JP3414717B2 - Electromagnetic wave transmitting metal deposited film transfer material and method of manufacturing the same - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度の電磁波透
過性金属蒸着膜転写材とその製造方法に関し、詳しく
は、例えば、高周波照射を受けても、放電や熱収縮、燃
焼等を引き起こすことがなく、食品包装材やそれに貼付
するラベル紙、印刷紙等に高輝度で電磁波透過性の金属
蒸着膜を転写するために好適な電磁波透過性金属蒸着膜
転写材とそのような電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製
造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-intensity electromagnetic wave transmissive metal vapor deposition film transfer material and a method for manufacturing the same, and more specifically, to cause discharge, thermal contraction, combustion, etc. even when subjected to high frequency irradiation. Electromagnetically transparent metal vapor deposition film transfer material suitable for transferring a high-luminance, electromagnetically transparent metal vapor deposition film to a food packaging material, a label paper attached to it, a printing paper, etc. The present invention relates to a method for manufacturing a vapor deposition film transfer material.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来から、絶縁性金属蒸着膜転写材とし
て、島の大きさを２００Å〜１μｍとすると共に、島相
互の間隔を１００〜５０００Åとした島状構造を有する
金属蒸着膜をスズ、鉛、亜鉛、ビスマス、アンチモン等
の金属から形成してなる絶縁層を有するものが知られて
いる。しかし、このような金属蒸着膜は、その厚みが３
００Å以上（光線透過率にして１０％以下）程度になる
と、島が連続して一体となり、上記島状構造とした本来
の目的である絶縁性を失なって、良導電性を示すに至る
こととなる。2. Description of the Related Art Conventionally, as an insulating metal vapor deposition film transfer material, tin is used as the metal vapor deposition film having an island-like structure in which the size of the island is 200Å to 1 μm and the distance between the islands is 100 to 5000Å. Those having an insulating layer formed of a metal such as lead, zinc, bismuth, or antimony are known. However, such a metal vapor deposition film has a thickness of 3
When it is about 00Å or more (light transmittance is 10% or less), the islands are continuously integrated and lose the insulating property which is the original purpose of forming the island structure, leading to good conductivity. Becomes

【０００３】また、上述したような従来の絶縁性金属蒸
着膜を有するラベルを貼着した食品包装材は、高感度異
物検出機による検査においても、金属異物が混入してい
るとして誤認されることもある。更に、そのような食品
包装材を電子レンジによる調理やウェルダー箔押転写加
工に際して、マイクロ波のような高周波を照射すると、
放電や熱収縮、場合によっては、燃焼さえも生じる重大
な問題がある。Further, the food packaging material to which the label having the conventional insulating metal vapor deposition film as described above is adhered is erroneously recognized as the presence of metal foreign matter even in the inspection by the high sensitivity foreign matter detector. There is also. Further, when such food packaging material is cooked in a microwave oven or welder foil imprinting process is irradiated with a high frequency wave such as a microwave,
There are significant problems with discharge, heat shrinkage, and in some cases even combustion.

【０００４】他方、上記絶縁性金属蒸着膜の厚みが２０
０Å以下（光線透過率にして１５％以上）程度に薄いと
きは、美麗な金属光沢をもたず、黒ずんだ色感があり、
外観が悪い問題がある。On the other hand, the insulating metal vapor deposition film has a thickness of 20.
When it is as thin as 0 Å or less (15% or more in terms of light transmittance), it does not have a beautiful metallic luster and has a blackish color impression.
There is a problem with the appearance.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の絶縁
性金属蒸着膜転写材における上述したような問題を解決
するためになされたものであって、十分な絶縁性を有
し、従って、電磁波透過性を有すると共に、美麗で高輝
度の金属光沢を有し、耐膜性強度の高い金属蒸着膜を与
えることができる電磁波透過性金属蒸着膜転写材とその
製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems in the conventional insulating metal vapor deposition film transfer material, and has a sufficient insulating property. An object is to provide an electromagnetic wave transmissive metal vapor deposition film transfer material which has electromagnetic wave transparency, has a beautiful and high-luminance metallic luster, and can provide a metal vapor deposition film having high film resistance strength, and a method for producing the same. And

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基材上
に離型剤層、内部保護用透明樹脂層、インジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜及び接着剤層をこの順序にて有
し、上記酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０
〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共に、上記
複合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量比が９５
／５〜８０／２０の範囲にあることを特徴とする電磁波
透過性金属蒸着膜転写材が提供される。According to the present invention, a release agent layer, an internal protective transparent resin layer, an indium / indium oxide composite vapor deposition film and an adhesive layer are provided in this order on a substrate, The indium oxide is In ₂ O _x (where x is 1.0
It is a number in the range of to 1.9. ), And the composite vapor deposition film has an indium / indium oxide weight ratio of 95.
Provided is an electromagnetic wave transparent metal vapor deposition film transfer material, which is in the range of / 5 to 80/20.

【０００７】特に、本発明によれば、上記インジウム／
酸化インジウム複合蒸着膜が厚み２５０〜５００Åを有
することが好ましい。In particular, according to the present invention, the above indium /
The indium oxide composite vapor deposition film preferably has a thickness of 250 to 500 Å.

【０００８】更に、本発明によれば、基材上に離型剤層
と内部保護用透明樹脂層をこの順序で積層した後、この
内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラズマ又は電子
線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にてイ
ンジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を積層し、次い
で、この蒸着膜上に接着剤層を積層する電磁波透過性金
属蒸着膜転写材の製造方法において、上記酸化インジウ
ムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数であ
る。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウ
ム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範
囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写
材の製造方法が提供される。Further, according to the present invention, after a release agent layer and an internal protective transparent resin layer are laminated in this order on a substrate, a high frequency excited plasma or electron beam oxidation is performed on the internal protective transparent resin layer. In the method for producing an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material, which comprises laminating an indium / indium oxide composite vapor deposition film by an activated reactive vapor deposition method using anodic plasma, and then laminating an adhesive layer on the vapor deposition film. Indium oxide is represented by In ₂ O _x (where x is a number in the range of 1.0 to 1.9), and the composite vapor deposition film has an indium / indium oxide weight ratio of 95/5 to 80. Provided is a method for producing an electromagnetic wave transparent metal vapor deposition film transfer material, which is in the range of / 20.

【０００９】[0009]

【発明の実施の形態】図１は、本発明による電磁波透過
性金属蒸着膜転写材の好ましい一実施例を示し、基材１
上に離型剤層２、表面保護用透明樹脂層３、内部保護用
透明樹脂層４、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
５、接着アンカー層６及び接着剤層７をこの順序にて有
し、これらの層のうち、表面保護用透明樹脂層３と接着
アンカー層６は、必要に応じて設けられているものであ
る。後述するように、これらの層のうち、表面保護用透
明樹脂層３、内部保護用透明樹脂層４、インジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜５、接着アンカー層６及び接着
剤層７からなる積層体が接着剤にて被転写体に転写され
る転写層８である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a preferred embodiment of the electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention.
It has a release agent layer 2, a transparent resin layer 3 for surface protection, a transparent resin layer 4 for internal protection, an indium / indium oxide composite vapor deposition film 5, an adhesive anchor layer 6 and an adhesive layer 7 in this order on top, Among these layers, the transparent resin layer 3 for surface protection and the adhesive anchor layer 6 are provided as needed. As will be described later, among these layers, a laminated body composed of the transparent resin layer 3 for surface protection, the transparent resin layer 4 for internal protection, the indium / indium oxide composite vapor deposition film 5, the adhesive anchor layer 6 and the adhesive layer 7 is formed. It is the transfer layer 8 that is transferred to the transfer target with an adhesive.

【００１０】上記基材は、通常、透明乃至半透明の合成
樹脂フィルムからなり、この合成樹脂としては、限定さ
れるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルサルファイド、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリスチレン等を挙げることができる。しかし、必
要に応じて、基材は、生分解性フィルムやセロハンや紙
からなるものであってもよい。また、基材は、必要に応
じて、ヘアーライン、スピン加工、コーティングマット
加工等、凹凸加工を施されていてもよい。上記基材は、
２種以上のものが積層されていてもよい。The above-mentioned substrate is usually composed of a transparent or translucent synthetic resin film, and the synthetic resin is not limited, but examples thereof include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene na. Examples thereof include phthalate, polyphenylene sulfide, polyether sulfide, polyimide, polycarbonate, polypropylene, polyethylene and polystyrene. However, if necessary, the substrate may be made of a biodegradable film, cellophane, or paper. In addition, the base material may be subjected to a concavo-convex process such as a hairline, a spin process, a coating mat process or the like, if necessary. The base material is
Two or more types may be laminated.

【００１１】本発明による金属蒸着膜転写材において
は、このような基材上に離型剤層を有する。この離型剤
層も、特に限定されるものではなく、例えば、シリコー
ン樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ロジン樹
脂、アクリル樹脂、α−オレフィン−エチレン共重合体
樹脂、エチレン−アクリル共重合体樹脂等の樹脂類、ポ
リエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等の合
成ワックス類、パラフィンワックス、変性モンタンワッ
クス、部分ケン化エステルワックス、酸化ワックス、カ
ルナバワックス等のワックス類のほか、脂肪酸エステル
類や種々の界面活性剤からなるものである。これらの樹
脂やワックスは、必要に応じて、２種以上が併用され
る。The metal vapor deposition film transfer material according to the present invention has a release agent layer on such a substrate. The release agent layer is also not particularly limited, and examples thereof include silicone resin, modified silicone resin, fluorine resin, rosin resin, acrylic resin, α-olefin-ethylene copolymer resin, ethylene-acrylic copolymer. Resins such as resins, synthetic waxes such as polyethylene wax and oxidized polyethylene wax, waxes such as paraffin wax, modified montan wax, partially saponified ester wax, oxidized wax and carnauba wax, fatty acid esters and various interfaces It consists of an activator. Two or more kinds of these resins and waxes are used in combination, if necessary.

【００１２】このような樹脂やワックスを適宜の有機溶
剤に溶解して溶液とし、これを上記基材上に適宜の塗工
手段にて塗布、乾燥すれば、基材上に離型剤層を形成す
ることができる。離型剤層の厚みは、特に限定されるも
のではないが、通常、0.０１〜0.５μｍの範囲である。
上記塗工手段としては、例えば、グラビアコーター、グ
ラビアリバースコーター、リバースロールコーター、マ
イヤーバーコーター、パイプドクターリバースコータ
ー、オフセットグラビアコーター、スリットリバースコ
ーター等を挙げることができる。Such a resin or wax is dissolved in an appropriate organic solvent to form a solution, which is applied onto the above-mentioned substrate by an appropriate coating means and dried to form a release agent layer on the substrate. Can be formed. The thickness of the release agent layer is not particularly limited, but is usually in the range of 0.01 to 0.5 μm.
Examples of the coating means include a gravure coater, a gravure reverse coater, a reverse roll coater, a Meyer bar coater, a pipe doctor reverse coater, an offset gravure coater, and a slit reverse coater.

【００１３】この離型剤層は、本発明による金属蒸着膜
転写材を用いて、被転写体に転写層を転写する際に、基
材を転写層から容易に剥離することができるように設け
られている。This release agent layer is provided so that the substrate can be easily peeled from the transfer layer when the transfer layer is transferred to the transfer target using the metal vapor deposition film transfer material according to the present invention. Has been.

【００１４】この離型剤層上には、好ましくは、表面保
護用透明樹脂層が設けられている。この表面保護用透明
樹脂層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混
合物からなる透明乃至半透明の合成樹脂層である。しか
し、必要に応じて、表面保護用透明樹脂層は、活性エネ
ルギー線硬化型樹脂を含んでいてもよい。A transparent resin layer for surface protection is preferably provided on the release agent layer. The transparent resin layer for surface protection is a transparent or translucent synthetic resin layer made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin or a mixture thereof. However, the transparent resin layer for surface protection may contain an active energy ray-curable resin, if necessary.

【００１５】上記熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂として
は、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、メラミン−エポ
キシ共重合樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、メラミン
−アクリル共縮合樹脂等のアミノ樹脂、ポリウレタン樹
脂、アクリル樹脂、石油系樹脂、ロジン樹脂、クロロプ
レンゴム、塩化ゴム、環化ゴム等のゴム系樹脂、繊維素
誘導体樹脂、フェノール系樹脂、塩素化ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体樹脂、キシレン樹脂、ポリエステル
樹脂等を挙げることができる。Examples of the thermosetting resin and thermoplastic resin include amino resins such as melamine resin, urea resin, melamine-epoxy copolymer resin, melamine-urea co-condensation resin, melamine-acryl co-condensation resin and polyurethane resin. , Acrylic resin, petroleum resin, rosin resin, rubber resin such as chloroprene rubber, chlorinated rubber, cyclized rubber, fibrin derivative resin, phenol resin, chlorinated polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride −
Examples thereof include vinyl acetate copolymer resin, xylene resin, polyester resin and the like.

【００１６】従って、用いる樹脂によっては、必要に応
じて、適量の硬化剤が用いられる。このような硬化剤と
しては、例えば、リン酸やリン酸エステル（アミノ樹脂
の硬化剤）やイソシアネート（ウレタン樹脂の硬化剤）
等を挙げることができる。但し、これらに限定されるも
のではない。Therefore, depending on the resin used, an appropriate amount of a curing agent is used if necessary. Examples of such a curing agent include phosphoric acid, phosphoric acid ester (curing agent for amino resin) and isocyanate (curing agent for urethane resin).
Etc. can be mentioned. However, it is not limited to these.

【００１７】本発明によれば、表面保護用透明樹脂層
は、好ましくは、熱硬化性樹脂１０〜９０重量％、好ま
しくは、２０〜７０重量％と熱可塑性樹脂９０〜１０重
量％、好ましくは、８０〜３０重量％との混合物１００
重量部に対して、ジメチルポリシロキサンを骨格とする
変性シリコーン樹脂１〜１０重量部を含有し、必要に応
じて、前述したような活性エネルギー線硬化型樹脂５〜
１０重量部を含有することができる。上記変性シリコー
ン樹脂としては、例えば、アクリル変性シリコーン樹脂
（本発明においては、アクリル変性シリコーン樹脂はメ
タアクリル変性シリコーン樹脂を含むものとする。）、
ポリエーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコ
ーン樹脂が好ましく用いられる。According to the present invention, the transparent resin layer for surface protection is preferably 10 to 90% by weight of a thermosetting resin, preferably 20 to 70% by weight and 90 to 10% by weight of a thermoplastic resin, preferably. , A mixture of 80 to 30% by weight 100
1 to 10 parts by weight of a modified silicone resin having dimethylpolysiloxane as a skeleton is contained per part by weight, and if necessary, the active energy ray-curable resin 5 as described above is added.
It may contain 10 parts by weight. Examples of the modified silicone resin include acrylic modified silicone resin (in the present invention, acrylic modified silicone resin includes methacrylic modified silicone resin),
Polyether-modified silicone resin or amino-modified silicone resin is preferably used.

【００１８】上記活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫
外線や電子線等のような活性エネルギー線の照射によっ
て、重合して、硬化物を与える樹脂組成物をいい、通
常、活性エネルギー線の照射によってラジカル重合する
活性基（特に、アクリロイル基やメタクリロイル基）を
有するオリゴマー又はプレポリマーと、通常、上記活性
基を有するモノマーとからなる。活性エネルギー線硬化
型樹脂の硬化物とは、上述したように、活性エネルギー
線硬化型樹脂に活性エネルギー線を照射して形成された
硬化物である。The above-mentioned active energy ray-curable resin refers to a resin composition which is polymerized by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams to give a cured product. Usually, it is irradiated with active energy rays. It is composed of an oligomer or prepolymer having an active group (particularly, an acryloyl group or a methacryloyl group) which undergoes radical polymerization, and usually a monomer having the above active group. The cured product of the active energy ray-curable resin is, as described above, a cured product formed by irradiating the active energy ray-curable resin with the active energy ray.

【００１９】上記活性エネルギー線の照射によって硬化
するオリゴマー又はプレポリマーとしては、例えば、紫
外線活性基としてアクリロイル基やメタアクリロイル基
を有するオリゴマーやプレポリマーを挙げることができ
る。具体例としては、例えば、ポリエステルアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート、
ポリエステルメタクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ポリウレタンメタクリレート、ポリオールメタクリ
レート、メラミンメタクリレート等を挙げることができ
る。また、モノマーとしては、例えば、エチレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート等のような多官能性（メタ）アクリレート
や、必要に応じて、アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チルのような単官能性アクリレートも用いられる。Examples of the oligomer or prepolymer which is cured by irradiation with active energy rays include oligomers and prepolymers having an acryloyl group or a methacryloyl group as an ultraviolet active group. Specific examples include, for example, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyol acrylate, melamine acrylate,
Examples thereof include polyester methacrylate, epoxy methacrylate, polyurethane methacrylate, polyol methacrylate and melamine methacrylate. Further, as the monomer, for example, polyfunctional (meth) such as ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, etc. Acrylates and, if necessary, monofunctional acrylates such as methyl acrylate and methyl methacrylate are also used.

【００２０】このような活性エネルギー線硬化型樹脂
は、通常、増感剤、重合開始剤、安定剤、充填剤等を含
んでおり、更に、希釈剤として、上述したような単官能
又は多官能（メタ）アクリレートと溶媒とを含む液状組
成物として、市販されており、本発明においては、その
ような市販品を好適に用いることができる。Such an active energy ray-curable resin usually contains a sensitizer, a polymerization initiator, a stabilizer, a filler and the like, and further as a diluent, the monofunctional or polyfunctional compound as described above. It is commercially available as a liquid composition containing a (meth) acrylate and a solvent, and such a commercially available product can be preferably used in the present invention.

【００２１】上記アクリル変性シリコーン樹脂も、分子
末端に（メタ）アクリロイル基を有し、加熱によって硬
化して、強靱な被膜を形成する。アクリル変性シリコー
ン樹脂も、市販品を用いることができる。The above acrylic-modified silicone resin also has a (meth) acryloyl group at the molecular end and is cured by heating to form a tough film. A commercial item can also be used for the acrylic-modified silicone resin.

【００２２】このような表面保護用透明樹脂層は、上述
したような熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物と上
記変性シリコーン樹脂とを、必要に応じて、上記活性エ
ネルギー線硬化型樹脂等を適宜の有機溶媒に溶解して溶
液とし、これを離型剤層上に塗布し、加熱、乾燥させる
ことによって形成することができる。表面保護用透明樹
脂層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、
0.１〜１μｍの範囲である。Such a transparent resin layer for surface protection contains a mixture of the above-mentioned thermosetting resin and thermoplastic resin and the above modified silicone resin, if necessary, the above active energy ray curable resin, etc. Can be formed by dissolving in a suitable organic solvent to form a solution, applying this on the release agent layer, and heating and drying. The thickness of the transparent resin layer for surface protection is not particularly limited, but usually,
It is in the range of 0.1 to 1 μm.

【００２３】このように、本発明による転写材が変性シ
リコーン樹脂、好ましくは、アクリル変性又はアミノ変
性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有する
とき、このような転写材は、上記変性シリコーン樹脂の
硬化に由来して、耐摩耗性や耐擦過性を有する強靱な表
面を有する。Thus, when the transfer material according to the present invention has a transparent resin layer for surface protection containing a modified silicone resin, preferably an acrylic-modified or amino-modified silicone resin, such a transfer material is a modified silicone resin as described above. It has a tough surface with abrasion resistance and scratch resistance due to the curing.

【００２４】更に、このように、本発明による転写材が
変性シリコーン樹脂と、必要に応じて、活性エネルギー
線硬化型樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有するとき
は、このような転写材を用いて被転写体に転写層を転写
した後、その転写層の表面に活性エネルギー硬化型イン
キにて堅牢な印刷層を形成することができる。Further, when the transfer material according to the present invention has a modified silicone resin and, if necessary, a transparent resin layer for surface protection containing an active energy ray-curable resin, such a transfer material is used. After the transfer layer is transferred to the transfer target by using the transfer layer, a robust printing layer can be formed on the surface of the transfer layer with the active energy curable ink.

【００２５】即ち、図２に示すように、本発明による転
写材を用いて転写層８を被転写体９に転写すれば、転写
層８は、被転写体９上に接着剤層７、接着アンカー層
６、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜５、内部保
護用透明樹脂層４及び表面保護用透明樹脂層３がこの順
序にて積層されてなる積層体である。That is, as shown in FIG. 2, when the transfer layer 8 is transferred onto the transferred material 9 by using the transfer material according to the present invention, the transfer layer 8 is bonded onto the transferred material 9 with the adhesive layer 7. An anchor layer 6, an indium / indium oxide composite vapor deposition film 5, an internal protective transparent resin layer 4, and a surface protective transparent resin layer 3 are laminated in this order.

【００２６】ここに、活性エネルギー線硬化型インキ
は、インキ中に前述したような活性エネルギー線硬化型
樹脂を含むので、例えば、紫外線硬化型オフセットイン
キや紫外線硬化型シルクスクリーンインキ等を用いて転
写層の表面（即ち、表面保護用透明樹脂層の表面）に印
刷を行なう際に、転写層の表面が上記活性エネルギー線
硬化型インキとの親和性にすぐれると共に、印刷後に活
性エネルギー線を照射すれば、活性エネルギー線硬化型
インキと共に、表面保護用透明樹脂層中の活性エネルギ
ー線硬化型樹脂も硬化するので、印刷層が表面保護用透
明樹脂層と一体化し、かくして、形成される印刷層Ｐ
は、耐摩耗性、耐擦過傷性、耐溶剤性、耐薬品性、爪に
よる耐引っ掻き傷性等にすぐれ、非常に堅牢である。Since the active energy ray-curable ink contains the active energy ray-curable resin as described above in the ink, it is transferred using, for example, an ultraviolet ray curable offset ink or an ultraviolet ray curable silk screen ink. When printing on the surface of the layer (that is, the surface of the transparent resin layer for surface protection), the surface of the transfer layer has excellent affinity with the above-mentioned active energy ray-curable ink and is irradiated with active energy ray after printing. Then, the active energy ray-curable ink and the active energy ray-curable resin in the transparent resin layer for surface protection are cured together with the active energy ray-curable ink, so that the printed layer is integrated with the transparent resin layer for surface protection, thus forming the printed layer. P
Is excellent in abrasion resistance, abrasion resistance, solvent resistance, chemical resistance, scratch resistance by nails, etc., and is extremely robust.

【００２７】本発明による転写材は、上記表面保護用透
明樹脂層上に内部保護用透明樹脂層を有する。この内部
保護用透明樹脂層は、透明乃至半透明の合成樹脂層から
なり、着色されていてもよい。The transfer material according to the present invention has an internal protective transparent resin layer on the surface protective transparent resin layer. This transparent resin layer for internal protection is made of a transparent or semitransparent synthetic resin layer and may be colored.

【００２８】このような内部保護用透明樹脂層は、前述
したような熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂のみからなる
ものでもよく、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物
からなるものでもよく、また、前述したような活性エネ
ルギー線硬化型樹脂の硬化物のみからなるものでもよ
く、更に、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と熱硬
化性若しくは熱可塑性樹脂との混合物からなるものでも
よい。Such an internal protective transparent resin layer may be made of only the thermoplastic resin or the thermosetting resin described above, or may be made of a mixture of the thermosetting resin and the thermoplastic resin. Further, it may be composed only of a cured product of the active energy ray-curable resin as described above, or may be composed of a mixture of a cured product of the active energy ray-curable resin and a thermosetting or thermoplastic resin.

【００２９】このような樹脂を適宜の有機溶媒に溶解し
て溶液とし、これを前記表面保護用透明樹脂層上に塗布
し、塗膜を形成することによって、内部保護用透明樹脂
層を形成することができる。この塗膜化に際して、用い
る樹脂が熱硬化性樹脂を含むときは、必要に応じて、樹
脂を硬化剤の存在下に加熱、硬化させる。Such a resin is dissolved in an appropriate organic solvent to form a solution, which is applied onto the surface-protecting transparent resin layer to form a coating film, thereby forming an internal-protecting transparent resin layer. be able to. When forming the coating film, if the resin used contains a thermosetting resin, the resin is heated and cured in the presence of a curing agent, if necessary.

【００３０】内部保護用透明樹脂層が無色透明であれ
ば、本発明による転写材を用いて被転写体に転写層を転
写したとき、転写層は、インジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜の基づく銀色の金属光沢を有し、内部保護用透
明樹脂層が着色透明であれば、銀色のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を背景とした有彩色の金属光沢を
有する。例えば、内部保護用透明樹脂層が黄色、青色又
は赤色透明であれば、転写層は、それぞれ金色、青色又
は赤色の鮮やかな金属光沢を有する。If the transparent resin layer for internal protection is colorless and transparent, when the transfer layer is transferred to the transfer target using the transfer material according to the present invention, the transfer layer has a silver color based on the indium / indium oxide composite vapor deposition film. If it has a metallic luster and the transparent resin layer for internal protection is colored and transparent, it has a chromatic metallic luster against the background of the silver indium / indium oxide composite vapor deposition film. For example, when the transparent resin layer for internal protection is yellow, blue or red, the transfer layer has a bright metallic luster of gold, blue or red, respectively.

【００３１】本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写
材は、上記内部保護用透明樹脂層上にインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を有し、ここに、上記酸化インジ
ウムはＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数で
ある。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジ
ウム／酸化インジウム重量比は９５／５〜８０／２０の
範囲にある。The electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention has an indium / indium oxide composite vapor deposition film on the internal protective transparent resin layer, wherein the indium oxide is In ₂ O _x (in the formula) , X is a number in the range of 1.0 to 1.9), and the indium / indium oxide weight ratio of the composite vapor deposition film is in the range of 95/5 to 80/20.

【００３２】このようなインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜を形成する手段は、特に限定されるものではな
く、例えば、電子線加熱式蒸着法、高周波誘導加熱式、
電気抵抗加熱式蒸着法、イオンプレーティング、スパッ
タリング蒸着法、活性化反応性蒸着法等によることがで
き、好ましくは、連続巻取式蒸着装置を用いて前記内部
保護用透明樹脂層上に形成される。Means for forming such an indium / indium oxide composite vapor deposition film is not particularly limited, and for example, electron beam heating vapor deposition method, high frequency induction heating type,
Electric resistance heating type vapor deposition method, ion plating, sputtering vapor deposition method, activation reactive vapor deposition method and the like can be used, and preferably, it is formed on the transparent resin layer for internal protection using a continuous winding type vapor deposition apparatus. It

【００３３】上述した種々の手段のなかでも、活性化反
応性蒸着法は、本発明によるインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜を形成するための好ましい方法の一つであ
る。特に、本発明によれば、インジウムを蒸発させつ
つ、これを高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラ
ズマ中に導いて酸素にてインジウムを酸化し、かくし
て、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させ
る活性化反応性蒸着法によるのが好ましい。Among the various means described above, the activated reactive vapor deposition method is one of the preferable methods for forming the indium / indium oxide composite vapor deposited film according to the present invention. In particular, according to the present invention, the activity of evaporating indium and introducing it into high frequency excitation plasma or electron beam anodic anodic plasma to oxidize indium with oxygen, thus forming an indium / indium oxide composite vapor deposition film It is preferable to use the chemical reaction reactive vapor deposition method.

【００３４】以下にこれらの方法のうち、先ず、高周波
励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着法を図３を参照
しながら説明する。Of these methods, the activated reactive vapor deposition method using high frequency excited plasma will be described below with reference to FIG.

【００３５】前述したように、基材上に離型剤層と内部
保護用透明樹脂層をこの順序で積層してなる蒸着用基材
１１（巻取りロール）を原反とし、この蒸着用基材を活
性化反応性蒸着装置１２内の上室１３に設けた巻出し側
１４にセットし、冷却ロール１５を経て、巻取り側１６
につなぎ、隔壁１７にて隔てた上室と下室１８との間に
差圧があるように、真空ポンプを用いて装置の上室を到
達真空度１０^-4〜１０ ^-3Ｔｏｒｒ、好ましくは、５×１
０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気すると共に、下室側
を到達真空度１０^-5〜１０^-4Ｔｏｒｒ、好ましくは、１
×１０^-4〜1.５×１０^-4Ｔｏｒｒまで排気して、上室と
下室をそれぞれ真空槽に形成する。As described above, the release agent layer and the inside are formed on the substrate.
Deposition substrate formed by stacking protective transparent resin layers in this order
11 (winding roll) is used as the original fabric, and this vapor deposition substrate is activated.
Unwinding side provided in the upper chamber 13 in the chemical activation reactive deposition device 12
14 through the cooling roll 15, the winding side 16
Between the upper chamber and the lower chamber 18, which are separated by the partition wall 17
Use a vacuum pump to reach the upper chamber of the device so that there is a differential pressure.
Ultimate vacuum 10^-Four-10 ^-3Torr, preferably 5 × 1
0^-3~ 3 x 10^-3Exhaust to Torr and lower chamber side
Reach a vacuum of 10^-Five-10^-FourTorr, preferably 1
× 10^-Four~ 1.5 × 10^-FourEvacuate to Torr and use as upper chamber
Each lower chamber is formed into a vacuum chamber.

【００３６】上記隔壁は、冷却ロールの下部に沿ってス
リット１９を有し、このスリットによって上室と下室は
連通していて、冷却ロールはその下部がスリットに案内
されるように下室に位置している。The partition wall has a slit 19 along the lower part of the cooling roll, the upper chamber and the lower chamber are communicated by this slit, and the cooling roll is guided to the lower chamber so that the lower part thereof is guided by the slit. positioned.

【００３７】次いで、下室真空槽に設けた高周波誘導加
熱用コイル２０（例えば、周波数１０ＫＨｚ）で蒸発源
坩堝２１中の金属インジウムを徐々に加熱し、金属イン
ジウムの蒸発温度である２１００〜２２００℃程度に達
したとき、上記蒸着用基材を上記巻出し側から適宜の温
度（例えば、−５℃から５℃の範囲）に冷却した冷却ロ
ールに沿わせながら、上記巻取り側に巻取り、ここで、
蒸着用基材が冷却ロール上を走行する間、冷却ロールに
沿って延びる前記スリットを通して下室に案内し、下方
に蒸発源坩堝を臨むように下室中に蒸着用基材をインジ
ウム蒸気流Ｖ中に露出させて、蒸着用基材の内部保護用
透明樹脂層上にインジウムを蒸着させる。Then, the metallic indium in the evaporation source crucible 21 is gradually heated by the high-frequency induction heating coil 20 (for example, frequency 10 KHz) provided in the lower chamber vacuum chamber, and the evaporation temperature of metallic indium is 2100 to 2200 ° C. When the temperature reaches a certain level, the vapor deposition substrate is taken up on the take-up side while being along a cooling roll cooled from the unwind side to an appropriate temperature (for example, in the range of -5 ° C to 5 ° C), here,
While the vapor deposition base material travels on the cooling roll, it is guided to the lower chamber through the slit extending along the cooling roll, and the vapor deposition base material is introduced into the lower chamber so as to face the evaporation source crucible downward. After exposing the inside, indium is vapor-deposited on the transparent resin layer for internal protection of the vapor deposition substrate.

【００３８】このように、蒸着用基材を巻出し側から巻
取り側に一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上に
インジウムを蒸着させ、かくして得られた蒸着フィルム
を巻取り側に巻取るまでに、この蒸着フィルムの光透過
率を、蒸着用基材を基準フィルムとし、その光透過率を
１００％とする相対値として、連続して光透過率計２２
にて測定すると共に、蒸着フィルムの蒸着膜の膜厚を膜
厚測定器２３にて連続して測定しながら、２５０〜５０
０Åの範囲で一定の膜厚（例えば、４００Å）を有する
インジウム蒸着膜が形成されるように、前記高周波誘導
加熱用コイルの出力を調整し、インジウムの蒸発速度を
制御する。In this way, while the vapor deposition substrate is running from the unwinding side to the winding side at a constant speed, indium is vapor-deposited on the vapor deposition substrate, and the vapor deposition film thus obtained is wound on the winding side. By the time of winding, the light transmittance of this vapor-deposited film is continuously measured as a relative value with the vapor-deposition substrate as a reference film and the light transmittance as 100%.
250 to 50 while continuously measuring the film thickness of the vapor deposition film of the vapor deposition film with the film thickness measuring device 23 while measuring
The output of the high frequency induction heating coil is adjusted to control the evaporation rate of indium so that an indium vapor deposition film having a constant film thickness (for example, 400 Å) is formed in the range of 0Å.

【００３９】装置内において、前記蒸発源坩堝の上部に
高周波励起プラズマ生成用コイル極２４が取付けられて
おり、更に、その上部にはアルゴンガスのシャワー口２
５と酸素ガスのシャワー口２６が取付けられており、こ
れらの上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行しつつ、下
室中に露出されている。In the apparatus, a coil electrode 24 for high frequency excitation plasma generation is attached to the upper part of the evaporation source crucible, and further, an argon gas shower port 2 is provided on the upper part thereof.
5 and an oxygen gas shower port 26 are attached, and the vapor deposition substrate is exposed in the lower chamber while running on the cooling roll above these.

【００４０】そこで、上述したように、蒸着用基材上に
一定の厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになっ
たとき、高周波励起マッチングボックス３３を介して高
周波発振器３４（例えば、出力１ＫＷ、周波数１3.５６
ＭＨｚ）にて上記高周波励起プラズマ生成用コイルに高
周波電圧を印加しながら、その反射波が２０〜３０Ｗの
範囲でマッチングがとれるように設定し、下室中にマス
フローコントローラ（図示せず）を経てアルゴンガスを
一定の割合（例えば、0.１Ｌ／分）で上記シャワー口か
ら導入すると共に、酸素ガスをマスフローコントローラ
（図示せず）を経て一定の割合（例えば、0.２Ｌ／分）
で上記シャワー口から導入して、前記蒸発源坩堝の上方
にてプラズマを生成させ、このプラズマ中で酸素を活性
酸素イオンとし、インジウム蒸気をイオン化して、これ
らの間で反応（インジウムの酸化反応）を起こさせ、か
くして、生成した酸化インジウムをインジウムと共に蒸
着用基材上に蒸着させて、本発明によるインジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に形成した蒸着
フィルム２７を得ることができる。Therefore, as described above, when an indium vapor deposition film having a constant thickness is formed on the vapor deposition substrate, a high frequency oscillator 34 (for example, an output of 1 KW, via the high frequency excitation matching box 33) is formed. Frequency 13.56
MHz) while applying a high-frequency voltage to the high-frequency excited plasma generating coil, the reflected wave is set to match within a range of 20 to 30 W, and is passed through a mass flow controller (not shown) in the lower chamber. Argon gas is introduced at a constant rate (for example, 0.1 L / min) from the shower port, and oxygen gas is passed through a mass flow controller (not shown) at a constant rate (for example, 0.2 L / min).
At this point, a plasma is generated above the evaporation source crucible, and oxygen is used as active oxygen ions in the plasma to ionize indium vapor and react between them (oxidation reaction of indium). ) Is generated, and thus the generated indium oxide is vapor-deposited with the indium on the vapor deposition base material to obtain the vapor deposition film 27 in which the indium / indium oxide composite vapor deposition film according to the present invention is formed on the vapor deposition base material. it can.

【００４１】本発明によれば、上述したように、蒸着フ
ィルムの蒸着膜の厚みを膜厚測定器を用いて測定しなが
ら、これを適当な範囲に調節すると共に、光透過率計を
用いて、上記蒸着膜の光透過率が基準フィルム（蒸着用
基材）の光透過率（１００％）に対して所定の範囲にあ
るように、上記酸素ガスの導入量を調節して、プラズマ
中のインジウムの酸化反応を制御することによって、酸
化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範
囲の数である。）で表わされると共に、インジウム／酸
化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範囲にあ
るインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着
フィルムを得ることができる。According to the present invention, as described above, while adjusting the thickness of the vapor-deposited film of the vapor-deposited film by using the film thickness measuring device, the thickness of the vapor-deposited film is adjusted to an appropriate range and the light transmittance meter is used. The amount of introduction of the oxygen gas is adjusted so that the light transmittance of the vapor deposition film is within a predetermined range with respect to the light transmittance (100%) of the reference film (vapor deposition substrate). By controlling the oxidation reaction of indium, indium oxide is represented by In ₂ O _x (where x is a number in the range of 1.0 to 1.9), and the indium / indium oxide weight ratio is A vapor deposition film having an indium / indium oxide composite vapor deposition film in the range of 95/5 to 80/20 can be obtained.

【００４２】即ち、本発明によれば、このように、イン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィル
ムを走行させながら、上述したようにして、その蒸着膜
の光透過率と膜厚を連続的に測定し、膜厚が所定の範囲
にあることを確認しながら、酸素の導入量を制御して、
一定の酸素分圧下に、蒸着膜に基準フィルムに対して所
定の範囲の光透過率を有せしめることによって、インジ
ウムに対して所定の割合で酸化インジウムを生成させ、
かくして、目的とするインジウム／酸化インジウム複合
蒸着膜、即ち、酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘ
は1.０〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共
に、インジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８
０／２０の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合
蒸着膜を形成させることができる。That is, according to the present invention, while the vapor deposition film having the indium / indium oxide composite vapor deposition film is run in this manner, the light transmittance and the film thickness of the vapor deposition film are continuously changed as described above. And confirm that the film thickness is within a predetermined range, while controlling the amount of oxygen introduced,
Under constant oxygen partial pressure, by giving the vapor deposition film a light transmittance in a predetermined range with respect to the reference film, indium oxide is generated at a predetermined ratio with respect to indium,
Thus, the target indium / indium oxide composite vapor-deposited film, that is, indium oxide is In ₂ O _x (in the formula, x
Is a number in the range of 1.0 to 1.9. ), And the indium / indium oxide weight ratio is 95/5 to 8
An indium / indium oxide composite vapor deposition film in the range of 0/20 can be formed.

【００４３】より詳細には、予め、蒸着用基材上に一定
の厚み（２５０〜５００Åの範囲の間で種々の厚み、例
えば、４００Åの厚み）のインジウム／酸化インジウム
複合蒸着膜を形成して蒸着フィルムとし、この蒸着膜に
ついて、インジウムと酸素の量と共に、インジウムと酸
化インジウムの割合、即ち、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ
_x ）におけるｘ値とインジウム／酸化インジウム重量比
を、例えば、ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメ
ーターを用いて求めると共に、この蒸着膜について、基
準フィルム（蒸着用基材）の光透過率を１００％とする
相対的な光透過率を求めておき、その間の関係を求めて
おけば、その関係に基づいて、酸素ガスの導入量を調節
して、インジウムの酸化反応を適宜に制御することによ
って、蒸着用基材上に所定の厚みと所定のｘ値を有する
インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させるこ
とができる。More specifically, an indium / indium oxide composite vapor-deposited film having a constant thickness (various thickness in the range of 250 to 500 Å, for example, 400 Å) is previously formed on the vapor deposition substrate. A vapor-deposited film was prepared. Regarding this vapor-deposited film, the ratio of indium and indium oxide, that is, indium oxide (In ₂ O
The x value in _x ) and the indium / indium oxide weight ratio are determined by using, for example, an ESCA (X-ray photoelectron analysis) spectrometer, and the light transmittance of the reference film (base material for vapor deposition) of this vapor deposition film is 100. If the relative light transmittance in% is obtained and the relation between them is obtained, the amount of oxygen gas introduced can be adjusted based on the relation to control the indium oxidation reaction appropriately. It is possible to form an indium / indium oxide composite vapor deposition film having a predetermined thickness and a predetermined x value on a vapor deposition substrate.

【００４４】上記光透過率計としては、例えば、赤外発
光ダイオード（発光波長９１０ｎｍ）から蒸着フィルム
に投光し、基準フィルムの光透過率を１００％として、
蒸着膜の光透過率を相対値として測定するものを用いる
ことができる。As the above-mentioned light transmittance meter, for example, an infrared light emitting diode (light emission wavelength 910 nm) is projected onto a vapor deposition film, and the light transmittance of the reference film is set to 100%.
What measures the light transmittance of a vapor deposition film as a relative value can be used.

【００４５】このようにして、本発明によれば、膜厚２
５０〜５００Å、好ましくは、３００〜４５０Åの厚み
を有し、酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０
〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共に、イン
ジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０
の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を
蒸着用基材上に形成させることができる。Thus, according to the present invention, the film thickness 2
It has a thickness of 50 to 500Å, preferably 300 to 450Å, and indium oxide is In ₂ O _x (where x is 1.0.
It is a number in the range of to 1.9. ), And the indium / indium oxide weight ratio is 95/5 to 80/20.
It is possible to form the indium / indium oxide composite vapor deposition film in the range of 1) on the vapor deposition base material.

【００４６】本発明によれば、インジウム／酸化インジ
ウム複合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量比が
８０／２０よりも小さいとき、又は、酸化インジウム
（Ｉｎ ₂Ｏ_x ）のｘ値が1.９よりも大きいときは、蒸着
膜が導電性を有するようになって、電磁波透過性が悪く
なる。特に、本発明によれば、複合蒸着膜中の酸化イン
ジウム（Ｉｎ₂Ｏ_X ）は、そのｘ値が1.０≦ｘ≦1.５の
範囲にあるのが好ましい。他方、酸化インジウム（Ｉｎ
₂Ｏ_X ）のｘ値が1.０よりも小さいときは、複合蒸着膜
の強度が小さく、耐摩耗性、耐擦傷性、耐擦過性等が十
分でない。即ち、本発明によれば、酸化インジウムがＩ
ｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数である。）
で表わされると共に、インジウム／酸化インジウム重量
比が９５／５〜８０／２０の範囲にあるインジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜を形成させることによって、絶
縁性（即ち、電磁波透過性）と耐膜性強度を兼ね備えた
複合蒸着膜を得ることができる。According to the invention, indium / indoxide oxide
The indium / indium oxide weight ratio of the um composite vapor deposition film is
Less than 80/20 or indium oxide
(In ₂O_xWhen the x value of) is greater than 1.9, vapor deposition
The film becomes conductive and the electromagnetic wave permeability is poor.
Become. In particular, according to the present invention, the oxide
Indium (In₂O_X) Has an x value of 1.0 ≦ x ≦ 1.5
It is preferably in the range. On the other hand, indium oxide (In
₂O_XWhen the x value of) is less than 1.0, it is a composite vapor deposition film.
Has low strength, and has sufficient wear resistance, scratch resistance, scratch resistance, etc.
Not a minute. That is, according to the present invention, indium oxide is I
n₂O_x(In the formula, x is a number in the range of 1.0 to 1.9.)
And indium / indium oxide weight
Indium / acid with a ratio in the range 95/5 to 80/20
By forming an indium nitride composite vapor deposition film,
It has both edge property (that is, electromagnetic wave transparency) and film resistance.
A composite vapor deposition film can be obtained.

【００４７】次に、電子線酸化陽極プラズマを用いる活
性化反応性蒸着法を図４を参照しながら説明する。図４
において、図３と同じ部材には同じ参照番号を付してあ
る。Next, the activated reactive vapor deposition method using electron beam oxidation anodic plasma will be described with reference to FIG. Figure 4
3, the same members as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals.

【００４８】この方法は、プラズマを生成させる手段と
して、前記高周波励起プラズマに代えて、電子線酸化陽
極プラズマを用いる点において相違するのみである。従
って、前述したと同様に、下室１８に設けた高周波誘導
加熱用コイル２０（例えば、周波数１０ＫＨｚ）で蒸発
源坩堝２１中の金属インジウムをその蒸発温度に加熱
し、蒸着用基材１１を巻出し側１４から巻取り側１６に
一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上にインジウ
ムを蒸着させる。かくして得られた蒸着フィルムを巻取
り側に巻取るまでに、前述したように、蒸着膜の光透過
率を光透過率計２２にて連続して測定すると共に、蒸着
膜の膜厚を膜厚測定器２３にて連続して測定しながら、
２５０〜５００Åの範囲で一定の膜厚（例えば、４００
Å）を有するインジウム蒸着膜が形成されるように、前
記高周波誘導加熱用コイルの出力を調整し、インジウム
の蒸発速度を制御する。This method is different only in that electron beam anodic anodic plasma is used instead of the high frequency excited plasma as a means for generating plasma. Therefore, as described above, the metal indium in the evaporation source crucible 21 is heated to the evaporation temperature by the high-frequency induction heating coil 20 (for example, frequency 10 KHz) provided in the lower chamber 18, and the vapor deposition substrate 11 is wound. Indium is vapor-deposited on the vapor-depositing substrate while traveling from the take-out side 14 to the take-up side 16 at a constant speed. Before the vapor-deposited film thus obtained is wound on the winding side, the light transmittance of the vapor-deposited film is continuously measured by the light transmittance meter 22 as described above, and the film thickness of the vapor-deposited film is measured. While continuously measuring with the measuring device 23,
A constant film thickness in the range of 250 to 500Å (for example, 400
The output of the high-frequency induction heating coil is adjusted so that the indium deposited film having Å) is formed, and the evaporation rate of indium is controlled.

【００４９】電子線酸化陽極プラズマを生成させるため
に、装置１２内において、射線が上記蒸発源の上方（空
間放電プラズマ領域又は空間放電プラズマ流Ｄ）を横切
るようにホロカソード式電子線プラズマ照射銃（ＨＣＤ
電子銃、出力電圧３０ＫＷ／台）のカソード電極３１が
設けられており、これらのカソード電極に対向して、装
置内の反対側にＨＣＤ電子銃のアノード電極３２が設け
られている。また、ホロカソード式電子線プラズマ照射
銃のカソード電極にはアルゴンガスを下室中に導入する
ためのシャワー口２５が設けられていると共に、上記蒸
発源坩堝の上部には酸素ガスのシャワー口２６が取付け
られており、その上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行
しつつ、下室中に露出されている。In order to generate an electron beam oxidative anodic plasma, a horocathode electron beam plasma irradiation gun (in the device 12) is arranged so that the rays traverse above the evaporation source (space discharge plasma region or space discharge plasma flow D). HCD
An electron gun, an output voltage of 30 KW / unit) is provided with a cathode electrode 31, and an anode electrode 32 of the HCD electron gun is provided on the opposite side in the apparatus so as to face these cathode electrodes. The cathode electrode of the hollow cathode electron beam plasma irradiation gun is provided with a shower port 25 for introducing argon gas into the lower chamber, and an oxygen gas shower port 26 is provided above the evaporation source crucible. It is attached, and the vapor deposition substrate is exposed in the lower chamber while running on the cooling roll above it.

【００５０】そこで、上述したように、基材上に一定の
厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになったと
き、電源３５から上記電子銃に電圧と電流を印加すると
共に、一定の割合（例えば、0.１Ｌ／分）でシャワー口
からアルゴンガスを導入し、他方、酸素シャワー口から
酸素ガスを一定の割合（例えば、0.２Ｌ／分）で導入し
て、電子銃の上記カソード電極とアノード電極との間の
空間で空間放電プラズマ領域Ｄを生成させ、この空間放
電プラズマ領域中で酸素を活性酸素イオンとし、インジ
ウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応（インジウ
ムの酸化反応）を起こさせ、かくして、生成した酸化イ
ンジウムをインジウムと共に蒸着用基材上に蒸着させ
て、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させ
る。Therefore, as described above, when an indium vapor-deposited film having a constant thickness is formed on the base material, a voltage and a current are applied from the power source 35 to the electron gun and at a constant rate ( For example, the argon gas is introduced from the shower port at 0.1 L / min), while the oxygen gas is introduced from the oxygen shower port at a constant rate (for example, 0.2 L / min), and the cathode electrode of the electron gun is introduced. A space discharge plasma region D is generated in the space between the anode electrode and the anode electrode, oxygen is made into active oxygen ion in this space discharge plasma region, indium vapor is ionized, and a reaction occurs between them (oxidation reaction of indium). Then, the generated indium oxide is vapor-deposited on the vapor deposition substrate together with indium to form an indium / indium oxide composite vapor deposition film.

【００５１】この後、高周波励起プラズマを用いる活性
化反応性蒸着法におけると同様に、インジウム／酸化イ
ンジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムを光透過率計
に導き、基準フィルムに対する蒸着膜の光透過率を測定
すると共に、蒸着膜の膜厚を膜厚測定器にて測定し、蒸
着膜の光透過率が所定の値になるように下室中への酸素
導入量を制御し、かくして、膜厚２５０〜５００Å、好
ましくは、３００〜４５０Åの厚みを有し、酸化インジ
ウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数で
ある。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジ
ウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の
範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を得
ることができる。Then, as in the case of the activated reactive vapor deposition method using high frequency excitation plasma, the vapor deposition film having the indium / indium oxide composite vapor deposition film was introduced into a light transmittance meter, and the light transmittance of the vapor deposition film with respect to the reference film was measured. And the film thickness of the deposited film is measured by a film thickness measuring device, and the amount of oxygen introduced into the lower chamber is controlled so that the light transmittance of the deposited film becomes a predetermined value. It has a thickness of 250 to 500Å, preferably 300 to 450Å, and indium oxide is represented by In ₂ O _x (wherein x is a number in the range of 1.0 to 1.9), and An indium / indium oxide composite vapor deposition film having an indium / indium oxide weight ratio of 95/5 to 80/20 in the composite vapor deposition film can be obtained.

【００５２】このようなインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜は、インジウム蒸着膜の非導電性テトラゴナル
（正方晶、tetragonal）構造と酸化インジウムのキュー
ビック（立方晶、cubic) 構造との複合晶であって、膜
厚を大きくしても、高い絶縁性と耐膜性強度とを有して
おり、しかも、美麗で高輝度の金属光沢を保持してい
る。従って、本発明による転写材からの転写層は、３０
０ＭＨｚから３００ＧＨｚにわたるマイクロ波又は高周
波に対して透過性を有する。Such an indium / indium oxide composite vapor deposition film is a composite crystal of a non-conductive tetragonal structure of the indium vapor deposition film and a cubic structure of indium oxide. Even if the film thickness is increased, it has high insulation and film resistance strength, and retains a beautiful and bright metallic luster. Therefore, the transfer layer from the transfer material according to the present invention is 30
It is transparent to microwaves or high frequencies ranging from 0 MHz to 300 GHz.

【００５３】更に、本発明による電磁波透過性金属蒸着
膜転写材は、好ましくは、上記複合蒸着膜上に接着アン
カー層を有する。この接着アンカー層は、この上の接着
剤層と前記複合蒸着膜との層間剥離を防止し、また、接
着剤層中の酸やアルカリ成分や、或いは被転写体から接
着剤層を透過した酸やアルカリ成分を前記複合蒸着膜か
ら遮断すると共に、複合蒸着膜が柔軟であるところ、本
発明による転写材の製造時の巻取や、また転写材から転
写層を被転写体に転写する際に傷が付かないように、複
合蒸着膜を保護する役割を担っている。この接着アンカ
ー層は、前述した熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれ
らの混合物からなり、厚み0.１〜１μｍ程度の合成樹脂
層からなる。Further, the electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention preferably has an adhesive anchor layer on the composite vapor deposition film. This adhesive anchor layer prevents delamination between the adhesive layer on the adhesive layer and the composite vapor-deposited film, and also acid or alkali components in the adhesive layer, or acid penetrating the adhesive layer from the transferred material. In addition to blocking the alkali component from the composite vapor-deposited film and the flexibility of the composite vapor-deposited film, the composite vapor-deposited film can be wound at the time of manufacturing the transfer material according to the present invention, or when the transfer layer is transferred from the transfer material to the transfer target. It plays a role of protecting the composite vapor-deposited film so as not to be scratched. This adhesive anchor layer is made of the above-mentioned thermosetting resin, thermoplastic resin, or a mixture thereof, and is made of a synthetic resin layer having a thickness of about 0.1 to 1 μm.

【００５４】この接着アンカー層も、前述したような熱
硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混合物を適宜の
有機溶媒に溶解させて溶液とし、これを上記複合蒸着膜
上に塗布し、乾燥又は硬化させることによって形成する
ことができる。This adhesive anchor layer is also prepared by dissolving the above-mentioned thermosetting resin, thermoplastic resin or a mixture thereof in an appropriate organic solvent to prepare a solution, which is applied onto the above composite vapor deposition film and dried or It can be formed by curing.

【００５５】本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写
材は、上記接着アンカー層の上に接着剤層を有する。こ
の接着剤層における接着剤は、感熱接着剤でもよく、ま
た、感圧接着剤でもよく、転写材の使用方法や目的に応
じて適宜に選ばれる。これらの感熱又は感圧接着剤とし
ては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、
エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、酢酸ビニル樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、塩素化ポリプロピレン樹
脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド
系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、セルロー
ス系樹脂、石油樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ロジ
ン及びハードレジンとその種々の誘導体や変性物、ゴム
系樹脂、アクリル−アクリロニトリル共重合樹脂、アク
リル−スチレン共重合体樹脂、アクリル−スチレン−ブ
タジエン共重合体樹脂、エチレン−イソブチルアクリレ
ート共重合体樹脂等が単独で、又は２種以上を組合わせ
て適宜に用いられる。The electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention has an adhesive layer on the adhesive anchor layer. The adhesive in this adhesive layer may be a heat-sensitive adhesive or a pressure-sensitive adhesive, and is appropriately selected according to the usage method and purpose of the transfer material. As these heat-sensitive or pressure-sensitive adhesives, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin,
Ethylene-vinyl acetate copolymer resin, vinyl acetate resin,
Polyvinyl butyral resin, chlorinated polypropylene resin, acrylic resin, polyester resin, polyamide resin, epoxy resin, phenol resin, cellulose resin, petroleum resin, thermoplastic polyurethane resin, rosin and hard resin and various derivatives thereof Or modified products, rubber resins, acrylic-acrylonitrile copolymer resins, acrylic-styrene copolymer resins, acrylic-styrene-butadiene copolymer resins, ethylene-isobutyl acrylate copolymer resins, etc., alone or in combination of two or more. Can be used in combination.

【００５６】このような接着剤は、必要に応じて、溶媒
や、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化亜
鉛、カオリン、シリカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、タルク等の無機微粒子からなる充填剤や架橋アクリ
ル樹脂からなる真球状微粒子、架橋ポリスチレン樹脂か
らなる真球状微粒子、架橋シリコーン樹脂からなる真球
状微粒子、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物
からなる球状微粒子、メラミン−ホルムアルデヒド縮合
物からなる球状微粒子、ベンゾグアナミン−メラミン−
ホルムアルデヒド縮合物からなる球状微粒子等の有機微
粒子からなる充填剤等、適宜の添加剤を含有していても
よい。Such an adhesive may be a solvent, a filler, a cross-linker made of inorganic fine particles such as silica, alumina, aluminum hydroxide, zinc oxide, kaolin, silica gel, calcium carbonate, titanium oxide, talc and the like, if necessary. True spherical particles made of acrylic resin, true spherical particles made of crosslinked polystyrene resin, true spherical particles made of crosslinked silicone resin, spherical particles made of benzoguanamine-formaldehyde condensate, spherical particles made of melamine-formaldehyde condensate, benzoguanamine-melamine-
Appropriate additives such as a filler made of organic fine particles such as spherical fine particles made of formaldehyde condensate may be contained.

【００５７】このような接着剤層は、上記接着アンカー
層上に上記樹脂の溶液や溶融物を常法にて塗布し、乾燥
することによって形成することができる。接着剤層の厚
さは、特に限定されるものではないが、通常、0.５〜５
μｍの範囲が適当である。Such an adhesive layer can be formed by applying a solution or melt of the above resin onto the above adhesive anchor layer by a conventional method and drying. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is usually 0.5 to 5
A range of μm is suitable.

【００５８】接着剤層が多少とも、粘着性を帯びている
感圧接着剤層であるときのように、必要に応じて、この
接着剤層上にシリコーン樹脂を塗布した剥離フィルム
（リリースフィルム）を貼合してもよく、また、コーン
スターチ等の微粒子デンプンや、酸化チタン、シリカゲ
ル等の超微粒子顔料等を散布してもよい。If necessary, as in the case where the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer having tackiness, a release film (release film) in which a silicone resin is applied to the adhesive layer, if necessary. Alternatively, fine particle starch such as corn starch or ultra fine particle pigment such as titanium oxide or silica gel may be sprinkled.

【００５９】[0059]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。以下において、部を重量部を示す。The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. In the following, parts are parts by weight.

【００６０】実施例１ （離型剤層の形成）酸化ポリエチレンワックス2.５部、
変性モンタンワックス2.５部、α−オレフィン−エチレ
ン共重合体樹脂３部及びロジン樹脂５部をトルエン６５
部、キシレン１０部及びメチルエチルケトン７５部から
なる混合溶媒に加え、十分に混和し、これを基材である
幅６７０ｍｍ、厚さ１２μｍの透明なポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上にグラビアコーターを用い
て塗布し、１２０〜１３０℃の範囲の温度で乾燥して、
厚さ0.３μｍの離型剤層を形成した。Example 1 (Formation of release agent layer) 2.5 parts of oxidized polyethylene wax,
2.5 parts of modified montan wax, 3 parts of α-olefin-ethylene copolymer resin and 5 parts of rosin resin and 65 parts of toluene.
Part, xylene 10 parts and methyl ethyl ketone 75 parts, mixed well and mixed with one side of a transparent polyethylene terephthalate film having a width of 670 mm and a thickness of 12 μm, which is a base material, using a gravure coater. , Dried at a temperature in the range of 120 to 130 ° C,
A release agent layer having a thickness of 0.3 μm was formed.

【００６１】（表面保護用透明樹脂層の形成）次に、熱
硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂２０
部、ウレタン樹脂２０部、イソシアネート樹脂（ウレタ
ン樹脂硬化剤、武田薬品工業（株）製タケネートＡ−
５）１０部、アクリル変性シリコーン樹脂５部、ポリエ
ーテル変性シリコーン樹脂５部、ｐ−トルエンスルホン
酸（アミノ樹脂の硬化剤）１部、熱可塑性樹脂として、
アクリル樹脂（三菱レーヨン（株）製ダイヤナールＢＲ
−８５）６０部、環化ゴム２０部、及び紫外線硬化型プ
レポリマーとして、ポリウレタンメタクリレート８部を
トルエン１１０部、メチルエチルケトン６００部、メチ
ルイソブチルケトン７０部及びシクロヘキサノン４０部
からなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用
透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。これを上記離
型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、１６０
〜１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μ
ｍの表面保護用透明樹脂層を形成した。(Formation of transparent resin layer for surface protection) Next, as a thermosetting resin, a melamine-acrylic cocondensation resin 20 is used.
Part, urethane resin 20 parts, isocyanate resin (urethane resin curing agent, Takenate A-Takenate A-
5) 10 parts, 5 parts of acrylic modified silicone resin, 5 parts of polyether modified silicone resin, 1 part of p-toluenesulfonic acid (curing agent for amino resin), thermoplastic resin,
Acrylic resin (Dianal BR made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
-85) 60 parts, 20 parts of cyclized rubber, and 8 parts of polyurethane methacrylate as an ultraviolet curable prepolymer were added to a mixed solvent consisting of 110 parts of toluene, 600 parts of methyl ethyl ketone, 70 parts of methyl isobutyl ketone and 40 parts of cyclohexanone, To prepare a resin solution for the transparent resin layer for surface protection. This is applied onto the release agent layer using a gravure coater,
Baked at a temperature of ~ 170 ℃, cured to a thickness of 1.0μ
m of the transparent resin layer for surface protection was formed.

【００６２】（内部保護用透明樹脂層の形成）熱硬化性
樹脂として、メラミン樹脂（５０％溶液）３０部、アク
リル−メラミン共重合体樹脂１０部、メラミン−尿素共
縮合樹脂（５０％溶液）１０部、ｐ−トルエンスルホン
酸（アミノ樹脂の硬化剤）６部、イソシアネート樹脂
（ウレタン樹脂硬化剤、武田薬品工業（株）製タケネー
トＡ−５）５部、熱可塑性樹脂として、ロジン変性マレ
イン酸樹脂（不揮発物１００％）５０部、ケトン樹脂
（不揮発物１００％）３２部、ニトロセルロースＲＳ１
／４（不揮発物１００％）１部を染料オラゾールオレン
ジＧ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部と
バリファーストイエロー４１２０（オリエント化学工業
（株）製）１部と共に、メチルエチルケトン５００部、
メチルイソブチルケトン２０部、びイソプロピルアルコ
ール２０部及びシクロヘキサノン４０部からなる混合溶
媒に加え、十分に混練混和した。これを上記表面保護用
透明樹脂層上にグラビアコーターにて塗布し、１６０〜
１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μｍ
の黄色の内部保護用透明樹脂層を形成した。(Formation of transparent resin layer for internal protection) As thermosetting resin, 30 parts of melamine resin (50% solution), 10 parts of acrylic-melamine copolymer resin, melamine-urea co-condensation resin (50% solution). 10 parts, p-toluenesulfonic acid (curing agent for amino resin) 6 parts, isocyanate resin (urethane resin curing agent, Takenate A-5 manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd.) 5 parts, rosin-modified maleic acid as a thermoplastic resin Resin (nonvolatile matter 100%) 50 parts, ketone resin (nonvolatile matter 100%) 32 parts, nitrocellulose RS1
/ 4 (nonvolatile matter 100%) together with 1 part of dye Orazole Orange G (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 1 part Varifast Yellow 4120 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), 500 parts of methyl ethyl ketone,
It was added to a mixed solvent consisting of 20 parts of methyl isobutyl ketone, 20 parts of isopropyl alcohol and 40 parts of cyclohexanone, and kneaded and kneaded sufficiently. This is applied onto the transparent resin layer for surface protection by a gravure coater,
Baking at a temperature of 170 ℃, curing, thickness of 1.0μm
A yellow transparent resin layer for internal protection was formed.

【００６３】（インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
の形成）前述したような高周波励起プラズマを用いる活
性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離
型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明樹脂層
を形成したポリエチレンテレフタレートフィルムからな
る蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側につない
だ。真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度５×１
０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気すると共に、下室側
を到達真空度１×１０^-4〜1.５×１０^-4Ｔｏｒｒまで排
気した。(Formation of Indium / Indium Oxide Composite Vapor Deposition Film) In the activated reactive vapor deposition apparatus using high-frequency excited plasma as described above, as described above, the releasing agent, the transparent resin layer for surface protection and the internal protection. A vapor deposition base material made of a polyethylene terephthalate film having a transparent resin layer formed thereon was set on the unwinding side and connected to the winding side. Achieve a vacuum level of 5 x 1 in the upper chamber of the device using a vacuum pump.
The air was evacuated to 0 ^{-3 to} 3 x 10 ^-3 Torr, and the lower chamber was evacuated to an ultimate vacuum of 1 x 10 ^{-4 to} 1.5 x 10 ^-4 Torr.

【００６４】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コ
イル（周波数１０ＫＨｚ）を備えた蒸発源坩堝内の金属
インジウムを徐々に加熱し、２１００〜２２００℃程度
まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認し
た後、上記蒸着用基材を−５℃から５℃の間の範囲に冷
却した冷却ロールを経て、１２０ｍ／分の速度で走行さ
せ、巻取り側に巻取りながら、蒸着用基材上に金属イン
ジウムを蒸着させた。かくして得られた蒸着フィルムを
膜厚測定装置（日本真空（株）製ファダム式膜厚測定装
置、ハロゲン球波長５６５ｎｍ、５０〜１０００Åの膜
厚の測定が可能である。）に導いて、蒸着膜厚を測定し
て、蒸着膜厚が３５０〜３７０Åとなるように、上記蒸
発源坩堝の高周波誘導加熱用コイルの出力、即ち、金属
インジウムの蒸発速度を調整した。Therefore, first, the metallic indium in the evaporation source crucible provided with the high-frequency induction heating coil (frequency: 10 KHz) in the lower chamber is gradually heated to reach 2100 to 2200 ° C., and the metallic indium evaporates. After confirming that, the vapor deposition substrate was run at a speed of 120 m / min through a cooling roll that cooled the vapor deposition substrate to a temperature range of -5 ° C to 5 ° C, and the vapor deposition substrate was wound on the winding side. Metal indium was vapor-deposited on the material. The vapor-deposited film thus obtained is introduced into a film thickness measurement device (Nippon Vacuum Co., Ltd. Faddam type film thickness measurement device, halogen bulb wavelength 565 nm, film thickness of 50 to 1000 Å can be measured), and the vapor deposition film. The thickness was measured, and the output of the coil for high frequency induction heating of the evaporation source crucible, that is, the evaporation rate of indium metal was adjusted so that the vapor deposition film thickness was 350 to 370Å.

【００６５】次に、上記蒸発源の上方に設けた高周波励
起プラズマ生成用電極コイルに高周波発振器（出力２Ｋ
Ｗ、周波数１3.５６ＭＨｚ）からマッチングボックスを
経て高周波電圧を印加すると共に、その反射波が２０〜
３０Ｗの範囲でマッチングがとれるように設定し、この
高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けたプ
ラズマ生成用アルゴンガス導入管からアルゴンガスを一
定の割合（0.１Ｌ／分）で導入し、同様に、この高周波
励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けた反応性ガ
スである酸素ガスの導入管から酸素を一定の割合（例え
ば、0.２Ｌ／分）で導入し、プラズマを生成させると共
に、このプラズマ中で酸素とインジウム蒸気をイオン化
して、これらの間で反応させて、インジウムに対して所
定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着用
基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜として
蒸着させた。Next, a high frequency oscillator (with an output of 2K) is attached to the electrode coil for high frequency excitation plasma generation provided above the evaporation source.
(W, frequency 13.56 MHz) through the matching box and applying high frequency voltage, the reflected wave is 20 ~
It is set so that matching can be achieved in the range of 30 W, and the argon gas is introduced at a constant rate (0.1 L / min) from the plasma generation argon gas introduction tube provided above the electrode coil for high frequency excitation plasma generation, Similarly, oxygen is introduced at a constant rate (for example, 0.2 L / min) from an oxygen gas introduction tube, which is a reactive gas, provided above the high-frequency excitation plasma generation electrode coil to generate plasma. In this plasma, oxygen and indium vapor are ionized and reacted between them to generate a predetermined amount of indium oxide with respect to indium, and these are vapor-deposited with indium / indium oxide on the substrate for vapor deposition. It was deposited as a film.

【００６６】このようにして得られたインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを
光透過率計（東洋電子（株）製、赤外発光ダイオード
（発光波長９１０ｎｍ））に導き、波長９１０ｎｍの光
に対して、蒸着用基材（基準フィルム）の光透過率を１
００％としたときの光透過率を測定し、この光透過率が
１１〜１２％となるように前記酸素ガスシャワー口から
の下室中への酸素導入量を調節することによって、酸化
インジウム（Ｉｎ₂Ｏ_x ）のｘ値が1.０〜1.３の範囲に
あると共に、インジウム／酸化インジウム重量比が９５
／５〜９３／７の範囲にあるインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜を形成するようにインジウムの酸化反応を
制御した。The vapor deposition film having the indium / indium oxide composite vapor deposition film thus obtained was led to a light transmittance meter (manufactured by Toyo Denshi Co., Ltd., infrared light emitting diode (emission wavelength 910 nm)), The light transmittance of the vapor deposition substrate (reference film) is 1 for light with a wavelength of 910 nm.
By measuring the light transmittance at 00%, and adjusting the amount of oxygen introduced from the oxygen gas shower port into the lower chamber so that the light transmittance becomes 11 to 12%, indium oxide ( In ₂ O _x ), the x value is in the range of 1.0 to 1.3, and the indium / indium oxide weight ratio is 95.
The indium oxidation reaction was controlled so as to form an indium / indium oxide composite vapor deposition film in the range of / 5 to 93/7.

【００６７】このようにして、最終的に、酸素の導入量
を0.１５Ｌ／分として、酸素分圧を一定に保持しなが
ら、膜厚３５０〜３７０Å、上記光透過率計による波長
９１０ｎｍの光透過率１１〜１２％のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成
し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取っ
た。In this way, finally, the amount of oxygen introduced was set to 0.15 L / min, the oxygen partial pressure was kept constant, and the film thickness was 350 to 370 Å, and the light having a wavelength of 910 nm measured by the above light transmittance meter was used. An indium / indium oxide composite vapor deposition film having a transmittance of 11 to 12% was continuously formed on a vapor deposition base material to obtain a vapor deposition film, which was wound on the winding side.

【００６８】このようにして得た複合蒸着膜について、
ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメーター
（（株）島津製作所製、ＥＳＣＡ−３４００）を用いて
分析した結果、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x にお
けるｘの値）が1.０〜1.３の範囲にあり、インジウム／
酸化インジウム重量比が９５／５〜９３／７の範囲にあ
ることを確認した。Regarding the composite vapor deposition film thus obtained,
As a result of analysis using an ESCA (X-ray photoelectron analysis) spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, ESCA-3400), the x value of indium oxide (the value of _x in In ₂ O _x ) was 1.0 to 1. In the range of 3, indium /
It was confirmed that the weight ratio of indium oxide was in the range of 95/5 to 93/7.

【００６９】（接着アンカー層の形成）次に、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂２５部、アクリル樹脂２０
部及びセルロースアセテートブチレート樹脂（ＣＡＢ）
５部を酢酸エチル１５０部、メチルエチルケトン１００
部及びトルエン５０部からなる混合溶媒に加え、十分に
混和した。これをグラビアコーターにて上記複合蒸着膜
上に塗布し、１３０〜１５０℃の温度で乾燥して、膜厚
0.５μｍの接着アンカー層を形成した。(Formation of Adhesive Anchor Layer) Next, 25 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin and acrylic resin 20
Parts and cellulose acetate butyrate resin (CAB)
5 parts of ethyl acetate 150 parts, methyl ethyl ketone 100
Parts and 50 parts of toluene and added to the mixed solvent, and mixed thoroughly. This is applied on the above composite vapor-deposited film by a gravure coater and dried at a temperature of 130 to 150 ° C. to obtain a film thickness.
An adhesive anchor layer of 0.5 μm was formed.

【００７０】（接着剤層の形成）塩素化ポリプロピレン
樹脂（不揮発分３０％溶液）１００部、エチレン−酢酸
ビニル共重合体樹脂（不揮発分３０％溶液）１００部、
エチルセルローズ（不揮発分１００％）１０部、ロジン
変性マレイン酸樹脂（不揮発分１００％）３０部、充填
剤シリカゲル（日本アエロジル（株）製２００）５部、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物球状微粒子
（（株）日本触媒製エポスターＭＳ）１０部をトルエン
２５０部、酢酸エチル３００部、酢酸メチル２００部、
メチルエチルケトン１５０部及びメタノール５０部から
なる混合溶媒に加えて十分に混和し、これをリバースコ
ーターにて上記接着アンカー層上に塗布し、１２０〜１
５０℃の温度で乾燥して、膜厚2.５μｍの接着剤層を形
成し、かくして、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜
転写材を得た。(Formation of Adhesive Layer) 100 parts of chlorinated polypropylene resin (30% non-volatile content solution), 100 parts of ethylene-vinyl acetate copolymer resin (30% non-volatile content solution),
Ethyl cellulose (nonvolatile content 100%) 10 parts, rosin-modified maleic acid resin (nonvolatile content 100%) 30 parts, filler silica gel (Nippon Aerosil Co., Ltd. 200) 5 parts,
10 parts of benzoguanamine-formaldehyde condensate spherical fine particles (Eposter MS manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), 250 parts of toluene, 300 parts of ethyl acetate, 200 parts of methyl acetate,
Add to a mixed solvent consisting of 150 parts of methyl ethyl ketone and 50 parts of methanol, mix well, and apply this to the above-mentioned adhesive anchor layer with a reverse coater, and 120 to 1
An adhesive layer having a film thickness of 2.5 μm was formed by drying at a temperature of 50 ° C. Thus, an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention was obtained.

【００７１】（転写層の形成）このようにして得た電磁
波透過性金属蒸着膜転写材を用いて、食品包装用ラベル
紙の表面に連続熱転写を行なって（熱刻印温度１３０
℃、刻印圧力１０トン／インチ（熱板プレート面積１０
００ｍｍ×７００ｍｍ角）、熱転写枚数１枚／秒）、美
麗で高輝度を有する３号金色の金属光沢を有する転写層
を得た。(Formation of Transfer Layer) Using the electromagnetic wave permeable metal vapor deposition film transfer material thus obtained, continuous thermal transfer was performed on the surface of the label paper for food packaging (heat marking temperature 130
℃, stamping pressure 10 tons / inch (heat plate area 10
00 mm × 700 mm square), the number of thermal transfer was 1 sheet / second), and a transfer layer having a beautiful and high-luminance No. 3 gold metallic luster was obtained.

【００７２】この転写層の表面の光沢度を日本電色工業
（株）製グロスメーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを用い
て、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に従って測定したところ（入
射角度４５度）、９６0.５０であった。The glossiness of the surface of this transfer layer was measured according to JIS Z 8741 using a gloss meter VGS-SENSOR manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (incident angle 45 °) and found to be 960.50.

【００７３】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型オフセットインキ又はシルクスクリ
ーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様を印刷し、紫外線
硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層
を形成した。(Formation of picture pattern layer) Next, a picture pattern is printed on the surface of the transfer layer by using an ultraviolet curable offset ink or a silk screen ink, and is cured by ultraviolet rays to be printed by the ultraviolet curable ink. A pattern layer was formed.

【００７４】（転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評
価）このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を
染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００
ｇ、２００回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩
擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確
認された。(Evaluation of the fastness of friction of the printed layer on the surface of the transfer layer) The fastness of friction of the pattern layer thus formed was examined by a dye fastness tester and found to be 500 with cloth.
g, withstands 200 times of friction, and thus withstands abrasion resistance and abrasion scratch resistance, as well as scratches by a nail and abrasion test,
Moreover, it was confirmed that it has excellent solvent resistance and chemical resistance.

【００７５】（転写層の電磁波透過性の評価）このよう
に表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写
層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射した
ところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかっ
た。また、高感度異物検出機（ニッカ電測（株）製Ｙ−
１５００）による検査においても、異物金属の混入とし
て誤認検知されることがなかった。更に、前記転写材を
用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウェル
ダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放
電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。(Evaluation of Electromagnetic Wave Permeability of Transfer Layer) When the transfer layer having the printing layer of the ultraviolet curable ink on the surface was placed in the microwave oven and irradiated with microwaves, discharge, heat shrinkage, No inconvenience such as burning occurred. In addition, a high-sensitivity foreign matter detector (Y-
Even in the inspection by 1500), it was not erroneously detected as the inclusion of foreign metal. Further, the transfer layer was transferred to the surface of the vinyl chloride resin-made leather substrate by using a high-frequency welder using the transfer material, but in this case, no inconvenience such as discharge or heat shrinkage occurred in the transfer layer.

【００７６】（その他のインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜の製造）蒸着用基材上への前記インジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜の製造において、当初のインジ
ウム蒸着膜の厚みを３５０〜３７０Åとし、次に、イン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜の光透過率を１４〜
１５％とすることによって、酸化インジウムのｘ値（Ｉ
ｎ₂Ｏ_x におけるｘの値）が1.０〜1.５の範囲にあり、
インジウム／酸化インジウム重量比が９０／１０〜８７
／１３の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸
着膜を得ることができた。(Production of Other Indium / Indium Oxide Composite Vapor Deposition Film) In the production of the indium / indium oxide composite vapor deposition film on the substrate for vapor deposition, the initial thickness of the indium vapor deposition film was set to 350 to 370Å, , The light transmittance of the indium / indium oxide composite vapor deposition film is 14 to
By setting it to 15%, the x value (I
The value of _x in n ₂ O _x ) is in the range of 1.0 to 1.5,
Indium / indium oxide weight ratio is 90/10 to 87
An indium / indium oxide composite vapor deposition film in the range of / 13 could be obtained.

【００７７】また、当初のインジウム蒸着膜の厚みを４
５０〜５００Åとし、次に、インジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜の光透過率を１８〜２０％とすることによ
って、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x におけるｘの
値）が1.０〜1.９の範囲にあり、インジウム／酸化イン
ジウム重量比が８３／１７〜８０／２０の範囲にあるイ
ンジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を得ることができ
た。Further, the thickness of the initially deposited indium film was set to 4
By setting the light transmittance of the indium / indium oxide composite vapor deposition film to 18 to 20%, the x value (value of _x in In ₂ O _x ) of indium oxide is 1.0 to 1 It was possible to obtain an indium / indium oxide composite vapor deposition film having an indium / indium oxide weight ratio of 83/17 to 80/20 in the range of 0.9.

【００７８】実施例２ （離型剤層の形成）変性シリコーン樹脂２部、ポリエチ
レンワックス２部、酸化ポリエチレンワックス５部、エ
チレン−アクリル共重合体樹脂５部、アクリル樹脂２部
をトルエン８０部、キシレン２０部及びメチルエチルケ
トン１００部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、
これを基材である幅６７０ｍｍ、厚さ１２μｍの透明な
ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にグラビ
アコーターを用いて塗布し、１３０〜１５０℃の範囲の
温度で乾燥して、厚さ0.５μｍの離型剤層を形成した。Example 2 (Formation of Release Agent Layer) 2 parts of modified silicone resin, 2 parts of polyethylene wax, 5 parts of oxidized polyethylene wax, 5 parts of ethylene-acrylic copolymer resin, 2 parts of acrylic resin and 80 parts of toluene, Add to a mixed solvent consisting of 20 parts of xylene and 100 parts of methyl ethyl ketone, mix well,
This is applied to one side of a transparent polyethylene terephthalate film having a width of 670 mm and a thickness of 12 μm, which is a base material, using a gravure coater, dried at a temperature in the range of 130 to 150 ° C., and separated with a thickness of 0.5 μm. A mold agent layer was formed.

【００７９】（表面保護用透明樹脂層の形成）次に、熱
硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂２０
部、メラミン−尿素共縮合樹脂２０部、ウレタン樹脂１
０部、イソシアネート樹脂（ウレタン樹脂硬化剤、武田
薬品工業（株）製タケネートＡ−５）１０部、アクリル
変性シリコーン樹脂１０部、アミノ変性シリコーン樹脂
１０部、ポリエーテル変性シリコーン樹脂５部、ｐ−ト
ルエンスルホン酸（アミノ樹脂の硬化剤）１部、熱可塑
性樹脂として、アクリル樹脂（三菱レーヨン（株）製ダ
イヤナールＢＲ−８０）５０部、石油樹脂（ヤスハラケ
ミカル（株）製ＹＳポリスター２１３０）３０部、ロジ
ン変性マレイン酸樹脂（日立化成ポリマー（株）製テス
ポール１１５４）４０部、及び紫外線硬化型プレポリマ
ーとして、ポリウレタン−メタクリレート１３部をトル
エン１１０部、メチルエチルケトン６００部、メチルイ
ソブチルケトン７０部及びシクロヘキサノン４０部から
なる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用透明
樹脂層のための樹脂溶液を調製した。これを上記離型剤
層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、１６０〜１
７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μｍの
表面保護用透明樹脂層を形成した。(Formation of transparent resin layer for surface protection) Next, as thermosetting resin, melamine-acrylic co-condensation resin 20
Parts, melamine-urea co-condensation resin 20 parts, urethane resin 1
0 parts, isocyanate resin (urethane resin curing agent, Takenate A-5 manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd.) 10 parts, acrylic modified silicone resin 10 parts, amino modified silicone resin 10 parts, polyether modified silicone resin 5 parts, p- Toluene sulfonic acid (curing agent for amino resin) 1 part, as a thermoplastic resin, acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., DIANAL BR-80) 50 parts, petroleum resin (Yasuhara Chemical Co., Ltd., YS Polystar 2130) 30 parts 40 parts of a rosin-modified maleic acid resin (TESPOL 1154 manufactured by Hitachi Chemical Polymer Co., Ltd.), and as an ultraviolet-curable prepolymer, 13 parts of polyurethane-methacrylate, 110 parts of toluene, 600 parts of methyl ethyl ketone, 70 parts of methyl isobutyl ketone, and 40 parts of cyclohexanone. Part mixed solvent , Sufficiently mixed to prepare a resin solution for surface protective transparent resin layer. This is applied onto the release agent layer using a gravure coater, and 160 to 1
It was baked and cured at a temperature of 70 ° C. to form a transparent resin layer for surface protection having a thickness of 1.0 μm.

【００８０】（内部保護用透明樹脂層の形成）熱硬化性
樹脂として、メラミン樹脂（５０％溶液）５０部、ウレ
タン樹脂２０部、イソシアネート樹脂（日本ポリウレタ
ン工業（株）製コロネートＨＬ、ウレタン樹脂の硬化
剤）２０部、リン酸モノブチル（アミノ樹脂の硬化剤）
７部、熱可塑性樹脂として、ロジン変性マレイン酸樹脂
（不揮発分１００％）７０部、アクリル樹脂（東亜合成
（株）製Ｓ−１００５）２０部、ニトロセルロース（Ｒ
Ｓ１／４）５部をメチルエチルケトン５００部、メチル
イソブチルケトン８０部、イソプロピルアルコール１０
０部及びシクロヘキサノン５０部からなる混合溶媒に加
え、十分に混練、混和し、これを上記表面保護用透明樹
脂層上にグラビアコーターにて塗布し、１６０〜１７０
℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μｍの内部
保護用透明樹脂層を形成した。(Formation of transparent resin layer for internal protection) As thermosetting resin, 50 parts of melamine resin (50% solution), 20 parts of urethane resin, isocyanate resin (Coronate HL manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., urethane resin) Hardener) 20 parts, monobutyl phosphate (hardener for amino resin)
7 parts, as a thermoplastic resin, 70 parts of a rosin-modified maleic acid resin (100% nonvolatile content), 20 parts of an acrylic resin (S-1005 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), nitrocellulose (R
S1 / 4) 5 parts methyl ethyl ketone 500 parts, methyl isobutyl ketone 80 parts, isopropyl alcohol 10
In addition to a mixed solvent consisting of 0 part and 50 parts of cyclohexanone, kneading and kneading were sufficiently performed, and this was coated on the above transparent resin layer for surface protection with a gravure coater to obtain 160 to 170.
It was baked and cured at a temperature of ° C to form a transparent resin layer for internal protection having a thickness of 1.0 µm.

【００８１】（インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
の形成）前述したような電子線酸化陽極プラズマを用い
る活性化反応性蒸着装置において、上述したようにし
て、離型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明
樹脂層を形成したポリエチレンテレフタレートフィルム
からなる蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側に
つないだ。真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度
５×１０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気すると共に、
下室側を到達真空度１×１０^-4〜1.５×１０^-4Ｔｏｒｒ
まで排気した。(Formation of Indium / Indium Oxide Composite Vapor Deposition Film) In the activated reactive vapor deposition apparatus using electron beam oxidative anodic plasma as described above, as described above, the releasing agent, the transparent resin layer for surface protection and the A vapor deposition substrate made of a polyethylene terephthalate film having a transparent resin layer for internal protection was set on the unwinding side and connected to the winding side. The upper chamber of the apparatus is evacuated to an ultimate vacuum degree of 5 × 10 ^{−3 to} 3 × 10 ⁻³ Torr using a vacuum pump, and
Degree of vacuum reaching the lower chamber side 1 × 10 ^{−4 to} 1.5 × 10 ⁻⁴ Torr
Exhausted to.

【００８２】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱装置
（周波数１０ＫＨｚ）を備えた蒸発源坩堝内の金属イン
ジウムを徐々に加熱し、２１００〜２２００℃程度まで
達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認した
後、上記蒸着用基材を−５℃から５℃の間の範囲に冷却
した冷却ロールを経て、１２０ｍ／分の速度で走行させ
ながら、巻取り側に巻取って、基材上に金属インジウム
を蒸着させた。このインジウム蒸着フィルムの蒸着膜厚
を前記膜厚測定装置で測定して、蒸着膜厚が４００Åと
なるように、上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱装置の出
力、即ち、金属インジウムの蒸発速度を調整した。Therefore, first, the metallic indium in the evaporation source crucible provided with the high-frequency induction heating device (frequency of 10 KHz) in the lower chamber is gradually heated to about 2100 to 2200 ° C., and the metallic indium evaporates. After confirming the above, the vapor deposition substrate was taken up on the take-up side while running at a speed of 120 m / min through a cooling roll that was cooled to a range between −5 ° C. and 5 ° C. Metal indium was vapor-deposited on. The vapor deposition film thickness of this indium vapor deposition film is measured by the film thickness measuring device, and the output of the high frequency induction heating device of the vaporization source crucible, that is, the vaporization rate of metallic indium is adjusted so that the vapor deposition film thickness becomes 400 Å. did.

【００８３】次に、射線が上記蒸発源の上方を横切るよ
うに設けたホロカソード式電子線プラズマ照射銃（ＨＣ
Ｄ電子銃、出力電圧３０ＫＷ／台）のカソード電極３台
から反対側のＨＣＤ電子銃のアノード電極に向けて電子
線を照射すると共に、上記ＨＣＤ電子銃のカソード電極
の内部からアルゴンガスを一定の割合（0.１Ｌ／分）で
導入し、同時に、前記蒸発源の上方に設けた酸素ガスシ
ャワー口から酸素ガスを一定の割合（例えば、0.２Ｌ／
分）で導入して、ＨＣＤ電子銃のカソード電極からアノ
ード電極の間の空間に放電プラズマを生成させ、この空
間放電プラズマ領域中で酸素とインジウム蒸気をイオン
化して、これらの間で反応させて、インジウムに対して
所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着
用基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜とし
て蒸着させた。Next, a horo-cathode type electron beam plasma irradiation gun (HC
D electron gun, an output voltage of 30 KW / unit) is irradiated with an electron beam from three cathode electrodes of the HCD electron gun on the opposite side, and argon gas is constantly supplied from the inside of the cathode electrode of the HCD electron gun. The oxygen gas is introduced at a rate (0.1 L / min), and at the same time, the oxygen gas is supplied from the oxygen gas shower port provided above the evaporation source at a constant rate (eg, 0.2 L / min)
Min) to generate a discharge plasma in the space between the cathode electrode and the anode electrode of the HCD electron gun, and ionize oxygen and indium vapor in the space discharge plasma region to cause a reaction between them. A predetermined amount of indium oxide was generated with respect to indium, and these were vapor-deposited as an indium / indium oxide composite vapor deposition film on the vapor deposition base material.

【００８４】このようにして得られたインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを
前記光透過率計に導き、蒸着膜の波長９１０ｎｍの光透
過率を測定し、この光透過率が１４〜１５％となるよう
に前記酸素ガスシャワーからの下室中への酸素導入量を
調節することによって、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ_x）の
ｘ値が1.０〜1.５の範囲にあると共に、インジウム／酸
化インジウム重量比が９０／１０〜８７／１３の範囲に
あるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成する
ようにインジウムの酸化反応を制御した。The vapor-deposited film having the indium / indium oxide composite vapor-deposited film thus obtained was introduced into the above-mentioned light transmittance meter, and the light transmittance of the vapor-deposited film at a wavelength of 910 nm was measured. By adjusting the amount of oxygen introduced into the lower chamber from the oxygen gas shower so that the ratio becomes 14 to 15%, the x value of indium oxide (In ₂ O _x ) is in the range of 1.0 to 1.5. In addition, the indium oxidation reaction was controlled so as to form an indium / indium oxide composite vapor deposition film having an indium / indium oxide weight ratio in the range of 90/10 to 87/13.

【００８５】このようにして、最終的に、酸素の導入量
を0.２Ｌ／分として、酸素分圧を一定に保持しながら、
膜厚が３８０〜４００Å、上記光透過率計による波長９
１０ｎｍの光透過率が１４〜１５％のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成
し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取っ
た。In this way, finally, while the oxygen introduction amount was set to 0.2 L / min and the oxygen partial pressure was kept constant,
The film thickness is 380 to 400Å, the wavelength is 9 according to the above light transmittance meter.
An indium / indium oxide composite vapor deposition film having a light transmittance of 10 nm of 14 to 15% was continuously formed on a vapor deposition substrate to obtain a vapor deposition film, which was wound on the winding side.

【００８６】このようにして得た複合蒸着膜について、
ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメーター
（（株）島津製作所製、ＥＳＣＡ−３４００）を用いて
分析した結果、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x にお
けるｘの値）が1.０〜1.５の範囲にあり、インジウム／
酸化インジウム重量比が９０／１０〜８７／１３の範囲
にあることを確認した。Regarding the composite vapor deposition film thus obtained,
As a result of analysis using an ESCA (X-ray photoelectron analysis) spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, ESCA-3400), the x value of indium oxide (the value of _x in In ₂ O _x ) was 1.0 to 1. In the range of 5, indium /
It was confirmed that the weight ratio of indium oxide was in the range of 90/10 to 87/13.

【００８７】（転写層の特性）上記転写材からの銀色の
転写層の表面の光沢度を日本電色工業（株）製グロスメ
ーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを用いて、ＪＩＳ Ｚ ８
７４１に従って測定したところ（入射角度４５度）、９
６1.５０であった。(Characteristics of Transfer Layer) The glossiness of the surface of the silver-colored transfer layer from the transfer material was measured according to JIS Z 8 using a gloss meter VGS-SENSOR manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
741 (incident angle 45 °), 9
It was 61.50.

【００８８】（接着アンカー層と接着剤層の形成）更
に、上記複合蒸着膜上に、前記実施例１と同様にして、
接着アンカー層と接着剤層とを積層して、本発明による
電磁波透過性金属蒸着膜転写材を得た。(Formation of Adhesive Anchor Layer and Adhesive Layer) Further, in the same manner as in Example 1 above, on the above composite vapor deposition film,
The adhesive anchor layer and the adhesive layer were laminated to obtain an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention.

【００８９】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型のオフセットインキ又はシルクスク
リーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様状を印刷し、紫
外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模
様層を形成した。(Formation of pattern pattern layer) Next, a pattern pattern is printed on the surface of this transfer layer using an ultraviolet curable offset ink or silk screen ink, and is cured by ultraviolet light to form an ultraviolet curable ink. A printed pattern layer was formed.

【００９０】（印刷転写材の表面の摩擦堅牢度の評価）
このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を染色
物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００ｇ、
２００回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩擦傷
性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、しか
も、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確認さ
れた。(Evaluation of friction fastness of surface of print transfer material)
As a result of examining the friction fastness of the pattern layer formed in this way with a dyeing fastness tester, 500 g with a cloth,
It was confirmed that it withstands 200 rubs, and thus has excellent abrasion resistance and abrasion resistance as well as scratch resistance by a nail and abrasion test, and is also excellent in solvent resistance and chemical resistance.

【００９１】（電磁波透過性の評価）このように表面に
紫外線硬化型インキによる印刷面を有する転写材を電子
レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射したところ、
放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかった。また、
高感度異物検出機による検査においても、異物金属の混
入として誤認検知されることがなかった。更に、塩化ビ
ニル樹脂製レザー基材面に転写材から高周波ウェルダー
機で転写層を転写したが、この際に、放電や熱収縮等の
不都合は起こらなかった。(Evaluation of Electromagnetic Wave Permeability) When a transfer material having a surface printed with an ultraviolet curable ink on the surface was placed in a microwave oven and irradiated with microwaves,
No inconvenience such as electric discharge, heat shrinkage, and combustion occurred. Also,
Even in the inspection by the high-sensitivity foreign matter detector, it was not erroneously detected as the contamination of foreign matter metal. Further, the transfer layer was transferred from the transfer material to the surface of the vinyl chloride resin leather substrate with a high-frequency welder machine, but no inconvenience such as discharge or heat shrinkage occurred.

【００９２】実施例３ （離型剤層の形成）酸化ワックス（ＰＡＤ５２２）3.０
部、部分ケン化エステルワックス3.０部、α−オレフィ
ン−エチレン共重合体樹脂３部及びロジン樹脂５部をト
ルエン７０部、キシレン１０部及びメチルエチルケトン
８０部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、これを
基材である幅６７０ｍｍ、厚さ１２μｍの透明なポリエ
チレンテレフタレートフイルムの片面上にグラビアコー
ターを用いて塗布し、１２０〜１３０℃の範囲の温度で
乾燥して、厚さ0.６μｍの離型剤層を形成した。Example 3 (Formation of Release Agent Layer) Oxidized wax (PAD522) 3.0
Parts, 3.0 parts of partially saponified ester wax, 3 parts of α-olefin-ethylene copolymer resin and 5 parts of rosin resin were added to a mixed solvent consisting of 70 parts of toluene, 10 parts of xylene and 80 parts of methyl ethyl ketone and mixed thoroughly. Then, using a gravure coater on one side of a transparent polyethylene terephthalate film having a width of 670 mm and a thickness of 12 μm, which is a base material, it is dried at a temperature in the range of 120 to 130 ° C. and a thickness of 0.6 μm. The release agent layer of was formed.

【００９３】（表面保護用透明樹脂層の形成）次に、熱
硬化性樹脂として、メラミン−尿素共縮合樹脂２０部、
ウレタン樹脂２０部、イソシアネート樹脂（ウレタン樹
脂硬化剤、日本ポリウレタン工業（株）製コロネート
Ｌ）１０部、アクリル変性シリコーン樹脂５部、ポリエ
ーテル変性シリコーン樹脂５部、ｐ−トルエンスルホン
酸（アミノ樹脂の硬化剤）１部、熱可塑性樹脂として、
アクリル樹脂（三菱レーヨン（株）製ダイヤナールＢＲ
−８５）６０部、環化ゴム２０部、及び紫外線硬化型プ
レボリマーとして、メラミン−アクリレート８部を、ト
ルエン１１０部、メチルエチルケトン６００部、メチル
イソブチルケトン７０部及びシクロヘキサノン４０部か
らなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用透
明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。これを上記離型
剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、１６０〜
１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μｍ
の表面保護用透明樹脂層を形成した。(Formation of transparent resin layer for surface protection) Next, as thermosetting resin, 20 parts of melamine-urea co-condensation resin,
20 parts of urethane resin, 10 parts of isocyanate resin (urethane resin curing agent, Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), 5 parts of acrylic modified silicone resin, 5 parts of polyether modified silicone resin, p-toluenesulfonic acid (of amino resin) Curing agent) 1 part, as a thermoplastic resin,
Acrylic resin (Dianal BR made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
-85) 60 parts, 20 parts of cyclized rubber, and 8 parts of melamine-acrylate as a UV-curable prepolymer are added to a mixed solvent consisting of 110 parts of toluene, 600 parts of methyl ethyl ketone, 70 parts of methyl isobutyl ketone and 40 parts of cyclohexanone, After thorough mixing, a resin solution for the transparent resin layer for surface protection was prepared. This is applied onto the release agent layer using a gravure coater,
Baking at a temperature of 170 ℃, curing, thickness of 1.0μm
A transparent resin layer for surface protection of was formed.

【００９４】（内部保護用透明樹脂層の形成）熱硬化性
樹脂として、メラミン樹脂（５０％溶液）４０部、メラ
ミン−尿素共縮合樹脂（５０％溶液）１０部、ｐ−トル
エンスルホン酸（アミノ樹脂の硬化剤）６部、イソシア
ネート樹脂（ウレタン樹脂架橋剤、武田薬品工業（株）
製タケネートＡ−５）１０部、熱可塑性樹脂として、ロ
ジン変性マレイン酸樹脂（不揮発分１００％）５０部、
ケトン樹脂（不揮発分１００％）４５部、ニトロセルロ
ースＲＳ１／４（不揮発分１００％）２部を染料オレオ
ゾールファーストレッドＧＬ（田岡化学工業（株）製）
2.５部とオレゾールファーストピンクＦＢ（田岡化学工
業（株）製）1.０部と共に、メチルエチルケトン５００
部、メチルイソブチルケトン４０部及びシクロヘキサノ
ン４０部からなる混合溶媒に加え、十分に混練混和し
た。これを上記表面保護用透明樹脂層上にグラビアコー
ターにて塗布し、１６０〜１７０℃の温度で焼き付け、
硬化させて、厚さ1.０μｍの赤色の内部保護用透明樹脂
層を形成した。(Formation of transparent resin layer for internal protection) As thermosetting resin, 40 parts of melamine resin (50% solution), 10 parts of melamine-urea co-condensation resin (50% solution), p-toluenesulfonic acid (amino). 6 parts of resin curing agent, isocyanate resin (urethane resin cross-linking agent, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.)
Takenate A-5) 10 parts, rosin-modified maleic acid resin (nonvolatile content 100%) 50 parts as a thermoplastic resin,
45 parts of a ketone resin (nonvolatile content 100%) and 2 parts of nitrocellulose RS1 / 4 (nonvolatile content 100%) are used as the dye Oleozole Fast Red GL (manufactured by Taoka Chemical Industry Co., Ltd.).
Methyl ethyl ketone 500 together with 2.5 parts and 1.0 part of olesol fast pink FB (manufactured by Taoka Chemical Industry Co., Ltd.)
Parts, 40 parts of methyl isobutyl ketone and 40 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was kneaded and mixed sufficiently. This is applied onto the transparent resin layer for surface protection by a gravure coater and baked at a temperature of 160 to 170 ° C.,
After curing, a red transparent resin layer for internal protection having a thickness of 1.0 μm was formed.

【００９５】（インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
の形成）前述したような高周波励起プラズマを用いる活
性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離
型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明樹脂層
を形成したポリエチレンテレフタレートフイルムからな
る蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側につない
だ。真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度５×１
０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気すると共に、下室側
を到達真空度１×１０^-4〜1.５×１０^-4Ｔｏｒｒまで排
気した。(Formation of Indium / Indium Oxide Composite Vapor Deposition Film) In the activated reactive vapor deposition apparatus using high frequency excitation plasma as described above, the release agent, the transparent resin layer for surface protection and the internal protection are applied as described above. A vapor deposition substrate made of a polyethylene terephthalate film having a transparent resin layer formed thereon was set on the unwinding side and connected to the winding side. Achieve a vacuum level of 5 x 1 in the upper chamber of the device using a vacuum pump.
The air was evacuated to 0 ^{-3 to} 3 x 10 ^-3 Torr, and the lower chamber was evacuated to an ultimate vacuum of 1 x 10 ^{-4 to} 1.5 x 10 ^-4 Torr.

【００９６】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コ
イル（周波数１０ＫＨｚ）を備えた蒸発源坩堝内の金属
インジウムを徐々に加熱し、２１００〜２２００℃程度
まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認し
た後、上記蒸着用基材を−５℃から５℃の間の範囲に冷
却した冷却ロールを経て、１２０ｍ／分の速度で走行さ
せ、巻取り側に巻取りながら、蒸着用基材上に金属イン
ジウムを蒸着させた。かくして得られた蒸着フィルムを
膜厚測定装置（日本真空（株）製ファダム式膜厚測定装
置、ハロゲン球波長５６５ｎｍ、５０〜１０００Åの膜
厚の測定が可能である。）に導いて、蒸着膜厚を測定し
て、蒸着膜厚が３５０〜３７０Åとなるように、上記蒸
発源坩堝の高周波誘導加熱用コイルの出力、即ち、金属
インジウムの蒸発速度を調整した。Therefore, first, the metallic indium in the evaporation source crucible provided with the high-frequency induction heating coil (frequency 10 KHz) in the lower chamber is gradually heated to reach 2100 to 2200 ° C., and the metallic indium evaporates. After confirming that, the vapor deposition substrate was run at a speed of 120 m / min through a cooling roll that cooled the vapor deposition substrate to a temperature range of -5 ° C to 5 ° C, and the vapor deposition substrate was wound on the winding side. Metal indium was vapor-deposited on the material. The vapor-deposited film thus obtained is introduced into a film thickness measurement device (Nippon Vacuum Co., Ltd. Faddam type film thickness measurement device, halogen bulb wavelength 565 nm, film thickness of 50 to 1000 Å can be measured), and the vapor deposition film. The thickness was measured, and the output of the coil for high frequency induction heating of the evaporation source crucible, that is, the evaporation rate of indium metal was adjusted so that the vapor deposition film thickness was 350 to 370Å.

【００９７】次に、上記蒸発源の上方に設けた高周波励
起プラズマ生成用電極コイルに高周波発振器（出力２Ｋ
Ｗ、周波数１3.５６ＭＨｚ）からマッチングボックスを
経て高周波電圧を印加すると共に、その反射波が２０〜
３０Ｗの範囲でマッチングがとれるように設定し、この
高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けたプ
ラズマ生成用アルゴンガス導入管からアルゴンガスを一
定の割合（0.１Ｌ／分）で導入し、同様に、この高周波
励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けた反応性ガ
スである酸素ガスの導入管から酸素を一定の割合（例え
ば、0.３５Ｌ／分）で導入し、プラズマを生成させると
共に、このプラズマ中で酸素とインジウム蒸気をイオン
化して、これらの間で反応させて、インジウムに対して
所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着
用基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜とし
て蒸着させた。Next, a high-frequency oscillator (output 2K) is attached to the high-frequency excited plasma generation electrode coil provided above the evaporation source.
(W, frequency 13.56 MHz) through the matching box and applying high frequency voltage, the reflected wave is 20 ~
It is set so that matching can be achieved in the range of 30 W, and the argon gas is introduced at a constant rate (0.1 L / min) from the plasma generation argon gas introduction tube provided above the electrode coil for high frequency excitation plasma generation, Similarly, oxygen is introduced at a constant rate (for example, 0.35 L / min) from an oxygen gas introduction tube, which is a reactive gas, provided above the high-frequency excited plasma generation electrode coil to generate plasma. In this plasma, oxygen and indium vapor are ionized and reacted between them to generate a predetermined amount of indium oxide with respect to indium, and these are vapor-deposited with indium / indium oxide on the substrate for vapor deposition. It was deposited as a film.

【００９８】このようにして得られたインジウム／酸化
インジウム榎合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを
光透過率計（東洋電子（株）製、赤外発光ダイオード
（発光波長９１０ｎｍ）に導き、波長９１０ｎｍの光に
対して、蒸着用基材（基準フィルム）の光透過率を１０
０％としたときの光透過率を測定し、この光透過率が１
８〜２０％となるように前記酸素ガスシャワー口からの
下室中への酸素導入量を調節することによって、蒸着用
基材上のインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜の酸化
インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x におけるｘの値）を調節
すると共に、上記複合蒸着膜におけるインジウム／酸化
インジウム重量比が８３／１７〜８０〜２０の範囲にあ
るように制御した。The vapor deposition film having the thus obtained indium / indium oxide-encapsulated vapor deposition film was introduced into a light transmittance meter (manufactured by Toyo Denshi KK, infrared light emitting diode (light emission wavelength 910 nm), The light transmittance of the vapor deposition substrate (reference film) is 10 with respect to light having a wavelength of 910 nm.
The light transmittance when 0% was measured, and this light transmittance was 1
By adjusting the amount of oxygen introduced into the lower chamber from the oxygen gas shower port so as to be 8 to 20%, the x value (In value of the indium oxide of the indium / indium oxide composite deposition film on the deposition base material (In The value of _x in ₂ O _x ) was adjusted and the indium / indium oxide weight ratio in the composite vapor deposition film was controlled to be in the range of 83/17 to 80 to 20.

【００９９】このようにして、最終的に、酸素の導入量
を0.３Ｌ／分として、酸素分圧を一定に保持しながら、
膜厚が４５０〜５００Å、上記光透過率計による波長９
１０ｎｍの光透過率が１８〜２０％となるように、イン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材に連続
的に形成し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻
き取った。In this way, finally, while the oxygen introduction amount was set to 0.3 L / min and the oxygen partial pressure was kept constant,
The film thickness is 450-500Å, the wavelength is 9 according to the above light transmittance meter.
An indium / indium oxide composite vapor-deposited film was continuously formed on a vapor-deposition substrate so that the light transmittance at 10 nm was 18 to 20%, and a vapor-deposited film was obtained and wound on the winding side.

【０１００】このようにして得た複合蒸着膜について、
ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメーター
（（株）島津製作所製、ＥＳＣＡ−３４００）を用いて
分析した結果、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x にお
けるｘの値）は1.０〜1.９の範囲にあり、インジウム／
酸化インジウム重量比は８３／１７〜８０〜２０の範囲
にあることを確認した。With respect to the composite vapor deposition film thus obtained,
As a result of analysis using an ESCA (X-ray photoelectron analysis) spectrometer (ESCA-3400, manufactured by Shimadzu Corporation), the x value of indium oxide (the value of _x in In ₂ O _x ) is 1.0 to 1. In the range of 9, indium /
It was confirmed that the weight ratio of indium oxide was in the range of 83/17 to 80 to 20.

【０１０１】（接着アンカー層の形成）次に、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂３５部、アクリル樹脂２０
郎、ケトン樹脂１０部及びセルロースアセテートプロピ
オネート樹脂（ＣＡＰ）５部を酢酸エチル１５０部、メ
チルエチルケトン１００部及びトルエン５０部からなる
混合溶媒に加え、十分に混和した。これをグラビアコー
ターにて上記複合蒸着膜上に塗布し、１３０〜１５０℃
の温度で乾燥して、膜厚0.８μｍの接着アンカー層を形
成した。(Formation of Adhesive Anchor Layer) Next, 35 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin and acrylic resin 20
Roro, 10 parts of a ketone resin and 5 parts of a cellulose acetate propionate resin (CAP) were added to a mixed solvent consisting of 150 parts of ethyl acetate, 100 parts of methyl ethyl ketone and 50 parts of toluene, and mixed sufficiently. This is applied on the above composite vapor-deposited film by a gravure coater, and the temperature is 130 to 150 ° C.
After drying at a temperature of, an adhesive anchor layer having a thickness of 0.8 μm was formed.

【０１０２】（接着剤層の形成）ポリビニルブチラール
樹脂（不挿発分１００％）４０部、エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体樹脂（不揮発分３０％溶液）５０部、塩化ビ
ニリデン樹脂（不揮発分６０％）３０部、エチルセルロ
ース（不揮発分１００％）１０部、フェノール樹脂（不
揮発分１００％）３０部、充填材シリカゲル（日本アエ
ロジル（株）製２００）５部、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド縮合物球状微粒子（（株）日本触媒製エポ
スターＭＳ）１０部をメタノール２００部、酢酸エチル
４００部、酢酸メチル２００部、メチルエチルケトン５
０部及びメタノール２００部からなる混合溶媒に加えて
十分に混和し、これをリバースコーターにて上記接着ア
ンカー層上に塗布し、１２０〜１５０℃の温度で乾燥し
て、膜厚2.０μｍの接着剤層を形成し、かくして、本発
明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材を得た。(Formation of Adhesive Layer) 40 parts of polyvinyl butyral resin (non-inserted content 100%), 50 parts of ethylene-vinyl acetate copolymer resin (30% non-volatile content solution), vinylidene chloride resin (60% non-volatile content) ) 30 parts, ethyl cellulose (nonvolatile content 100%) 10 parts, phenol resin (nonvolatile content 100%) 30 parts, filler silica gel (Nippon Aerosil Co., Ltd. 200) 5 parts, benzoguanamine-formaldehyde condensate spherical fine particles ((stock) ) Nippon Shokubai Eposter MS) 10 parts methanol 200 parts, ethyl acetate 400 parts, methyl acetate 200 parts, methyl ethyl ketone 5
A mixed solvent consisting of 0 part and 200 parts of methanol was added and sufficiently mixed, and this was coated on the adhesive anchor layer with a reverse coater and dried at a temperature of 120 to 150 ° C. to give a film thickness of 2.0 μm. An adhesive layer was formed, thus obtaining an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention.

【０１０３】（転写層の形成）このようにして得た電磁
波透過性金属蒸着膜転写材を用いて、食品包装用ラベル
紙の表面に連続熱転写を行なって（熱刻印温度１３０
℃、刻印圧力１０トン／インチ（熱板プレート面積１０
００ｍｍ×７００ｍｍ角）、熱転写枚数１枚／秒）、美
麗で高輝度を有する赤色の金属光沢を有する転写層を得
た。(Formation of Transfer Layer) Using the electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material thus obtained, continuous thermal transfer was performed on the surface of the label paper for food packaging (heat marking temperature 130
℃, stamping pressure 10 tons / inch (heat plate area 10
00 mm × 700 mm square), the number of thermal transfer sheets was 1 sheet / second), and a transfer layer having a beautiful and bright red metallic luster was obtained.

【０１０４】この転写層の表面の光沢度を日本電色工業
（株）製グロスメーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを用い
て、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に従って測定したところ（入
射角度４５度）、９６1.３０であった。The glossiness of the surface of this transfer layer was 961.30 when measured according to JIS Z 8741 using a gloss meter VGS-SENSOR manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (incident angle 45 °).

【０１０５】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型オフセットインキ又はシルクスクリ
ーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様を印刷し、紫外線
硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層
を形成した。(Formation of pattern pattern layer) Next, a pattern pattern is printed on the surface of the transfer layer by using an ultraviolet curable offset ink or a silk screen ink, and is cured by ultraviolet rays to be printed by the ultraviolet curable ink. A pattern layer was formed.

【０１０６】（転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評
価）このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を
染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００
ｇ、2 0 ０回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩
擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確
認された。(Evaluation of the fastness of friction of the printed layer on the surface of the transfer layer) The fastness of friction of the pattern layer thus formed was examined by a dyeing fastness tester and found to be 500 with cloth.
Withstands abrasion of g, 200 times, and thus withstands abrasion resistance and abrasion damage, and also scratches with a nail and abrasion test,
Moreover, it was confirmed that it has excellent solvent resistance and chemical resistance.

【０１０７】（転写層の電磁波透過性の評価）このよう
に表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写
層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射した
ところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかっ
た。また、高感度異物検出機（ニッカ電側（株）製Ｙ−
１５００）による検査においても、異物金属の混入とし
て誤認検知されることがなかった。更に、前記転写材を
用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウエル
ダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放
電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。(Evaluation of Electromagnetic Wave Transmittance of Transfer Layer) When the transfer layer having the printing layer of the ultraviolet curable ink on the surface was placed in a microwave oven and irradiated with microwaves, discharge, heat shrinkage, No inconvenience such as burning occurred. In addition, a highly sensitive foreign matter detector (Y- manufactured by Nikka Denwa Co., Ltd.)
Even in the inspection by 1500), it was not erroneously detected as the inclusion of foreign metal. Further, the transfer layer was transferred to the surface of a vinyl chloride resin leather substrate by using the transfer material by a high-frequency welder machine. At this time, however, no inconvenience such as discharge or heat shrinkage occurred in the transfer layer.

【０１０８】比較例１ （金属蒸着膜転写材の調製）実施例１において、インジ
ウム／酸化インジウム複合蒸着膜に代えて、島状構造を
有するように、スズからなる厚み３３０〜３５０Åの蒸
着膜を形成した以外は、実施例１と同様にして、金色の
金属蒸着膜を有する転写材を得た。Comparative Example 1 (Preparation of Metal Vapor Deposition Film Transfer Material) In Example 1, instead of the indium / indium oxide composite vapor deposition film, a vapor deposition film made of tin and having a thickness of 330 to 350 Å was formed so as to have an island structure. A transfer material having a gold metal vapor deposition film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transfer material was formed.

【０１０９】（転写層の形成）この転写材を用いて、実
施例１と同様にして、食品包装用ラベル紙に熱転写を行
なった。転写層は、黒ずみ、斑の金色であり、美麗感は
ないものであった。(Formation of Transfer Layer) Using this transfer material, thermal transfer was performed on the label paper for food packaging in the same manner as in Example 1. The transfer layer had a dark and mottled golden color and had no beautiful appearance.

【０１１０】（電磁波透過性の評価）次に、この食品包
装用ラベル紙を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波
を２分間照射したところ、転写層は、１分間で放電が発
生し、転写層の表面には絶縁破壊した微細な線状模様が
多数発生した。(Evaluation of Electromagnetic Wave Permeability) Next, the label paper for food packaging was placed in a microwave oven and irradiated with microwaves for 2 minutes. On the surface of the layer, a large number of fine line patterns that were dielectrically broken down were generated.

【０１１１】[0111]

【発明の効果】以上のように、本発明による電磁波透過
性金属蒸着膜転写材は、金属蒸着膜として、酸化インジ
ウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数で
ある。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジ
ウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の
範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を有
するので、高輝度を有し、美麗な金属光沢を有すると共
に、十分な絶縁性（即ち、電磁波透過性）と耐膜性強度
を有する転写層を与えることができる。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, in the electromagnetic wave transmissive metal vapor deposition film transfer material according to the present invention, indium oxide is In ₂ O _x (where x is in the range of 1.0 to 1.9) as the metal vapor deposition film. And the indium / indium oxide weight ratio of the composite vapor-deposited film is in the range of 95/5 to 80/20, it has high brightness. In addition, it is possible to provide a transfer layer having a beautiful metallic luster and having sufficient insulating properties (that is, electromagnetic wave transparency) and film resistance strength.

【０１１２】特に、本発明による転写材は、絶縁性が高
いので、例えば、３００ＭＨｚから３００ＧＨｚにわた
るマイクロ波に対して高い電磁波透過性を有し、このよ
うな高周波を照射しても、放電、熱収縮、燃焼等の不都
合を起こさず、また、高感度異物検出機による検査にお
いても、異物金属の混入として誤認検知されることがな
いので、例えば、食品用のラベル紙、包装紙、包装容器
等の包装材に金属光沢を有する転写層を転写するために
好適に用いることができる。In particular, since the transfer material according to the present invention has a high insulating property, it has a high electromagnetic wave permeability with respect to microwaves ranging from 300 MHz to 300 GHz. It does not cause inconveniences such as shrinkage and burning, and is not erroneously detected as contamination of foreign metal even in the inspection with a high-sensitivity foreign matter detector.For example, food label paper, wrapping paper, packaging containers, etc. It can be suitably used for transferring the transfer layer having a metallic luster to the packaging material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】は、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写
材の好ましい一実施例を示す。FIG. 1 shows a preferred embodiment of an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to the present invention.

【図２】は、本発明による転写材を用いて被転写体に転
写層を転写した後、その表面（表面保護用透明樹脂層）
上に活性エネルギー線硬化型印刷インキによる印刷層を
形成した転写層を示す。FIG. 2 shows the surface (transparent resin layer for surface protection) of a transfer layer after the transfer layer is transferred to a transfer target using the transfer material according to the present invention.
The transfer layer on which the printing layer of the active energy ray-curable printing ink is formed is shown above.

【図３】は、本発明による転写材を製造するための高周
波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示す略
図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an activated reactive vapor deposition apparatus using high frequency excitation plasma for producing a transfer material according to the present invention.

【図４】は、本発明による転写材を製造するための電子
線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示
す略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing an activated reactive vapor deposition apparatus using an electron beam oxidizing anodic plasma for producing a transfer material according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…基材 ２…離型剤層 ３…表面保護用透明樹脂層 ４…内部保護用透明樹脂層 ５…インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜 ６…接着アンカー層 ７…接着剤層 ８…転写層 ９…被転写体 Ｐ…印刷層 １１…蒸着用基材 １２…高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装
置 １３…上室 １４…巻出し側 １５…冷却ロール １６…巻取り側 １７…隔壁 １８…下室 １９…スリット ２０…高周波誘導加熱用コイル ２１…蒸発源坩堝 ２２…光透過率計 ２３…膜厚測定器 ２４…高周波励起プラズマ生成用電極コイル ２５…アルゴンガスのシャワー口 ２６…酸素ガスのシャワー口 ２７…蒸着フィルム ３１…ホロカソード式電子線プラズマ照射銃カソード電
極 ３２…ホロカソード式電子銃アノード電極 Ｖ…インジウム蒸気流 Ｄ…空間放電プラズマ領域DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Release agent layer 3 ... Transparent resin layer 4 for surface protection ... Transparent resin layer 5 for internal protection ... Indium / indium oxide composite vapor deposition film 6 ... Adhesive anchor layer 7 ... Adhesive layer 8 ... Transfer layer 9 ... Transferred material P ... Printed layer 11 ... Vapor deposition substrate 12 ... Activation reactive vapor deposition apparatus 13 using high frequency excitation plasma ... Upper chamber 14 ... Unwinding side 15 ... Cooling roll 16 ... Winding side 17 ... Partition 18 ... Lower chamber 19 ... Slit 20 ... High frequency induction heating coil 21 ... Evaporation source crucible 22 ... Light transmittance meter 23 ... Film thickness measuring device 24 ... High frequency excitation plasma generating electrode coil 25 ... Argon gas shower port 26 ... Oxygen gas Shower port 27 ... Vapor-deposited film 31 ... Hollow cathode type electron beam plasma irradiation gun cathode electrode 32 ... Hollow cathode type electron gun anode electrode V ... Indium vapor flow D ... Space discharge plasma region

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 洋一郎 京都市南区上鳥羽馬廻し５ 株式会社ニ ッカテクノ内 (56)参考文献 特開 平７−80980（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−24081（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Yoichiro Nakayama 5 Makami Toba, Minami-ku, Kyoto City Nikka Techno Co., Ltd. (56) References JP-A-7-80980 (JP, A) JP-A-11-24081 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) B32B 1/00-35/00

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】基材上に離型剤層、内部保護用透明樹脂
層、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜及び接着剤
層をこの順序にて有し、上記酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ
_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数である。）で表わ
されると共に、上記複合蒸着膜のインジウム／酸化イン
ジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範囲にあること
を特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写材。1. A release agent layer, an internal protective transparent resin layer, an indium / indium oxide composite vapor deposition film, and an adhesive layer are provided in this order on a substrate, and the indium oxide is In ₂ O.
_x (where x is a number in the range of 1.0 to 1.9), and the composite vapor deposition film has an indium / indium oxide weight ratio of 95/5 to 80/20. An electromagnetic wave transmissive metal vapor deposition film transfer material characterized by the above. 【請求項２】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜が
厚み２５０〜５００Åを有する請求項１に記載の電磁波
透過性金属蒸着膜転写材。2. The electromagnetic wave transmissive metal vapor deposition film transfer material according to claim 1, wherein the indium / indium oxide composite vapor deposition film has a thickness of 250 to 500 Å. 【請求項３】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に
変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有す
る請求項１に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。3. The electromagnetic wave permeable metal vapor deposition film transfer material according to claim 1, further comprising a transparent resin layer for surface protection containing a modified silicone resin between the release agent layer and the transparent resin layer for internal protection. 【請求項４】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜と
接着剤層との間に接着アンカー層を有する請求項１に記
載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。4. The electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to claim 1, further comprising an adhesive anchor layer between the indium / indium oxide composite vapor deposition film and the adhesive layer. 【請求項５】酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは
1.０〜1.５の範囲の数である。）で表わされる請求項１
に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。5. Indium oxide is In ₂ O _x (where x is
It is a number in the range of 1.0 to 1.5. ) Claim 1 represented by
An electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to item 1. 【請求項６】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロキ
サン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリエ
ーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン樹
脂である請求項３に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写
材。6. The electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to claim 3, wherein the modified silicone resin is an acrylic modified silicone resin having a dimethylpolysiloxane skeleton, a polyether modified silicone resin or an amino modified silicone resin. 【請求項７】基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層
をこの順序で積層した後、この内部保護用透明樹脂層上
に高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用
いる活性化反応性蒸着法にてインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜を積層し、次いで、この蒸着膜上に接着剤
層を積層する電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法
において、上記酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘ
は1.０〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共
に、上記複合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量
比が９５／５〜８０／２０の範囲にあることを特徴とす
る電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。7. A release agent layer and an internal protective transparent resin layer are laminated in this order on a substrate, and then activation using high frequency excitation plasma or electron beam anodic anodic plasma is performed on the internal protective transparent resin layer. the indium / indium oxide composite deposited film by reactive vapor deposition method are stacked, and then, in the manufacturing method of the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer member for laminating the adhesive layer on the deposited film, the indium oxide in ₂ O _x (where x
Is a number in the range of 1.0 to 1.9. ), And the indium / indium oxide weight ratio of the composite vapor deposition film is in the range of 95/5 to 80/20, the method for producing an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material. 【請求項８】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜が
厚み２５０〜５００Åを有する請求項７に記載の電磁波
透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。8. The method for producing an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to claim 7, wherein the indium / indium oxide composite vapor deposition film has a thickness of 250 to 500Å. 【請求項９】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に
変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を積層
する請求項７に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の
製造方法。9. The electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to claim 7, wherein a transparent resin layer for surface protection containing a modified silicone resin is laminated between the release agent layer and the transparent resin layer for internal protection. Method. 【請求項１０】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
と接着剤層との間に接着アンカー層を積層する請求項７
に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。10. An adhesive anchor layer is laminated between the indium / indium oxide composite vapor deposition film and the adhesive layer.
The method for producing a material for transferring a metal vapor-deposited film of an electromagnetic wave permeable according to 1. 【請求項１１】酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘ
は1.０〜1.５の範囲の数である。）で表わされる請求項
７に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。11. Indium oxide is In ₂ O _x (where x is
Is a number in the range of 1.0 to 1.5. The manufacturing method of the electromagnetic wave transmission metal vapor deposition film transfer material of Claim 7 represented by this. 【請求項１２】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロ
キサン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリ
エーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン
樹脂である請求項９に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転
写材の製造方法。12. The method for producing an electromagnetic wave transmitting metal vapor deposition film transfer material according to claim 9, wherein the modified silicone resin is an acrylic modified silicone resin having a dimethylpolysiloxane skeleton, a polyether modified silicone resin or an amino modified silicone resin.