JPH04279330A - Iris transfer material - Google Patents

Iris transfer material

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JPH04279330A
JPH04279330A JP9135A JP3591A JPH04279330A JP H04279330 A JPH04279330 A JP H04279330A JP 9135 A JP9135 A JP 9135A JP 3591 A JP3591 A JP 3591A JP H04279330 A JPH04279330 A JP H04279330A
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NAKAYAMA KOGYO KK
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to see an iris being beautiful and having high brightness through by providing a deposited thin film structure consisting of a metal or metal compd. deposited thin film with low reflection, a low refractive index and high reflection between protective layers or colored layers. CONSTITUTION:A releasing agent layer 2 is provided on a base material 1 and the first transparent or semi-transparent protective or colored layer 3, a transparent or semi-transparent picture pattern layer 4 and the second transparent or semi-transparent protective or colored layer 5 are provided therein in this order. In addition, on the second protective or colored layer 5, a deposited thin film structure 6 consisting of a lowly reflective metal or metal compd. deposited thin film 7 with a reflectance of 15-35%, a metal oxide deposited thin film 8 with a low refractive index of 0.5-2.5 and a highly reflective metal or metal compd. deposited thin film with a reflectance of 75-98%, the third transparent or semi-transparent protective or colored layer 10 and a heat- sensitive adhesive layer 11 are provided in this order to obtain an iris transfer material. A two-colored iris is obtd. by heat-transferring this on a body to be transferred and it is seen-through with the colored layer 3 and the picture pattern layer 4.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、高光輝性を有する虹彩
転写材に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an iris transfer material having high brightness.

【0002】0002

【従来の技術】従来、布帛、金糸銀糸、引箔等の伝統工
芸品に虹彩箔が広く用いられている。このような虹彩箔
は、従来、合成樹脂の溶液を適宜の基材上にロールコー
ターにて塗布し、乾燥して、光干渉の起こるような薄膜
に積層して製造されている。従つて、このような虹彩箔
によれば、その製造時に網点むらや溶液の塗布むらが生
じて、美麗な虹彩を得ることができず、更に、物性面に
おいても、耐溶剤性、耐薬品性、耐光性、耐候性、耐摩
耗性、耐擦傷性等の堅牢度に乏しく、また、短期間に虹
彩効果が低減する等の欠点がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION Hitherto, iris foils have been widely used in traditional crafts such as fabrics, gold and silver threads, and Hikihaku. Such iris foils have conventionally been manufactured by applying a synthetic resin solution onto a suitable base material using a roll coater, drying it, and laminating it into a thin film that causes optical interference. Therefore, with such iris foils, uneven halftone dots and uneven solution coating occur during production, making it impossible to obtain beautiful iris.Furthermore, in terms of physical properties, solvent resistance and chemical resistance are poor. It has shortcomings such as poor fastness such as hardness, light resistance, weather resistance, abrasion resistance, and scratch resistance, and that the iris effect decreases in a short period of time.

【0003】他方、硫化亜鉛、酸化アンチモン、ビスマ
ス、硫化カドミウム等を基材上に昇華蒸着させてなる虹
彩箔も知られているが、これらは虹彩効果に乏しく、ま
た、耐候性等の堅牢度にも乏しいうえに、材料が毒性を
有するので、実用には難点がある。
[0003] On the other hand, iris foils made by sublimation-depositing zinc sulfide, antimony oxide, bismuth, cadmium sulfide, etc. on a base material are also known, but these have poor iris effect and also have poor fastness such as weather resistance. It is difficult to put it into practical use because the material is not only poor in quality but also toxic.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の虹彩
箔における上記したような問題を解決するためになされ
たものであつて、新規な金属又は金属化合物の蒸着薄膜
の組合わせからなる蒸着薄膜構造体を有することによつ
て、優美、美麗、鮮明で高光輝性を有する虹彩が透視さ
れ、更に、耐摩耗性、耐擦傷性、耐薬品性、耐溶剤性、
耐候性等の堅牢度にすぐれる虹彩転写材を提供すること
を目的とする。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems with conventional iris foils, and it is directed to a vapor-deposited film consisting of a combination of vapor-deposited thin films of novel metals or metal compounds. By having a thin film structure, you can see through the iris, which is elegant, beautiful, clear, and has high brightness, and it also has abrasion resistance, scratch resistance, chemical resistance, solvent resistance,
The purpose of the present invention is to provide an iris transfer material that has excellent fastness such as weather resistance.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明による高光輝性虹
彩転写材は、基材上に離型剤層を有し、その上に透明乃
至半透明の保護層又は着色層の間に反射率15〜35%
の低反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜、屈折率0.
5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸着薄膜及び反射率
75〜98%の高反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜
からなる蒸着薄膜構造体をこの順序にて有し、更に、そ
の上に感熱性接着剤層を有することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The high-brilliance iris transfer material according to the present invention has a release agent layer on a base material, and has a reflectance between a transparent or translucent protective layer or a colored layer thereon. 15-35%
Low reflective metal or metal compound vapor deposited thin film, refractive index 0.
A vapor-deposited thin film structure consisting of a metal oxide vapor-deposited thin film with a low refractive index of 5 to 2.5 and a highly reflective metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 75 to 98% in this order; It is characterized by having a heat-sensitive adhesive layer thereon.

【0006】本発明の好ましい一態様による転写材は、
基材上に離型剤層、第1の透明乃至半透明の保護層又は
着色層、透明乃至半透明の絵柄模様層及び透明乃至半透
明の第2の保護層又は着色層をこの順序にて有すると共
に、この第2の保護層又は着色層の上に反射率15〜3
5%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜、屈折率
0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸着薄膜及び反
射率75〜98%の高反射性の金属又は金属化合物蒸着
薄膜からなる蒸着薄膜構造体と透明乃至半透明の第3の
保護層又は着色層と感熱性接着剤層とをこの順序にて有
することを特徴とする。
[0006] A transfer material according to a preferred embodiment of the present invention includes:
A mold release agent layer, a first transparent or semitransparent protective layer or colored layer, a transparent or semitransparent picture pattern layer, and a transparent or semitransparent second protective layer or colored layer are formed on the base material in this order. and a reflectance of 15 to 3 on this second protective layer or colored layer.
5% low reflective metal or metal compound vapor deposited thin film, low refractive index metal oxide thin film with a refractive index of 0.5 to 2.5, and highly reflective metal or metal compound vapor deposited film with a reflectance of 75 to 98%. It is characterized by having a vapor-deposited thin film structure made of a thin film, a transparent or translucent third protective layer or colored layer, and a heat-sensitive adhesive layer in this order.

【0007】更に、本発明の好ましい別の一態様によれ
ば、上記の態様の転写において、蒸着薄膜構造体の上に
屈折率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸着薄膜
及び反射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合
物蒸着薄膜からなる第2の蒸着薄膜構造体をこの順序に
て形成し、その上に透明乃至半透明の第3の保護層と透
明乃至半透明の感熱性接着剤層を形成することによつて
、表裏面から虹彩が透視される二面性転写層を与える転
写材を得ることができる。
Furthermore, according to another preferred embodiment of the present invention, in the transfer of the above embodiment, a metal oxide vapor-deposited thin film having a low refractive index of 0.5 to 2.5 is formed on the vapor-deposited thin film structure. A second vapor-deposited thin film structure consisting of a low-reflectivity metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 15 to 35% is formed in this order, and a transparent to translucent third protective layer is formed thereon. By forming a semitransparent heat-sensitive adhesive layer, it is possible to obtain a transfer material that provides a two-sided transfer layer through which the iris can be seen from the front and back sides.

【0008】以下に図面に基づいて本発明による転写材
を説明する。図1は、本発明による好ましい一態様とし
ての転写材を示す要部拡大断面図である。この転写材に
おいては、基材1の上に離型剤層2が形成されており、
この離型剤層2の上に透明乃至半透明の樹脂からなる第
1の保護層又は着色層3、透明乃至半透明の絵柄模様層
4及び透明乃至半透明の樹脂からなる第2の保護層又は
着色層5がこの順序にて積層されている。更に、この第
2の保護層又は着色層5の上に金属又は金属化合物の金
属蒸着薄膜の組合わせからなる蒸着薄膜構造体6が形成
されている。この蒸着薄膜構造体6は、本発明に従つて
低反射性蒸着薄膜7、低屈折性蒸着薄膜8及び高反射性
蒸着薄膜9がこの順序にて積層されてなるものである。 更に、この蒸着薄膜構造体6の高反射性蒸着薄膜9の上
に透明乃至半透明の樹脂からなる第3の保護層又は着色
層10と感熱性接着剤層11とが形成されている。
The transfer material according to the present invention will be explained below based on the drawings. FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of essential parts showing a transfer material as a preferred embodiment of the present invention. In this transfer material, a release agent layer 2 is formed on a base material 1,
On this mold release agent layer 2, a first protective layer or colored layer 3 made of a transparent or semi-transparent resin, a transparent or semi-transparent picture pattern layer 4, and a second protective layer made of a transparent or semi-transparent resin are formed. Alternatively, the colored layers 5 are laminated in this order. Further, on this second protective layer or colored layer 5, a vapor deposited thin film structure 6 consisting of a combination of metal vapor deposited thin films of metals or metal compounds is formed. This vapor deposited thin film structure 6 is formed by laminating a low reflective vapor deposited thin film 7, a low refractive vapor deposited thin film 8 and a high reflective vapor deposited thin film 9 in this order according to the present invention. Furthermore, a third protective layer or colored layer 10 made of a transparent or translucent resin and a heat-sensitive adhesive layer 11 are formed on the highly reflective vapor-deposited thin film 9 of the vapor-deposited thin film structure 6.

【0009】本発明において、基材は、通常、合成樹脂
からなる透明又は半透明のフイルムであつて、かかる合
成樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート
、ポリエステル、ポリイミド、ポリフエニレンサルフア
イド、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン等が用いら
れる。また、セロハンも用いられる。これらは単独にて
、又は複数が積層されて用いられる。
[0009] In the present invention, the base material is usually a transparent or translucent film made of a synthetic resin, and such synthetic resins include, for example, polyethylene terephthalate, polyester, polyimide, polyphenylene sulfide, and polyethylene sulfide. Phthalate, polyamide, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polyvinylidene chloride, etc. are used. Cellophane is also used. These may be used alone or in a stacked state.

【0010】このような基材上には、離型剤層が形成さ
れている。離型剤層は、特に限定されるものではなく、
例えば、シリコーン樹脂やフツ素樹脂等の樹脂類、ポリ
エチレンワツクス、カルナバワツクス、パラフインワツ
クス、蜜ロウ等のワツクス類のほか、脂肪酸エステル類
や種々の界面活性剤からなる。これらは、単独で、又は
複合して併用される。
[0010] A release agent layer is formed on such a base material. The mold release agent layer is not particularly limited,
For example, it includes resins such as silicone resins and fluorine resins, waxes such as polyethylene wax, carnauba wax, paraffin wax, and beeswax, as well as fatty acid esters and various surfactants. These may be used alone or in combination.

【0011】離型剤層は、通常、上記したような樹脂、
ワツクス等を適宜の有機溶剤に溶解して溶液とし、これ
を上記基材上に適宜の塗工手段にて塗布し、乾燥して、
限定されるものではないが、通常、膜厚が0.1〜1μ
mとなるように形成される。上記塗工手段としては、例
えば、グラビアコーター、リバースロールコーター、オ
フセツトグラビアコーター、ナイフドクターコーター、
パイプドクターリバースコーター、スリツトリバースロ
ールコーター等を挙げることができる。しかし、これら
に限定されるものではない。この離型剤層は、被転写体
に転写材から転写層を熱転写印刷するの際に、転写層の
基材からの剥離を容易ならしめるものである。
[0011] The mold release agent layer is usually made of the above-mentioned resin,
Wax or the like is dissolved in an appropriate organic solvent to form a solution, which is applied onto the above substrate using an appropriate coating means, dried, and
Although not limited, the film thickness is usually 0.1 to 1μ.
m. Examples of the coating means include a gravure coater, a reverse roll coater, an offset gravure coater, a knife doctor coater,
Examples include a pipe doctor reverse coater and a slit reverse roll coater. However, it is not limited to these. This release agent layer facilitates the separation of the transfer layer from the base material when the transfer layer is thermally transfer printed from the transfer material onto the object to be transferred.

【0012】上述したように、離型剤層の上には、第1
の保護層又は着色層が設けられている。ここに、保護層
とは無色で透明又は半透明な樹脂層をいい、着色層とは
着色された透明又は半透明の樹脂層をいう。膜厚は、特
に限定されるものではないが、通常、0.1〜1μmの
範囲が適当である。このような第1の保護層又は着色層
は、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂からなるものであつ
てよい。このような熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂とし
て、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、メラミン−エポ
キシ共重合体樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、メラミ
ン−アクリル共縮合樹脂等のアミノ樹脂、アクリル樹脂
、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂等からなる。これらの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂の
溶液を常法にて前記離型剤層上に塗布し、乾燥すること
によつて、第1の保護層又は着色層を離型剤層上に形成
することができる。
As mentioned above, on the mold release agent layer, the first
A protective layer or a colored layer is provided. Here, the protective layer refers to a colorless transparent or semitransparent resin layer, and the colored layer refers to a colored transparent or semitransparent resin layer. Although the film thickness is not particularly limited, a range of 0.1 to 1 μm is usually appropriate. Such a first protective layer or colored layer may be made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin. Examples of such thermoplastic resins or thermosetting resins include amino resins such as melamine resins, urea resins, melamine-epoxy copolymer resins, melamine-urea cocondensation resins, melamine-acrylic cocondensation resins, acrylic resins, Consists of polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin, etc. A first protective layer or a colored layer is formed on the release agent layer by applying a solution of these thermoplastic resins or thermosetting resins onto the release agent layer using a conventional method and drying the solution. can do.

【0013】本発明においては、上記第1の保護層又は
着色層は、特に活性エネルギー線硬化型樹脂の薄膜から
なるのが好ましい。第1の保護層又は着色層は、本発明
による転写材が被転写体に転写されて得られる転写層の
表面を構成するので、活性エネルギー線硬化型樹脂の薄
膜からなる薄膜を上記第1の保護層又は着色層とするこ
とによつて、耐摩耗性及び耐擦傷性のみならず、耐候性
や耐薬品性にもすぐれる転写層を得ることができる。
In the present invention, the first protective layer or colored layer is preferably made of a thin film of active energy ray-curable resin. The first protective layer or the colored layer constitutes the surface of the transfer layer obtained by transferring the transfer material according to the present invention to the object to be transferred. By using it as a protective layer or a colored layer, it is possible to obtain a transfer layer that is excellent not only in abrasion resistance and scratch resistance but also in weather resistance and chemical resistance.

【0014】上記活性エネルギー線硬化型樹脂としては
、既に種々のものが知られており、本発明においては、
それらのいずれをも用いることができるが、好ましくは
、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型樹脂が用いられる
。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線活性基と
してアクリロイル基又はメタアクリロイル基を有する化
合物又は重合体が好適に用いられる。このような化合物
又は重合体として、例えば、アクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル、ネオペンチルグリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト、オリゴアクリレート、アルキドアクリレート等を挙
げることができる。これら紫外線硬化型樹脂は、通常、
オリゴマーとしてのポリアクリレートとその希釈剤とし
ての単量体が併用される。更に、必要に応じて、増感剤
、重合開始剤、安定剤、充填剤等が併用される。
Various types of active energy ray-curable resins are already known, and in the present invention,
Although any of them can be used, preferably an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is used. As the ultraviolet curable resin, for example, a compound or polymer having an acryloyl group or a methacryloyl group as an ultraviolet active group is preferably used. Such compounds or polymers include, for example, methyl acrylate, methyl methacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyol acrylate, polyether Acrylates, oligoacrylates, alkyd acrylates, etc. can be mentioned. These UV-curable resins are usually
Polyacrylate as an oligomer and a monomer as its diluent are used together. Furthermore, a sensitizer, a polymerization initiator, a stabilizer, a filler, etc. are used in combination, if necessary.

【0015】他方、電子線硬化型樹脂としては、例えば
、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、エ
ポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリ
エーテルアクリレート、メラミンアクリレート、ポリオ
ールアクリレート等のポリアクリレート類、ポリエステ
ルメタクリレート、エポキシメタクリレート、ポリウレ
タンメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、メ
ラミンメタクリレート、ポリオールメタクリレート等の
ポリメタクリレート類、スチレンやα−メチルスチレン
等のスチレン系単量体、アクリル酸メチル、アクリル酸
メトキシエチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エス
テル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル等のメタクリル酸エステル類等を挙
げることができる。これらは単独で、又は混合物として
用いられる。
On the other hand, examples of electron beam curable resins include polyacrylates such as unsaturated polyester, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyether acrylate, melamine acrylate, and polyol acrylate, polyester methacrylate, epoxy methacrylate, and polyurethane. Polymethacrylates such as methacrylate, polyether methacrylate, melamine methacrylate, and polyol methacrylate; styrenic monomers such as styrene and α-methylstyrene; acrylic acid esters such as methyl acrylate, methoxyethyl acrylate, and butyl acrylate; Examples include methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate. These may be used alone or as a mixture.

【0016】この第1の保護層又は着色層は、転写層の
表面保護の機能に加えて、特に着色層であるときは、本
発明による転写材が被転写体に熱転写印刷されて得られ
る転写層において、透視される虹彩がこの着色層の色調
と混じりあつて、後述する絵柄模様に複雑微妙な色調を
与えると共に、立体的な深みをもたせるための背景とし
て機能する。
[0016] In addition to the function of protecting the surface of the transfer layer, this first protective layer or colored layer, especially when it is a colored layer, protects the transfer material obtained by thermal transfer printing of the transfer material according to the present invention onto the object to be transferred. In this layer, the iris seen through the layer mixes with the color tone of this colored layer, giving a complex and subtle color tone to the pattern described later, and also functions as a background to give three-dimensional depth.

【0017】上記第1の保護層又は着色層の上には、透
明乃至半透明の絵柄模様層が形成されている。前記第1
の保護層又は着色層は、その上に絵柄模様層を安定に形
成するためのアンカー層の機能をも有している。この絵
柄模様層は、通常、染料及び/又は顔料を着色剤とする
合成樹脂印刷インキにて上記第1の保護層又は着色層の
上に任意の絵柄模様を印刷することによつて形成される
。その膜厚は、限定されるものではないが、通常、0.
1〜5μmの範囲であり、1〜3μmの範囲が好適であ
る。
A transparent or translucent picture pattern layer is formed on the first protective layer or colored layer. Said first
The protective layer or colored layer also has the function of an anchor layer for stably forming a picture pattern layer thereon. This picture pattern layer is usually formed by printing an arbitrary picture pattern on the first protective layer or colored layer using a synthetic resin printing ink containing dye and/or pigment as a coloring agent. . Although the film thickness is not limited, it is usually 0.
The range is from 1 to 5 μm, preferably from 1 to 3 μm.

【0018】用いる染料又は顔料は特に限定されるもの
ではなく、通常のもののほか、必要に応じて、例えば、
蛍光染料、蛍光顔料、蓄光性顔料、体質顔料、パール顔
料、金属粉顔料等も用いられる。また、合成樹脂印刷イ
ンキは、通常の焼付け硬化型のものであつてもよく、或
いは前述したような活性エネルギー線硬化型のものであ
つてもよい。更に、インキは、温度によつて可逆的に変
色する示温性のものであつてもよい。
The dye or pigment to be used is not particularly limited, and in addition to the usual ones, if necessary, for example,
Fluorescent dyes, fluorescent pigments, phosphorescent pigments, extender pigments, pearl pigments, metal powder pigments, and the like can also be used. Further, the synthetic resin printing ink may be of the usual baking-curing type, or may be of the active energy ray-curing type as described above. Furthermore, the ink may be a thermochromic ink that reversibly changes color depending on the temperature.

【0019】この絵柄模様層の上には、透明乃至半透明
の樹脂層からなる第2の保護層又は着色層が形成されて
おり、更に、この第2の保護層の上に3層からなる金属
又は金属酸化物の蒸着薄膜構造体が形成されている。第
2の保護層又は着色層は、このような蒸着薄膜を形成す
る際に、真空下に絵柄模様層から放出される残留溶剤ガ
スや可塑剤ガス等によつて、蒸着薄膜にブラツシング現
象が生じるのを防止すると共に、蒸着薄膜の密着性を高
めるものである。この第2の保護層又は着色層としては
、前述した第1の保護層又は着色層と同様の樹脂が用い
られる。その膜厚も、第1の保護層又は着色層と同様、
通常、0.1〜1μmの範囲が適当である。
A second protective layer or a colored layer made of a transparent or semi-transparent resin layer is formed on this picture pattern layer, and a colored layer made of three layers is further formed on this second protective layer. A deposited thin film structure of a metal or metal oxide is formed. The second protective layer or colored layer is designed to prevent a brushing phenomenon from occurring in the vapor-deposited thin film due to residual solvent gas, plasticizer gas, etc. released from the patterned layer under vacuum when forming such a vapor-deposited thin film. In addition to preventing this, it also improves the adhesion of the deposited thin film. As this second protective layer or colored layer, the same resin as the first protective layer or colored layer described above is used. The film thickness is also the same as that of the first protective layer or colored layer.
Usually, a range of 0.1 to 1 μm is appropriate.

【0020】本発明による転写材においては、この第2
の保護層の上に蒸着薄膜構造体が形成されている。この
蒸着薄膜構造体は、第2の保護層の上に反射率15〜3
5%の低反射性の金属又は金属酸化物蒸着薄膜、屈折率
0.5〜2.5の低屈折性の金属酸化物蒸着薄膜及び反
射率75〜98%の高反射性の金属蒸着薄膜をこの順序
にて蒸着積層されて構成されている。
In the transfer material according to the present invention, this second
A deposited thin film structure is formed over the protective layer. This deposited thin film structure has a reflectance of 15 to 3 on top of the second protective layer.
5% low reflective metal or metal oxide vapor deposited thin film, low refractive metal oxide vapor deposited thin film with a refractive index of 0.5 to 2.5, and highly reflective metal vapor deposited thin film with a reflectance of 75 to 98%. The structure is formed by depositing layers in this order.

【0021】先ず、反射率15〜35%の低反射性の金
属又は金属酸化物蒸着薄膜は、例えば、クロム、チタン
、銅、酸化第二銅、酸化クロム、酸化亜鉛等からなる。 例えば、クロム蒸着薄膜は、膜厚が30〜80オングス
トロームの範囲にあることが好ましく、また、銅蒸着薄
膜は、その膜厚が50〜100オングストロームの範囲
にあることが好ましい。
First, the low-reflectivity metal or metal oxide deposited thin film having a reflectance of 15 to 35% is made of, for example, chromium, titanium, copper, cupric oxide, chromium oxide, zinc oxide, or the like. For example, the thickness of the chromium-deposited thin film is preferably in the range of 30 to 80 angstroms, and the thickness of the copper-deposited thin film is preferably in the range of 50 to 100 angstroms.

【0022】屈折率0.5〜2.5の低屈折性の金属酸
化物蒸着薄膜は、例えば、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素
、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化チタン、
フツ化マグネシウム、フツ化カルシウム等からなる。こ
れらのなかでは、特に一酸化ケイ素や二酸化ケイ素のよ
うなケイ素酸化物からなる蒸着薄膜が一層鮮明な虹彩色
を与えることができるので好ましい。
[0022] The low refractive metal oxide vapor deposited thin film having a refractive index of 0.5 to 2.5 includes, for example, silicon monoxide, silicon dioxide, indium oxide, indium tin oxide, titanium oxide,
Consists of magnesium fluoride, calcium fluoride, etc. Among these, vapor-deposited thin films made of silicon oxides such as silicon monoxide and silicon dioxide are particularly preferred because they can provide a more vivid iris color.

【0023】反射率75〜98%の高反射性の金属蒸着
薄膜は、例えば、アルミニウム、スズ、ニツケル、銀等
又はそれらの合金からなる。このような蒸着薄膜は、例
えば、常法に従つて、高周波誘導加熱法、電気抵抗加熱
法、スパツターリング法、イオンプレーテイング法、電
子線加熱蒸着法等によつて形成することができる。
The highly reflective metal vapor deposited thin film having a reflectance of 75 to 98% is made of, for example, aluminum, tin, nickel, silver, etc., or an alloy thereof. Such a vapor-deposited thin film can be formed, for example, by a conventional method such as a high-frequency induction heating method, an electric resistance heating method, a sputtering method, an ion plating method, an electron beam heating vapor deposition method, or the like.

【0024】この蒸着薄膜構造体の上に感熱接着剤層が
形成される。感熱接着剤は何ら限定されるものではなく
、種々の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が適宜に用いられ
る。かかる接着剤として、例えば、酢酸ビニル樹脂、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂
、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、フエノール系
樹脂、石油樹脂、セルロース系樹脂、ロジン及びその種
々の誘導体や変性物、ゴム系樹脂、塩素化オレフイン樹
脂等を挙げることができる。接着剤は、必要に応じて、
充填剤を含有していてもよい。感熱接着剤層の厚さは、
特に限定されるものではないが、通常、0.5〜5μm
の範囲が適当である。
A heat sensitive adhesive layer is formed over the deposited thin film structure. The heat-sensitive adhesive is not limited at all, and various thermoplastic resins and thermosetting resins can be used as appropriate. Examples of such adhesives include vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, polyamide resin, epoxy resin, polyester resin, phenol resin, Examples include petroleum resins, cellulose resins, rosin and its various derivatives and modified products, rubber resins, chlorinated olefin resins, and the like. Adhesive as needed
It may contain a filler. The thickness of the heat sensitive adhesive layer is
Although not particularly limited, usually 0.5 to 5 μm
A range of is appropriate.

【0025】図2は、本発明による別の態様による転写
材を示す要部拡大断面図であつて、上述した転写材にお
いて、前記蒸着薄膜構造体6を第1の蒸着薄膜構造体と
し、その高反射性蒸着薄膜9の上に、第2の蒸着薄膜構
造体12として、屈折率0.5〜2.5の低屈折性の金
属酸化物蒸着薄膜13及び反射率15〜35%の低反射
性の金属又は金属化合物蒸着薄膜14がこの順序にて蒸
着積層され、その上に透明乃至半透明の第3の保護層又
は着色層10と透明乃至半透明の感熱性接着剤層11が
形成されている。これら低屈折性の蒸着薄膜と低反射性
の蒸着薄膜は、前述したと同様にして形成される。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of a transfer material according to another embodiment of the present invention, in which the vapor deposited thin film structure 6 is the first vapor deposited thin film structure, and On top of the highly reflective vapor deposited thin film 9, a second vapor deposited thin film structure 12 is formed, including a low refractive metal oxide vapor deposited thin film 13 with a refractive index of 0.5 to 2.5 and a low reflectance with a reflectance of 15 to 35%. A transparent or semi-transparent metal or metal compound thin film 14 is deposited and laminated in this order, and a transparent or semi-transparent third protective layer or colored layer 10 and a transparent or semi-transparent heat-sensitive adhesive layer 11 are formed thereon. ing. These low-refractive vapor-deposited thin films and low-reflective vapor-deposited thin films are formed in the same manner as described above.

【0026】[0026]

【発明の効果】図3は、本発明による転写材を被転写体
15に熱転写して得られる転写層16を示す。本発明に
よる転写材の作用効果をこの転写層について説明する。 この転写層によれば、一般的には、低反射性蒸着薄膜の
膜厚及びそれを構成する金属又は金属酸化物種と低屈折
性蒸着薄膜の膜厚及びそれを構成する金属又は金属酸化
物種との組合わせによつて、低反射性蒸着薄膜によつて
反射(これを初期反射という。)される光の色が決まり
、その補色が低屈折性蒸着薄膜を透過して、高反射性蒸
着薄膜にて反射(最終反射という。)され、かくして、
初期反射光と最終反射光によつて二彩色の虹彩が得られ
る。この虹彩は、前記着色層3及び絵柄模様層4と共に
透視される。
FIG. 3 shows a transfer layer 16 obtained by thermally transferring the transfer material according to the present invention to a transfer target 15. As shown in FIG. The effects of the transfer material according to the present invention will be explained with respect to this transfer layer. According to this transfer layer, in general, the thickness of the low-reflectivity vapor-deposited film and the metal or metal oxide species constituting it, and the film thickness of the low-refractive vapor-deposit film and the metal or metal oxide species constituting it, The combination of these determines the color of the light that is reflected by the low-reflectivity vapor-deposited film (this is called early reflection), and the complementary color passes through the low-refractive vapor-deposit film to form the high-reflectivity vapor-deposit film. It is reflected at (referred to as the final reflection), and thus,
A dichromatic iris is obtained by the initial reflected light and final reflected light. This iris is seen through together with the colored layer 3 and the picture pattern layer 4.

【0027】表1に低反射性蒸着薄膜、低屈折性蒸着薄
膜及び高反射性蒸着薄膜を構成するそれぞれ金属又は金
属化合物種及びその膜厚と虹彩の色調との関係を示す。
Table 1 shows the types of metals or metal compounds constituting the low-reflectivity vapor-deposited film, the low-refractive vapor-deposit film, and the high-reflectivity vapor-deposit film, respectively, and the relationship between the film thickness and the color tone of the iris.

【0028】[0028]

【表1】[Table 1]

【0029】表1において、低反射性蒸着薄膜と高反射
性蒸着薄膜の○印は、低屈折率蒸着薄膜と共に蒸着薄膜
構造体を構成する金属又は金属化合物種を示す。尚、低
反射性蒸着薄膜の膜厚は、クロムが30〜80オングス
トローム、チタンが50〜70オングストローム、銅が
50〜100オングストローム及び亜鉛が30〜80オ
ングストロームであり、高反射性蒸着薄膜の膜厚は、ア
ルミニウムが400〜500オングストローム、ニツケ
ルが350〜450オングストローム及びスズが350
〜400オングストロームである。
In Table 1, the ◯ marks for the low-reflectivity deposited thin film and the high-reflectivity deposited thin film indicate metals or metal compound species that constitute the deposited thin film structure together with the low-refractive index deposited thin film. The thickness of the low reflective vapor deposited thin film is 30 to 80 angstroms for chromium, 50 to 70 angstroms for titanium, 50 to 100 angstroms for copper, and 30 to 80 angstroms for zinc, and the thickness of the highly reflective vapor deposited thin film. is 400-500 angstroms for aluminum, 350-450 angstroms for nickel, and 350 angstroms for tin.
~400 angstroms.

【0030】例えば、低反射性蒸着薄膜が膜厚30〜8
0オングストロームのクロム蒸着薄膜であり、低屈折性
蒸着薄膜が膜厚800〜1100オングストロームの二
酸化ケイ素蒸着薄膜であるとき、入射光のうち、緑色成
分が初期反射され、その補色である桃色成分は低屈折性
蒸着薄膜を透過し、高反射性蒸着薄膜で最終反射される
ので、緑色と桃色の二彩色の虹彩を得ることができる。 低反射性蒸着薄膜が膜厚30〜80オングストロームの
クロム蒸着薄膜であり、低屈折性蒸着薄膜が膜厚600
〜700オングストロームの一酸化ケイ素蒸着薄膜であ
るとき、入射光のうち、青色成分が初期反射され、その
補色である黄色(金色)成分は低屈折性蒸着薄膜を透過
して、高反射性蒸着薄膜で最終反射されるので、青色と
黄色(金色)の二彩色の虹彩を得ることができる。
For example, the low reflective vapor deposited thin film has a thickness of 30 to 8
When the chromium vapor-deposited thin film has a thickness of 0 angstroms and the low refractive vapor-deposited thin film is a silicon dioxide vapor-deposited thin film with a film thickness of 800 to 1100 angstroms, the green component of the incident light is initially reflected, and the pink component, which is its complementary color, is reflected at a low level. The light passes through the refractive vapor-deposited film and is finally reflected by the highly reflective vapor-deposited film, resulting in a dichromatic iris of green and pink. The low reflective vapor deposited thin film is a chromium vapor deposited thin film with a thickness of 30 to 80 angstroms, and the low refractive vapor deposited thin film is a chromium vapor deposited thin film with a film thickness of 600 angstroms.
When the silicon monoxide thin film is deposited with a thickness of ~700 angstroms, the blue component of the incident light is initially reflected, and the complementary yellow (gold) component passes through the low refractive deposited thin film, forming a highly reflective deposited thin film. The final reflection occurs at the rays of light, resulting in a dichromatic iris of blue and yellow (gold).

【0031】低反射性蒸着薄膜が膜厚50〜100オン
グストロームの銅蒸着薄膜であり、低屈折性蒸着薄膜が
膜厚700〜800オングストロームの二酸化ケイ素蒸
着薄膜であるとき、入射光のうち、黄色(金色)成分が
初期反射され、その補色である緑色成分が低屈折性蒸着
薄膜を透過して、高反射性蒸着薄膜で最終反射されるの
で、黄色(金色)と緑色の二彩色の虹彩を得ることがで
きる。しかし、低反射性蒸着薄膜が膜厚50〜100オ
ングストロームの銅蒸着薄膜であつても、低屈折性蒸着
薄膜を膜厚500〜600オングストロームの一酸化ケ
イ素蒸着薄膜とすれば、入射光のうち、紺色成分が初期
反射され、その補色である紫色成分が低屈折性蒸着薄膜
を透過して、高反射性蒸着薄膜で最終反射されるので、
紺色と紫色の二彩色の虹彩を得ることができる。
When the low-reflectivity vapor-deposited thin film is a copper vapor-deposited thin film with a thickness of 50 to 100 angstroms, and the low-refractive vapor-deposited thin film is a silicon dioxide vapor-deposited thin film with a film thickness of 700 to 800 angstroms, yellow ( The gold (gold) component is initially reflected, and its complementary green component passes through the low-refractive vapor-deposited film and is finally reflected by the high-reflectivity vapor-deposited film, resulting in a dichromatic iris of yellow (gold) and green. be able to. However, even if the low-reflectivity vapor-deposited thin film is a copper vapor-deposited thin film with a thickness of 50 to 100 angstroms, if the low-refractive vapor-deposited thin film is a silicon monoxide vapor-deposited thin film with a film thickness of 500 to 600 angstroms, then out of the incident light, The dark blue component is initially reflected, and its complementary color, the purple component, passes through the low-refractive vapor-deposited film and is finally reflected by the high-reflective vapor-deposited film.
You can get a bichromatic iris of navy blue and purple.

【0032】更に、別の例として、低反射性蒸着薄膜が
膜厚50〜70オングストロームのチタン蒸着薄膜であ
り、低屈折性蒸着薄膜が膜厚1100〜1300オング
ストロームの一酸化ケイ素蒸着薄膜であるとき、入射光
のうち、橙色成分が初期反射され、その補色である赤色
成分が低屈折性蒸着薄膜を透過して、高反射性蒸着薄膜
で最終反射されるので、橙色と赤色の二彩色の虹彩を得
ることができる。
Furthermore, as another example, when the low reflective vapor deposited thin film is a titanium vapor deposited thin film with a thickness of 50 to 70 angstroms, and the low refractive vapor deposited thin film is a silicon monoxide vapor deposited thin film with a film thickness of 1100 to 1300 angstroms. , of the incident light, the orange component is initially reflected, and its complementary red component passes through the low refractive vapor deposited thin film and is finally reflected by the highly reflective vapor deposited thin film, resulting in an orange and red dichromatic iris. can be obtained.

【0033】以上のように、クロム又は銅からなる低反
射性蒸着薄膜の膜厚を一定とし、ケイ素酸化物蒸着薄膜
の膜厚を、それぞれの色調を発生する一定の膜厚範囲に
保持することによつて、それぞれの色調を有する二彩色
の虹彩を得ることができる。しかしながら、本発明によ
る転写材においては、基材の幅方向又は長手方向、その
他任意の方向にケイ素酸化物蒸着薄膜の膜厚を不均一と
するとき、転写層は極めて優美で美麗で且つ立体感に溢
れる多彩色性又は玉虫色の高光輝性の虹彩を生じる。
As described above, the thickness of the low-reflectivity vapor deposited thin film made of chromium or copper is kept constant, and the film thickness of the silicon oxide vapor deposited thin film is maintained within a certain film thickness range that produces each color tone. By this method, a dichromatic iris having each tone can be obtained. However, in the transfer material according to the present invention, when the thickness of the silicon oxide vapor-deposited thin film is made nonuniform in the width direction, longitudinal direction, or any other arbitrary direction of the substrate, the transfer layer has an extremely elegant and beautiful appearance and a three-dimensional effect. Produces a pleochroic or iridescent, highly luminous iris full of color.

【0034】図4は、本発明による図2に示す転写材を
被転写体15に転写して得られる転写層16である。こ
の転写層においては、低反射性の蒸着薄膜7、低屈折性
の蒸着薄膜8及び高反射性の蒸着薄膜9からなる第1の
蒸着薄膜構造体6の上に、更に、同様の低屈折性の蒸着
薄膜13と低反射性の蒸着薄膜14からなる第2の蒸着
薄膜構造体12が積層されており、その上に透明乃至半
透明の第3の保護層又は着色層10と感熱性接着剤層1
1とが積層されている。従つて、かかる転写層によれば
、第2の蒸着薄膜層12が第1の蒸着薄膜6の有する高
反射性の蒸着薄膜9を共有する結果として、転写層16
の裏面においても、表面と同様の虹彩が感熱接着剤層1
1を介して透視されるので、表裏二面性の転写層を得る
ことができる。
FIG. 4 shows a transfer layer 16 obtained by transferring the transfer material shown in FIG. 2 according to the present invention onto a transfer target 15. In this transfer layer, on the first vapor-deposited thin film structure 6 consisting of a low-reflectivity vapor-deposited thin film 7, a low-refractive vapor-deposited thin film 8, and a high-reflective vapor-deposited thin film 9, a similar low-refractive vapor-deposited thin film 7 is added. A second vapor-deposited thin film structure 12 consisting of a vapor-deposited thin film 13 of layer 1
1 are stacked. Therefore, according to such a transfer layer, as a result of the second vapor-deposited thin film layer 12 sharing the highly reflective vapor-deposited thin film 9 of the first vapor-deposited thin film 6, the transfer layer 16
On the back side of the iris, similar to the front side, the heat-sensitive adhesive layer
1, it is possible to obtain a two-sided transfer layer.

【0035】特に、この表裏二面性の転写層によれば、
第1と第2の蒸着薄膜を高反射性の蒸着薄膜を中心とし
て対称に形成すれば、表裏面に同一の二彩色性の虹彩が
透視され、他方、非対称とすれば、表裏面に異なる二彩
色性の虹彩が透視され、更に、表裏面のいずれか、又は
両方の蒸着薄膜の膜厚を前述したように不均一とすれば
、多彩性の虹彩が透視される。
In particular, according to this two-sided transfer layer,
If the first and second vapor-deposited thin films are formed symmetrically around a highly reflective vapor-deposited thin film, the same dichromatic iris can be seen through the front and back surfaces.On the other hand, if they are asymmetrical, different iris can be seen on the front and back surfaces. A chromatic iris can be seen through, and if the thickness of the deposited thin film on either or both of the front and back surfaces is made non-uniform as described above, a variegated iris can be seen through.

【0036】かかる本発明による転写材は、例えば、化
粧品箱の表面文字絵柄模様、書籍等の表紙や背文字、プ
ラスチツクパネル、カード、玩具の表面文字絵柄模様、
繊維製品や布帛用バインダー転写箔基材、西陣織の帯地
の横糸用として不可欠の引箔用転写材等として好適に用
いられる。
The transfer material according to the present invention can be used, for example, to print text and pictures on the surface of cosmetic boxes, cover and back letters of books, etc., text and pictures on the surface of plastic panels, cards, toys, etc.
It is suitably used as a binder transfer foil base material for textile products and fabrics, and as a transfer foil transfer material that is essential for the weft of Nishijin-ori obi fabrics.

【0037】[0037]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。尚、部は重量部を示す。 実施例1 シリコーン樹脂1部、ロジン変性マレイン酸樹脂5部、
セルロースアセテートプロピオネート10部及びカルナ
バワツクス25部をキシレン30部、メチルエチルケト
ン14部、アセトン10部及びメチルグリコール5部か
らなる混合溶剤に加え、十分に混和した。これを透明な
ポリエチレンテレフタレートフイルムの片面上にグラビ
アコーターにて塗布し、130℃で乾燥して、厚さ0.
5μmの離型剤層を形成した。
[Examples] The present invention will be explained below with reference to Examples.
The present invention is not limited in any way by these Examples. In addition, parts indicate parts by weight. Example 1 1 part silicone resin, 5 parts rosin modified maleic acid resin,
10 parts of cellulose acetate propionate and 25 parts of carnauba wax were added to a mixed solvent consisting of 30 parts of xylene, 14 parts of methyl ethyl ketone, 10 parts of acetone, and 5 parts of methyl glycol, and thoroughly mixed. This was applied onto one side of a transparent polyethylene terephthalate film using a gravure coater and dried at 130°C to a thickness of 0.
A release agent layer of 5 μm was formed.

【0038】次に、ポリエステルメタクリレート30部
、ポリエステルアクリレート20部及びメタクリル酸メ
チル20部をベンゾフエノン系増感剤1部と共に、酢酸
エチル4部、メチルエチルケトン15部及びメチルイソ
ブチルケトン10部からなる混合溶剤に加え、十分に混
和して、紫外線硬化型樹脂溶液を調製した。これを前記
離型剤層の上にグラビアコーターにて塗布し、150℃
で乾燥させた後、高圧水銀ランプ(出力30KW、波長
250〜420nm)を用いて30m/分の速度で硬化
させ、膜厚1μmの第1の保護層を形成した。
Next, 30 parts of polyester methacrylate, 20 parts of polyester acrylate, and 20 parts of methyl methacrylate were added to a mixed solvent consisting of 4 parts of ethyl acetate, 15 parts of methyl ethyl ketone, and 10 parts of methyl isobutyl ketone, along with 1 part of a benzophenone sensitizer. The mixture was added and thoroughly mixed to prepare an ultraviolet curable resin solution. This was applied onto the mold release agent layer using a gravure coater, and heated to 150°C.
After drying, the film was cured using a high-pressure mercury lamp (output 30 KW, wavelength 250-420 nm) at a speed of 30 m/min to form a first protective layer with a thickness of 1 μm.

【0039】次いで、染料「ザポンフアーストイエロー
R」(BASF社製)1部、「ザポンフアーストイエロ
ーRG」(BASF社製)1部、パール顔料「イリオジ
ン」(メルク社製)5部、蛍光顔料「フルオレツセンス
・イエロー083」(BASF社製)3部、ポリウレタ
ン樹脂15部、メラミン樹脂15部及び硬化剤p−トル
エンスルホン酸4部をメチルエチルケトン31部、キシ
レン10部、トルエン10部及びイソプロピルアルコー
ル5部からなる混合溶剤に加え、十分に混練混和して、
印刷インキを調製した。この印刷インキを用いて上記保
護層の上に絵柄模様をグラビア印刷し、150〜170
℃で焼付け硬化させ、厚さ2.5μmの絵柄模様印刷層
を形成した。
Next, 1 part of the dye "Zapon First Yellow R" (manufactured by BASF), 1 part of "Zapon First Yellow RG" (manufactured by BASF), 5 parts of the pearl pigment "Iriodin" (manufactured by Merck & Co., Ltd.), and fluorescent 3 parts of the pigment "Fluorescence Yellow 083" (manufactured by BASF), 15 parts of polyurethane resin, 15 parts of melamine resin, and 4 parts of p-toluenesulfonic acid as a curing agent were mixed with 31 parts of methyl ethyl ketone, 10 parts of xylene, 10 parts of toluene, and isopropyl. Add to a mixed solvent consisting of 5 parts of alcohol, thoroughly knead and mix,
A printing ink was prepared. Using this printing ink, a picture pattern is gravure printed on the protective layer,
It was baked and hardened at 0.degree. C. to form a pattern-printed layer with a thickness of 2.5 .mu.m.

【0040】メラミン−尿素共縮合樹脂(50%溶液)
30部、メラミン−アクリル共重合体樹脂(50%溶液
)10部、メラミン樹脂(50%溶液)及び硬化剤p−
トルエンスルホン酸6部をメチルエチルケトン30部、
メチルイソブチルケトン10部及びイソプロピルアルコ
ール10部からなる混合溶剤に加え、十分に混練混和し
た。これを上記絵柄模様印刷層の上にグラビアコーター
にて塗布し、150〜170℃で焼付け硬化させて、第
2の保護層を形成した。
Melamine-urea cocondensation resin (50% solution)
30 parts, melamine-acrylic copolymer resin (50% solution) 10 parts, melamine resin (50% solution) and curing agent p-
6 parts of toluenesulfonic acid, 30 parts of methyl ethyl ketone,
The mixture was added to a mixed solvent consisting of 10 parts of methyl isobutyl ketone and 10 parts of isopropyl alcohol, and thoroughly kneaded and mixed. This was applied onto the picture pattern printing layer using a gravure coater, and baked and cured at 150 to 170°C to form a second protective layer.

【0041】この第2の保護層の上に次のようにして、
蒸着薄膜構造体を形成した。先ず、真空度2.5×10
のマイナス4乗トールの真空下に電子線加熱蒸着法にて
膜厚50〜70オングストロームのチタン金属蒸着薄膜
からなる低反射性蒸着薄膜を200m/分の速度で形成
した。次いで、真空度2.0×10のマイナス4乗トー
ルの真空下に電子線加熱蒸着法にて膜厚1100〜13
00オングストロームの一酸化ケイ素蒸着薄膜からなる
低屈折性蒸着薄膜を100m/分の速度で上記低反射性
蒸着薄膜の上に形成した。最後に、真空度2.0×10
のマイナス4乗トールの真空下に高周波誘導加熱蒸着法
にて膜厚400オングストロームのアルミニウム蒸着薄
膜からなる高反射性蒸着薄膜を400m/分の速度で上
記低屈折性蒸着薄膜の上に形成した。
[0041] On this second protective layer, as follows:
A deposited thin film structure was formed. First, the degree of vacuum is 2.5×10
A low-reflectivity vapor-deposited thin film consisting of a titanium metal vapor-deposited thin film having a film thickness of 50 to 70 angstroms was formed at a speed of 200 m/min by an electron beam heating evaporation method under a vacuum of -4 Torr. Next, a film thickness of 1100 to 13
A low refractive vapor deposited thin film consisting of a silicon monoxide vapor deposited thin film of 0.00 angstroms was formed on the low reflective vapor deposited thin film at a speed of 100 m/min. Finally, the degree of vacuum is 2.0×10
A highly reflective vapor-deposited thin film consisting of an aluminum vapor-deposited thin film having a film thickness of 400 angstroms was formed on the low-refractive vapor-deposited thin film at a speed of 400 m/min using a high-frequency induction heating vapor deposition method under a vacuum of -4 Torr.

【0042】更に、上記の蒸着薄膜構造体の上に第2の
蒸着薄膜構造体を積層形成した。即ち、先ず、上記と同
様にして、上記高反射性蒸着薄膜の上に電子線加熱蒸着
法にて膜厚600〜700オングストロームの二酸化ケ
イ素蒸着薄膜からなる低屈折性蒸着薄膜を130m/分
の速度で形成した。次いで、この低屈折性蒸着薄膜の上
に、真空度2.5×10のマイナス4乗トールの真空下
に電子線加熱蒸着法にて膜厚50〜100オングストロ
ームの銅金属蒸着薄膜からなる低反射性蒸着薄膜を15
0m/分の速度で形成した。
Furthermore, a second vapor-deposited thin film structure was laminated on the above-described vapor-deposited thin film structure. That is, first, in the same manner as above, a low refractive thin film made of silicon dioxide vapor deposited thin film having a thickness of 600 to 700 angstroms is deposited on the high reflective vapor deposited thin film using the electron beam heating vapor deposition method at a speed of 130 m/min. It was formed with Next, on this low-refractive vapor-deposited thin film, a low-reflection copper metal vapor-deposited thin film with a film thickness of 50 to 100 angstroms is formed by electron beam heating vapor deposition under a vacuum of 2.5×10 −4 Torr. 15% vapor-deposited thin film
It was formed at a speed of 0 m/min.

【0043】このようにして、第1及び第2の蒸着薄膜
構造体を積層形成した後、第2の蒸着薄膜構造体の低反
射性蒸着薄膜の上に、第1の保護層と同様にして、第3
の保護層を形成し、その上に透明な感熱接着剤層を積層
した。この感熱接着剤層は、アクリル樹脂20部、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂20部、フエノール樹
脂5部及びゴム系樹脂5部を酢酸エチル10部、トルエ
ン30部及びメチルエチルケトン10部からなる混合溶
剤に加え、十分に混和し、これをグラビアコーターにて
塗布し、120〜150℃で乾燥して、膜厚1.5μm
とした。
After the first and second vapor-deposited thin film structures are laminated in this way, a protective layer is applied on the low-reflectivity vapor-deposited thin film of the second vapor-deposited thin film structure in the same manner as the first protective layer. , 3rd
A protective layer was formed, and a transparent heat-sensitive adhesive layer was laminated thereon. This heat-sensitive adhesive layer is a mixture of 20 parts of acrylic resin, 20 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, 5 parts of phenol resin, and 5 parts of rubber resin, and 10 parts of ethyl acetate, 30 parts of toluene, and 10 parts of methyl ethyl ketone. Add to the solvent, mix thoroughly, apply this with a gravure coater, dry at 120 to 150°C, and obtain a film thickness of 1.5 μm.
And so.

【0044】このようにして、二面性虹彩を有する転写
材を得た。これを透明なABS樹脂板の表面に熱転写機
(カタニ産業製)を用い、ゴム温度180℃、ドエルタ
イム2秒にて熱転写印刷した。表面には、橙色と赤色の
二彩色の虹彩を背景として、パール色に輝く絵柄模様が
立体感をもつて透視することができ、他方、裏面からは
、青色と金色(黄色がアルミニウムの反射効果によつて
金色に見える。)の二彩色の深みある虹彩を有するもの
であり、しかも、この表裏面における二面性の虹彩は、
透視角度を変えることによつて、微妙に変化し、かくし
て、極めて優美で美麗であり、意匠効果の高い転写層を
得ることができた。
In this way, a transfer material having a dihedral iris was obtained. This was thermally transfer printed on the surface of a transparent ABS resin plate using a thermal transfer machine (manufactured by Katani Sangyo) at a rubber temperature of 180° C. and a dwell time of 2 seconds. On the front side, you can see through the pearl-colored glittering pattern with a three-dimensional effect against the background of the dichromatic iris of orange and red.On the other hand, from the back side, you can see the blue and gold colors (yellow is due to the reflective effect of aluminum). It has a deep, dichromatic iris that looks golden due to the color of the iris.
By changing the perspective angle, the transfer layer changes subtly, and thus is extremely elegant and beautiful, and a transfer layer with a high design effect can be obtained.

【0045】また、転写材の表面の摩擦堅牢度を染色物
摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付き500g、
200回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐擦傷性
にもすぐれることが示された。 実施例2 ポリエチレンワツクス10部、モンタンワツクス5部、
アクリル樹脂20部及びフツ素樹脂5部をトルエン30
部、アセトン10部、メチルエチルケトン10部、メチ
ルイソブチルケトン5部及びエチルグリコール5部から
なる混合溶剤に加え、十分に混和した。これを透明なポ
リフエニレンサルフアイドフイルムの片面上にグラビア
コーターにて塗布し、160℃で乾燥して、厚さ0.5
μmの離型剤層を形成した。
In addition, as a result of examining the abrasion fastness of the surface of the transfer material using a dyeing abrasion fastness tester, it was found that 500g with fabric;
It withstood 200 times of friction, thus demonstrating excellent abrasion resistance and scratch resistance. Example 2 10 parts of polyethylene wax, 5 parts of Montan wax,
20 parts of acrylic resin and 5 parts of fluororesin to 30 parts of toluene
10 parts of acetone, 10 parts of methyl ethyl ketone, 5 parts of methyl isobutyl ketone, and 5 parts of ethyl glycol. This was applied onto one side of a transparent polyphenylene sulfide film using a gravure coater, and dried at 160°C to a thickness of 0.5
A mold release agent layer with a thickness of μm was formed.

【0046】次に、メラミン−尿素共縮合樹脂30部、
メラミン樹脂15部、硬化触媒p−トルエンスルホン酸
1部、染料「オラゾールイエロー」(チバ・ガイギー社
製)4部及び「オラゾールオレンジ」(チバ・ガイギー
社製)2部をメチルエチルケトン20部、ジアセトンア
ルコール10部、メタノール10部及びイソプロピルア
ルコール8部からなる混合溶剤に加え、十分に混和して
、熱硬化性樹脂塗料を調製した。これを前記離型剤層の
上にグラビアコーターにて塗布し、150〜160℃で
乾燥させて、膜厚1μmの第1の着色層を形成した。
Next, 30 parts of melamine-urea cocondensation resin,
15 parts of melamine resin, 1 part of curing catalyst p-toluenesulfonic acid, 4 parts of dye "Orazole Yellow" (manufactured by Ciba Geigy) and 2 parts of "Orazol Orange" (manufactured by Ciba Geigy), 20 parts of methyl ethyl ketone, The mixture was added to a mixed solvent consisting of 10 parts of diacetone alcohol, 10 parts of methanol, and 8 parts of isopropyl alcohol, and thoroughly mixed to prepare a thermosetting resin paint. This was applied onto the release agent layer using a gravure coater and dried at 150 to 160°C to form a first colored layer with a thickness of 1 μm.

【0047】次いで、染料「ザポンフアーストピンクB
」(BASF社製)5部、蓄光性顔料「ルミラツクスグ
リーンCD101b」(ヘキスト社製)10部、金属粉
顔料(アルミニウム粉フレンドカラー銀色F500SI
(昭和電工(株)製))5部及び特許第688991号
による真空蒸着粉5部、紫外線硬化型樹脂としてポリエ
ステルアクリレート10部、ポリウレタンアクリレート
30部、トリメチロールプロパントリアクリレート10
部及びベンゾイン系増感剤5部をメチルエチルケトン1
0部及び酢酸エチル10部からなる混合溶剤に加え、十
分に混練混和して、印刷インキを調製した。
Next, dye "Zapon First Pink B"
” (manufactured by BASF), 10 parts of luminescent pigment “Lumilux Green CD101b” (manufactured by Hoechst), metal powder pigment (aluminum powder Friend Color Silver F500SI
(manufactured by Showa Denko K.K.)) and 5 parts of vacuum-deposited powder according to Patent No. 688991, 10 parts of polyester acrylate as ultraviolet curable resin, 30 parts of polyurethane acrylate, 10 parts of trimethylolpropane triacrylate
1 part and 5 parts of benzoin sensitizer to 1 part of methyl ethyl ketone.
In addition to a mixed solvent consisting of 0 parts and 10 parts of ethyl acetate, the mixture was sufficiently kneaded and mixed to prepare a printing ink.

【0048】この印刷インキを用いて上記着色層の上に
絵柄模様をグラビア印刷し、150〜170℃で乾燥さ
せ、次いで、高圧水銀ランプ(出力30KW)にて紫外
線を照射して、厚さ2.5μmの絵柄模様印刷層を形成
した。ポリウレタン樹脂20部、アクリル樹脂15部、
フエノール樹脂10部及び硬化剤イソシアネート化合物
5部を酢酸エチル5部、メチルエチルケトン30部、メ
チルイソブチルケトン10部及びトルエン5部からなる
混合溶剤に加え、十分に混練混和した。このようにして
調製した樹脂組成物を上記絵柄模様印刷層の上にグラビ
アコーターにて塗布し、140〜160℃で焼付け硬化
させて、膜厚1μmの第2の保護層を形成した。
Using this printing ink, a pattern is gravure printed on the colored layer, dried at 150 to 170°C, and then irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp (output 30KW) to a thickness of 2. A picture pattern printing layer of .5 μm was formed. 20 parts of polyurethane resin, 15 parts of acrylic resin,
10 parts of a phenol resin and 5 parts of a curing agent isocyanate compound were added to a mixed solvent consisting of 5 parts of ethyl acetate, 30 parts of methyl ethyl ketone, 10 parts of methyl isobutyl ketone, and 5 parts of toluene, and thoroughly kneaded and mixed. The resin composition thus prepared was applied onto the picture pattern printing layer using a gravure coater, and baked and cured at 140 to 160°C to form a second protective layer with a thickness of 1 μm.

【0049】この第2の保護層の上に次のようにして、
蒸着薄膜構造体を形成した。先ず、真空度2.5×10
のマイナス4乗トールの真空下に電子線加熱蒸着法にて
膜厚30〜80オングストロームのクロム金属蒸着薄膜
からなる低反射性蒸着薄膜を150m/分の速度で形成
した。次いで、真空度2.5×10のマイナス4乗トー
ルの真空下に電子線加熱蒸着法にてフツ化マグネシウム
蒸着薄膜からなる低屈折性蒸着薄膜を上記低反射性蒸着
薄膜の上に形成した。この低屈折性蒸着薄膜の調製に際
しては、蒸着速度を150〜200m/分の範囲内で絶
えず変動させると共に、基材の幅方向においても、膜厚
を500〜1100オングストロームの範囲内で変動さ
せて、不均一な膜厚をもたせた。
[0049] On this second protective layer, as follows:
A deposited thin film structure was formed. First, the degree of vacuum is 2.5×10
A low-reflectivity vapor-deposited thin film consisting of a chromium metal vapor-deposited thin film having a film thickness of 30 to 80 angstroms was formed at a speed of 150 m/min by an electron beam heating evaporation method under a vacuum of -4 Torr. Next, a low-refractive vapor-deposited thin film consisting of a magnesium fluoride vapor-deposited thin film was formed on the low-reflective vapor-deposited thin film by an electron beam heating vapor deposition method under a vacuum of 2.5×10 −4 Torr. When preparing this low refractive evaporated thin film, the evaporation speed was constantly varied within the range of 150 to 200 m/min, and the film thickness was varied within the range of 500 to 1100 angstroms in the width direction of the substrate. , resulting in non-uniform film thickness.

【0050】最後に、真空度2.0×10のマイナス4
乗トールの真空下に電子線加熱蒸着法にて膜厚400オ
ングストロームのニッケル蒸着薄膜からなる高反射性蒸
着薄膜を200m/分の速度で上記低屈折性蒸着薄膜の
上に形成した。このようにして、蒸着薄膜構造体を積層
形成した後、その上に第2の保護層と同様にして、第3
の保護層を形成し、更に、その上に透明な感熱接着剤層
を積層した。この感熱接着剤層は、ポリエステル樹脂7
部、ポリアミド樹脂10部、石油樹脂3部及びエチレン
−酢酸ビニル共重合体樹脂10部をメチルエチルケトン
20部、トルエン20部、イソプロピルアルコール15
部及びメタノール15部からなる混合溶剤に加え、十分
に混和し、これをリバースロールコーターにて塗布し、
120〜150℃で乾燥して、膜厚1.5μmとした。
Finally, the degree of vacuum is 2.0×10 minus 4
A highly reflective evaporated thin film consisting of a 400 angstrom thick nickel evaporated thin film was formed on the low refractive evaporated thin film at a speed of 200 m/min by an electron beam heating evaporation method under a vacuum of 200 m/min. After forming the vapor-deposited thin film structure in this manner, a third protective layer is applied thereon in the same manner as the second protective layer.
A protective layer was formed, and a transparent heat-sensitive adhesive layer was further laminated thereon. This heat-sensitive adhesive layer is made of polyester resin 7
10 parts of polyamide resin, 3 parts of petroleum resin, and 10 parts of ethylene-vinyl acetate copolymer resin were mixed with 20 parts of methyl ethyl ketone, 20 parts of toluene, and 15 parts of isopropyl alcohol.
and 15 parts of methanol, thoroughly mixed, and coated with a reverse roll coater.
It was dried at 120 to 150°C to give a film thickness of 1.5 μm.

【0051】このようにして得られた転写材は、低屈折
性蒸着薄膜の膜厚が不均一であるので、濃紺乃至紫色か
ら橙乃至赤色までの多彩色の虹彩を生じる。この転写材
を例えば合成樹脂からなる被転写材の上に前述したと同
様にして転写し、転写層を形成した。この転写層は、多
彩色の虹彩を背景に絵柄模様が立体的に透視された。ま
た、転写層に紫外線を照射したところ、絵柄模様が励起
発光し、一層立体感に富み、しかも、優美で鮮やかな高
光輝性多彩色虹彩が透視された。
[0051] The transfer material thus obtained has a multicolored iris ranging from dark blue to purple to orange to red because the thickness of the low refractive vapor-deposited thin film is non-uniform. This transfer material was transferred onto a transfer material made of, for example, a synthetic resin in the same manner as described above to form a transfer layer. In this transfer layer, the pattern could be seen three-dimensionally against the background of the multicolored iris. Furthermore, when the transfer layer was irradiated with ultraviolet light, the pattern was excited and emitted light, and an elegant and vivid multicolored iris with a richer three-dimensional effect was seen through.

【0052】また、転写材の表面の摩擦堅牢度を染色物
摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付き500g、
150回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐擦傷性
にもすぐれることが示された。 実施例3 カルナバワツクス10部、合成ワツクス5部、脂肪酸ア
ミド5部及びスチレン樹脂20部をキシレン30部、ト
ルエン15部、ジアセトンアルコール10部及びメチル
グリコール5部からなる混合溶剤に加え、十分に混和し
た。これを透明なポリイミドフイルムの片面上にグラビ
アコーターにて塗布し、150〜160℃で乾燥して、
厚さ0.5μmの離型剤層を形成した。
In addition, as a result of examining the abrasion fastness of the surface of the transfer material using a dyeing abrasion fastness tester, it was found that 500g with fabric;
It withstood 150 times of friction, thus demonstrating excellent abrasion resistance and scratch resistance. Example 3 Add 10 parts of carnauba wax, 5 parts of synthetic wax, 5 parts of fatty acid amide, and 20 parts of styrene resin to a mixed solvent consisting of 30 parts of xylene, 15 parts of toluene, 10 parts of diacetone alcohol, and 5 parts of methyl glycol, and add enough mixed with. This was applied onto one side of a transparent polyimide film using a gravure coater, dried at 150-160°C,
A release agent layer with a thickness of 0.5 μm was formed.

【0053】次に、ポリウレタンアクリレート30部、
エポキシアクリレート20部及びネオペンチルグリコー
ルジアクリレート20部をアセトフエノン系増感剤1部
と共に、アセトン19部及び酢酸エチル10部からなる
混合溶剤に加え、十分に混和して、紫外線硬化型樹脂溶
液を調製した。これを前記離型剤層の上にグラビアコー
ターにて塗布し、150〜170℃で乾燥させた後、高
圧水銀ランプ(出力30KW、波長250〜420nm
)を用いて硬化させ、膜厚1μmの第1の保護層を形成
した。
Next, 30 parts of polyurethane acrylate,
Add 20 parts of epoxy acrylate and 20 parts of neopentyl glycol diacrylate to a mixed solvent consisting of 19 parts of acetone and 10 parts of ethyl acetate, along with 1 part of an acetophenone sensitizer, and mix thoroughly to prepare an ultraviolet curable resin solution. did. This was applied onto the release agent layer using a gravure coater, dried at 150-170°C, and then heated using a high-pressure mercury lamp (output 30KW, wavelength 250-420nm)
) to form a first protective layer with a film thickness of 1 μm.

【0054】次いで、染料「ザポンフアーストブルーH
FL」(BASF社製)2部、蛍光顔料「シンロイヒカ
ラーFZ−3045Sレモンイエロー(シンロイヒ社製
)3部、アクリル樹脂20部、メラミン−尿素共縮合樹
脂10部、ポリウレタンポリオール10部及びイソシア
ネート化合物5部をメチルエチルケトン30部、エチル
セロソルブ5部及びキシレン15部からなる混合溶剤に
加え、十分に混練混和して、印刷インキを調製した。 この印刷インキを用いて上記保護層の上に絵柄模様をグ
ラビア印刷し、150〜170℃で焼付け硬化させ、厚
さ20μmの絵柄模様印刷層を形成した。
Next, the dye "Zapon First Blue H"
FL" (manufactured by BASF) 2 parts, fluorescent pigment "Shinroihi Color FZ-3045S Lemon Yellow (manufactured by Shinroihi) 3 parts, acrylic resin 20 parts, melamine-urea cocondensation resin 10 parts, polyurethane polyol 10 parts and isocyanate compound 5 parts of methyl ethyl ketone, 5 parts of ethyl cellosolve, and 15 parts of xylene were added to a mixed solvent consisting of 30 parts of methyl ethyl ketone, 5 parts of ethyl cellosolve, and 15 parts of xylene, and the mixture was sufficiently kneaded to prepare a printing ink. Using this printing ink, a pattern was formed on the protective layer. Gravure printing was carried out and baked at 150 to 170° C. to form a pattern-printed layer with a thickness of 20 μm.

【0055】紫外線硬化型樹脂としてポリエチレンアク
リレート10部、ウレタンアクリレート30部及びメタ
クリル酸メチル10部とアセトフエノン系増感剤1部を
アセトン10部、メチルエチルケトン25部及び酢酸エ
チル14部からなる混合溶剤に加え、十分に混練混和し
た。この紫外線硬化型樹脂組成物を上記絵柄模様印刷層
の上にグラビアコーターにて塗布し、150〜170℃
で溶剤を乾燥させた後、高圧水銀ランプ(出力30KW
、波長250〜420nm)にて紫外線を照射して硬化
させ、膜厚1μmの第2の保護層を形成した。
As an ultraviolet curable resin, 10 parts of polyethylene acrylate, 30 parts of urethane acrylate, 10 parts of methyl methacrylate, and 1 part of an acetophenone sensitizer were added to a mixed solvent consisting of 10 parts of acetone, 25 parts of methyl ethyl ketone, and 14 parts of ethyl acetate. , thoroughly kneaded and mixed. This ultraviolet curable resin composition was applied onto the above-mentioned picture pattern printing layer using a gravure coater, and heated to a temperature of 150 to 170°C.
After drying the solvent, use a high pressure mercury lamp (output 30KW).
, wavelength of 250 to 420 nm) to form a second protective layer with a thickness of 1 μm.

【0056】この第2の保護層の上に次のようにして、
蒸着薄膜構造体を形成した。先ず、真空度3.0〜5.
0×10のマイナス4乗トールの真空下に電子線加熱蒸
着法にて膜厚30〜80オングストロームの亜鉛金属蒸
着薄膜からなる低反射性蒸着薄膜を250m/分の速度
で形成した。次いで、真空度2.5×10のマイナス4
乗トールの真空下に電子線加熱蒸着法にて膜厚500〜
600オングストロームのフツ化カルシウム蒸着薄膜か
らなる低屈折性蒸着薄膜を130m/分の速度で上記低
反射性蒸着薄膜の上に形成した。最後に、真空度2.0
×10のマイナス4乗トールの真空下に高周波誘導加熱
蒸着法によるワン・コイル(one coil)直方体
るつぼ方式にて膜厚350オングストロームのスズ蒸着
薄膜からなる高反射性蒸着薄膜を250m/分の速度で
上記低屈折性蒸着薄膜の上に形成した。
[0056] On this second protective layer, as follows:
A deposited thin film structure was formed. First, the degree of vacuum is 3.0 to 5.
A low-reflectivity vapor-deposited thin film consisting of a zinc metal vapor-deposited thin film having a film thickness of 30 to 80 angstroms was formed at a speed of 250 m/min by an electron beam heating vapor deposition method under a vacuum of 0×10 −4 Torr. Next, the degree of vacuum is 2.5×10 minus 4
Film thickness: 500~ by electron beam heating evaporation method under vacuum
A low refractive deposited thin film consisting of a 600 angstrom calcium fluoride deposited thin film was formed on the low reflective deposited thin film at a speed of 130 m/min. Finally, the degree of vacuum is 2.0
A highly reflective evaporated thin film consisting of a tin evaporated thin film with a film thickness of 350 angstroms is deposited at a speed of 250 m/min using a one coil rectangular parallelepiped crucible method using a high frequency induction heating evaporation method under a vacuum of ×10 −4 Torr. was formed on the low refractive vapor deposited thin film.

【0057】次いで、この蒸着薄膜構造体の上に、前記
第2の保護層と同様にして、第3の保護層を積層し、更
に、その上に感熱接着剤層を次のようにして形成した。 即ち、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂5部、アク
リル樹脂10部、塩素化オレフイン樹脂5部及びフエノ
ール樹脂5部を充填剤としての炭酸マグネシウム粉末5
部と共に、酢酸エチル30部、アセトン10部及びトル
エン30部からなる混合溶剤に加え、十分に混和し、こ
れをリバースロールコーターにて塗布し、60〜130
℃で乾燥して、膜厚1.5μmとした。
Next, a third protective layer is laminated on this vapor-deposited thin film structure in the same manner as the second protective layer, and a heat-sensitive adhesive layer is further formed on it in the following manner. did. That is, 5 parts of magnesium carbonate powder containing 5 parts of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, 10 parts of acrylic resin, 5 parts of chlorinated olefin resin, and 5 parts of phenolic resin as fillers.
30 parts of ethyl acetate, 10 parts of acetone, and 30 parts of toluene.
It was dried at ℃ to give a film thickness of 1.5 μm.

【0058】このようにして得られた転写材をバインダ
ー処理した布帛製品、例えば、ポリエステルトリコツト
、ニツト製品、織物、不織布や、バインダー処理した皮
革製品等の上に熱転写印刷加工し、転写層を設けた。 この転写層は、透過角度の変化に従つて濃紺と紫色の二
彩色性の虹彩を背景として、絵柄模様が立体的に透視さ
れた。
The transfer material thus obtained is heat transfer printed onto binder-treated fabric products such as polyester tricots, knit products, woven fabrics, non-woven fabrics, binder-treated leather products, etc. to form a transfer layer. Established. In this transfer layer, as the transmission angle changed, the pattern could be seen three-dimensionally against the background of the dark blue and purple dichromatic iris.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一態様としての転写材を示す要部拡大
断面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part of a transfer material as one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の別の一態様としての転写材を示す要部
拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a transfer material as another embodiment of the present invention.

【図3】図1の転写材を被転写体に転写して得られる転
写層を示す拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a transfer layer obtained by transferring the transfer material of FIG. 1 to a transfer target.

【図4】図2の転写材を被転写体に転写して得られる転
写層を示す拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a transfer layer obtained by transferring the transfer material of FIG. 2 onto a transfer target.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基材 2…離型剤層 3…第1の保護層又は着色層 4…絵柄模様層 5…第2の保護層又は着色層 6…蒸着薄膜構造体 7…低反射性蒸着薄膜 8…低屈折性蒸着薄膜 9…高反射性蒸着薄膜 10…第3の保護層又は着色層 11…感熱性接着剤層 12…第2の蒸着薄膜構造体 13…第2の低屈折性蒸着薄膜 14…第2の低反射性蒸着薄膜 15…被転写体 16…転写層 1...Base material 2...Release agent layer 3...First protective layer or colored layer 4...Picture pattern layer 5...Second protective layer or colored layer 6... Vapor deposited thin film structure 7...Low reflective vapor deposited thin film 8...Low refractive vapor deposited thin film 9... Highly reflective vapor deposited thin film 10...Third protective layer or colored layer 11...Heat-sensitive adhesive layer 12...Second vapor deposited thin film structure 13...Second low refractive vapor deposited thin film 14...Second low reflective vapor deposited thin film 15...Transferred object 16...Transfer layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材上に離型剤層を有し、その上に透明乃
至半透明の保護層又は着色層の間に、反射率15〜35
%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜、屈折率0
.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸着薄膜及び反射
率75〜98%の高反射性の金属又は金属化合物蒸着薄
膜からなる蒸着薄膜構造体をこの順序にて有し、更に、
その上に感熱性接着剤層を有することを特徴とする虹彩
転写材。
Claim 1: A mold release agent layer is provided on a base material, and between a transparent or semitransparent protective layer or a colored layer, a reflectance of 15 to 35 is provided.
% low reflective metal or metal compound vapor deposited thin film, refractive index 0
.. A vapor-deposited thin film structure consisting of a metal oxide vapor-deposited thin film with a low refractive index of 5 to 2.5 and a highly reflective metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 75 to 98% in this order;
An iris transfer material having a heat-sensitive adhesive layer thereon.
【請求項2】基材上に離型剤層、第1の透明乃至半透明
の保護層又は着色層、透明乃至半透明の絵柄模様層及び
透明乃至半透明の第2の保護層又は着色層をこの順序に
て有すると共に、この第2の保護層又は着色層の上に反
射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着
薄膜、屈折率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸
着薄膜及び反射率75〜98%の高反射性の金属又は金
属化合物蒸着薄膜からなる蒸着薄膜構造体と透明乃至半
透明の第3の保護層又は着色層と感熱性接着剤層とをこ
の順序にて有することを特徴とする虹彩転写材。
[Claim 2] A mold release agent layer, a first transparent or semitransparent protective layer or colored layer, a transparent or semitransparent picture pattern layer, and a transparent or semitransparent second protective layer or colored layer on the base material. in this order, and on this second protective layer or colored layer, a low reflective metal or metal compound vapor deposited thin film with a reflectance of 15 to 35%, and a low refractive index of 0.5 to 2.5. A vapor-deposited thin film structure consisting of a metal oxide vapor-deposited thin film with a reflectance of 75% to 98% and a highly reflective metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 75 to 98%, a transparent or translucent third protective layer or colored layer, and a heat-sensitive adhesive. An iris transfer material characterized by having layers in this order.
【請求項3】第1、第2及び/又は第3の保護層又は着
色層が活性エネルギー線硬化型樹脂からなる薄膜である
ことを特徴とする請求項1記載の虹彩転写材。
3. The iris transfer material according to claim 1, wherein the first, second and/or third protective layer or colored layer is a thin film made of an active energy ray-curable resin.
【請求項4】基材上に離型剤層、第1の透明乃至半透明
の保護層又は着色層、透明乃至半透明の絵柄模様層及び
透明乃至半透明の第2の保護層又は着色層をこの順序に
て有すると共に、この第2の保護層又は着色層の上に反
射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着
薄膜、屈折率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸
着薄膜及び反射率75〜98%の高反射性の金属又は金
属化合物蒸着薄膜からなる第1の蒸着薄膜構造体と屈折
率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物蒸着薄膜及び
反射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合物蒸
着薄膜からなる第2の蒸着薄膜構造体を有し、更に、そ
の上に透明乃至半透明の第3の保護層又は着色層と感熱
性接着剤層とをこの順序にて有することを特徴とする虹
彩転写材。
4. A mold release agent layer, a first transparent or translucent protective layer or colored layer, a transparent or semitransparent picture pattern layer, and a transparent or semitransparent second protective layer or colored layer on the base material. in this order, and on this second protective layer or colored layer, a low reflective metal or metal compound vapor deposited thin film with a reflectance of 15 to 35%, and a low refractive index of 0.5 to 2.5. A first vapor-deposited thin film structure consisting of a metal oxide vapor-deposited thin film with a high reflectance and a highly reflective metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 75 to 98%, and a low refractive index metal with a refractive index of 0.5 to 2.5. It has a second vapor-deposited thin film structure consisting of an oxide vapor-deposited thin film and a low-reflectivity metal or metal compound vapor-deposited thin film with a reflectance of 15 to 35%, and further has a transparent to translucent third protective layer thereon. Or an iris transfer material characterized by having a colored layer and a heat-sensitive adhesive layer in this order.
【請求項5】第1、第2及び/又は第3の保護層又は着
色層が活性エネルギー線硬化型樹脂からなる薄膜である
ことを特徴とする請求項4記載の虹彩転写材。
5. The iris transfer material according to claim 4, wherein the first, second and/or third protective layer or colored layer is a thin film made of an active energy ray-curable resin.
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