JP3485475B2 - 方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
方向性電磁鋼板の製造方法Info
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Description
の他の電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素
鋼板の製造方法に関するものである。特に、同一の素材
・同一の工程で仕上げ焼鈍工程の熱サイクルを制御する
ことにより、高い磁束密度を有する製品から低い磁束密
度を有する製品までつくり分けることができる製造方法
に関するものである。
>方位に集積した結晶粒により構成されたSiを4.8
%以下含有した鋼板である。この鋼板は磁気特性として
励磁特性と鉄損得性が要求される。励磁特性を表す指標
としては、磁場の強さ800A/mにおける磁束密度B
8が通常使用される。また、鉄損特性を表す指標として
は、周波数50Hzで1.7Tまで磁化した時の鋼板1
kgあたりの鉄損W17/50 が用いられる。
であり、磁束密度B8値が高いほど鉄損特性も良好にな
る。磁束密度B8を高めるためには結晶方位を高度に揃
えることが重要である。この結晶方位の制御は二次再結
晶と呼ばれるカタストロフィックな粒成長現象を利用し
て達成される。
再結晶前の一次再結晶組織の調整と、インヒビターとよ
ばれる微細析出物の調整を行うことが必要である。この
インヒビターは、一次再結晶組織の中で一般の粒の成長
を抑制し、特定の{110}<001>方位粒のみを優
先成長させる機能を持つ。
F.Littmann(特公昭30−3651号公報)
及びJ.E.May&D.Turnbull(Tran
s.Met.Soc.AIME212 [1958年] p
769)等はMnSを、田口ら(特公昭40−1564
4号公報)はAlNを、今中ら(特公昭51−1346
9号公報)はMnSeを提示している。
時に完全固溶させた後に、熱間圧延及びその後の焼鈍工
程で微細析出させる方法がとられている。これらの析出
物を完全固溶させるためには1350℃ないし1400
℃以上の高温で加熱する必要があり、これは普通鋼のス
ラブ加熱温度に比べて約200℃高く、次の問題点があ
る。 (1)専用の加熱炉が必要。(2)加熱炉のエネルギ−
原単位が高い。(3)溶融スケール量が多く、いわゆる
ノロ出し等の操業管理が必要である。
められ、低温スラブ加熱による製造方法としては、小松
ら(特公昭62−45285号公報)は窒化処理により
形成した(Al、Si)Nをインヒビターとして用いる
方法を開示している。この窒化処理の方法として、小林
等(特開平2−77525号公報)は脱炭焼鈍後にスト
リップ状で窒化する方法を開示し、牛神等によりその窒
化物の挙動が報告されている(Materials Science Foru
m, 204-206 (1996),pp593-598 )。
製造プロセスは、上記インヒビタ−をベ−スとする成分
系とプロセッシング条件の組み合わせで数種類あり、得
られる製品の磁気特性もそれぞれ特徴を有している。M
nSを主インヒビタ−として用いる製造プロセスは二回
冷延法であり、得られる製品の磁束密度(B8)は1.
84〜1.86T程度である。
ヒビターとして用いる製造プロセスは一回冷延法であ
り、得られる製品の磁束密度(B8)は1.89以上で
あり、鉄損特性も優れている。従って、需要家の要請に
応じて、これらの種々の磁束密度のレベルの製品を、同
一素材から簡潔な製造プロセスにより供給することが理
想的な製造方法と考えられる。
1−104025号公報には最終冷延率を変えることに
より種々の磁束密度の製品を製造する技術、また特開平
2−247331号公報には、窒化量を変えることによ
り種々の磁束密度の製品を製造する技術が開示されてい
る。製造プロセスとしては、最終工程である仕上げ焼鈍
前まで同一の条件で処理しておき、仕上げ焼鈍条件で種
々の磁束密度の製品を製造することができることが望ま
しい。
加熱に起因する問題のない低温スラブ加熱プロセスを基
に、同一の素材・同一の工程で仕上げ焼鈍工程の熱サイ
クルを制御することにより、高い磁束密度を有する製品
から低い磁束密度を有する製品までつくり分けることが
できる製造方法を提供することを目的とする。
達成するため、以下の構成を要旨とする。(1) 重量で、 Si:0.8〜4.8%、 C :0.085%以
下、 酸可溶性Al:0.01〜0.065%、 N :0.012%以下 を含み、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼を
1280℃以下の温度で加熱した後、熱間圧延により熱
延板となし、一回の冷間圧延により最終板厚とし、次い
で脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤を塗布し仕上げ焼鈍を施す方
向性電磁鋼板の製造方法に於いて、脱炭焼鈍後、二次再
結晶発現前に鋼板の酸可溶性Alの量[Al](%)に
応じて窒素量[N](%)が[N]≧2/3[Al]を
満足する量となるように窒化処理を施すこと、及び磁束
密度B8の目標値に応じて、仕上焼鈍鈍工程の1000
℃〜1100℃の二次再結晶温度域の加熱速度を二次関
数により制御することにより、脱炭焼鈍工程完了まで同
一条件で処理した材料から磁気特性の異なる製品を作り
分けることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。(2) 重量で、 Si:0.8〜4.8%、 C :0.085%以
下、 酸可溶性Al:0.01〜0.065%、 N :0.012%以下 を含み、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼を
1280℃以下の温度で加熱した後、熱間圧延により熱
延板となし、一回の冷間圧延により最終板厚とし、次い
で脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤としてアルミナを塗布し仕上
げ焼鈍を施す方向性電磁鋼板の製造方法に於いて、脱炭
焼鈍後、二次再結晶発現前に鋼板の酸可溶性Alの量
[Al](%)に応じて窒素量[N](%)が[N]≧
2/3[Al]を満足する量となるように窒化処理を施
すこと、及び磁束密度B8の目標値に応じて、仕上焼鈍
鈍工程の1000℃〜1100℃の二次再結晶温度域の
加熱速度を二次関数により制御することにより、脱炭焼
鈍工程完了まで同一条件で処理した材料から磁気特性の
異なる製品を作り分けることを特徴とする鏡面方向性電
磁鋼板の製造方法。 (3) 熱延板を冷間圧延後、更に中間焼鈍を挟む冷間
圧延を施すことを特徴とする前記(1)または(2)に
記載の方向性電磁鋼板の製造方法。 (4) 熱延板に900〜1200℃の温度域で30秒
〜30分間の焼鈍を施すことを特徴とする前記(1)〜
(3)のいずれかに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
等は、低温スラブ加熱プロセスによる方向性電磁鋼板の
製造方法を前提として、製品の磁気特性に及ぼす影響因
子に関して研究を重ねた。その結果、(1)脱炭焼鈍
後、二次再結晶発現前に鋼板の酸可溶性Alの量[A
l](%)に応じて窒素量[N](%)が[N]≧2/
3[Al]を満足する量となるように窒化処理を施すこ
とにより、(Al,Si)Nインヒビターを安定化させ
ること。(2)このインヒビターを基に、目的とする製
品の磁束密度B8に応じて、仕上焼鈍工程の1000℃
〜1100℃の二次再結晶温度域の加熱速度を制御する
ことにより、同一脱炭焼鈍板から磁気特性の異なる製品
を安定して作り分けることができることを見いだした。
げ焼鈍の二次再結晶温度域の加熱速度の影響を示す。重
量でSi:3.2%、C:0.05%、酸可溶性Al:
0.026%、N:0.07%、Mn:0.1%、S:
0.007%含有するスラブを1150℃の温度で加熱
した後、2.3mm厚に熱間圧延した。その後、1120
℃で焼鈍した後、0.22mm厚まで冷間圧延後、840
℃の温度で120秒間脱炭焼鈍し、その後アンモニア含
有雰囲気中で焼鈍して鋼中の窒素量を0.13〜0.0
26%とした。次いでアルミナを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布した後、仕上げ焼鈍を行った。
まで50℃/hrで加熱し、1000℃から1100℃
の二次再結晶温度域を10〜150℃/hrで加熱し、
その後、再び50/hrの加熱速度で1200℃まで昇
温し、水素ガス中で20時間純化焼鈍を行った。
場合には、仕上げ焼鈍の加熱速度が15℃/hr以下で
は二次再結晶が不安定になり磁束密度が低下している
が、窒素量が多く、[N]≧2/3[Al]となってい
る場合には全て二次再結晶しており、製品の磁気特性:
B8(T)が加熱速度:A(℃/hr)により制御で
き、上記工程の場合には以下の関係式があることが分か
る。 B8(T)= 9.6×10-6A2 −2.06×10-3A+1.97
る。基本的な製造法としては、小松等による(Al,S
i)Nを主インヒビターとして用いる低温スラブ加熱に
よる製造法(例えば特公昭62−45285号公報)を
適用すれば良い。鋼成分としては、Si:0.8〜4.
8%、C:0.085%以下、酸可溶性Al:0.01
〜0.065%、N:0.012%以下が必要である。
くなり、鉄損特性が改善される。しかしながら、4.8
%を超えると圧延時に割れ易くなってしまう。また、
0.8%より少ないと、仕上げ焼鈍時にγ変態が生じ結
晶方位が損なわれてしまう。
元素であるが、磁気特性に悪影響を及ぼすので仕上げ焼
鈍前に脱炭する必要がある。Cが0.085%より多い
と脱炭焼鈍時間が長くなり、生産性が損なわれてしま
う。
して(Al,Si)Nとして、インヒビターとしての機
能を果たすために必須の元素である。二次再結晶が安定
しする0.01〜0.065%を限定範囲とする。Nは
0.012%を超えると、ブリスターと呼ばれる鋼板中
の空孔を生じる。
で、0.015%以下とすることが望ましい。Snは脱
炭焼鈍後の集合組織を改善し、二次再結晶を安定化する
ため、0.02〜0.15%添加することが望ましい。
Crは脱炭焼鈍の酸化層を改善し、グラス被膜形成に有
効な元素であり、0.03〜0.2%添加することが望
ましい。その他、微量のCu,Sb,Mo,Bi,Ti
等を鋼中に含有することは、本発明の主旨を損なうもの
ではない。
等により鋼を溶製し、必要に応じて溶鋼を真空脱ガス処
理し、次いで連続鋳造もしくは造塊後分塊圧延すること
によって得られる。その後、熱間圧延に先だってスラブ
加熱がなされる。本発明においては、スラブ加熱温度は
1280℃以下として、先述の高温スラブ加熱の諸問題
を回避する。
るために900〜1200℃で30秒〜30分間の短時
間焼鈍を施す。その後、一回もしくは焼鈍を挟んだ二回
以上に冷間圧延により最終板厚とする。冷間圧延として
は、特公昭40ー15644号公報に示されるように最
終冷間圧延率を80%以上とすることが、{111}等
の一次再結晶方位を発達させる上で必要である。
除去するために湿潤雰囲気中で脱炭焼鈍を施す。脱炭焼
鈍に関しては、例えば特開平2−182866号公報に
示されるような一次再結晶粒組織の調整を勘案して条件
を設定する。通常は770〜900℃の範囲で行う。均
熱の前段で脱炭した後に、粒調整のために均熱の後段の
温度を高めることや、後段の雰囲気ガスの酸化度を下げ
て均熱時間を伸ばすことも有効である。
前に焼鈍分離剤としてマグネシアを鋼板に塗布し、仕上
げ焼鈍中にグラス被膜を形成させる。このグラス皮膜は
地鉄界面との凹凸形状からの磁壁移動をピン止めし、鉄
損特性に悪影響を及ぼすことが分かった。
0.3μm以下)を達成する方法として、本発明者等は
脱炭焼鈍の露点を制御し、脱炭焼鈍時に形成される酸化
層においてFe系酸化物(Fe2 SiO4 、FeO等)
を形成させないこと、及び、焼鈍分離剤としてシリカと
反応しないアルミナ等の物質を用いることが有効である
ことを開示している(特開平7ー118750号公報
等)。本発明はこの鏡面方向性電磁鋼板の製造方法に適
用することもできる。
脱炭焼鈍はFe系の酸化物(Fe2SiO4 、FeO
等)を形成させない酸化度で焼鈍を行うことが一つのポ
イントである。例えば、通常脱炭焼鈍が行われる800
℃〜850℃の温度域においては、雰囲気ガスの酸化度
(PH2 O/PH2 )<0.15に調整することによ
り、Fe系酸化物の生成を抑制することができる。但
し、あまりに酸化度をさげると脱炭速度が遅くなってし
まう。この両者を勘案すると、この温度域においては雰
囲気ガスの酸化度(PH2 O/PH2 ):0.01〜
0.15の範囲が好ましい。これらの脱炭焼鈍板を積層
する際の焼鈍分離剤として、アルミナを水スラリーもし
くは静電塗布法等によりドライ・コ−トする。
[Al]≧2/3となるように窒化処理を施すことが本
発明の一つのポイントである。窒化処理としては、アン
モニア等の窒化能のあるガスを含有する雰囲気中で焼鈍
する方法、MnN等の窒化能のある粉末を焼鈍分離剤中
に添加して仕上げ焼鈍中に行う方法等がある。
01>方位粒を二次再結晶により優先成長させる。目的
とする製品の磁束密度B8に応じて、仕上焼鈍工程の1
000℃〜1100℃の二次再結晶温度域の加熱速度を
制御することにより、同一脱炭焼鈍板から磁気特性の異
なる製品を作り分ける。
0.05%、酸可溶性Al:0.026%、N:0.0
7%、Mn:0.1%、S:0.007%含有するスラ
ブを1150℃の温度で加熱した後、2.3mm厚に熱間
圧延した。その後、1120℃で焼鈍した後、0.22
mm厚まで冷間圧延後、酸化度0.11の窒素及び水素混
合ガス中で840℃の温度で120秒間脱炭焼鈍し、そ
の後アンモニア含有雰囲気中で焼鈍して鋼板中の窒素を
0.14〜0.033%とした。ついでアルミナを主成
分とする焼鈍分離剤を塗布した後、仕上げ焼鈍を行っ
た。
まで50℃/hrで加熱し、1000℃から1100℃
の二次再結晶温度域を5〜150℃/hrで加熱し、そ
の後、再び50/hrの加熱速度で1200℃まで昇温
し、水素ガス中で20時間純化焼鈍を行った。
000〜1100℃の二次再結晶温度域の加熱速度の影
響を示す。図2から、窒素量が低い場合には、仕上げ焼
鈍の加熱速度が15℃/hr以下では二次再結晶が不安
定になり、磁束密度が低下しているが、窒素量が多い場
合(N]≧2/3[Al])には全て二次再結晶してお
り、製品の磁気特性:B8(T)が加熱速度:A(℃/
hr)により制御でき、以下の関係式があることが分か
る。 B8(T)= 6.1×10-6A2 −1.77×10-3A+1.97
n:0.1%、C:0.05%、S:0.08%、酸可
溶性Al:0.027%、N:0.008%、Sn:
0.05%、Cr:0.1%を含む板厚2.3mmの珪素
鋼熱延板を1120℃で2分間焼鈍した後、最終板厚
0.28mmに冷延した。この冷延板を酸化度0.33の
窒素と水素の混合ガス中において850℃の温度で15
0秒脱炭焼鈍した。その後アンモニア含有雰囲気中で焼
鈍して、鋼板中の窒素を0.21%とした。
スラリ−で塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼
鈍はN2 :15%+H2 :85%の雰囲気ガス中で、1
000℃までは50℃/hrの昇温速度で行い、100
0℃から1200℃までは10〜50℃/hrの加熱速
度で昇温し、1200℃でH2 :100%に切りかえ2
0時間焼鈍を行った。これらの試料を張力コーテイング
処理を施した。得られた製品の磁束密度を表1に示す。
表1から、製品の磁気特性:B8(T)は加熱速度:A
(℃/hr)により制御できることが分かる。
を、焼鈍を行わずに最終板厚0.28mmに冷延した。こ
の冷延板を酸化度0.33の窒素と水素の混合ガス中に
おいて、850℃の温度で150秒脱炭焼鈍した。その
後アンモニア含有雰囲気中で焼鈍して、鋼板中の窒素を
0.21%とした。
スラリ−で塗布した後、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼
鈍はN2 :15%+H2 :85%の雰囲気ガス中で10
00℃までは50℃/hrの昇温速度で行い、1000
℃から1200℃までは10〜50℃/hrの加熱速度
で昇温し、1200℃でH2 :100%に切りかえ20
時間焼鈍を行った。これらの試料を張力コーテイング処
理を施した。得られた製品の磁束密度を表2に示す。表
2から、製品の磁気特性が加熱速度により制御できるこ
とが分かる。
種々の磁束密度のレベルの製品を、高温スラブ加熱に起
因する問題のない低温スラブ加熱プロセスを基に、同一
素材から簡潔な製造プロセスにより供給することができ
る。
結晶温度域(1000〜1100℃)の加熱速度の関係
を示す図である。
製品の磁気特性(B8)と仕上げ焼鈍の二次再結晶温度
域(1000〜1100℃)の加熱速度の関係を示す図
である。
Claims (4)
- 【請求項1】 重量で、 Si:0.8〜4.8%、 C :0.085%以下、 酸可溶性Al:0.01〜0.065%、 N :0.012%以下 を含み、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼を
1280℃以下の温度で加熱した後、熱間圧延により熱
延板となし、一回の冷間圧延により最終板厚とし、次い
で脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤を塗布し仕上げ焼鈍を施す方
向性電磁鋼板の製造方法に於いて、脱炭焼鈍後、二次再
結晶発現前に鋼板の酸可溶性Alの量[Al](%)に
応じて窒素量[N](%)が[N]≧2/3[Al]を
満足する量となるように窒化処理を施すこと、及び磁束
密度B8の目標値に応じて、仕上焼鈍鈍工程の1000
℃〜1100℃の二次再結晶温度域の加熱速度を二次関
数により制御することにより、脱炭焼鈍工程完了まで同
一条件で処理した材料から磁気特性の異なる製品を作り
分けることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項2】 重量で、 Si:0.8〜4.8%、 C :0.085%以下、 酸可溶性Al:0.01〜0.065%、 N :0.012%以下 を含み、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼を
1280℃以下の温度で加熱した後、熱間圧延により熱
延板となし、一回の冷間圧延により最終板厚とし、次い
で脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤としてアルミナを塗布し仕上
げ焼鈍を施す方向性電磁鋼板の製造方法に於いて、脱炭
焼鈍後、二次再結晶発現前に鋼板の酸可溶性Alの量
[Al](%)に応じて窒素量[N](%)が[N]≧
2/3[Al]を満足する量となるように窒化処理を施
すこと、及び磁束密度B8の目標値に応じて、仕上焼鈍
鈍工程の1000℃〜1100℃の二次再結晶温度域の
加熱速度を二次関数により制御することにより、脱炭焼
鈍工程完了まで同一条件で処理した材料から磁気特性の
異なる製品を作り分けることを特徴とする鏡面方向性電
磁鋼板の製造方法。 - 【請求項3】 熱延板を冷間圧延後、更に中間焼鈍を挟
む冷間圧延を施すことを特徴とする請求項1または2に
記載の方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項4】 熱延板に900〜1200℃の温度域で
30秒〜30分間の焼鈍を施すことを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
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JP29419498A JP3485475B2 (ja) | 1998-10-15 | 1998-10-15 | 方向性電磁鋼板の製造方法 |
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