶質を形成する核がなく、またポーラス
皮膜の凹状部分を塞ぐ際に必要な電気量も小さく、部分
的な発熱がないことから、新たに結晶質の核が生成され
ることもないため、非晶質のバリアー皮膜が結晶化する
ことはなく、その結果、非晶質のバリアー皮膜の結晶化
に伴う皮膜の体積収縮による欠陥も生成されないため、
化成により形成される酸化皮膜中に残存する欠陥は少な
くなり、これにより、漏れ電流を大幅に低減させること
ができるものである。 【0008】また表面のポーラス皮膜は、駆動用電解液
によるバリアー皮膜の溶解を減少させて非晶質のバリア
ー皮膜を保護する働きがあるため、このポーラス皮膜に
より漏れ電流を大幅に低減させることができるものであ
る。 【0009】 【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1
(a)(b)は本発明の一実施例におけるアルミ電解コ
ンデンサ用電極箔の皮膜形状を示したもので、まず、図
1(a)に示すように、化成の前段における前処理とし
て、ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶液中でアルミ箔
11の陽極酸化を行うことによりアルミ箔11の表面に
ポーラス皮膜12を生成させ、その後、図1(b)に示
すように、ホウ酸及びホウ酸塩、アジピン酸及びアジピ
ン酸塩、リン酸塩の単独水溶液もしくはこれらの混合水
溶液を用いて化成を行うことにより非晶質のバリアー皮
膜13を生成させるようにしている。この場合、ポーラ
ス皮膜12を生成させるポーラス皮膜生成工程と、非晶
質のバリアー皮膜13を生成させるバリアー皮膜生成工
程より成る化成工程における皮膜形状は、図1(b)に
示すように、バリアー皮膜13の生成後の皮膜表面の全
面にわたって前記ポーラス皮膜12が少なくとも30n
m以上残存するような皮膜形状としている。 【0010】次に本発明の具体的な実施例1と比較例
1,2について説明する。 (実施例1)液温が45℃の10wt%硫酸溶液中で電
流密度が50mA/cm2の直流電流を13分間印加し
てアルミ箔11の陽極酸化を行うことによりアルミ箔1
1の表面に630nm以上のポーラス皮膜12を生成さ
せる前処理を行い、さらにこの後、10wt%のホウ酸
に0.04wt%のホウ酸アンモニウムを添加した液温
90℃の水溶液中で前記アルミ箔11に電流密度25m
A/cm2、化成電圧400Vで化成を行い、そして4
00Vに上昇した後は定電圧で10分間保持することに
より、580nmの非晶質のバリアー皮膜13を生成さ
せた。 【0011】(比較例1)液温が45℃の10wt%硫
酸溶液中で電流密度が50mA/cm2の直流電流を1
2分間印加してアルミ箔11の陽極酸化を行うことによ
りアルミ箔11の表面に580nmのポーラス皮膜12
を生成させる前処理を行い、さらにこの後、10wt%
のホウ酸に0.04wt%のホウ酸アンモニウムを添加
した液温90℃の水溶液中で前記アルミ箔11に電流密
度25mA/cm2、化成電圧400Vで化成を行い、
そして400Vに上昇した後は定電圧で10分間保持す
ることにより、580nmの非晶質のバリアー皮膜13
を生成させた。 【0012】(比較例2)液温が45℃の10wt%硫
酸溶液中で電流密度が50mA/cm2の直流電流を1
2.5分間印加してアルミ箔11の陽極酸化を行うこと
によりアルミ箔11の表面に605nmのポーラス皮膜
12を生成させる前処理を行い、さらにこの後、10w
t%のホウ酸に0.04wt%のホウ酸アンモニウムを
添加した液温90℃の水溶液中で前記アルミ箔に電流密
度25mA/cm2、化成電圧400Vで化成を行い、
そして400Vに上昇した後は定電圧で10分間保持す
ることにより、580nmの非晶質のバリアー皮膜13
を生成させた。 【0013】上記した本発明の実施例1と比較例1およ
び比較例2の化成方法により得られたそれぞれの電極箔
について、液温が90℃である10wt%のホウ酸水溶
液中で漏れ電流を測定し、それに引き続いて液温が30
℃である10wt%のホウ酸アンモニウム水溶液中で静
電容量を測定した。さらにこの電極箔を液温が125℃
である駆動用電解液中に125時間浸漬した後、液温が
90℃である10wt%のホウ酸水溶液中で漏れ電流を
測定した。その結果を(表1)に示す。 【0014】 【表1】 【0015】この(表1)から明らかなように、本発明
の実施例1における皮膜形状によれば、比較例1,2に
比べて、初期の漏れ電流測定においても、漏れ電流を低
減させることができ、また液温が125℃である駆動用
電解液中に125時間浸漬した後の漏れ電流も大幅に低
減させることができるものである。 【0016】すなわち、本発明の実施例1では、ポーラ
ス皮膜を生成させ得る化成溶液中でアルミ箔11の陽極
酸化を行うことによりアルミ箔11の表面に生成される
ポーラス皮膜12の膜厚が630nm以上で、次工程の
バリアー皮膜13の膜厚580nmに比べてその差が5
0nm以上であるという具合に十分に厚いため、次工程
における前記アルミ箔11を化成してバリアー皮膜13
を生成させるバリアー皮膜生成工程では非晶質であるポ
ーラス皮膜12の凹状部分12aを塞ぐだけでよく、し
たがって、ポーラス皮膜12内に結晶質を形成する核が
なく、またポーラス皮膜12の凹状部分12aを塞ぐ際
に必要な電気量も小さく、部分的な発熱がないことから
新たに結晶質の核が生成されることもないため、非晶質
のバリアー皮膜13が結晶化することはなく、その結
果、非晶質のバリアー皮膜13の結晶化に伴う皮膜の体
積収縮による欠陥も生成されないため、化成により形成
される酸化皮膜中に残存する欠陥は少なくなり、これに
より、漏れ電流を大幅に低減させることができるもので
ある。 【0017】なお、上記本発明の実施例1では、アルミ
箔11の表面にポーラス皮膜12を生成させた後の本化
成を、10wt%のホウ酸に0.04wt%のホウ酸ア
ンモニウムを添加した水溶液中で行ったものについて説
明したが、これ以外のアジピン酸及びアジピン酸塩、リ
ン酸塩の単独水溶液もしくはその混合水溶液中で行って
もよいものである。 【0018】また、上記本発明の実施例1では、ポーラ
ス皮膜12を生成させ得る化成溶液として、硫酸を用い
たものについて説明したが、硫酸以外のシュウ酸、リン
酸を用いてもよく、要は硫酸、シュウ酸、リン酸のう
ち、少なくとも一種類を用いればよいものである。 【0019】そしてまた上記本発明の実施例1では、ポ
ーラス皮膜12を生成させるポーラス皮膜生成工程と、
バリアー皮膜13を生成させるバリアー皮膜生成工程よ
り成る化成工程における皮膜形状を、バリアー皮膜13
の生成後の皮膜表面の全面にわたって前記ポーラス皮膜
12が50nm以上残存するような皮膜形状としたもの
について説明したが、これに限定されるものではなく、
バリアー皮膜13の表面に残存するポーラス皮膜12の
膜厚は30nm以上あればよいもので、すなわち、残存
するポーラス皮膜12の膜厚が30nm以下になると、
駆動用電解液によるバリアー皮膜13の溶解を減少させ
てバリアー皮膜13を保護する働きが弱くなって漏れ電
流が大きくなってしまうため、バリアー皮膜13の表面
に残存するポーラス皮膜12の膜厚は30nm以上で、
望ましくは50nm以上が好ましいものである。 【0020】 【発明の効果】以上のように本発明のアルミ電解コンデ
ンサ用電極箔は、ポーラス皮膜生成工程と、バリアー皮
膜生成工程より成る化成工程における皮膜形状を、バリ
アー皮膜生成後の皮膜表面の全面にわたって前記ポーラ
ス皮膜が少なくとも30nm以上残存するような皮膜形
状としているため、ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶
液中でアルミ箔の陽極酸化を行うことによりアルミ箔の
表面に生成されるポーラス皮膜の膜厚は、次工程のバリ
アー皮膜の膜厚に比べて十分に厚いものとなり、このた
め、次工程における前記アルミ箔を化成してバリアー皮
膜を生成させるバリアー皮膜生成工程では非晶質である
ポーラス皮膜の凹状部分を塞ぐだけでよいものである。
したがって、ポーラス皮膜内には結晶質を形成する核が
なく、またポーラス皮膜の凹状部分を塞ぐ際に必要な電
気量も小さく、部分的な発熱がないことから、新たに結
晶質の核が生成されることもないため、非晶質のバリア
ー皮膜が結晶化することはなく、その結果、非晶質のバ
リアー皮膜の結晶化に伴う皮膜の体積収縮による欠陥も
生成されないため、化成により形成される酸化皮膜中に
残存する欠陥は少なくなり、これにより、漏れ電流を大
幅に低減させることができるものである。 【0021】また表面のポーラス皮膜は、駆動用電解液
によるバリアー皮膜の溶解を減少させて非晶質のバリア
ー皮膜を保護する働きがあるため、このポーラス皮膜に
より漏れ電流を大幅に低減させることができるものであ
る。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例におけるアルミ電解コンデン
サ用電極箔の皮膜形状を示す断面図 【図2】従来のアルミ電解コンデンサ用電極箔の皮膜形
状を示す断面図 【符号の説明】 11 アルミ箔 12 ポーラス皮膜 13 バリアー皮膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−206619(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 9/04 301 H01G 9/055

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 ポーラス皮膜を生成させ得る化成溶液中
    でアルミ箔の陽極酸化を行うことによりアルミ箔の表面
    にポーラス皮膜を生成させるポーラス皮膜生成工程と、
    記アルミ箔を化成して非晶質のバリアー皮膜を生成さ
    せるバリアー皮膜生成工程より成るアルミ電解コンデ
    ンサ用電極箔の製造方法において、前記ポーラス皮膜の
    凹部を前記バリアー皮膜で塞ぐように形成して、前記ポ
    ーラス皮膜が少なくとも30nm残存するようにした
    ルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP09822195A 1995-04-24 1995-04-24 アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 Expired - Fee Related JP3508288B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09822195A JP3508288B2 (ja) 1995-04-24 1995-04-24 アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09822195A JP3508288B2 (ja) 1995-04-24 1995-04-24 アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08293441A JPH08293441A (ja) 1996-11-05
JP3508288B2 true JP3508288B2 (ja) 2004-03-22

Family

ID=14213916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09822195A Expired - Fee Related JP3508288B2 (ja) 1995-04-24 1995-04-24 アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3508288B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007067172A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Nichicon Corp 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法
JP5532773B2 (ja) * 2009-09-09 2014-06-25 日本ケミコン株式会社 固体電解コンデンサ
CN109609991B (zh) * 2018-12-26 2020-03-24 东莞东阳光科研发有限公司 化成箔、制备方法及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08293441A (ja) 1996-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004083493A1 (en) Process for preparing a capacitor containing aluminum anode foil anodized in low water content glycerine-orthophosphate electrolyte after a pre-hydrating step
US5500101A (en) Method of etching aluminum foil for electrolytic capacitor
JP3508288B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP3411237B2 (ja) 固体電解コンデンサ用電極箔、その製造方法及び固体電解コンデンサ
US4437945A (en) Process for anodizing aluminum foil
JP2964345B2 (ja) 固体電解コンデンサの製造方法
JP3295841B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP4811939B2 (ja) 電解コンデンサ用電極箔の化成方法
JPS59167009A (ja) 電解コンデンサ用電極材料の製造方法
JP7227870B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP3582451B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法
JPH1145827A (ja) 高圧級アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPH0513279A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP3467827B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法
JPH10112423A (ja) アルミ電解コンデンサ用陽極箔の化成方法
JP2007067172A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法
JPH06302476A (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の化成方法
JP3460418B2 (ja) アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JP3155969B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
KR920010628B1 (ko) 알루미늄 전해 콘덴서용 화성박 유전체 피막의 결정화 방법
JPS61145817A (ja) アルミニウム固体電解コンデンサの製造方法
JP3722466B2 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔
JPH04364019A (ja) 電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPS63299309A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法
JPH04196305A (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20031215

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100109

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110109

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees