JP3459846B2 - 超音波探触子 - Google Patents

超音波探触子

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JP3459846B2
JP3459846B2 JP22417794A JP22417794A JP3459846B2 JP 3459846 B2 JP3459846 B2 JP 3459846B2 JP 22417794 A JP22417794 A JP 22417794A JP 22417794 A JP22417794 A JP 22417794A JP 3459846 B2 JP3459846 B2 JP 3459846B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医療用などで用いる超
音波内視鏡用などにおいて利用される超音波探触子に関
し、より詳細には超音波探触子のトランスデューサ部の
電極構造に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、超音波探触子は非破壊検査装置の
ほか、医療用の超音波診断装置として需要の伸びをみせ
ている。超音波内視鏡などの探触子は、超音波トランス
デューサから高周波の音響振動を生体中に放射し、反射
して戻ってきた超音波のエコー波を超音波トランスデュ
ーサで受信し、わずかな界面特性の違いによって異なる
情報を処理することで、生体内部の断面像を得ている。
【0003】超音波探触子のトランスデューサ部は、大
別すると圧電素子、音響整合層、および背面負荷材から
構成される。超音波探触子は、圧電素子表面に形成され
た電極を使用して圧電素子に高周波の電圧パルスを印加
し、圧電素子を共振させて急速に変形を起こし、超音波
パルスを発生させるものである。
【0004】ところが、血管用超音波探触子のように高
周波化、小型化が必要なものでは、圧電素子3の形状は
小さくなり、厚さも非常に薄いものとなり、結線方法い
わゆる電極の取り方が非常に困難になってきた。
【0005】従来例としては、図23に示した特開平3
−173547号公報のような非導電性のケース32に
取付けた分極をしていない圧電素子3の一方の平面に導
電性を持たせた背面負荷材7を充填し電極としての役割
も持たせ、他方の平面に薄膜状の電極22を非導電性ケ
ース32にまで延長して形成した後、分極を行ない圧電
セラミックス1に圧電性を持たせた超音波探触子17が
ある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記公報の
超音波探触子は、背面負荷材7が圧電素子3の片側の電
極を兼ねている構成となっている。一般に、超音波内視
鏡などでは、超音波を効率よく放射するため、その超音
波探触子は媒体中に浸漬した形で使用する。しかし、こ
の媒体は時間とともに、樹脂を膨潤させてしまう。そし
て、電極を兼ねた背面負荷材7の樹脂中にフィラーとし
て混入してある導電性物質同士の接触を断ってしまう。
そのため、初期は抵抗値が上がることに起因する感度の
低下が起り、そして最後には導通が取れなくなってしま
い、画像が出なくなるという欠点がある。
【0007】また、一つずつ振動子部分を作製するタイ
プは、ハウジングなどのプラスチックや金属などのハウ
ジングにより、媒体の侵入が少なく、前述の不具合は少
ないが、非常に製作コストが高くなってしまう欠点があ
った。
【0008】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、小型で、結線が容易な、信頼性が高く、高感度な超
音波探触子とその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1に係る本発明の超音波探触子は、少なくとも
一つ以上の音響整合層もしくは音響レンズと、圧電素子
と、背面負荷材の積層体から構成されるトランスデュー
サ部を持つ超音波探触子において、前記積層体の側面部
に設けた導電材料が少なくとも成膜方法が2種類以上で
ある多層構造からなることを特徴としている。
【0010】この場合、請求項2に記載したように、圧
電素子と接触する内側の導電層をスパッタ、もしくは蒸
着などの乾式メッキにより設け、最外層を電気メッキ、
無電解メッキなどの湿式メッキにより形成するとよい。
【0011】さらに、請求項3に記載したように、トラ
ンスデューサ側面部に設けた導電材料が、圧電素子と接
触する内側の導電層が2μm以下であり、導電材料全体
で4μm以上とするのが好ましい。
【0012】
【作用】上記構成からなる本発明の超音波探触子の作用
は以下の通りである。
【0013】請求項1では、音響整合層もしくは音響レ
ンズと、圧電素子と、背面負荷材の積層体から構成され
るトランスデューサ部側面部に設けた導電材料が多層構
造であることで、選択する材料の種類と付与する順によ
り、高い密着強度と低抵抗値である導電材料の実現が可
能となる。
【0014】請求項2では上記作用に加え、トランスデ
ューサ部に付与する導電材料を、圧電素子を含めたトラ
ンスデューサと接触する内側の導電層をスパッタ、もし
くは蒸着などの乾式メッキにより設け、最外層を電気メ
ッキ、無電解メッキなどの湿式メッキにより形成するこ
とで、短時間に安定した特性が得られる電極構造の超音
波探触子を作製する。
【0015】圧電素子と接触する内側の薄い導電層と外
層の厚い導電層を形成することにより、短時間で確実
に、高い密着強度と低抵抗値を得ることができる。
【0016】請求項3では、請求項1および請求項2の
作用に加え、圧電素子と接触する内側の薄い導電層と外
層の厚い導電層を形成することにより、短時間で確実
に、高い密着強度と低抵抗値を得る。
【0017】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明に係る超音
波探触子の実施例を説明する。
【0018】(実施例1)図1〜図7を用いて本実施例
を説明する。図1は圧電素子3、音響整合層6、背面負
荷材7、アルミナ基板10の積層体の斜視図、図2〜図
6は製造方法の概略を示した断面および斜視図、図7は
超音波探触子17の先端部分の概略図である。
【0019】以下、本発明の超音波探触子17の製造方
法について説明する。
【0020】(構成)まず、長方形の圧電セラミックス
薄板1の主平面の表裏にGND電極4、プラス電極5が
それぞれ全面に形成された圧電素子3を用意する。この
圧電素子3には、厚さ0.11mmで共振周波数20MHz
のチタン酸鉛(PT)系(自発分極が消失する温度は3
20℃程度)の圧電素子をラップ研磨仕上げにより作製
し、銀ペーストをスクリーン印刷により塗布し、乾燥、
焼付けたものを使用した。
【0021】この圧電素子3に、図1にあるように約3
5μmのエポキシ樹脂製の音響整合層6を付与し、平均
粒径10μmと50μmのタングステンフィラー入りの
エポキシ樹脂からなる厚さ300μmの背面負荷材7を
接着により形成し、さらに500μmの厚さのアルミナ
基板10を接着して積層体31を作製した。
【0022】次いで、図1にある切断位置19の位置
で、精密裁断機を用いて幅L=0.7mmに裁断し、図2
のような断面の積層体31aを作製した。この積層体3
1aのアルミナ基板10部分の片側の角部を研磨により
面取りし、そして、音響整合層6の表面にはポリイミド
製テープでマスキングした後、絶縁樹脂であるパリレン
8にて絶縁コーティングし、音響整合層6の面以外の部
分に絶縁層を形成、図3のような積層体31bを作製し
た。
【0023】次に、図4のように積層体31cの圧電素
子3のプラス電極5、GND電極4の裁断面部分に図の
ような切込み2を入れる。なお、この切込み2は、先端
を尖らせた形状のブレードを用いて、精密裁断機により
加工した。その後、洗浄を実施して、音響整合層6表面
とアルミナ基板10の一部にポリイミドテープをマスキ
ングテープ26として貼付けた。
【0024】こうして得られた図4のような積層体に、
薄膜の電極21,22として、チタンを約200nm、真
空スパッタにより、積層体の温度が130℃を越えない
ように調節して形成し、図5の斜視図のような積層体3
1dを作製した。次いで、電気メッキにより、前に蒸着
で形成した導電層の上に銅を約5μm、そして最後にク
ロムを1μm形成して、洗浄後、マスキングテープ26
を剥がし、図6のような積層体31eを作製した。
【0025】そして、前記のようにして作製した積層体
31eを、再び精密裁断機を用いて、図6の裁断位置1
9の位置で幅W=0.6mmに裁断して0.7×0.6の
トランスデューサユニット20を作製した。
【0026】このようにして作製したトランスデューサ
ユニット20を、厚さ0.1mmの金属板の先端部を約4
5度に曲げたハウジング14に、半田18により半田付
けして固定し、トランスデューサユニット20のGND
側の電極と同軸ケーブル27の周線12とを、低融点の
半田18にて結線固定し、図7のような超音波探触子1
7を作製した。なお、ハウジング14は耐食性のあるス
テンレス鋼に、半田付けをする部分のみ無電解ニッケル
メッキを施したものである。
【0027】次いで、テーパを付けたアルミナ10側の
プラス側電極36と同軸ケーブル27の芯線11を低融
点の半田18にて結線し、フレキシブルシャフト13に
ケーブル27を通し、図示しないパルスレーザにて、フ
レキシブルシャフト13とトランスデューサユニット2
0を載置したハウジング14を溶接した。そして、補強
と絶縁のために音響放射面である音響整合層6の表面以
外のトランスデューサユニット20部分を覆うようにエ
ポキシ樹脂23にて封止を行ない超音波探触子17を作
製し、ポリエチレン製のシース25とよばれるチューブ
に超音波媒体28とともに差込んで、図7のようなシー
ス直径φ1.5mmのミラータイプの超音波探触子17を
作製した。
【0028】(作用)上述した方法で作製すると、圧電
素子3の表面電極4,5を露出するように入れた切込み
部2から、薄膜電極21,22およびメッキ層35a,
35bの電極から構成される導電層36,37を介し、
ケーブル27に結線することができる。送信時には図示
しないパルサにより出力された電圧パルスが、プラス側
はケーブル芯線11から薄膜電極21とメッキ層35a
からなるプラス側の導電層36を介して圧電素子のプラ
ス電極5に伝わり、GND側はケーブル周線12からハ
ウジング14、そして薄膜電極22とメッキ層35bか
らなるGND側の導電層37を介して圧電素子のGND
電極4に伝わり、電圧の加わった圧電素子3が変形し超
音波が音響整合層6を介して、金属板を曲げて作製した
ミラー16の方向に放射される。
【0029】放射された超音波は、シース25内の音響
媒体28に伝搬しミラー16に当り、シース25を透過
して被観測物へ放射される。観測物に当り反射した超音
波(エコー波)は再びシース25を通過し、ミラー16
に反射してトランスデューサに当る。このエコー波がト
ランスデューサユニット20の圧電素子3に当った際、
機械的な圧力を受けた圧電素子3は電圧を発生し、この
電圧を電極4,5から導電層36,37、同軸ケーブル
27を経て、図示しない観測装置に伝わり画像処理され
画像を観測することができる。
【0030】(効果)上述した方法で作製すると、圧電
セラミックス1、樹脂、アルミナ10と密着性の高いチ
タンをスパッタにより形成し、導電性の良い銅を電気メ
ッキし、そして最後に耐食性の強いクロムを電気メッキ
している。そのため、トランスデューサとの密着強度が
高く、抵抗値が低く、耐食性の高い導電層を2層目以降
に電気メッキを使用することで、短時間に必要な膜厚で
得ることができる。そして、超音波探触子17として使
用する際に、高感度で信頼性が高く、耐久性のあるもの
が得られる。また、1mm角以下の小さなトランスデュー
サユニット20でも安価にかつ容易に作製することがで
きる。
【0031】そして、側面電極付きの圧電素子3を利用
して作製した超音波探触子よりも、精度の関係から正負
の電極4,5が対向する位置にある割合が高くできるた
めに、実駆動部が大きく同レベルの感度を得るには小さ
な形状でよく、細径化が可能になり、商品価値が向上す
る。
【0032】なお、本実施例では、音響整合層6は一層
ものを作製したが、複数層でも同様な効果が得られる。
また、圧電素子3の電極4,5部への切込み2は、音響
整合層6、背面負荷材7を積層、裁断後に実施したが、
この方法が接着剤などの樹脂の電極部へのはみ出しを気
にせず作製できるという利点があり、簡単な装置で安価
に作ることができる。
【0033】さらに、本実施例では、圧電素子3の電極
4,5として、銀の焼付け電極を使用したが、電極の材
料には何を使用しても、同様な効果が得られる。
【0034】また、本実施例では導電層36,37とし
て、スパッタによりチタンを形成し、銅とクロムを電気
メッキにより重ねたが、その他には、熱や耐食性の心配
のない真空蒸着やイオンプレーティグなどの手段でトラ
ンスデューサの構成部材と密着性の良いTi,Cr,N
i,Wなどを形成し、導電性の良い金属、もしくは合金
などを電気メッキなどの厚膜を簡単に形成できる方法で
作製すれば電気抵抗が小さく、密着性の強い導電層3
6,37が得られる。また、最外層にCrをはじめとす
るTi,Niなど耐食性の強い薄膜を形成しておけば、
超音波探触子の耐久性は大きく向上する。
【0035】そして、本実施例では背面負荷材7の後方
にアルミナ10を積層した構成とし、半田付けの際に熱
による樹脂部分の劣化をなくすような構成をしている
が、アルミナ10以外でも熱に強いもので、薄膜電極2
1,22の付きやすいものならよく、その他には、マシ
ナブルセラミックスなどでも同様な効果が得られる。
【0036】(実施例2)図8〜図16を用いて本実施
例を説明する。図8は本実施例に使用した圧電素子3の
斜視図で、図9は音響整合層6、圧電素子3b、背面負
荷材30bを積層後の断面図、図10〜図14は製造方
法を説明するためのトランスデューサユニットである積
層体33の断面図である。そして、図15および図16
は超音波探触子の断面図、および側面図である。本実施
例の基本的な構成は実施例1と同様であり、同一な構成
部分には同一番号を付すとともに、相違点についてのみ
述べる。
【0037】(構成)本実施例では、圧電セラミックス
板1主平面に、プラス側の電極が帯状になった電極5a
を有する圧電素子3を使用してトランスデューサユニッ
トのもととなる積層体33を作製した。この圧電素子の
詳細は、厚さ0.11mmで共振周波数20MHz のジルコ
ン酸チタン酸鉛(PZT)系(自発分極が消失する温度
は270℃程度)の材料で、プラス側電極5aが幅1.
4mm、電極間が0.1mmに分割されたものである。
【0038】この圧電素子3を用いて前記実施例と同様
な方法で、図9のような音響整合層6、圧電素子3b、
絶縁フィラー入りのエポキシ樹脂製の背面負荷材30b
を積層し、精密裁断機を用いて背面負荷材30bに幅
0.21mmの溝を加工して積層体33を形成した。
【0039】そして、厚さ0.05mmのブレードを使用
して精密裁断機を用いて裁断位置19で裁断し0.7mm
幅に裁断し、図10のような積層体33aを作製する。
なお、本実施例の背面負荷材30はエポキシ樹脂に7μ
m,50μmの平均粒径をもつホウ化タングステン粉を
フィラーとして混ぜたものを使用した。そして、積層体
33aの背面負荷材30bの角部を研磨して、図11の
ような積層体33bを作製した。
【0040】次いで、両面に銅箔を形成してあり、片端
に予備半田18のしてある厚さ0.2mmのガラスエポキ
シ基板(ガラエポ基板)24を0.8mm幅に裁断したも
のを、背面負荷材30bに設けた溝に差込みエポキシ樹
脂23にて接着固定する。そして、音響整合層6および
ガラエポ基板24の半田18部分を水溶性樹脂29にて
マスキングし、図12のような積層体33cを作製し
た。
【0041】この積層体33cに、スパッタリングによ
り、クロムを下地に銀の薄膜電極21,22をそれぞ
れ、10nm,1μmの厚さで形成した。次に、薄膜電極
21,22に積層する形で、3μmの無電解ニッケルメ
ッキ35c,35dを施し、洗浄しマスキングを確実に
除去し、図13にあるような積層体を作製した。なお、
図13の破線で示した面に無電解ニッケルメッキ35
c,35dが付与されていることを示している。この積
層体を、前記実施例と同様に、長さ方向に裁断し幅0.
7mmのトランスデューサユニット20を作製した。
【0042】このトランスデューサユニット20のガラ
エポ基板24の予備半田18を施した部分に半田18に
より半田付けし、同軸ケーブル27と結線したものが図
14に示したものである。なお、同軸ケーブルは芯線1
1と周線12からなり、それぞれ圧電素子3の電極のプ
ラス側、GND側と電気的に接続される位置に結線され
ている。
【0043】このトランスデューサユニット20cを絶
縁、および耐媒体性能を向上させるために、NBR系樹
脂中に浸漬、ディッピングコートし、図15および図1
6にあるような外径φ約1mmのSUSパイプを加工した
ハウジング15にシリコン系の接着剤23にて封止固定
し、超音波探触子17bを作製した。なお、ハウジング
15は金属製フレキシブルシャフト13とレーザ溶接に
より固定されており、先端にはミラー16となる金属鏡
が付いていて、超音波の出ていく面にはパイプに切込み
が入っており窓ができている。
【0044】(作用)上述した方法で超音波探触子を作
製すると、前記実施例と異なり薄膜電極21,22付与
前に絶縁層8を形成する必要がなく、背面負荷材30も
絶縁性のため、工程数を減らした構成で超音波探触子1
7を駆動できる。
【0045】その上、スパッタによるクロムの成膜によ
り、背面負荷材30bと導電層の密着強度が上がる。そ
して、銀の成膜により低い抵抗値の導電層が可能で、一
般的な無電解ニッケルメッキにより腐食性の低い電極が
形成される。
【0046】そして、前記実施例にも言えることだが、
円板状セラミックを用いて超音波探触子17を作製する
よりも、トランスデューサユニット20の作製工程が容
易で、一度に数十〜百個以上のものが作製できる。
【0047】また、圧電素子に音響整合層6を積層後裁
断するため、所望な厚みで均一な厚みの、圧電素子3と
同形状の音響整合層6が作製できるとともに、積層体を
作製後、裁断した面に側面電極である導電層36,37
を付与するため、接着剤や、音響整合層6、背面負荷材
30bを構成する樹脂などの側面電極部への回り込みが
ない。
【0048】さらに、圧電素子3の側面電極から直接結
線しないため、圧電素子3の大きさを最大限に大きくす
ることができる。
【0049】(効果)本発明の超音波探触子17のトラ
ンスデューサユニット20に付与された導電層36,3
7は、密着強度が高く、抵抗値も低いもので、超音波探
触子の低インピーダンス化を図ることが容易である。ま
た、無電解ニッケルのメッキ層は、耐食性向上の他、導
電層36,37の低抵抗値化にも寄与しているととも
に、短時間で数μmの成膜が可能なため、仕掛時間も減
少する。
【0050】そして、ハウジング15にパイプ状のもの
を使用し導波路効果を有するために、伝達ロスの少ない
感度のよいミラータイプの超音波探触子17が作製でき
る。
【0051】また、ケーブル27との結線はトランスデ
ューサユニット20後部で半田付けにより行なうため、
圧電素子3の割合を大きくとれ感度向上の要因となると
ともに、導電性樹脂を使用しないために寿命が長く、信
頼性の高い超音波探触子17が得られる。
【0052】その上、円板状セラミックを用いて超音波
探触子17を作製するよりも、トランスデューサ部作製
工程が非常に容易で、音響整合層6、圧電素子3、背面
負荷材30を積層後裁断してトランスデューサ部を作製
するため、一度に数十〜百個以上のものがつくれ、量産
効果から非常に安価に超音波探触子17が作製できる。
【0053】さらに、本実施例では絶縁性のフィラーで
あるホウ化タングステンを混入したエポキシ樹脂を背面
負荷材30に使用したが、アルミナやジルコニアなど絶
縁材で樹脂との混合後に減衰効果の高いものならば、同
様な効果が期待できる。
【0054】本実施例では音響整合層6は1層構造のも
のであるが、少なくとも音響整合層6もしくは、音響レ
ンズが1つ以上あれば同様な効果が得られる。
【0055】なお、銅、ニッケル、クロムのように密着
強度は比較的強く、低抵抗値化を達成するために膜厚を
かせぐ場合、成膜を2段階として、外層の厚い層を無電
解、もしくは電気メッキにより形成することにより、同
材料の多層導電層であっても、仕掛時間の低減に繋がる
【0056】(実施例3)図17〜図20は本実施例に
おける超音波探触子17の製造方法を表した断面図、お
よび斜視図である。本実施例の基本的な構成は実施例1
と同様であり、同一な構成部分には同一番号を付すとと
もに、相違点についてのみ述べる。
【0057】(構成)本実施例では、圧電セラミックス
板1主平面に、表裏でずれた位置に帯状の電極4,5を
有する圧電素子3bを使用してトランスデューサユニッ
ト20を作製した。この圧電素子3bは、前記実施例と
同じジルコン酸チタン酸鉛(PZT)系材料で、電極幅
が1.4mm、電極間は0.1mmで、圧電素子3b表裏の
電極4,5は、半分のピッチでずれている圧電素子3b
である。
【0058】この圧電素子3bを用いて前記実施例と同
様な方法で、図17のような音響整合層6a,6b、圧
電素子3b、背面負荷材7,30の積層体40を形成す
る。なお、音響整合層6a,6bは圧電素子側の第1音
響整合層6aがアルミナフィラー入りのエポキシ樹脂
で、第2音響整合層6bがエポキシ樹脂から形成された
2層構造である。
【0059】また、背面負荷材は2種類の平均粒系をも
つタングステン粉(10μm,50μm)をフィラーと
した耐熱性の高いエポキシ樹脂で、絶縁層としてプラス
側電極5b側の電極未形成部にアルミナをフィラーとし
た絶縁層30が形成されている。
【0060】この積層体40を、裁断位置19で精密裁
断機により裁断し、絶縁性の背面負荷材30のエポキシ
樹脂系接着剤をもちいて、0.8mm幅の両面に銅箔を擁
した厚さ0.2mmガラエポ基板24に垂直に接着固定
し、図18の断面図のような積層体を作製した。なお、
ガラエポ基板24の銅箔は背面負荷材7側のみ除去した
ものを使用した。
【0061】ついで、第2音響整合層6bの主平面にポ
リイミド製のマスキングテープ26aを貼り、ガラエポ
基板24の端面にも同様にマスキングテープ26cを貼
付ける。さらに、ガラエポ基板24の銅箔には、図19
のように後工程で半田付けの行ないやすいように、裁断
ピッチで両面マスキング26bする。
【0062】この積層体にスパッタリングにより、銅の
薄膜電極21,22を250nm形成した。そして、マス
キングテープ26a,26b,26cを除去し、電気メ
ッキにより銅の薄膜電極上に5μmのニッケルをメッキ
し、最後にクロムメッキを250nm付けて、図20にあ
るようなトランスデューサユニット20fを得た。
【0063】このトランスデューサユニット20fに前
記実施例同様、半田により半田付けして、フッ素系のコ
ーティング材にて絶縁処理を施し、同軸ケーブル27と
結線、ハウジング15に固定し超音波探触子17を作製
した。
【0064】(作用)上述した方法で作製すると、ケー
ブル27から伝わる電圧パルスはガラエポ基板24を通
し、導電層36,37を経て、圧電素子3の電極5a,
5bへと伝わり、圧電素子3に電圧が印加され超音波を
発生する。放射された超音波はパイプの中を反射しなが
ら伝わり、ミラーに反射し、垂直に方向を変え出てい
く。被検体に当ってはねかえってきたエコー波は再びミ
ラー16で反射し、トランスデューサユニット20に圧
力を加え、圧電素子3において機械的振動が電圧に変換
され、画像処理装置により画像化される。
【0065】なお、ガラエポ基板24の銅箔上に設けた
導電層のない部分は、同軸ケーブル27の半田付けに使
用すると、容易に半田付けが可能となる。
【0066】さらに本実施例では、導電体のフィラーを
背面負荷材7に使用することが可能で、減衰効果の高い
ものを使用できる。
【0067】(効果)導電層36,37の最外層が半田
付けできない材質の場合、ガラエポ基板24上に設けた
マスキング26の形状により、半田18がのる部分が限
定される。そのため、小型化されたトランスデューサユ
ニット20fに簡単に正確な位置に半田付けでき、作業
性が向上する。また、半田時の位置ずれにより、パイプ
状ハウジング15と接触し短絡してしまうという品質事
故も減少し、信頼性が向上する。
【0068】そして、ガラエポ基板24の表裏でマスキ
ングの形状を変えると、正負の区別が明確になり作業ミ
スがなくなるという効果がある。
【0069】また、背面負荷材7に導電性のあるフィラ
ーを使用できるため、材料選択の幅が広がる。このた
め、例えば減衰特性の優れたタングステンフィラーなど
の金属フィラーを用いることが可能になるため、背面負
荷材7の厚さを薄くでき、超音波探触子の硬質部長を短
くすることができる。なお、本実施例ではタングステン
をフィラーとして使用した背面負荷材7を用いたが、バ
リウムフェライトやサマリウムコバルトのような磁力を
有するものを軟質のエポキシ樹脂に混入し、磁気ダンパ
としたものなど、導電性のある背面負荷材7でも、絶縁
材30と挟み込んだ複合背面負荷材を利用することで同
様に作製可能である。この場合は、減衰効率が高く、短
パルスになるため、画像精度がさらに良い超音波探触子
17を得ることができる。
【0070】(実施例4)図21は本実施例における超
音波探触子17で用いるトランスデューサユニット20
gの斜視図である。本実施例の基本的な構成は実施例3
と同様であり、同一な構成部分には同一番号を付すとと
もに、相違点についてのみ述べる。
【0071】(構成)本実施例のトランスデューサユニ
ット20gは、実施例3と同様な方法にて作製した。マ
スキングはガラエポ基板24の中央部に行ない、銅をス
パッタにより形成後、ニッケルをメッキし、ガラエポ基
板24部分のみを電鋳の液中に浸漬し肉厚化させ、最後
にクロム層をメッキし積層体を作製、裁断して、図21
のようなトランスデューサユニット20gを作製した。
【0072】このトランスデューサユニット20のガラ
エポ基板24で銅箔が露出した部分に、ケーブルを差込
み半田18により半田付けし、電鋳にて作製したメッキ
層35bのGND側以外の部分をシリコン系の樹脂にて
絶縁処理を施して、ハウジング15に接着固定し、超音
波探触子17を作製した。
【0073】(作用)上述した方法で作製すると、ケー
ブルの芯線11、周線12の位置決めを電鋳により形成
された凹部に差込むだけでよくなる。
【0074】また、ハウジング15をGNDに落とすこ
とにより対ノイズ性を向上させる際、電鋳により作製し
たメッキ製凸部35bとハウジング15との接触で行な
うことが可能となり、探触子先端で、ハウジング15を
グランドに落とすことが可能となる。
【0075】さらに、この凸部を利用し、パイプ状のハ
ウジング15への位置決めが可能となり、音響放射軸を
容易に合せることができるようになる。
【0076】(効果)ケーブルの芯線11、周線12の
位置決めが容易となり、配線ミスがなくなり、生産性、
信頼性が向上する。
【0077】また、半田付けなどの作業なしで、硬質部
長を長くすることなくハウジング15をGND化するこ
とが可能となり、大幅な工数削減となる。
【0078】さらに、電鋳により形成した凸部を利用
し、パイプ状のハウジング15への位置決めが可能で、
音響放射軸を機械的に合せることができ、品質安定性が
確保しやすくなる。
【0079】なお、位置決め、およびハウジング15を
GND化するための突起はガラエポ基板24上の他、背
面負荷材7,30側面であっても、電圧パルス印加時の
圧電素子3の動作に影響がないため構わない。
【0080】図22は、背面負荷材30側面に電鋳によ
りメッキの突起35gを形成した例であり、同軸ケーブ
ル27との結線は、音響放射軸の適正化とワッシャ9へ
の突き当てによる位置決め機能を兼ねたコネクタ38の
金属端子39a,39bを介して半田18による半田付
けにより行なった。
【0081】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果がある。
【0082】請求項1および請求項3によれば、2種類
以上の成膜方法で多層構造の導電層とすることで、電極
層とトランスデューサ積層体との密着強度を高めるとと
もに、トランスデューサの面積縮小化により伝達効率の
向上が要求される電気抵抗値を低く抑えることが可能と
なり、感度の良い超音波探触子を作製できる。
【0083】また、導電層の最外層に耐久性のあるもの
を付与することにより、超音波探触子の信頼性を向上さ
せることができる。
【0084】そして、高周波化し、小型小径化の要求に
より、形状の小さくなった超音波トランスデューサにお
いても、結線方法いわゆる電極の取り方が容易で、実使
用時に断線することがなく信頼性が高く、量産が可能で
安価な超音波探触子が得られる。
【0085】さらに、成膜速度に問題があり、コストの
かかる成膜法と、成膜速度は高いものの樹脂への密着強
度の望めない成膜法を組合せることで、短時間に比較的
安価に超音波探触子を作製できる。
【0086】また、請求項2によれば、上記請求項1お
よび請求項3の効果に加え、圧電素子と接触する内側の
導電層をスパッタ、もしくは蒸着などの乾式メッキによ
り設け、最外層を電気メッキ、無電解メッキなどの湿式
メッキにより形成することで確実な密着強度と、電気抵
抗値の制御、低コスト化の全てを満たす超音波探触子が
得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第1の図である。
【図2】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第2の図である。
【図3】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第3の図である。
【図4】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第4の図である。
【図5】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第5の図である。
【図6】本発明の実施例1による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第6の図である。
【図7】本発明の実施例1により得られたミラータイプ
の超音波探触子を示す断面図である。
【図8】本発明の実施例2による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第1の図である。
【図9】本発明の実施例2による超音波探触子の製造方
法を工程順に示した第2の図である。
【図10】本発明の実施例2による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第3の図である。
【図11】本発明の実施例2による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第4の図である。
【図12】本発明の実施例2による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第5の図である。
【図13】本発明の実施例2による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第6の図である。
【図14】本発明の実施例2による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第7の図である。
【図15】本発明の実施例2により得られたミラータイ
プの超音波探触子を示す断面図である。
【図16】本発明の実施例2により得られたミラータイ
プの超音波探触子を示す断面図である。
【図17】本発明の実施例3による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第1の図である。
【図18】本発明の実施例3による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第2の図である。
【図19】本発明の実施例3による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第3の図である。
【図20】本発明の実施例3による超音波探触子の製造
方法を工程順に示した第4の図である。
【図21】本発明の実施例4による超音波探触子に用い
られるトランスデューサユニットを示す斜視図である。
【図22】実施例4のトランスデューサユニットの変形
例を示す正面図である。
【図23】従来技術を説明するための図である。
【符号の説明】
1 圧電セラミックス 2 切込み 3 圧電素子 3b 圧電素子 4 GND電極 5 プラス電極 5a 電極 5b 電極 6 音響整合層 6a 第1音響整合層 6b 第2音響整合層 7 背面負荷材 8 絶縁層 9 ワッシャ 10 アルミナ基板 11 芯線 12 周線 13 フレキシブルシャフト 14 ハウジング 15 ハウジング 16 ミラー 17 超音波探触子 17b 超音波探触子 18 半田 19 裁断位置 20 トランスデューサユニット 20c トランスデューサユニット 20f トランスデューサユニット 20g トランスデューサユニット 21 薄膜電極 22 薄膜電極 23 エポキシ樹脂 24 ガラエポ基板 25 シース 26 マスキングテープ 26a マスキングテープ 26b マスキングテープ 26c マスキングテープ 27 同軸ケーブル 28 媒体 29 水溶性樹脂 30 背面負荷材 30b 背面負荷材 31 積層体 31a 積層体 31b 積層体 31c 積層体 31d 積層体 31e 積層体 32 非導電性ケース 33 積層体 33a 積層体 33b 積層体 33c 積層体 34 溝 35a メッキ層 35b メッキ層 35c 無電解ニッケルメッキ 35d 無電解ニッケルメッキ 35g 突起 36 導電層(+電極) 37 導電層(GND電極) 38 コネクタ 39a 金属端子 39b 金属端子 40 積層体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−57852(JP,A) 特開 昭63−212856(JP,A) 特開 平5−23341(JP,A) 特開 昭57−39698(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04R 17/00 330 A61B 8/00 G01N 29/24

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一つ以上の音響整合層もしく
    は音響レンズと、圧電素子と、背面負荷材の積層体から
    構成されるトランスデューサ部を持つ超音波探触子にお
    いて、前記積層体の側面部に設けた導電材料が少なくと
    も成膜方法が2種類以上である多層構造からなることを
    特徴とする超音波探触子。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の超音波探触子において、
    圧電素子と接触する内側の導電層をスパッタ、もしくは
    蒸着などの乾式メッキにより設け、最外層を電気メッ
    キ、無電解メッキなどの湿式メッキにより形成したこと
    を特徴とする超音波探触子。
  3. 【請求項3】 請求項1および請求項2記載の超音波探
    触子において、トランスデューサ側面部に設けた導電材
    料が、圧電素子と接触する内側の導電層が2μm以下で
    あり、導電材料全体で4μm以上であることを特徴とす
    る超音波探触子。
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